DE2341377A1 - Elektronenstrahlroehre mit thermionikfeld-emissionskathode fuer ein abtastendes elektronenmikroskop - Google Patents
Elektronenstrahlroehre mit thermionikfeld-emissionskathode fuer ein abtastendes elektronenmikroskopInfo
- Publication number
- DE2341377A1 DE2341377A1 DE19732341377 DE2341377A DE2341377A1 DE 2341377 A1 DE2341377 A1 DE 2341377A1 DE 19732341377 DE19732341377 DE 19732341377 DE 2341377 A DE2341377 A DE 2341377A DE 2341377 A1 DE2341377 A1 DE 2341377A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cathode
- chamber
- electron
- ray tube
- cathode ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 22
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 claims 1
- 229910000939 field's metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 206010033799 Paralysis Diseases 0.000 description 1
- 235000005324 Typha latifolia Nutrition 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 244000118869 coast club rush Species 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 210000002445 nipple Anatomy 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/063—Electron sources
- H01J2237/06308—Thermionic sources
- H01J2237/06316—Schottky emission
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
DiPL-ING. KLAUS NEUBECKER 2341377
Patentanwalt
4 Düsseldorf 1 · Schadowplatz 9
4 Düsseldorf 1 · Schadowplatz 9
Düsseldorf, 15, August 1973 •PF No. 1905
73121
73121
•Tektronix, Inc.
Beaverton, Oregon, V. St. A.
Beaverton, Oregon, V. St. A.
•Elektronenstrahlröhre mit Thermionikfeld-Emissionskathode
für ein abtastendes Elektronenmikroskop
•Bisher wurden in Verbindung mit abtastenden Elektronenmikroskopen
weitgehend Heizfadenkathoden eingesetzt, um einen Elektronenstrahl zu erzeugen. Solche Heizfadenkathoden weisen jedoch den
Nachteil einer kurzen Lebensdauer sowie großer räumlicher Abmessungen auf, wobei sie einen Strahl verhältnismäßig niedriger elektronenoptischer
Helligkeit erzeugen. Bei solch einer Kathode führen thermisch mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten von einer großen
Oberfläche aus freigegebene Elektronen zu einem breiten Elektronenstrahl
verhältnismäßig niedriger Durchschnxttsleistung und mit sehr niedriger Stromdichte, um die Heizkathode praktisch in einem
abtastenden Elektronenmikroskop einsetzen zu können, ist ein aufwendiges und teures Linsensystem notwendig. Selbst dann stellt aber
das Linsensystem bestenfalls einen Kompromiß dar, da nicht alle der hauptsächlichen Nachteile abgestellt werden können.
Es ist eine Vielzahl früherer Versuche gemacht worden, tun zu einer
stabilen Arbeitsweise und einer brauchbaren Lebensdauer für eine
Feidemissiohskäfehode zu gelähgeh. Ein ernsthafter Nachteil dieser
Anordnungen besteilt üari'n-, daß ein extrem gutes Vakuum "notwendig
ist, um Schäden dur'ch ionenbombardement auf einem Minimum halten
zu können. Ebenso muß die Auswirkung von Molekülen, die auf das
409810/0882
ORIGINAL INSPECTED
Emissionsgebiet auftreffen und die Funktionsfähigkeit herabsetzen,
auf einem Minimum gehalten werden, um die Möglichkeit zu verringern, daß örtlich eine so hohe Emission entsteht, daß ein zerstörender
Vakuum-Lichtbogen auftritt. Eine Möglichkeit, diese Auswirkungen auf einem Minimum zu halten, besteht darin, die Feldemissionskathode
aufzuheizen. Bei erhöhten Temperaturen sind die Atome in dem Emissionsbereich beweglicher, so daß sie durch Ionenaufprall weniger
beeinträchtigt werden. Infolgedessen wird die Geometrie der Spitze der Feldemissionskathode leichter beibehalten. Gleichzeitig
wird die Verweilzeit von auf die Oberfläche auftreffenden Molekülen
verringert, so daß die Möglichkeit eines Vakuum-Lichtbogens herabgesetzt wird.
Es wurde gefunden, daß ein hohes elektrisches Feld benötigt wird, um brauchbare Werte für den Strom von dem aufgeheizten Emitter zu
erhalten (vgl. US-PS 2 916 668, W.P. Dyke et al), jedoch zeigte sich, daß die fortlaufende Einwirkung eines hohen elektrischen Feldes
auf einen aufgeheizten Emitter sich praktisch nicht verwirklichen ließ, weil es dabei zu in der einschlägigen Literatur als
"build-up" bekannten Verformungen der Spitze kam, was zu einer Instabilität und einem elektrischen Durchbruch führte. Aus diesem
Grunde wurden diese Emitter weitgehend gepulst betrieben, jedoch ist die Anwendung des hohen elektrischen Feldes üblicherweise auf
verhältnismäßig kurze Zeitabschnitte beschr äikt, nach denen die Spitzen-Geometrie durch Aufheizen oder "Blitzen" regeneriert werden
muß.
Weitere Untersuchungen zeigen, daß ein schmaler oder enger Strahl
mit hoher Stromdichte durch die Kristallebene mit den Miller-Indizes 1,0,0, d.h. der 100er -Ebene eines Materials mit kubischem Kristallgefüge
wie Wolfram oder Molybdän erzeugt werden kann. Es wurde jedoch gefunden>
daß der Betrieb instabil war und daß es bei fortlaufendem Betrieb üblicherweise zu einer Zerstörung der Spitze dtiürch
einen VakuiA-klefefefeogen kam (vgl ·. /^ActiVaticrti tonergy for the turf ace
kigration of iWwgsten in ttee Pr^e1S e4¥Cfe of a High-Eltectric Field1" , voii
P.C. Bettler "und F^I. Charboniiier - Physical Review, Band 119, fci-r.1,
.!'.1Ii 19"6O). Skater wurde eine stabile Arbeitsweise erhalten, indem
BAD ORIGINAL
der Emitterspitze eine Lage eines zweiten Elements mit niedriger
Austrittsarbeit, etwa Zirkon (vgl. US-PS 3 374 386, F.M.
Charbonnier et al) hinzugefügt wurde. Selbst dann war der Elektronenstrahl-Stromwert
beschränkt und die Kathoden-Lebensdauer begrenzt.
Ein weiterer einschlägiger Aufsatz "Angular Confinement of Field Electron and Ion Emission" (Journal of Applied Physics, Band 40,
Nr. 12, November 1969) von L.W. Swanson und L.C. Crouser, untersucht
weiter die Beiwerte eines eine zirkonbeschichtete 100er Ebene aufweisenden TF-built-up-Wolfram-Emitters. In der abschließenden
Betrachtung wird jedoch darauf hingewiesen, daß ein ultrahohes Vakuum und ultrareine Elektronenauffangflachen notwendig
sind, um nennenswerte Stromwerte von stumpferen Emittern zu erhalten.
