DE3133541A1 - Verfahren zur herstellung eines optischen glasproduktes - Google Patents
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Description
Verfahren zur Herstellung eines optischen Glasproduktes
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Glasproduktes, das als Linse in
Kameras, optischen Präzisionsgeräten und optoelektronischen Geräten verwendet werden kann, und das eine dreidimensionale
Verteilung des Brechungsindex innerhalb der Linse'ergibt. Die Erfindung betrifft insbesondere Stablinsen
mit einem sich in radialer Richtung ändernden Brechungsindex.
Abgestufte Stablinsen mit einem Brechungsindex, der in radialer Richtung parabolisch vom Zentrum nach außen hin
abnimmt, erfreuen sich zunehmender Beliebtheit als optisehe Produkte zur Verwendung in Kopierern, Faksimile-Geräten
und in der Faseroptik. Solche Stablinsen bestehen entweder aus Glas oder Kunststoff, und einige solcher
Produkte sind im kommerziellen Maßstab verwendet worden (siehe Nikkei Electronics, August 20 t 1979, Seiten 64
bis 74)* Unter den Handelsprodukten ist die Selfoc Linse
("Selfoc" ist eine Handelsbezeichnung der Japan Selfoc
Co-, Ltd.), die aus einem Mehrkomponeiitenglas mittels
eines lonenaustauschverfahrens hergestellt wird, gut bekannt.
Die Herstellung von Stablinsen mit Hilfe des lonenaustauschverfahrens
unterliegt einer inhärenten Einschränkung, nämlich der Diffusionsgeschwindigkeit des Modifizierungsions, das den Brechungsindex ändert, bei Temperaturen,
die das Glas nicht deformieren. Beispielsweise kann wegen der Notwendigkeit des* Einsatzes eines schnell diffundierenden
Kations nur ein einwertiges Ion, wie beispielsweise Tl, Cs, Rb, K, Na oder Li als Modifizierungsion eingesetzt
werden, und darüber hinaus ist es nicht einfach, die ungleiche Verteilung des Brechungsindex zu verringern. Ein
großer Unterschied im Brechungsindex kann nur durch Verwendung von Tl erreicht werden, jedoch ist Tl so toxisch,
daß es nicht einfach ist, es zu handhaben. Außerdem nimmt
es eine außergewöhnlich lange Zeitspanne in Anspruch, eine Stablinse· mit einem Durchmesser von mehr als 3 mm
bei den für den Ionenaustausch erforderlichen Temperatu- · ren, die das Glas nicht deformieren oder brechen lassen,
herzustellen, so daß derartige Linsen nicht im industriellen Maßstab gefertigt werden können.
In jüngerer Zeit wurde ein neues Verfahren entwickelt, das auf einem ganz anderen Prinzip beruht, und das als
"Molecular Stuffing" bezeichnet wird. Bei diesem Verfahren
wird durch Phasentrennung, Auslaugen und Waschen eine poröse Glasvorform hergestellt; dann wird innerhalb der
feinen Poren in der Glasvorform CsNO3 verfestigt, um einen bestimmten Konzentrationsgradienten an CsNO., zu
erzeugen; und dann läßt man die Poren kollabieren, um einen mit CS2O dotierten Glasstab zu erhalten,, dessen
Konzentration· parabolisch vom Zentrum nach außen hin abnimmt. Die näheren Details dieses molekularen Füllverfahrens
sind beispielsweise in den japanischen Patentanmeldungen (OPI). Nummern 28339/75, 12607/76 und 102324/78
(der Ausdruck OPI wird nachfolgend für eine nicht 'geprüfte, veröffentlichte japanische Patentanmeldung verwendet),
beschrieben. Da die poröse Glasform jedoch durch Phasentrennung, Auslaugen und Waschen hergestellt wird, haben
die in der Auslaugungsstufe erzeugten offenen Mikroporen eine unvollkommene Porengrößenvertellung (das heißt in.
Form eines Jahresringes oder exzentrisch), und als Ergebnis ist die gewünschte Veränderung der Verteilung der
Cs20-Konzentration (und damit die gewünschte Verteilung
des Brechungsindex) nicht vollständig erreichbar. Darüber hinaus ist die maximale Porosität der erhaltenen porösen
Glasvorfiorm 50 %, wobei eine höhere Porosität bei der industriellen
Fertigung nicht erreicht werden kann, so daß ein Glasstab, der hergestellt worden ist durch "Füllen"
("stuffing") unter Verwendung einer konzentrierten wäßrigen Lösung von CsNO3, Verfestigen des CsNO3, Entleeren
(Auslaugen) des CsNO.,, Verfestigen des CsNO3 und Kollabieren
der Mikroporen, einen Unterschied zwischen minimalern
und maximalem Brechungsindex von etwa höchstens 2,0 % auf- · weist. Demzufolge wäre eine poröse Glasvorform mit offenen
Mikroporen einer einheitlichen, gewünschten Größenverteilung
äußerst wünschenswert.
