DE2325729C2

DE2325729C2 - Strahlungsempfindliches photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer antistatisch wirksamen Haftschicht

Info

Publication number: DE2325729C2
Application number: DE2325729A
Authority: DE
Inventors: Arthur Allyn Webster N.Y. Rasch
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1972-05-22
Filing date: 1973-05-21
Publication date: 1982-12-02
Also published as: CA1013606A; JPS4951930A; JPS5710420B2; AR201662A1; BE799893A; US3874879A; IT998112B; DE2325729A1; FR2185504B1; FR2185504A1; GB1414528A

Description

Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches photographisches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem dielektrischer Schichtträger, mindestens einer strahlungsempfindlichen ^vdrophilen Kolloidschicht sowie mindestens einer die Haftung der Kolloidschicht auf dem Schichtträger verbessernden, antistatisch wirksamen Zwischenschicht.

Es ist bekannt, daß die Ansammlung statischer Ladungen auf photographischen Aufzeichnungsmaterialien mit dielektrischen Schichtträgern und lichtempfindlichen Emulsionsschichten zu unerwünschten Effekten führen kann, wenn sich die Ladungen entladen. In der Regel führen derartige Entladungen zu einer Verschleierung der Emulsionsschicht in der Umgebung der Entladungen. Statische Aufladungen photographischer Aufzcichungsmaterialien machen sich insbesondere im Falle von Rollfilmen störend bemerkbar, welche keine sogenannten Gelatine-Pelloidschichten aufweisen oder keine Papierzwischenblätter, was häufig dann der Fall ist, wenn die A ifzeichnungsmaterialicn ein minimales Gewicht aufweisen und/oder einem Schnellentwicklungsverfahren unterworfen werden sollen.

Es ist ferner bekannt, z. B. aus der GB-PS 309 659, zur Vermeidung elektrostatischer Aufladungen von photographischen Aufzeichr.ungsmaterialien die dielektrischen Schichtträger dieser Materialien mit einer dünnen Metallschicht zu versehen, die eine solche Leitfähigkeit aufsveist. daß starke lokalisierte Anhäufungen elektrostatischer Elektrizität vermieden wer= den können. Derartige metallische, antistatisch wirksame Schichten haben jedoch den Nachteil, daß sie sich, wenn ihre Schichtstärke unter etwa 100 Angström liegt, leicht beim Lagern oxidieren, so daß ihre Leitfähigkeit allmählich verloren geht und damit auch ihre antistatisch wirksamen Eigenschaften. Werden andererseits dickere Metallschichtcn verwendet, um günstigere leitfähige und antistatisch wirksame Effekte w erzielen, so stört die größere optische Dichte dieser Schichten. Auch hat sich gezeigt, daß im Falle metallischer antistatisch wirksamer Schichten diese Schichten die Emulsionsschichten in unerwünschter Weise verschleiern können. Auch kann eine Metallschicht die Haftung einer Emulsionsschicht auf dem Schichtträger beeinträchtigen, so daß metallische, antistatisch wirksame Schichten praktisch nur auf

ίο der Seite des Schichtträgers angeordnet werden können, die der Seite, auf die die Emulsionsschicht oder Emulsionsschichten aufgebracht werden, gegenüberliegt. Ein weiterer Nachteil der Verwendung metallischer Schichten besteht darin, daß, werden Schicht-

l■; träger nach Auftragen der metallischen Schicht aufgespult, oftmals ein Verkleben der miteinander in Kontakt kommenden Schichtträger zu beobachten ist. Die Metallschichten führen oftmals zu einer Blockierung, wodurch ein Abspulen der Schichtträgerrollen erschwert wird oder beim Abspulen wird die Metallschicht ganz oder teilweise auf die andere Seite einer Schichtträgerroiie übertragen.

Aus der US-PS 2 808 351 ist des weiteren bekannt, daß Schichten aus einem Metall und einem Oxid des Siliciums, die auf Silicium enthaltende Oberflächen aufgedampft werden, beispielsweise auf Oberflächen aus Glas, gut auf diesen haften ur;d diesen Oberflächen, z. B. Fenstern, Linsen. Objektiven und Windschutzscheiben antistatische Eigenschaften verleihen.

Auf derartige anorganische Schichten lassen sich wiederum andere Schichten aufdampfen, z. B. Metalloxidschichten, Metallhalogenidschichten und andere Metalldeckschichten. Die US-PS 2 808 351 befaßt sich jedoch nicht mit der antistatischen Ausrüstung photographischer Aufzeichnungsmaterialien.