Ein weiteres ernsthaftes Problem besteht bei abtastenden Elektronenmikroskopen,
die mit Feldemissionskathoden arbeitenf darin., daß es
häufig notwendig ist, sich Zugang zu dem Innern der Elektronenstrahlröhre zu verschaffen, beispielsweise, wenn eine schadhafte
Kathode ausgewechselt oder an dem Proben-Tisch innerhalb der Anordnung gearbeitet werden muß. Dieser Zugang zu der Röhre erfordert
eine Aufhebung des Vakuums, verbunden mit einer langen Wartezeit für die Wiederherstellung des Vakuums, wenn ilikroskopbetrieb gewünscht
wird. Eine Möglichkeit, diesen Nachteil zu verringern, bestand in der Schaffung eines Zweikammer-Röhrenkolbens, so daß die
Kathoden- und die Proben-Kammern auf unterschiedlichen Drücken gehalten werden konnten, von denen jeweils der eine aufgehoben werden
konnte, während der andere beibehalten wurde.
Aufgabe vorliegender Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, so daß der stabile Feldemissionsstrom sowohl kontinuierlich als
auch intermittierend von der verhältnismäßig stumpfen Feldemitterspitze abgenommen werden kann, die so geändert worden ist, um längs
einer Vorzugsachse zu emittieren. Gleichzeitig soll eine Feldemissionskathode zur Verfügung stehen, die die Vorteile vereinigt,
die bisher in einer einzigen Feldemissionsquelle nicht erzielt
werden konnten, wie ein kontinuierlicher oder gepulster Elektronenstrahl
mit kleinem Querschnitt, hoher Stromdichte und verhältnismäßig hohem Stromwert, wobei zugleich Stabilität, Reproduzierbarkeit,
eine lange Kathoden-Lebensdauer und Betrieb auch in einem weniger guten Vakuum gewährleistet sind. Darüber hinaus soll es
möglich sein, auf dieser Basis ein verbessertes abtastendes Elektronenmikroskop
zu schaffen, das mit einer "built-up"-Thermofeld-Emissionskathode
arbeitet. Dabei soll das abtastende Elektronenmikroskop kleiner und preiswerter als bisherige Systeme sein. Die
Kathode oder aber der Proben-Tisch sollen zugänglich sein, ohne deshalb das Vakuum der gesamten Röhre aufheben zu müssen.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Verfahren zur Erzeugung einer Elektronenemission von einer Feldemissionskathode mit kubischem
Kristallgefüge erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß die
Kathode auf eine Temperatur aufgeheizt wird, die geringfügig unter der Temperatur liegt, bei der eine nennenswerte thermionische Elektronenemission
eintritt, und daß an der Emitterspitze der Kathode
ein Gradient eines elektrostatischen Feldes mit einer Größe erzeugt wird, die ausreicht, um die Form der Spitze zu ändern, um so den
Emissionsstrom von einer im wesentlichen mit der Achse der Kathode zusammenfallenden und dazu normalen kristallographischen Ebene zu
erhöhen und damit für eine stabile und kontinuierliche Elektronenemission davon zu sorgen.
Auf diese Weise läßt sich eine verbesserte Elektronenstrahlröhre für den Einsatz in abtastenden Elektronenmikroskopen schaffen.
Eines der Hauptmerkmale einer solchen Röhre besteht in der Verwendung einer Thermofeld-"built-upw-Feldemissionskathode, mit der
sich schließlich ein im wesentlichen kontinuierlicher und stabiler Betrieb in einem Vakuum mit nicht zu hohen Ansprüchen erzielen ließ.
Diese Kathode vereinigt in sich die bisher nicht erzielbaren Eigenschaften einer hohen Stromdichte, eines hohen Leistungsniveaus,
hoher Stabilität, kleiner Elektronenguellenabmessungen und einer langen Kathoden-Lebensdauer. Beispielsweise lassen sich von einer
Kathode, die eine Betriebsdauer von mehr als tausend Stunden hat, mehr als 200 AiA in einem feststehenden Kalbwinkel von 10° abnehmen,
409810/0882
ferner gestattet diese Kathode die Verwendung eines Vakuums, das eine oder mehrere Größenordnungen niedriger liegt als das Vakuum,
das für derzeit verwendete Feldemissionskathoden benötigt wird, so daß mit einer kleineren und weniger kostspieligen Vakuumpumpe
gearbeitet werden kann. Das ermöglicht die Verwendung einer vorbehandelten Kathode in Verbindung mit einer integralen Ionenpumpe
in einem evakuierten Rohrkolben in Form eines einheitlichen Aufbaus.
Es werden die richtige Wärmemenge und ein hohes kontinuierliches elektrisches Feld in der richtigen Reihenfolge zugeführt, um den
gewünschten Mbuilt-upM-Zustand zu schaffen. Das "built-upH-Gebiet
emittiert Elektronen in freierer Form als jedes andere Gebiet des Kristallgefüges. Diese Elektronen werden von dem verhältnismäßig
kleinen Einzel-Kristallebenen-Gebiet emittiert, das mit der Achse der Kathode zusammenfällt und dazu normal ist, so daß ein Elektronenstrahl
extrem hoher Helligkeit erzeugt wird. Dieses Verhalten ist reproduzierbar, so daß die sich täglich wiederholende Arbeit
beispielsweise mit einem abtastenden Elektronenmikroskop erleichtert wird.