Es sind verschiedene Verfahren zur Herstellung von porösem
Glas bekannt. Beispielsweise kann poröses Glas durch das sogenannte Vycor-Verfahren ("Vycol" ist ein Warenzeichen
von Corning Glass Works), das Zeolith-Verfahren,· das
weiße Kohlenstoff-Verfahren, das kolloidale Siliciumdioxid-Verfahren
und das'Silicagel-Verfahren hergestellt werden»
Bei dem Silicagel-Verfahren gibt es zwei Variationsmöglichkeiteii;
Bei der einen Variante wird eine Mischung einer wäßrigen Lösung von Natriumsilicat und einer Säure heftig
bei niedrigen Temperaturen unter Bildung eines Silicahydrosols gerührt, welches geliert wird, in eine vorherbestimmte
Form gegeben und dann ausgelaugt wird; bei der anderen Verfahrensvariante wird eine Mischung einer Lösung
von Silicatsalz mit einer organischen Verbindung, die die Cannizzaro-Reaktion hervorruft, unter geringem Erhitzen
gerührt, um eine milde Reaktion heryorzurufen, bis ein
Gel gebildet ist, und anschließend wird dem Gel eine vorherbestimmte Form gegeben und das Gel ausgelaugt.
Aufgabe der Erfindung ist es,' ein Verfahren zur Herstellung eines Linsenmaterials und insbesondere eines solchen
Linsenmaterials .zur Verfügung zu stellen, das eine gewünschte
Verteilung des Brechungsindex aufweist, und bei dem insbesondere ein großer Unterschied zwischen dem minimalen
und maximalen Brechungsindex besteht, unter Verwendung einer porösen Glasvorform mit offenen Mikroporen
einer einheitlichen Größenverteilung.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist darin zu sehen, ein billiges Linsenmaterial gewünschter Größe zur Verfügung zu
stellen.
_ j*· —
Ί-
Gelöst wird diese Aufgabe durch ein Verfahren zur Herstellung
eines optischen Glasproduktes mit vorherbestimmter Verteilung des Brechungsindex im Inneren des Produkts, bei
welchem man:
(a) eine wäßrige Silicatlösung herstellt, die etwa 0,1 bis etwa 0,6 Mol/Liter Si (als SiO3) enthält, umfassend Kieselsäure und wenigstens ein Element aus der Gruppe bestehend aus Rubidium, Thallium und Cäsium; (b) die Silicatlösung mit einer sauren wäßrigen Lösung mischt und die beiden Lösungen miteinander reagieren' läßt während einer Zeitspanne, die ausreicht, um durch Polymerisation ein poröses, geliertes Produkt zu bilden, bei welchem dxG Siliciumdioxidteilchen agglomeriert sind;
(a) eine wäßrige Silicatlösung herstellt, die etwa 0,1 bis etwa 0,6 Mol/Liter Si (als SiO3) enthält, umfassend Kieselsäure und wenigstens ein Element aus der Gruppe bestehend aus Rubidium, Thallium und Cäsium; (b) die Silicatlösung mit einer sauren wäßrigen Lösung mischt und die beiden Lösungen miteinander reagieren' läßt während einer Zeitspanne, die ausreicht, um durch Polymerisation ein poröses, geliertes Produkt zu bilden, bei welchem dxG Siliciumdioxidteilchen agglomeriert sind;
(c) das gelierte Produkt mit einer Flüssigkeit auslaugt, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasser, eine,
schwach saure wäßrige Lösung, eine, wäßrige Lösung mit einem darin aufgelösten Alkalimetallsalz und
eine wäßrige Lösung von organischem Material, die in der Lage ist, Rb^O, Cs-O oder Tl3O aufzulösen, bis
sich das Zentrum des Produktes beginnt aufzulösen? und
(d) das ausgelaugte Produkt in einer vorherbestimmten Atmosphäre trocknet und weiterhin das teilweise aus- " gelaugte, gelierte Produkt auf eine ausreichend hohe Temperatur erhitzt, um das teilchenförraige Material zu eliminieren, die jedoch niedriger ist als der Schmelzpunkt des Siliciumdioxids.
(d) das ausgelaugte Produkt in einer vorherbestimmten Atmosphäre trocknet und weiterhin das teilweise aus- " gelaugte, gelierte Produkt auf eine ausreichend hohe Temperatur erhitzt, um das teilchenförraige Material zu eliminieren, die jedoch niedriger ist als der Schmelzpunkt des Siliciumdioxids.
Durch die Erfindung wird auch ein Verfahren der oben beschriebenen
Art zur Verfügung gestellt, bei welchem die in Stufe (a) hergestellte wäßrige Silicatlösung ein
Element der Gruppe bestehend aus Ammonium, Lithium, Natrium und Kalium, enthält.
Durch die Erfindung wird darüber hinaus ein Verfahren der oben beschriebenen Art zur Verfügung gestellt, bei dem die
saure, wäßrige Lösung der Stufe (b) ein Kation enthältr
das in ein Oxid überführt werden kann.