Es ist auch allgemein bekannt, auf photographische Aufzeichnungsmaterialien antistatisch wirksame Schichten aus organischen Verbindungen zu erzeugen. Aus der US-PS 2 139 778 ist es beispielsweise

i<> bekannt, zu diesem Zweck Taur%fiamide langkettiger Fettsäuren zu verwenden. Aus der DE-OS 1 185 944 sind antistatisch wirksame Schichten aus Polymeren mit N-Phenylmaleinsäureimideinheiten bekannt. Sämtlichen dieser bekannten Schichten ist jedoch gemein, daß ihre Wirksamkeit stark feuchtigkeitsabhängig ist.

Aus der DE-OS 1 572 266 ist schließlich eine Haftschicht für photographische Filmschichtträger bekannt, die auch antistatische Eigenschaften aufweisen soll. Die antistatisch wirksame Haftschicht wird durch Umsetzung einer Polyhydroxyverbindung oder einer Polyepoxyverbindung mit mindestens drei funk- !ionellen Gruppen und einer Polycarbonsäure sowie Neutralisation überschüssiger Säure mit einem Amin hergestellt. Das polymere Aminsalz wird auf den Schichtträger in Form einer Lösung aufgetragen. Auch für diese antistatisch wirksame Schicht gilt, daß sie stark feuchtigkeitsabhängig ist.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einem dielektrischen Schichtträger, mindestens einer strahlungscmpfindlichen hydrophilen Kolloidschicht und mindestens einer Zwischen- oder Haftschicht zwischen Schichtträger und Kolloidschicht, welche für eine ausrei-

6Ί chendc Haftung der hydrophilen Kolloidschicht auf dem dielektrischen Schichtträger sorgt und des weiteren Vorteile antistatischer Eigenschaften ohne die geschilderten Nachteile der bekannten antistatisch

wirksamen Schichten auiv/eist, so da" sich das Maleria! nicht elektrostatisch aufladen und unter Herbeiführung der bekannten unerwünschten Effekte entladen kann, anzugeben.

Die Lösung der Aufgabe erfolgt mit einr-rn firalilungsempfindlichen photographischen Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem dielektrischen Schic⁷.«· träger, mindestens einer strahlungsernpfindlichen hydrophilen KoHoidschicht sowie mindestens einer die Haftung der KoHoidschicht auf dem Schichtträger verbessernden antistatisch wirksamen Zwischenschicht uas dadurch gekennzeichnet ist, daß die Zwischenschicht aus einer Mischung aus 30 bis 80 Gew.-°/o Chrom und 70 bis 20 Gew.-% Siliciummonoxid besteht.

Der Empfindung lag also die Erkenntnis zugrunde, daß man zu strahlungsempfiadlichen Aufzeichnungsmaterialien der angegebenen Eigenschaften dann gelangt, wenn man als Zwischen- oder Haftschicht, welche die hydrophile KoHoidschicht an den Schichtträger bindet, eine Schicht aus einer Mischung aus Chrom und Süiciummonoxid verwendet.

Das verwendete Chrom stellt dabei einen elektrischen Leiter dar, der durch Oxidation in einen weniger leitfähigen Zustand überführbar ist und das Süiciummonoxid ein die Oxidation des elektrischen Leiters unterbindendes anorganisches Oxid. Der Oberflächenwiderstand einer solchen Schicht liegt dabei bei weniger als 1O¹⁵ Ohm/Ouadrat.

Eine derartige antistatisch wirksame Zwischenschicht ist relativ inert und unlöslich in den zur Entwicklung der Aufzeichnungsmatenalien verwendeten Behandlungsbädern und ferner gut verträglich mit strahlungsempfindlichen Schichten photographischer Aufzeichnungsmatenalien.