Ein weiteres Merkmal der Elektronenstrahlröhre nach der Erfindung besteht darin, daß der evakuierte Kolben miteinander in Verbindung
stehende Kammern aufweist, von denen die eine auf dem notwendigen niedrigen Druck gehalten wird und die Kathode aufnimmt, während
eine weitere Kammer auf einem höheren Druck gehalten werden kann und den Proben-Tisch aufnimmt. Diese Kammern können voneinander
trennbar sein, über eine kleine Öffnung können die Kammern miteinander
in Verbindung stehen. Diese Öffnung hat eine solche Größe, daß der Druckunterschied zwischen den Kammern aufrechterhalten werden
kann, der Elektronenstrahl jedoch die Möglichkeit hat, durch die Öffnung hindurchzutreten. Um die Kathode rasch auswechseln zu
können, ersetzt eine neue Kathode, die zusammen mit einer integralen Ionenpumpe in einer auf den richtigen Druck vorevakuierten Kammer
angeordnet ist, die die alte Kathode enthaltende Kammer. Nachdem die Kammer mit der neuen Kathode in dem anderen Teil der Röhre angeordnet
worden ist, wird durch eine Metallmembran in der Kathodenkammer ein Loch eingedrückt, so daß der Elektronenstrahl von der
Kathode zu der Proben-Kammer gelangen kann. Der Mechanismus für das
409810/0882
Eindrücken des Loches ist in dem Kammeraufbau enthalten, und die Herstellung des Loches kann unter Vakuum - ohne Vakuumverlust erfolgen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der zugehörigen Zeichnung erläutert. In der
Zeichnung zeigen:
Fig. 1 schematisch eine Ausführung einer TF-Hbuilt-upM-Feldemissionskathode
mit 100er-Ebene nach der Erfindung;
Fig. 2 perspektivisch die Hauptebenen eines raumzentrierten kubischen
Kristallgefüges, wiedergegeben durch seine Miller-Indizes, wenn das Gefüge für eine Emission von der 100er-Ebene
ausgerichtet ist;
Fig. 3a, 3b und 3c
schematisch eine Wiedergabe dieser Kristallebenen, wenn die Elektronenemission von den 31Cer-Ebenen zu der 100er-Ebene
verlagert wird;
Fig. 4 schematisch die Ansicht einer Ausführungsform einer Elektronenstrahlröhre
mit den erfindungsgemäßen Merkmalen;
Fig. 5 in vergrößertem Maßstab einen Querschnitt durch einen Teil einer Elektronenstrahlröhre, der eine bevorzugte Ausführungsform
einer gegenseitigen Verbindung voneinander trennbarer Kammern erkennen läßt;
Fig. 5A perspektivisch einen Ausschnitt aus Fig. 5, der den Angriff
eines Betätigungsnockens an einem Element für die Herstellung der Lochung erkennen läßt; und
Fig. 6 in vergrößertem Maßstab einen Teilschnitt durch einen Bereich
der Elektronenstrahlröhre, entsprechend einer zweiten Ausführungsform der gegenseitigen Verbindung der trennbaren
Kammern.
409810/0882
Im einzelnen läßt Fig. 1 eine Ausführungsform einer Kathode nach der vorliegenden Erfindung mit einem elektronenemittierenden Bereich
1 erkennen, der nachstehend als Feldemitterspitze bezeichnet
wird und der an eine abstützende Heizwendel 10 angeschlossen ist,
die eine Kathode bildet. Die Feldemitterspitze 1 kann aus monokristallinem
Wolfram, Molybdän oder ähnlichem Material gebildet sein, so daß die Ebene des raumzentrierten kubischen Kristallgefüges
mit den Miller-Indizes 100 an einer Spitze 2 verläuft, die verhältnismäßig stumpf ist, d.h. einen Radius in der Größenordnung
von 1000 bis einigen 10OO Angström aufweist, gegenüber 1 bis 1000 Angström für bisher bekannt gewordene Kathoden. Die abstützende
Heizwendel 10 kann aus einem Wolframdraht gebildet sein, der in U-Form gebogen wurde und dessen letzte, der Feldemitter-Spitze 1
benachbarte 2,5 mm auf einen geeigneten Durchmesser geätzt worden sind, so daß eine Aufheizung auf eine hohe Temperatur möglich wird,
wenn den Draht ein elektrischer Strom durchfließt. Dieser Strom
wird von einer Niederspannungs-Wechselstromquelle 18 über einen
Isoliertransformator geliefert. Der Transformator muß hohen Spannungsdifferenzen
zwischen der Primär- und der Sekundärwicklung widerstehen können. Eine negative Hochspannungs-Gleichstromquelle 20,
die in der Lage ist, mehrere hundert AxK Gleichstrom zu liefern,
ist mit der Kathode verbunden. Eine Anode 8 ist üblicherweise, jedoch nicht notwendigerweise über ein Amperemeter 9 an Masse gelegt,
mit dessen Hilfe der Emissionsstrom gemessen werden kann.
Die Feldemissions-Elektronenquelle der Fig. 1 wird in einem vergleichsweise
schwachen Vakuum betrieben, das vorzugsweise zwar einen unterdruck von 1x10 Torr aufweist, jedoch auch bis zu
1x10 Torr herabreichen kann, wie sich das nachstehend ergibt. Zunächst wird die Spitze 2 bei einer Temperatur oberhalb von etwa
2300 K unter Zuhilfenahme der Wechselstromquellen "geblitzt", so
daß die Spitze von Verunreinigungen befreit wird. Sodann wird die Temperatur der FeIdemitterspitze 1 auf eine Temperatur eingestellt,
die geringfügig unterhalb der Temperatur liegt, bei der eine thermionische Emission beginnt, d.h. etwa 19000K. Die Feldemitterspitze
1 wird dann von der Gleichstromquelle 20 aus mit einer negativen hohen Gleichspannung beaufschlagt. Diese Spannung wird erhöht,
bis - je nach dem Radius der Spitze 2 - ein Emissionsstrom zwischen
1 bis 100 ,uA durch das Amperemeter 9 angezeigt wird. Zu diesem
Zeitpunkt emittiert die Spitze 2 üblicherweise Elektronen längs der zu den 310er-Kristallebenen senkrechten Achsen (vgl. Fig.
und 3a). Es sei darauf hingewiesen, daß teilweise auch andere Emissionsarten auftreten können. Wenn die Hochspannung allmählich
erhöht wird, wird an der Emitter-Spitze 2 ein Gradient eines elektrostatischen Feldes erzeugt, der zu einem built-up führt,
wenn das Kristallgefüge beginnt, seine Gestalt zu ändern. Die Elektronenemission zu diesem Zeitpunkt ist mit Fig. 3b veranschaulicht.
Wenn dann der Gradient des elektrostatischen Feldes eine ausreichende Größe hat, die üblicherweise in der Größenordnung
von einigen/MV/cm liegt, so wird die Kristallform an der Spitze 2 so weit geändert, bis die Elektronenemission auf die
"ipOer-Ebene übergeht oder überspringt, wie das mit Fig. 3c gezeigt
ist. Dieser Übergang oder "Überspring"-Vorgang erfolgt gemeinsam
mit einer gleichlaufenden Zunahme des gesamten Emissionsstroms.
Eine stabile, kontinuierliche Emission von mindestens 200 λιΑ
ο in einem feststehenden Halbwinkel von 10 längs der zur 100er-Ebene
senkrechten Achse kann in dieser Phase aufrechterhalten werden, indem die Kathoden-Temperatur und der Gradient des elektrostatischen
Feldes auf den endgültig festgelegten Werten gehalten werden.