Schließlich stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren
der oben beschriebenen Art zur Verfügung, bei dem das Produkt vor der Trocknungsstufe (d) in einem organischen
Lösungsmittel, wie beispielsweise in Äthanol oder Propanol, eingeweicht wird. " ■
In den Zeichnungen zeigen
Fig. 1 ein Fließdiagramm für die Herstellung einer
SiO~-Glasvorform, die R-O enthält, wobei R die
Bedeutung von Cs, Rb oder Tl hat; und
Fig. 2 ein Fließdiagramm für die Herstellung einer
Fig. 2 ein Fließdiagramm für die Herstellung einer
Al203-Si02-Glasvorform, die RO enthält.
Die Erfindung wurde erstmalig durchgeführt durch Abstoppen
der regulären, auf die Diffusion (oder Ionenaustausch) zurückzuführenden Änderung einer Verbindung, die in ein ·
Dotierungsmittel umgewandelt wird,, und die in einer Auslaugestufe
des Si-licagel-Verfahrens t bei welchem keine
Cannizzaro-Reaktion verwendet wird, auslaugbar ist. Genauer
gesagt wurde festgestellt, daß unter Verwendung von Tl2O, Cs2O,' Rb2O oder dergleichen als Dotierungsmittel,
welches innerhalb des Glases einen großen Brechungsindex ergibt (das heißt unter Verwendung einer Ausgangslösung
eines Silicatsalzes, die auch wenigstens eine der drei Lösungen enthält, nämlich eine Thalliumsilicatlösung, eine
Cäsiumsilicatlösung oder eine Rubidiumsilicatlösung),
und durch Kontrollieren der Zusammensetzung und Temperatur der Ausgangslösung, um das Dotierungsmittel· so zu verteilen,
daß die Diffusionsgeschwindigkeit ( oder der Ionenaustausch) und die Löslichkeit in der Weise kontrolliert werden, daß
eine parabolische Verteilung des Brechungsindex erhalten wird, eine Glasvorform, beispielsweise ein Stablirtsenmaterial,
erhalten werden kann, das die gewünschte Vertex-
- ir- ■
lung des Brechungsindex aufweist.
lung des Brechungsindex aufweist.
Der Ausdruck "parabolische Verteilung des Brechungsindex" bedeutet hier eine Brechungsindex-Verteilung, die durch
die folgende Beziehung festgelegt ist:
η = no (1 - -γ- Ar2) ,
in welcher bedeuten;
η Brechungsindexprofil
η Brechungsindexprofil
η Brechungsindex im Zentrum
A Konstante
r Radium (Abstand vom Zentrum).
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird eine echte Lösung, eine kolloidale Dispersion oder eine Suspension
hergestellt, die wenigstens ein Salz, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Cäsiumsilicat, Rubidiumsilicat und
Thalliumsilicat enthält, und die gegebenenfalls entweder quaternäres Ammoniumsilicat oder kolloidales Lithiumdioxid
und irgendeines von drei Salzen enthält, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Lithiumpolysilicat, Natriumsilicat
und Kaliumsilicat. Die echte Lösung, kolloidale Dispersion oder Suspension enthält wünschenswerterweise
etwa 0,1 bis etwa 0,6 Mol/Liter Si, ausgedrückt als SiO2-Wenn
der SiO2~Gehalt weniger als etwa 0,1 Mol/Liter beträgt,
erhält man ein übermäßig weiches Gel, und wenn der SiO2-Gehalt mehr als etwa 0,6 Mol/Liter beträgt, erfolgt
eine zu heftige Reaktion mit der Säure.
Um die gewünschte wäßrige Lösung herzustellen, kann eine der nachfolgend angegebenen Lösungen mit Wasser verdünnt
werden, um die gewünschte echte Lösung, kolloidale Dispersion oder Suspension zu erhalten, die etwa 0,1 bis etwa
0,6 Mol/Liter Si, ausgedrückt als SiO2, enthält:
Eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat, die beispielsweise
enthält 6,8 Gew.-% Na2O, 25 Gew.-% SiO2 und Rest
H2O; eine wäßrige Lösung von Kaliumsilicat, die beispielsweise
enthält 8,3 Gew.-% K2O, 20,8 Gew.-% SiO2 und Rest
Wasser; eine wäßrige Lösung von Lithiümpolysxlicat, die beispielsweise enthält 2,1 Gew.-% Li2O, 20 Gew.-% SiO2
und Rest H~0; eine wäßrige Lösung von quaternärem Ammoniumsilicat,
die beispielsweise enthält' 9,9 Gew.-% quaternäres Ammoniumion/ 45 Gew.-% SiO- und Rest H2O; eine wäßrige
■10 Lösung von kolloidalem Siliciumdioxid, die beispielsweise enthält 40 Gew.-% SiO2 und Rest Wasser; eine wäßrige Lösung
von Rubidiumsilicat, die beispielsweise enthält 10,5 Gew.-% RbpO, 20 Gew.-% SiOp und Rest H-O; eine wäßrige Lösung von
Cäsiumsilicat, die beispielsweise enthält 12 Gew.-% CsO2,
20 Gew.-% SiO2 und Rest H3O; und eine wäßrige Lösung von
Thalliumsilicat, die beispielsweise enthält 14 Gew.-%
TlO2, 20 Gew.-% SiO3 und Rest H2O.