Die Verwendbarkeit von Schichten der beschriebenen Zusammensetzung als antistatisch wirksame Zwischenschicht in photographischen Aufzeichnungsmatenalien war nicht voraussehbar. Tatsächlich unterscheiden sich die bisher auf Schichten des aus der US-PS 2 8OP 351 bekannten Typs aufgedampften Schichten wesentlich von den hydrophilen Kolloidschichten, die im Falle der strahlungsempfindlichen photographischen Aufzeichnungsmatenalien nach der Erfindung auf die anorganischen Schichten aufgebracht werden. So sind hydrophile Kolloidschichter. weder dime-.isionsstubil noch stellen sie in wäßrigen Lösungen schützende Schichten für die anorganischen Schichten dar. Beispielsweise ziehen hydrophile Kolloidschichten Wasser an, wenn sie in Kontakt mit wäßrigen Lösungen, beispielsweise photographischen Arbeitslösungen gebracht werden. Durch die Aufnahme von Wasser erfolgen beträchtliche Dimensionsveränderungen und/oder in der hydrophilen Kolloidschicht treten interne Spannungen auf. insbesondere an den Grenz!lachen. So nehmen beispielsweise hydrophile Kolloidschichten Wassermengen auf, die das mehrfache größer sind als das Gewicht der Kolloidschicht. Wird ein hydrophiles Kolloid direkt auf einen Schichtträger gebracht, beispielsweise einen Filmschichtträger, so kanr das Kolloid von dem Schichtträger nach Aufquellen der Schicht vom Schichtträger leicht abgetrennt oder abgezogen werden. Aus dieser. Grund werden bekanntlich Zwischen- oder Haftsdiichten verwendet, um die Adhäsion der hydrophilen Kolloidschichten auf den Schichtträgcroberflachcn zu verbessern. Da die hydrophilen Kolloidschich'''.n naturcemiiß für wäßriuc Lösungen oirrsicabe! sein müssen, damit die photographischen EniwicklunHsiösungen me Mrahlunpsempfindlichen Verbindupp;?n iie V:hiehir-i, en ,'k'hen künnen, gelangt eine solche Hai.- oder Zwi^henj.hichi tatsächlich in direkten Kontakt mit den photographischen Entwicklungslösungen und muß daher .-wiisicnt gegenüber dem Angriff derartiger L ösurrc-i sein, wenn das Kolloid auf dem Schichtträger verbleiben soll.

to Erfindungsgemäß läßt sich somit eine hydrophile Kolloidschicht fest auf einem dielektrischen Schichtträger zur Haftung bringen, wenn als Zwischenschicht eine Schicht der beschriebenen Zusammensetzung verwendet wird. Die erfindungsgemäß verwendete Zwischenschicht stellt eine bindemittelfreie Schicht dar. Sie erfüllt zwei Funktionen, nämlich die einer üblichen antistatisch wirksamen Schicht und die einer üblichen Zwischenschicht, die dazu dient strahlungsempfindliche hydrophile Kolloidschichten auf dielektrischen SchichUrägem zu befestigen. Gegebenenfalls kann die erfindungsgemäß verwendete Zwischenschicht in Kombination ην-· einer weiteren üblichen Haft- oder Zwischenschicht ut:d/oder einer üblichen bekannten antistatisch wirksamen Schicht verwendet werden.

Überraschenderweise bleiben die hydrophilen KoI-loidschichten fest auf der antistatisch wirksamen Zwischenschicht haften, wenn die Aufzeichnungsmaterialien in wäßrige, alkalische, saure oder neu- trale photographische Arbeitslösungen gebracht werden, welche das hydrophile Kolloid zum Quellen bringen oder wenn die Aufzeichnungsmaterialien mechanisch beansprucht werden, z. B. gebogen oder geknickt werden.

Der angegebene Oberflächenwiderstand von weniger als 10¹² Ohm pro Quadrat wird als der maximale Oberflächenwiderstandswert angesehen, der eine ausreichende Ladungsableitung vom Schichtträger gewährleistet. Vorzugsweise liegt der Oberflächenwiderstandswert bei weniger als 10⁹ Ohm pro Quadrat.

Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen. Zwischenschichten mit einem Gesamtoberflächenwiderstandswert von weniger als 10⁵ Ohm pro Quadrat zu erzeugen, um sicherzustellen, daß in allen lokalisierten Bezirken ein Oberflächenwiderstandswert von weniger als 10" Ohm pro Quadrat erreicht wird. Mit antistatischen Schichten eines Oberflächenwiderstandswertes von weniger als 10⁵ Ohm pro Quadrat lassen sich besonders vorteilhafte Ergebnisse erhalten, d. h. mit derartigen Schichten lassen sich lokalisierte Entladungen statischer Elektrizität mit besonderer Sicherheit ausschalten.

Die angegebenen Oberflächenwiderstandswerte lassei; sich leicht durch Ermittlung des Widerstandes zwischen zwei parallel zueinander angeordneten Elektroden gleicher Länge, die voneinander in einer Entfernung angeordnet sind, die ihrer Länge entspricht, bestimmen. Verwiesen wird z. B. auf Maissei u.

Glanc. »Har^book of Thin Film Technology«, Verlag McGraw-Hill, 1970, Seiten 13-5 bis 13-7, insbesondere Soite 13-7. Der Oberflächenwiderstand, ausgedrüc¹:' in Ohm pro Quadrat ist der Widerstand, der für den spezie;"jn Fall ermittelt wurde, in dem

^ die Elektroden!*™.. · 'der da.-, Clektrodenmaß und der Ab^i-iäd de fcick.trpden voneinander idcntiv h .,lud und infolgedessen sich wechselseitig auslöschende Parameter.