Es wird zwar angestrebt, die Kathode kontinuierlich für eine beträchtliche
Zeitdauer zu betreiben, jedoch ist es möglich, den Strahl hoher Stromdichte abzuschalten und dann zu einem späteren
Zeitpunkt mit reproduzierbaren Ergebnissen erneut einzuschalten und so zu einem intermittierenden oder gepulsten Betrieb zu gelangen,
Eine Möglichkeit, einen solchen intermittierenden Betrieb zu verwirklichen, ist folgende:
Wird in Verbindung mit einem Abschaltvorgang zunächst die Temperatur
auf Umgebungstemperatur herabgesetzt, sodann die Hochspannung abgeschaltet, so wird der Elektronenstrahl beim nächsten Einschaltzyklus,
bei dem zunächst die Hochspannung eingeschaltet und dann die Kathode durch Beaufschlagung mit einer niedrigen Spannung
aufgeheizt wird, unmittelbar längs der bevorzugten kristallogra-
409810/0882
_ Q —
fischen Achse emittiert. Es ist somit ersichtlich, daß durch geeignete
Handhabung von Temperatur und Spannung ein Impulsbetrieb verwirklicht werden kann, injäem beispielsweise die Hochspannung
kurz vor Zufuhr des Heizstroms eingeschaltet und dann abgeschaltet wird, nachdem die Kathode sich auf einen ausreichenden Wert abgekühlt
hat.
Die vorstehende Erläuterung behandelt speziell die Arbeitsweise einer TF-"built-up"-Kathode mit 100er Ebene, jedoch konnten bedeutende
Ergebnisse auch mit einer "built-upM-Thermofeldeipissions-Käthode
erzielt werden, bei der die bevorzugte kristallografisch^ Achse normal zu der Ebene mit den Miller-Indizes 3, 1,0 verläuft.
Es sei daher darauf hingewiesen, daß ein stabiler und im wesentlichen kontinuierlicher Betrieb auch ebenso mit einer TF-"built-up"-Kathode
mit 310er-Ebene möglich ist.
Fig. 4 gibt eine Ausführungsform eines abtastenden Elektronenmikroskops
wieder, bei dem erfindungsgemäß eine "built-up"-TF (Thermofeld) · Emissions-Kathode 10a in einer Kammer 12 eines evakuierten rohrförmigen
Kolbens 14 angeordnet ist. Der rohrförmige Kolben 14 kann
aus Glas, Keramik oder einem ähnlichen Material, ebenso wie aus Metall, bestehen. Die Kathoden-Kammer 12 wird auf einem hohen Vakuum,
d.h. 1,0x10 Torr oder höher, mittels einer Hochvakuumpumpe 16 gehalten, die vorzugsweise innerhalb der Kathoden-Kammer 12 angeordnet
ist. Die Niederspannungs-Wechselstromquelle 18 und die Hochspannungs-Gleichstromquelle 20 speisen die Kathode 10a wie zuvor
erläutert in der Thermofeld-Betriebsart.
Eine zweite Kammer 24, die der Proben-Kammer eines abtastenden Elektronenmikroskops entspricht und sowohl strahlablenkende Elemente
als auch einen Proben-Tisch (nicht gezeigt) enthält, wird durch eine Vakuumpumpe 26 auf einem niedrigeren Vakuum gehalten, das
—5 -6
typischerweise 1x10 oder 1x10 Torr ausmacht. Die Kathoden-Kammer
12 und die Proben-Kammer 24 sind durch eine Wand 26a voneinander getrennt, die eine axial mit der Emitter-Spitze der Kathode
1Oa ausgerichtete öffnung 28 aufweist, durch die der von der
Kathode 10 emittierte Elektronenstrahl treten kann.. Die Größe der
- - ίο -
öffnung 28 ist so gewählt, daß die Hochvakuumpumpe 16 den Druck
der Kathoden-Kammer 12 gegenüber der durch die öffnung 28 gegebenen
Undichtigkeit im Verhältnis zu dem niedrigeren Vakuum der zweiten Kammer 24 aufrechterhalten kann. Typischerweise reicht eine Öffnung
mit einem Lochdurchmesser von 0,5 mm aus, um die Druckdifferenz aufrechtzuerhalten. Eine magnetische Linse 30, die auch durch eine
elektrostatische Linse ersetzt sein könnte, fokussiert den Elektronenstrahl auf einen sehr kleinen Querschnitt. Ein abtastendes
Elektronenmikroskop würde naturgemäß ein Elektronenstrahl-Ablenksystem und weitere Hilfsmittel erfordern, die in Fig. 4 nicht gezeigt
sind, jedoch sind solche Gesichtspunkte nicht wesentlich für die Erfindung, so daß darauf auch im einzelnen nicht eingegangen
wird.
Die Kathoden-Kammer kann so ausgeführt werden, daß sie von der Proben-Kammer
trennbar ist, um einen raschen Austausch der Kathode zu ermöglichen, d.h., wenn die zuletzt in Benutzung gewesene Kathode
infolge eines Fehlers oder unbefriedigender Arbeitsweise ausgewechselt werden muß, so kann die gesamte, die Kathode enthaltende,
eine Elektronenstrahlröhre bestimmende Kammer von der zugeordneten zweiten Kammer, die einen Target-Aufbau enthält, entfernt und
durch eine neue, vorevakuierte und abgedichtete Kammer oder eine eine vorbehandelte Kathode enthaltende Elektronenstrahlröhre ersetzt
werden. Eine solche Ersatz-Kathode oder -Elektronenquelle, die als fertige Einheit unmittelbar einem Lager entnommen werden
können, könnten außer für abtastende Elektronenmikroskope auch für alle anderen ähnlichen Einsatzfälle verwendet werden, beispielsweise
in Verbindung mit einer Kathodenstrahlröhre, bei der der Target-Aufbau ein Leuchtschirm ist. Der einheitliche Aufbau kann
auch eine Ionenpumpe enthalten, um das erforderliche Vakuum bei Betrieb aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus kann die zweite, den
Target-Aufbau enthaltende Kammer ebenfalls als am Lager gehaltene Austauscheinheit zur Verfügung gestellt werden. Eine Schnellwechsel-Halterung
ermöglicht es, die gewünschte Einheit bequem innerhalb einer kurzen Zeitdauer austauschen und ohne nennenswerten Verlust
a<n Betriebszeit in Betrieb nehmen m können.