Die auf diese Weise hergestellte wäßrige Alkalisilicatlösung wird unter Rühren zu einer verdünnten Säure hinzugefügt.
Es kann hierfür jede Säure verwendet werden, solang sie in einer wäßrigen Lösung säuer reagiert» Beispiele
für derartige Säuren sind organische Säuren, wie beispielsweise verdünnte Essigsäure, anorganische Säuren, wie beispielsweise
verdünnte H3SO4 und wäßrige Lösungen von H3BO3,
H3PO4 oder Al2(SO4J3. Vorzugsweise wird die erste Hälfte
der wäßrigen Alkalisilicatlösung langsam unter heftigem Rühren hinzugegeben, und die zweite Hälfte auf einmal« Die
' erhaltene Mischung hat einen pH-Wert von etwa 4,4. Die Mischung wird dann einige Minuten erhitzt und dann stehengelassen,
bis sich das Gel gebildet hat.
Ein Gel gewünschter Gestalt kann erhalten werden, indem man das Gel zuschneidet oder auf andere Weise bearbeitet.
Alternativ hierzu wird das gleiche Ziel erreicht, wenn man die wäßrige Alkalisilicatlösung in" ein Gefäß einer
vorherbestimmten Gestalt gießt, das eine verdünnte (ge-
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rührte) Säure enthält, oder indem man eine Mischung des wäßrigen Alkalisilicats und einer verdünnten Säure unter
Rühren herstellt und diese Mischung dann augenblicklich in ein Gefäß einer vorherbestimmten Gestalt gießt. Die Mischung
mit der vorherbestimmten Gestalt.kann dann beispiels
weise drei Tage stehengelassen werden, um eine vollständig gelierte Mischung zu erhalten. Das Ge.l kann gegebenenfalls
mit wäßrigem Na4OH gewaschen werden, um restliche verdünnte Säure zu neutralisieren. ..
■ " ·
Das Gel wird dann mit Wasser, einem Alkohol, Keton, einer
anorganischen Säure, einer organischen Säure oder einer Mischung von diesen bei einer Temperatur von Zimmertempe- ·
ratur bis zum Siedepunkt des Lösungsmittels ausgelaugt.
Beispielsweise kann hierzu ein Lösungsmittel verwendet werden, das aus 1 bis 5 % HNO3 und 95 bis 99 % C2H5OH,
vorzugsweise aus 3 Gew.-% HNO3 und 97 Gew.-% 02H5OH , besteht, oder es kann eine wäßrige einmolare ΝΗ.ΝΟτ-Lösunä
zu diesem Zweck eingesetzt werden. Durch das Auslaugen werden Tl , Cs oder Rb -Ionen, aus dem Gel herausgelöst
Das organische Material wird langsamer herausgelöst. Wenn das Auslaugen auf dem halben Wege .unterbrochen wird, das
heißt kurz nachdem sich Tl , Cs oder Rb im-Zentrum beginnen
aufzulösen, jedoch bevor eine völlige Auflösung von Tl , Cs oder Rb+ erfolgt, dann erhält man ein Gel,
dessen Konzentration an Tl , Cs oder Rb vom Zentrum iin radialer Richtung nach außen hin abnimmt. Es nimmt einige
Zeit in Anspruch, um das Gel mit einer heißen wäßrigen Lösung von NH4OH auszulaugen, doch unterliegen Tl , Cs
oder Rb in jedem Fall einem Ionenaustausch durch NH4 , und man erhält ein Produkt, dessen Konzentration an Tl ,
Cs und Rb vom Zentrum nach außen hin abnimmt. Alternativ hierzu kann eine wäßrige Lösung mit gelöstem
MX (M=/Li, Na, K?, X = /NO3,(SO3) 1/2, (co 3)-j/2
7
etci7) in der Ausl'augestufe eingesetzt werden,und das
Tl , Cs oder Rb -Ion kann durch Ionenaustausch herau
gelöst werden. Bei diesem alternativen Weg wird ein
Dotierungsmittel, wie Li^O, Na-O oder K3O, eingearbeitet,
das den Brechungsindex nicht in größerem. Umfange erhöht,
und zwar erfolgt die Einarbeitung in der Weise, daß die Konzentration dieses Dotierungsmittels vom Zentrum nach
außen hin zunimmt.