Fig. 5 zeigt eine bevorzugte Ausführungsforir. zur mechanischen Verbindung
der Kammern. Die vorevakuierte Kathoden-Kammer 12 hat
einen Befestigungsflansch 30a und eine dünne metallene Dichtungsmembran 32. Sie umfaßt ferner die Kathode 101 und die Wand 26a
mit der öffnung 28. Ein Einsatz 34 mit einem hohlen, nadelartigen Düsen-körper 36 ist in eine öffnung des Befestigungsflansches 30a neben der metallenen Dichtungsmembran 32 eingesetzt. Die Kathoden-Kammer wird dann zusammen mit O-Ringdichtungen 40 und 42 in einen passenden Flansch 44 der Proben-Kammer 24 eingesetzt. Die ineinander eingreifenden Flansche 30a und 44 werden durch eine Kammer zusammengehalten. Nachdem die Proben-Kammer 24 auf das gewünschte Vakuum abgepumpt worden ist, wird ein Betätigungsnocken 50 eingeschoben, bis er mit dem Düsenkörper 36 fluchtet. Sodann wird der
Betätigungsnocken 50 gedreht, wobei sein Nockenvorsprung den Dtisenkörper 36 gegen die metallene Dichtungsmembran 32 (vgl. Fig. 5A) drückt, um diese zu durchstoßen, ohne daß es zu einem Verlust an Vakuum kommt. Nachdem der Düsenkörper 36 die Dichtungsmembrane 32 durchstoßen hat, wird er mittels eines in Nähe seines konischen
Endes befindlichen Nippelteils fixiert. Der Elektronenstrahl kann dann von der Kathode 10 durch die öffnung 28 und von hier aus durch den hohlen Düsenkörper 36 seinen Weg zu der Proben-Kammer nehmen.
einen Befestigungsflansch 30a und eine dünne metallene Dichtungsmembran 32. Sie umfaßt ferner die Kathode 101 und die Wand 26a
mit der öffnung 28. Ein Einsatz 34 mit einem hohlen, nadelartigen Düsen-körper 36 ist in eine öffnung des Befestigungsflansches 30a neben der metallenen Dichtungsmembran 32 eingesetzt. Die Kathoden-Kammer wird dann zusammen mit O-Ringdichtungen 40 und 42 in einen passenden Flansch 44 der Proben-Kammer 24 eingesetzt. Die ineinander eingreifenden Flansche 30a und 44 werden durch eine Kammer zusammengehalten. Nachdem die Proben-Kammer 24 auf das gewünschte Vakuum abgepumpt worden ist, wird ein Betätigungsnocken 50 eingeschoben, bis er mit dem Düsenkörper 36 fluchtet. Sodann wird der
Betätigungsnocken 50 gedreht, wobei sein Nockenvorsprung den Dtisenkörper 36 gegen die metallene Dichtungsmembran 32 (vgl. Fig. 5A) drückt, um diese zu durchstoßen, ohne daß es zu einem Verlust an Vakuum kommt. Nachdem der Düsenkörper 36 die Dichtungsmembrane 32 durchstoßen hat, wird er mittels eines in Nähe seines konischen
Endes befindlichen Nippelteils fixiert. Der Elektronenstrahl kann dann von der Kathode 10 durch die öffnung 28 und von hier aus durch den hohlen Düsenkörper 36 seinen Weg zu der Proben-Kammer nehmen.
Fig. 6 zeigt eine abgewandelte Ausführungsform für die mechanische
Verbindung von Kathoden- und Proben-Kammer. Teile, die denjenigen der Fig. 4 bzw. 5 entsprechen, sind mit gleichen Bezugszeichen,
zusätzlich mit einem Apostrophzeichen (') versehen. Eine vorevakuierte Kathoden-Kammer^1 hat einen Befestigungskopf 30·a und eine metallene Dichtungsmembran 321. Sie weist ferner die Kathode 10'a und die Wand 26"a mit der öffnung 28' auf. Ein hohler, nadelartiger Düsenkörper 36' ist in eine öffnung in dem Befestigungsflansch 44' der Proben-Kammer 24' eingesetzt. Eine Schraubkappe 46' übergreift den Eefestigungsflansch 30'a, und ein Sprengring 38 ist in eine Nut des Befestigungsflansches 30'a eingepaßt. Die Kathoden-Kammer wird dann zusammen mit O-Ringdichtungen 40* bzw. 42' an
einer passenden Fassung 44' der Proben-Kammer 24' befestigt. Beim Abpumpen der Proben-Kammer 24* wird die Schraubkappe 46f auf die
zusätzlich mit einem Apostrophzeichen (') versehen. Eine vorevakuierte Kathoden-Kammer^1 hat einen Befestigungskopf 30·a und eine metallene Dichtungsmembran 321. Sie weist ferner die Kathode 10'a und die Wand 26"a mit der öffnung 28' auf. Ein hohler, nadelartiger Düsenkörper 36' ist in eine öffnung in dem Befestigungsflansch 44' der Proben-Kammer 24' eingesetzt. Eine Schraubkappe 46' übergreift den Eefestigungsflansch 30'a, und ein Sprengring 38 ist in eine Nut des Befestigungsflansches 30'a eingepaßt. Die Kathoden-Kammer wird dann zusammen mit O-Ringdichtungen 40* bzw. 42' an
einer passenden Fassung 44' der Proben-Kammer 24' befestigt. Beim Abpumpen der Proben-Kammer 24* wird die Schraubkappe 46f auf die
4 0 9 8 10/0882
Fassung 44' aufgeschraubt, so daß der Düsenkörper 36' die Dichtungsmembrane
32' durchstößt. Sobald die Schraubkappe 46' gespannt
worden ist, sind die Kammern gegenüber Atmosphärendruck abgedichtet, und der Elektronenstrahl kann dann durch den hohlen
Düsenkörper 36* treten, wie das zuvor für das bevorzugte Ausführungsbeispiel
erläutert wurde.
Patentansprüche:
h 0 9 8 Ί Ü / 0 8 8 2
Claims (7)
1. \Verfahren zur Erzeugung einer Elektronenemission von einer
—-^Feldemissionskathode mit kubischem Kristallgefüge, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kathode auf eine Temperatur aufgeheizt wird, die geringfügig unter der Temperatur liegt, bei
der eine nennenswerte thermionische Elektronenemission eintritt, und daß an der Emitterspitze der Kathode ein elektrostatischer
Feldgradient einer Größe erzeugt wird, die ausreicht, um die Form der Spitze zu ändern, um so den Emissionsstrom von einer im wesentlichen mit der Achse der Kathode
zusammenfallenden und dazu normalen kristallografischen
Ebene zu erhöhen und damit für eine stabile und kontinuierliche Elektronenemission davon zu sorgen.
zusammenfallenden und dazu normalen kristallografischen
Ebene zu erhöhen und damit für eine stabile und kontinuierliche Elektronenemission davon zu sorgen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode Metall mit einem Wolfram definierenden kubischen
Kristallgefüge ist.
Kristallgefüge ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Kristallgefüge des Metalls so ausgerichtet ist, daß die
Emission von einer Vorzugsebene aus erfolgen kann.
Emission von einer Vorzugsebene aus erfolgen kann.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorzugsebene durch die MiHer-Indizes 1,0,0 bestimmt ist.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorzugsebene durch die Miller-Indizes 3,1,0 bestimmt ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode in einem bis zu 1,0 χ 10 Torr abgeschwächten Vakuum
betreibbar ist.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Emitterspitze vergleichsweise stumpf ist.
8. Verfahren zum stabilen und im wesentlichen kontinuierlichen Betrieb einer "built-up"-Thermofeld-Kathode mit einer vergleichsweise
stumpfen Spitze in einem bis auf 1,O χ 10 ^abgeschwächten
Vakuum, dadurch gekennzeichnet, daß der Kathode eine im wesentlichen stetige niedrige Spannung zugeführt wird,
um die Kathode auf eine Temperatur aufzuheizen, die geringfügig unter der Temperatur liegt, bei der eine nennenswerte
thermionische Elektronenemission eintritt, und daß die Kathode mit einem im wesentlichen stetigen Hochspannungspotential
beaufschlagt wird, um einen elektrostatischen Feldgradienten mit einer Größe zu erzeugen, die ausreicht, um die Form der
Spitze zu ändern, um so den Emissionsstrom zu veranlassen, von einer Mehrzahl Achsen auf eine bevorzugte Achse überzugehen,
von der aus die Elektronenemission sowohl kräftig als auch stabil ist.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode eine TF-"built-up"-Kathode mit 100er-Ebene ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode eine TF-"built-up"-Kathode mit 31Oer-Ebene ist.
11. Stabile Felderaissions-Elektronenquelle, gekennzeichnet durch
eine Thermofeld-Metallkathode mit einer verhältnismäßig stumpfen Emitterspitze, eine Einrichtung zur Aufheizung der
Kathode auf eine Temperatur, die geringfügig unter der Temperatur liegt, bei der eine nennenswerte thermionische Elektronenemission
eintritt, sowie durch eine Einrichtung, um an der Emitterspitze der Kathode einen elektrostatischen FeIdgradienten
zu erzeugen, dessen Größe ausreicht, um die Form der Spitze zu andern, so daß die Elektronenemission von einer
- 15 Mehrzahl Achsen auf eine bevorzugte Achse übergeht.
12. Stabile Feldemissions-Elektronenguelle nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Aufheizung der Kathode einen der Emitterspitze benachbarten Widerstandsdraht
aufweist, durch den Strom von einer Niederspannungs-Wechselstromquelle
geleitet wird, und daß die Einrichtung zur Erzeugung des elektrostatischen Peldgradienten entweder eine
negative Hochspannung, die von einer Gleichstromquelle am axe Kathode der Feldemissionsquelle einwirkt, oder eine positive Hochspannung hat, die von einer Gleichstromquelle auf die
Anode der Feldemissions-Elektronenquelle einwirkt.
negative Hochspannung, die von einer Gleichstromquelle am axe Kathode der Feldemissionsquelle einwirkt, oder eine positive Hochspannung hat, die von einer Gleichstromquelle auf die
Anode der Feldemissions-Elektronenquelle einwirkt.
13. Stabile Feldemiseiona-Elektronenquelle nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kathode eine Wolfram-TFMbuiltupuKathode
mit 100er-Ebene ist.
14. Stabile Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kathode eine Wolfram-TF-^builtup"-Kathode
mit 310er-Ebene ist.
15. Stabile Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kathode in,einem bis auf 1,Ox
10 Torr abgeschwächten Vakuum betreibbar ist.
16. Elektronenstrahlröhre für ein abtastendes Elektronenmikroskop,
gekennzeichnet durch einen evakuierten Rohrkolben mit einer
erstenjund einer zweiten Kammer, wobei die erste Kammer auf
einem niedrigeren Druck als die zweite Kammer gehalten werden kann, eine Einrichtung zur Herstellung einer Verbindung zwischen der ersten und der zweiten Kammer, eine Feldemissions-Elektronenquelle, die axial in der ersten Kammer neben der Verbindungseinrichtung und unter Ausrichtung im Verhältnis zu der Verbindungseinrichtung angeordnet ist, eine mit der Feldemissions-Elektronenquelle verbundene Einrichtung, um so für einen stabi-
erstenjund einer zweiten Kammer, wobei die erste Kammer auf
einem niedrigeren Druck als die zweite Kammer gehalten werden kann, eine Einrichtung zur Herstellung einer Verbindung zwischen der ersten und der zweiten Kammer, eine Feldemissions-Elektronenquelle, die axial in der ersten Kammer neben der Verbindungseinrichtung und unter Ausrichtung im Verhältnis zu der Verbindungseinrichtung angeordnet ist, eine mit der Feldemissions-Elektronenquelle verbundene Einrichtung, um so für einen stabi-
409Ö1Ü/0882
len und im wesentlichen stetigen Betrieb dieser Quelle zu
sorgen, wobei diese mit der Feldemissions-Elektronenquelle verbundene Einrichtung eine Niederspannungs-Energiequelle
für die Aufheizung der Elektronenquelle auf eine Temperatur, die geringfügig unter der Temperatur liegt, bei der eine
nennenswerte thermionische Elektronenemission eintrifft, und eine Hochspannungsquelle umfaßt, um an der Emitterspitze
der Elektronenquelle einen elektrostatischen Feldgradienten
mit einer Größe zu erzeugen, die ausreicht, um die Form der Spitze zu ändern, so daß sich ein erhöhter Emissionsstrom
längs einer bevorzugten Achse ergibt, sowie durch ein in der zweiten Kammer angeordnetes Fokussierelement.
1.7. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verbindungseinrichtung eine der Feldemissions-Elektronenquelle benachbarte öffnung aufweist, deren Größe ausreicht,
um bei Aufrechterhaltung einer Druckdifferenz zwischen den beiden Seiten der öffnung einen Elektronenstrahl
durch die Öffnung treten zu lassen.
18. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Feldemissionsquelle eine TF-"built-up"-Kathode mit 100er-Ebene, vorzugsweise aus Wolfram, ist.
19. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Feldemissionsquelle eine TF-"built-up"-Kathode mit 31Oer-Ebene, vorzugsweise aus Wolfram, ist.
20. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kammer und die zweite Kammer voneinander trennbar und wieder zusammenfügbar sind.
21. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kammer eine Kathode, die die Elektronenquelle bildet, und eine Ionenpumpe enthält und daß die Kammer zu-
409810/0882
saminen mit der Kathode und der. Ionenpumpe einen einheitlichen,
abgedichteten Aufbau bildet.
22. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet/
daß die erste Kammer vor ihrer Verbindung mit der zweiten Kammer abgedichtet und vorevakuiert worden ist.
23. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet)
daß die Kathode vor ihre^rjVerbindung mit der zweiten Kammer
auf den gewünschten Betriebszustand vorbehandelt wird.
24. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verbindungseinrichtung eine Einrichtung zur mechanischen Verbindung der Kammern und eine Einrichtung aufweist, um eine
Abdichtungsmerabran in der ersten Kammer zu durchstjfoßen und
damit die Verbindung zwischen der ersten und der zweiten Kammer herzustellen,
25. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtung zum Durchstoßen einen hohlen Düsenkörper
ist aufweist, der axial zu der Elektronenquelle angeordnet, so daß
der Elektronenstrahl dadurch hindurchtreten kann.