Das dem Ionenaustausch unterzogene Gel wird dann langsam unter Vakuum getrocknet, beispielsweise durch Erniedrigen
des Druckes von Atmosphärendruck auf etwa 1 mm Hg während etwas mehr als 24 Stunden. Alternativ hierzu wird das Gel
durch eine kalte Lösung mit geringer Lösungswirkung, wie beispielsweise durch eine Lösung von PrOH (00C), geführt,
+ + + um die Wanderung von Tl , Cs oder Rb -zu stoppen, und
anschließend wird es dann getrocknet. Das getrocknete Gel wird dann langsam erhitzt, um das organische Material
durch oxidative Verbrennung zu entfernen. Anschließend . wird das Gel durch Verdampfen des Wassers, Alkohols oder
anderer Lösungsmittel in den Mikroporen getrocknet, indem man langsam, wie oben beschrieben, ein Vakuum aufbaut,
oder langsam den Partialdruck des Wasserdampfes, in welchen es gegeben wird, erniedrigt. Darüber hinaus wird
das getrocknete Gel langsam in einer Sauerstoffatmosphäre erhitzt, um das organische Material zu verdampfen oder
zu verbrennen, und anschließend wird das Gel auf eine höhere Temperatur erhitzt (beispielsweise 900 bis 14500C),
bei welcher die Mikroporen kollabieren (wegen der hohen Oberflächenspannung) unter Bildung eines transparenten
Glasproduktes -
Die Konzentrationsverteilung der zu entfernenden Tl , Cs
oder Rb -Ionen wird durch die Parameter der Umgebungsbedingungen oder durch die Diffusionskonstante, in einer
Diffusionsgleichung bestimmt, wie beispielsweise durch die Form des Gels (beispielsweise sphärisch, zylindrisch oder
oval), durch die Porosität, die Porengröße, die umgebende Flüssigkeit und durch die Temperaturbedingungen.
Ein auszulaugendes Gel mit gewünschter Gestalt kann hergestellt werden, indem man eine gerührte Mischung eines
wäßrigen Silicatsalzes und einer verdünnten Säure in ein Gefäß vorherbestimmter Gestalt gießt, beispielsweise in
-JL. jein_z^lin^risches Kunststoffgefäß, und dann die Gelmischung
in diesem Gefäß beläßt. Alternativ hierzu~kann~ein "GeT
aus Silicatsalz und verdünnter Säure bearbeitet werden,
beispielsweise durch Trommelschleifen (oder Polieren), um einen Gelstab zu erhalten, der dann ausgelaugt wird. Ein
Gel gewünschter Gestalt kann auch durch Gießen, Ziehen, Verpressen, Ausrollen oder andere herkömmliche Bearbeitungstechniken
hergestellt werden.
Die Porosität und die Porengröße variieren mit der Art
des Alkalisilicats, dessen Mengenanteil relativ zu der
verdünnten Säure, dem Verhältnis von SiO2 zu Wasser, und
dem Verhältnis von R3O (R = Tl, Cs oder Rb) zu SiO2- Die
wäßrige Lösung des Alkalimetallsllicatsalzes kann auch ein Silicatsalz von Mg, Ca-, Sr und Ba in einer solchen Menge
enthalten, daß sie in Lösung verbleiben und die oben beschriebenen Verfahrensbedingungen eingehalten werden-
Um in der Auslaugestufe die gewünschte Verteilung von
+ + +
Tl , Cs oder Rb zu erreichen, wird die umgebende Flüssig keit vorzugsweise kurzfristig erhitzt, jedoch ist dies kein kritisches Erfordernis. Die wäßrige Silicatlösung kann darüber hinaus eine dispergierte Substanz enthalten, beispielsweise Al3O3, TiO2, SiO3, ZrO-, C, SiC, Si3N^, Ü2°5' Cr2°3' Fe2°3' Co0' Ni°r MnO oder CuO, oder ein Salz, Oxid Öder andere Verbindungen von Nd und Sm. ' Die Teilchengröße der dispergierten Substanz sollte 70 μπί nicht überschreiten, und ihr Gehalt sollte nicht mehr als 70 Gew.-% betragen. Eine aus einer Silicatlösung, die eine Verbindung von Nd oder Sm enthält, erhaltene Glasvorform eignet sich zur Verwendung in einem Laser.
Tl , Cs oder Rb zu erreichen, wird die umgebende Flüssig keit vorzugsweise kurzfristig erhitzt, jedoch ist dies kein kritisches Erfordernis. Die wäßrige Silicatlösung kann darüber hinaus eine dispergierte Substanz enthalten, beispielsweise Al3O3, TiO2, SiO3, ZrO-, C, SiC, Si3N^, Ü2°5' Cr2°3' Fe2°3' Co0' Ni°r MnO oder CuO, oder ein Salz, Oxid Öder andere Verbindungen von Nd und Sm. ' Die Teilchengröße der dispergierten Substanz sollte 70 μπί nicht überschreiten, und ihr Gehalt sollte nicht mehr als 70 Gew.-% betragen. Eine aus einer Silicatlösung, die eine Verbindung von Nd oder Sm enthält, erhaltene Glasvorform eignet sich zur Verwendung in einem Laser.
Typische Verfahren zur Herstellung einer Glasvorform
gemäß der vorliegenden Erfindung werden durch die Fließdiagramme der Figuren 1 und 2 repräsentiert. Fig. 1 ist
-ein Fließdiagramm zur Herstellung einer Glasvorform, die R2O (R2O = T12°/ Cs2O, Rb2O) enthält, worin bedeuten!
1 eine wäßrige Lösung, umfassend R2O und SiO2, wie beispielsweise
500 ml einer wäßrigen Lösung von Wasserglas (SiO2/R2O = -3,2, SiO2 = 0,2 g/ml) ; 2 beispielsweise
ein Liter Verdünnungswasser; 3 eine Verdünnungsstufe bei
50C; 4 eine verdünnte Säure, wie beispielsweise 245 ml einer .4,0 N HCl, verdünnt mit .300 ml Wasser (5°C) ; 5 eine
Stufe, in welcher die wäßrige Silicatlösung zu der verdünnten Säure unter Rühren hinzugegeben wird, wobei die
erhaltene Mischung einen pH-Wert von 6,3 aufweist und nach etwa 2 Minuten in einen geiförmigen Zustand übergeht;
6A eine Stufe, in welcher das Gel, das nach der Stufe 5 etwa 30 bis 60 Minuten stehengelassen wurde, zu
einer vorherbestimmten Gestalt zugeschnitten wird (beispielsweise zu einem Stab mit einem Durchmesser von 2 cm);
6B eine Alternative zu Stufe 6A, in welcher die flüssige Mischung der wäßrigen Silicatlösung und der verdünnten
Säure in ein Gefäß mit vorherbestimmter Gestalt gegossen wird, und zwar unmittelbar anschließend an die Stufe 5r
wobei die in das Gefäß gegossene Mischung in den Zustand eines Gels übergeht; 7 eine Waschstufe, in der das Gel
mit einer wäßrigen 1 N NH4NO3-LOSmIg · (oder einer wäßrigen
1 N NH4CL-Lösung) 2 Stunden in einem Büchner-Trichter (31)
gewaschen wird; 8 eine Tröcknungsstufe des Gels während 4 Stunden bei 1500C; 9 eine Backstufe des getrockneten
Gels bei 11000C; und 10 das fertige Produkt einer R2O-dotierten
Vorform (beispielsweise in Stabform).
Fig. 2 stellt ein Fließdiagramm für die Herstellung einer anderen Glasvorform dar, die R3O (R3O = T^0' Cs3O, Rb3O)
enthält, wobei bedeuten: 11 eine wäßrige Lösung von Wasserglas (SiO2/R2O =2,1, SiO2 =0,38 g/l); 12 Verdünnungswasser;
13 3 Liter einer verdünnten wäßrigen Lösung; 14 eine verdünnte Säure, hergestellt durch Auflösen
von 160 g Al2 (SO. K'18H0 in 90 ml konzentrierter H2SO4;
15 Verdünnungswasser; 16 3 Liter verdünnte Säure; 17 eine Stufe, in welcher 13 unter Rühren zu 16 hinzugefügt
wird, wobei· die erste Hälfte' von 13 langsam hinzugefügt
wird, und die zweite Hälfte auf einmal zugesetzt wird,-wobei ein pH-Wert von etwa 4,4 erhalten wird; 18A eine
Stufe, bei der die Mischung einige Minuten leicht erhitzt wird, bis sie in den Zustand eines Gels übergeht; 18B eine
Stufe, in der die in Stufe 17 erhaltene Mischung in ein Gefäß vorherbestimmter Gestalt gegossen wird? die Stufen
19A und 19B Alternativen zu den Stufen 18A und 18B, wobei
19A eine Stufe ist, in der das Gel zu einer vorherbestimme
ten Gestalt zugeschnitten wird, und 19B eine Stufe ist.,
bei der das Gußstück einige Hinuten leicht erhitzt wird; 20 eine Stufe, in· der das erhaltene Gel 3 volle Tage und.
Nächte stehengelassen wird; 21 eine Stufe, bei der das Gel einen Tag in 10 1 einer 1 %igen wäßrigen NH^OH-Lösung
belassen wird; 22 eine Stufe, in der das getrocknete Gel
einige Stunden bei 700C in 12 bis .15 1 einer 10 %igen
wäßrigen NH,C1-Lösung belassen wird; 23 eine Trockriungsstufe
des Gels bei 120 bis 1500C; 24 eine Backstufe des
Gels bei 1000 bis 11000C während 2 bis 6 Stunden; und 25
ein Endprodukt einer mit R2O dotierten Vorform (5,3 %
Al2O3-94,7 % SiO2 Glasbasis).
Die Erfindung wird nachfolgend durch Beispiele weiter erläutert, die jedoch keine Beschränkung der Erfindung darstellen
sollen. In diesen Beispielen beziehen sich die Prozentangaben auf das Volumen, sofern nichts anderes angegeben
ist.