26. Elektronenstrahlröhre für ein abtastendes Elektronenmikroskop,
gekennzeichnet durch einen evakuierten rohrförmigen Kolben mit einer zweiten und einer von der zweiten Kammer trennbaren
ersten Kammer, eine Verbindungseinrichtung zur Herstellung einer Verbindung zwischen der ersten und der zweiten Kammer
und sowie durch eine Einrichtungjzur Trennung erneuten Verbindung der ersten und zweiten Kammer.
27. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kammer sich auf einem niedrigeren Druck als die zweite Kammer befindet.
4098 10/0882
28. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verbindungseinrichtung eine einer Elektronenquelle benachbarte Öffnung aufweist, deren Größe ausreicht, um unter
Aufrechterhaltung einer Druckdifferenz zwischen den beiden Seiten der Öffnung einen Elektronenstrahl durch die Öffnung
treten zu lassen.
29. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet;
daß in der ersten Kammer vor ihrer Verbindung mit der zweiten Kammer ein vorgegebenes Vakuum herrschen kann und daß die
erste Kammer an ihrem Befestigungsende eine Membran aufweist, um darin einen Druck aufzubauen und aufrechtzuerhalten.
30. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtung zur Trennung und Wiederverbindung der ersten und zweiten Kammer eine Einrichtung zum Durchstoßen der
Membran am Anschlußende der ersten Kammer aufweist, um so für eine Verbindung zwischen der ersten Kammer und der zweiten
Kammer zu sorgen.
31. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kammer eine vorbehandelbare Kathode und eine
Ionenpumpe aufweist, die gemeinsam mit der Kammer einen einheitlichen abgedichteten Aufbau bilden.
32. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kammer durch einen Kolben aus Glas oder Keramik begrenzt ist.
33. Verfahren zum Durchstoßen einer inneren Membran einer evakuierten
Elektronenröhre, so daß ein Elektronenstrahl durchtreten kann, dadurch gekennzeichent, daß die Spitze eines inneren
hohlen Düsenkörpers gegen die innere Membran gedrückt, der Düsenkörper mit einer quer zur Ebene der Membran verlaufenden
Achse festgelegt und der Düsenkörper unter Druck gesetzt wird,
409810/0882
um so die Membran zu durchdringen, so daß der Düsenkörper in der Membran angeordnet wird und das verdrängte Membranmaterial
bewegt wird, so daß ein Elektronenstrahl ungehindert durchtreten kann.
34. Anordnung zum Durchstoßen einer inneren Membran einer evakuierten Elektronenstrahlröhre, so daß ein Elektronenstrahl
hindurchtreten kann, gekennzeichnet durch einen hohlen Düsen- oder Stoßkörper, der im Innern angeordnet und
in Bezug auf eine quer zur Ebene der Membran verlaufende Achse festgelegt ist>
sowie durch eine wirkungsmäßig mit dem Stoßkörper verbundene externe Einrichtung, um den Stoßkörper
axial durch die Membran zu treiben.
35. Anordnung nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß die wirkungsmäßig mit dem Stoßkörper verbundene externe
Einrichtung eine Welle mit einem in Nähe des Stoßkörpers angeordneten Nockenkörper aufweist und daß die Welle sowohl
axial beweglich als auch drehbar ist, um den'Hockenkörper in oder außer Eingriff mit dem Stoßkörper zu bringen.
36. Anordnung nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet» daß
die externe, wirkungsmäßig mit dem Stoßkörper verbundene Einrichtung eine die Elektronenröhre umschliessende
Manschette mit Gewindegängen aufweist, die mit Gewindegängen des Stoßkörpers oder einer Halterung des Stoßkörpers in ·
Eingriff stehen, um so den Stoßkörper bei Drehung der Manschette auf die Membran zu und durch diese hindurch zu
führen.
37. Elektronenstrahlröhre mit einem Kolben und einer in dem Kolben längs einer mit der Achse der Elektronenquelle zusammenfallenden
Achse angeordneten stabilisierten Elektronenquelle, gekennzeichnet durch eine von dem Kolben neben der
Elektronenquelle und ausgerichtet dazu gebildete Äbdicht-
4098 10/0882
7341377
einrichtung zur Abdichtung des Kolbens, um so den Kolben
unter Vakuum zu halten, wobei die Äbdichteinrichtung durchstoßen werden kann, wenn die Elektronenstrahlröhre in
ihre Lage im Verhältnis zu einem zweiten, ein Elektronenstrahl-Target enthaltenden Kolbenaufbau gebracht wird.
38. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 37, gekennzeichnet durch eine Ionenpumpe zur Aufrechterhaltung des Vakuums.
KN/sw 3
4 0 9 8 10/0882
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00281375A US3809899A (en) | 1972-08-17 | 1972-08-17 | Electron-beam tube including a thermionic-field emission cathode for a scanning electron microscope |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2341377A1 true DE2341377A1 (de) | 1974-03-07 |
Family
ID=23077025
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732341377 Ceased DE2341377A1 (de) | 1972-08-17 | 1973-08-16 | Elektronenstrahlroehre mit thermionikfeld-emissionskathode fuer ein abtastendes elektronenmikroskop |
DE2366144A Expired DE2366144C2 (de) | 1972-08-17 | 1973-08-16 | Verfahren und Anordnung zum Bilden einer Öffnung für den Durchtritt des Elektronenstrahls in einer zwischen zwei Kammern angeordneten dichtenden Membran einer evakuierten Elektronenstrahlröhre und Anwendung des Verfahrens |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2366144A Expired DE2366144C2 (de) | 1972-08-17 | 1973-08-16 | Verfahren und Anordnung zum Bilden einer Öffnung für den Durchtritt des Elektronenstrahls in einer zwischen zwei Kammern angeordneten dichtenden Membran einer evakuierten Elektronenstrahlröhre und Anwendung des Verfahrens |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3809899A (de) |
JP (3) | JPS557661B2 (de) |
CA (1) | CA1031080A (de) |
DE (2) | DE2341377A1 (de) |
FR (2) | FR2199613B1 (de) |
GB (2) | GB1433944A (de) |
NL (2) | NL7311344A (de) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2514266C2 (de) * | 1975-03-27 | 1977-04-28 | Siemens Ag | Korpuskularstrahloptisches geraet mit zwei in strahlrichtung aufeinanderfolgenden teilraeumen unterschiedlicher druecke |
US4175234A (en) * | 1977-08-05 | 1979-11-20 | University Of Virginia | Apparatus for producing ions of thermally labile or nonvolatile solids |