Eine 30 % - 70 %-Mischung einer Lösung von quaternärem Ammoniumsilicat, bestehend aus 10 % NH* - 45 % SiO2 und
Rest Wasser, und einer Lösung von Cäsiumsilicat, bestehend aus 12 % Cs2O, 20 % SiO3 und Rest H2O, wurde mit der
zehnfachen Menge Wasser verdünnt und die erhaltene ver-
dünnte Mischung dann mit einer 3 %igen wäßrigen H3SO4-Lösung
unter Rühren vermischt, und die dabei erhaltene Mischung dann in. ein zylindrisches, mit Teflon beschichtetes
Gefäß gegossen,'das einen Durchmesser von 20 mm und eine Höhe von 50 mm aufwies. Das Gefäß wurde bei
Zimmertemperatur über Nacht stehengelassen, und das Gußstück
dann aus dem Gefäß herausgenommen und 3 Stunden mit einer 1 M NHJSICU-Lösung bei 500C ausgelaugt, die 5 Gew.-%
(NH4J2B4O7 enthielt. Das ausgelaugte Gußstück wurde unmittelbar
anschließend bei 00C in PrOH eingeweicht und über Nacht stehengelassen. Anschließend wurde das Gußstück
langsam unter Vakuum £.e trocknet, indem der Druck während
einer Zeitspanne von 50 Stunden auf 1 mm Hg reduziert wurde, und dann langsam erhitzt. Sobald die Temperatur
1000C überschritt, wurde eine Mischung von He (80 %) und
O2 (20 %) in den Reaktor gegeben, und die Zuführung wurde
fortgesetzt, während das Gußstück zunächst während 18 Stunden auf 6000C, und dann während 5 Stunden auf 11000C
erhitzt wurde. Dabei wurde ein transparenter Glasstab mit
einem Durchmesser von 10 mm hergestellt. Der Stab wurde
auf einen Durchmesser von 2 mm ausgezogen, zugeschnitten und zu einer·Stablinse geschliffen, deren Länge 1/4 χ '
(Ganghöhe (pitch)) betrug. Es wurde ein Einstelltest durchgeführt,
indem die Linse zwischen zwei Fasern mit großem" Kerndurchmesser (NA = 0,15) eingefügt wurde,und der Einfügungsverlust
wurde mit Hilfe der folgenden Gleichung bestimmt: Verlust (dB) = 10 log-p^^ r wobei P . die
aus eln
Lichteintrittsenergie, und P die Lichtaustrittsenergie
aus
bedeuten. Der Einfügungsverlust wurde zu weniger als 2 dB ermittelt. ■ .
Wie in Beispiel 1 wurde ein transparenter Glasstab mit einem Durchmesser von 10 mm hergestellt, mit der Ausnahme,
daß die 1 M-NH4NO3-Lösung, die (NH4J2B4O7 enthielt, durch
eine 1 M NH4NO3-LOSmIg ersetzt wurde, die 30 Gew.-% KNO3
enthielt, und daß die S xnterungs temperatur 9500C betrug.
Eine durch Zuschneiden und Schleifen des Stcibes auf eine
Länge von 1/4 χ (Ganghöhe) erhaltene Stablinse hatte ein außergewöhnlich gutes Pokussierungsvermögen,
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Stab
linsenmaterials hat die folgenden Vorteile:
(1) Ein großes Produkt gewünschter Gestalt kann durch
Gelieren einer Mischung einer Alkalisilikatlösung und verdünnter Säure in einem großen Gefäß hergestellt
werden;
2) es kann aus leicht zugänglichem Material durch relativ einfache und leicht zu kontrollierende Verfahrensstufen ein billiges Produkt hergestellt werden;
(3) aus einer einheitlichen Mischung aus Silicatlösung und verdünnter Säure wird ein Gel so hergestellt,
daß die Phasentrennung durch das Gel hindurch gleich- ■ mäßig ist und Schwankungen des Brechungsindex in jedem
Teil des Gels gering sind;
(4) durch Kontrollieren der Zusammensetzung der Flüssigkeit
und der Temperaturbedingungen eines sphärischen oder zylindrischen Gußstückes kann die Konzentration
eines Dotierungsmittels, das einen hohen Brechungsindex ergibt, vom Zentrum nach außen hin erniedrigt,
oder die Konzentration eines Dotierungsinittels, das
einen niedrigen Brechungsindex ergibt, vom Zentrum nach außen hin erhöht werden, wobei man ein Produkt
erhält, dessen Brechungsindex einer vorherbestimmten. ■ Kurve folgend vom Zentrum nach außen hin abnimmt.
Durch Erniedrigen des Brechungsindex in parabolischer Weise vom Zentrum nach außen hin kann insbesondere
ein Material für selbstfokussierende Stablinsen hergestellt werden;
(.5) durch Verwendung von Tl3O, Cs2O oder Rb2O als Dotierungsmittel mit hohem Brechungsindex, B9O., oder F als Dotierungsmittel mit niedrigem Brechungsindex, und Li2O, Na2O oder K3O als Dotierungsmittel mit
(.5) durch Verwendung von Tl3O, Cs2O oder Rb2O als Dotierungsmittel mit hohem Brechungsindex, B9O., oder F als Dotierungsmittel mit niedrigem Brechungsindex, und Li2O, Na2O oder K3O als Dotierungsmittel mit
1 mittlerem.Brechungsindex kann eine gewünschte Verteilung
des Brechungsindex erhalten werden, während gleichzeitig die Streuung des Brechungsindex auf ein
Minimum gebracht wird, indem die Verteilung des 5 Dotierungsmittels in vorherbestimmten Mengen erfolgt?
und
(6) aus einer Silicatlösung, die eine Verbindung von Nd
oder Sm enthält, kann eine zur Anwendung in einem. Laser geeignete,mit Nd oder Sm dotierte Glasvorform
10 hergestellt werden.
Während die Erfindung im Hinblick auf spezielle Ausführungsformen
näher erläutert worden ist, ist für den Fachmann offensichtlich, daß zahlreiche Änderungen und
15 Modifizierungen möglich sind, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen.
L e θ r s e i t e
Claims (8)
- PATtNTAINW^CLTE A. GRÜNECKERHEPRESEN ΓΛΤινΕΗ ORFOFH- THt- „r-wE-UROPf ΛΝ ΓΆΙΕΝΙ OFnClS H. KINKtUOt-Y[Λ INfiW. STOCKMAIR K. SCHUMANN P. H. JAKOBDipt. INGG. BEZOUDOR KR WVT8 MÜNCHENMAXIMILIANSTRASSESUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, IiDD.No. 15, Kitahama 5-chome', Higashi-ku P 16-575 Osaka, Japan 24. August 1981NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE PUBLICCORPORATION :No. 1-6, Uchisalwai-cho, 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, JapanVerfahren zur Herstellung eines optischen GlasproduktesPatentansprücheΠ j Verfahren zur Herstellung eines optischen Glasproduktes mit einer vorherbestimmten Verteilung des Brechungsindex im Inneren des Produktes, bei dem man(a) eine wäßrige Silicatlösung herstellt, die etwa 0,1 bis etwa 0,6 Mol/Liter Si (als SiO2) enthält, umfassend Kieselsäure und wenigstens ein Element aus der Gruppe bestehend aus Rubidium,Thallium und Cäsium;(b) die Silicatlösung mit einer sauren wäßrigen Lösung mischt und die beiden Lösungen miteinander reagieren läßt während einer Zeitspanne, die ausreicht, um durch Polymerisation einporöses, geliertes Produkt zu bilden, bei welchem die Siliciumdioxidteilchen agglomeriert sind;(c) das gelierte Produkt mit einer Flüssigkeitauslaugt, ausgewählt aus der Gruppe bestehendTPUEQFIAMMS MONAPAT_ 2 —aus Wasser, eine schwach saure wäßrige. Lösung, eine wäßrige Lösung mit einem darin aufgelösten Alkalimetallsalz und eine wäßrige Lösung, von organischem Material, die in der Lage ist, Rb-O, Cs2° oder Tl2° aufzu:i-ösen' bis sich das Zentrumdes Produktes beginnt aufzulösen; und(d) ' das ausgelaugte Produkt in einer vorherbestimmten Atmosphäre trocknet und weiterhin das teilweise ausgelaugte, gelierte Produkt auf eine ausreichend hohe Temperatur erhitzt, um das teilchenförmige ·Material zu eliminieren, die jedoch niedriger ist als der Schmelzpunkt des Siliciumdioxids.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die in Stufe (a) hergestellte wäßrige Silicatlösung ein Element enthält, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Ammonium, Lithium, Natrium und Kalium.
- 3. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die saure Lösung der Stufe (b) ein Kation enthält, das in ein Oxid überführt werden kann.
- 4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Produkt vor der Trocknungsstufe (d) in einem organischen Lösungsmittel eingeweicht wird.
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,daß als organisches Lösungsmittel Äthanol oder Propanol verwendet wird.
- 6. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine gerührte Mischung der Silicatlösung und der sauren wäßrigen Lösung in ein zylindrisches Gefäß gegossen wird, wo es geliert wird/ das gelierte Produkt ausgelaugt wird, bis sichdessen Zentrum aufzulösen beginnt, und das ausgelaugte Produkt anschließend getrocknet und gesintert . wird, um einen Glasstab herzustellen, in welchem die Konzentration wenigstens einer Verbindung, ausgewählt unter Tl2O, Rb-O und Cs2 0/ parabolisch vom Zentrum nach außen hin abnimmt.
- 7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine gerührte Mischung der Silikatlösung und der wäßrigen sauren Lösung geliert, das gelierte Produkt in einer Trommel unter Bildung eines Stabes geschliffen, der Stab bis zur beginnenden Auflösung seines Zentrums ausgelaugt und das ausgelaugte Produkt anschließend getrocknet und gesintert wird, um einen Glasstab herzustellen, in welchem die Konzentration wenigstens einer Verbindung, ausgewählt.unter Tl-O, Rb-O und Cs2O, parabolisch vom Zentrum nach außen hin abnimmt.
- — ' .
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