US4139773A (en) * | 1977-11-04 | 1979-02-13 | Oregon Graduate Center | Method and apparatus for producing bright high resolution ion beams |
JPS5648028A (en) * | 1979-09-26 | 1981-05-01 | Toshiba Corp | Electron gun |
DE3039283A1 (de) * | 1979-10-19 | 1981-05-14 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Feldemissionskathode und verfahren zu ihrer herstellung |
US4468586A (en) * | 1981-05-26 | 1984-08-28 | International Business Machines Corporation | Shaped electron emission from single crystal lanthanum hexaboride with intensity distribution |
DE3570012D1 (en) * | 1985-01-29 | 1989-06-08 | Ibm | Field-emission scanning auger electron microscope |
EP0462554B1 (de) * | 1990-06-20 | 2000-10-11 | Hitachi, Ltd. | Ladungsträgerstrahlgerät |
EP0689224B1 (de) * | 1990-08-10 | 1999-12-22 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Ladungsträgerstrahl-Vorrichtung |
JP3148353B2 (ja) * | 1991-05-30 | 2001-03-19 | ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション | 電子ビーム検査方法とそのシステム |
US5616926A (en) * | 1994-08-03 | 1997-04-01 | Hitachi, Ltd. | Schottky emission cathode and a method of stabilizing the same |
JP2969091B2 (ja) * | 1997-01-20 | 1999-11-02 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム検査装置 |
JP2951609B2 (ja) * | 1997-01-20 | 1999-09-20 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム検査装置 |
JP2951610B2 (ja) * | 1997-01-20 | 1999-09-20 | 株式会社日立製作所 | 欠陥検査方法 |
EP2365511B1 (de) * | 2010-03-10 | 2013-05-08 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Rückkopplungsschleife für eine Emitter Blitzreinigung |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE438468A (de) * | 1939-05-08 | |||
NL112758C (de) * | 1942-10-28 | |||
NL102095C (de) * | 1955-07-01 | |||
NL289910A (de) * | 1962-03-08 | |||
US3174026A (en) * | 1962-06-20 | 1965-03-16 | Budd Co | Method and means of circumventing cathode maintenance in electron beam devices |
US3374386A (en) * | 1964-11-02 | 1968-03-19 | Field Emission Corp | Field emission cathode having tungsten miller indices 100 plane coated with zirconium, hafnium or magnesium on oxygen binder |
US3678333A (en) * | 1970-06-15 | 1972-07-18 | American Optical Corp | Field emission electron gun utilizing means for protecting the field emission tip from high voltage discharges |
JPS5852244B2 (ja) * | 1977-05-04 | 1983-11-21 | 松下電器産業株式会社 | モ−タの回転数調整装置 |
-
1972
- 1972-08-17 US US00281375A patent/US3809899A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-08-13 GB GB3818173A patent/GB1433944A/en not_active Expired
- 1973-08-13 GB GB3159874A patent/GB1433945A/en not_active Expired
- 1973-08-16 DE DE19732341377 patent/DE2341377A1/de not_active Ceased
- 1973-08-16 CA CA178,925A patent/CA1031080A/en not_active Expired
- 1973-08-16 FR FR7330655A patent/FR2199613B1/fr not_active Expired
- 1973-08-16 DE DE2366144A patent/DE2366144C2/de not_active Expired
- 1973-08-17 JP JP9232973A patent/JPS557661B2/ja not_active Expired
- 1973-08-17 NL NL7311344A patent/NL7311344A/xx unknown
-
1974
- 1974-04-04 FR FR7412881A patent/FR2214962B1/fr not_active Expired
-
1978
- 1978-10-23 JP JP13038078A patent/JPS54161263A/ja active Pending
-
1979
- 1979-11-21 NL NL7908479A patent/NL7908479A/nl not_active Application Discontinuation
-
1980
- 1980-09-26 JP JP1980138035U patent/JPS5661960U/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS557661B2 (de) | 1980-02-27 |
JPS5661960U (de) | 1981-05-26 |
DE2366144C2 (de) | 1982-12-30 |
GB1433944A (en) | 1976-04-28 |
NL7908479A (nl) | 1980-03-31 |
JPS54161263A (en) | 1979-12-20 |
FR2199613B1 (de) | 1977-02-25 |
GB1433945A (en) | 1976-04-28 |
FR2199613A1 (de) | 1974-04-12 |
US3809899A (en) | 1974-05-07 |
CA1031080A (en) | 1978-05-09 |
FR2214962A1 (de) | 1974-08-19 |
JPS49132975A (de) | 1974-12-20 |
NL7311344A (de) | 1974-02-19 |
FR2214962B1 (de) | 1978-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2628584C3 (de) | Feldemissionskathode und Verfahren zur Herstellung einer nadelförmigen Kathodenspitze dafür | |
DE2341377A1 (de) | Elektronenstrahlroehre mit thermionikfeld-emissionskathode fuer ein abtastendes elektronenmikroskop | |
EP0801805B1 (de) | Feldemissionskathodeneinrichtung und verfahren zur herstellung | |
DE2129636C2 (de) | Feldemissions-Elektronenstrahlerzeugungssystem | |
DE69830664T2 (de) | Vorrichtung zum emittieren eines geladenen teilchenstrahls | |
DE69608859T2 (de) | Kathode mit einem Reservoir und Herstellungsverfahren derselben | |
DE2254904C2 (de) | Elektronenentstrahlvorrichtung zum Bestrahlen eines außerhalb der Vorrichtung angeordneten Bereichs mit einem Elektronenstrahl | |
DE2929549C2 (de) | Feldemissions-Elektronenkanone | |
DE3039283C2 (de) | ||
DE112011102643B4 (de) | Gasfeld-Ionenquelle, Ionenstrahl-Vorrichtung und Emitterspitze sowie Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE2216119A1 (de) | Feldemissions-Röntgenstrahlröhre | |
EP1036488B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von extrem-ultraviolettstrahlung und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung | |
DE2518688A1 (de) | Linsen-gitter-system fuer elektronenroehren | |
DE3700775A1 (de) | Ionenplasma-elektronenkanone | |
DE2029486A1 (de) | ||
DE69506375T2 (de) | Partikel-optisches gerät mit einer elektronenquelle versehen die eine nadel und eine membranartige extraktionselektrode aufweist | |
DE2221138C3 (de) | Feldemissions-Elektronenquelle | |
DE10210006A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen geladener Teilchen | |
DE2217660A1 (de) | Elektronenkanone des Feldemissionstyps | |
DE2138339B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Anspitzen und/oder Reinigen einer Spitze | |
DE2612285A1 (de) | Elektronengeraet | |
DE60007830T2 (de) | Schottky-emissionskathode mit verlängerter lebensdauer | |
DE1225310B (de) | Betriebsverfahren fuer eine Vorrichtung zum Bestrahlen mit Elektronen und Bestrahlungsvorrichtung | |
DE3150848C2 (de) | Elektronenstrahlerzeugungssystem für hohe Helligkeit | |
DE2002374A1 (de) | Gasentladungsroehre fuer einen Laser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
8131 | Rejection | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2366144 Format of ref document f/p: P |