Das gemeinsam mit Chrom verwendete Siliciummonoxid ist in Wasser praklsch unlöslich, gegenüber photographischen Behandlungshädcrn chemisch inert und praktisch transparent. F.s läßt sich ferner gemeinsam mit Chrom durch Erhitzen auf Schichtträger aufdampfen, und zwar bei Temperaturen die vergleichsweise gering sind.

Die unerwartet vorteilhafte Kombination von l.c tfähigkcit und Oxidationswiderstandsfähigkeit der Zwischenschicht beruht ganz offensichtlich wenigstens /um Teil auf einer innigen Vermischung des elektrischen Leiters mit dem schützenden anorganischen Oxid. Obgleich verschiedene Verfahren angewandt werden können, um eine geeignete Mischung der beiden Komponenten zu er/engen, hat es sich jedoch als vorteilhaft erwiesen, die Mischung dadurch herzustellen, daß Dämpfe des Chroms und des schützenden Oxides im Vakuum auf dem Schichtträger abgeschieden werden. Chrom iüv.! si.-Miiyi-nil.-s Oxid können in tier Weise miteinander ve:mischt werden, wie es beispielsweise in der US-PS 2 S(IS 35 I bekannt ist. Andererseits können Mischungen i'tis Chrompartikeln von bis zu 200 Angstrom im Durch messer in einer kontinuierlichen Matrix aus dem Oxid, wie es beispielsweise von Milgram und Lu in der Zeitschrift "Journal of Applied Physics". 39. Seiten 421')-24. beschrieben wird, verwendet weiden. Die vorteilhaften hrgebnisse werden mit der innigsten physikalischen Mischung aus Chrom und Siliciuinmonoxid erhalten.

Das Verhältnis von Chrom zu Siliciiinimonovd kann sehr verschieden sein. Das Verhältns soll jedoch derart sein, daß das gewünschte Verhältnis von Leitfähigkeit und Oxidationswiderstandsfähigkeit erreicht wird. Der unterste Chromgehalt der Zwischenschicht wird dabei durch den maximal akzeptablen Oberflächenwiderstand der Schicht bestimmt.

Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß sich mit einer innicen Mischung aus Chrom und Siliciummonoxid eine bessere Haftung von Kolloidschichten auf einem der üblichen bekannten hydrophoben Schichtträger erreichen laß als bei Verwendung von Schichten, die lediglich aus einem anorganischen Oxid bestehen. Aus diesem Grunde sollen Schichten verwendet werden, die mindestens zu 30 Gew.-⁰ _n bezoeen auf das Gesamtgewicht der Schicht, aus Chrom bestehen.

Andererseits hat sich gezeigt, daß es zur Erzielung von Zwischenschichten mit einer ausreichenden Oxidntionswiderstandsfähigkeit zweckmäßig ist. daß die Schichten mindestens zu 10 Gew.-" n. vorzugsweise zu mindestens 20 Gew.-⁰Ό. bezogen auf das Gesamtgewicht der Zwischenschicht, aus Siliciummonoxid bestehen.

In vorteilhafter Weise werden die Zwischenschichten durch Aufdampfen von Chrom und Silic^:ummonoxid im Vakuum erzeugt. Es lassen sich Zwischenschichten mit einem Oberflächenwiderstand von weniger als 10⁵ Ohm pro Ouadrat und ausgezeichneter Haftung hydrophiler Kolloidschichten auf der Zwischenschicht erzielen, wenn solche Chrom- und Siliciummonoxidkonzentrationen angewandt werden, daß die Chromkonzentration in der Schicht 80 bis 30 Gew.-''« und die Konzentration an Siliciummonoxid in der Schicht 20 bis 70 Gew.-°,O. jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Zwischenschicht beträgt. Die Gesamtdicke der Zwischenschicht kann verschieden sein. Die untere Grenze der Schichtdicke

wird dadurch bestimmt, daß eine Mindeslsehiehtstärke vorhanden sein muß. um zu Zwischenschichten der ei wünschten Eigenschaften zu gelangen. Andererseits können /u starke Schichten /u einer unerwünscht hohen optischen Dichte führen. Als zweckmäßig hat e- sich in der Regel erwiesen, wenn die Zwischenschichten eine Schichtstärke von etwa 111 bis 1000 Angstrom, insbesondere eine Schichtstärke von50 bis 500 Angstrom aufweisen.

Die Schichtträger der strahlungsempfindlichen Aufzcichnungsmaterialien nach der Erfindung können aus ilen üblich' η bekannten dielektrischen Schicht trägern bestehen, die zur 1 letsielltmt! phoionraphischer Aufzeichnungsinateriahen \ erwendet werden, und die einen Oberflächenwidersland von über ill" Ohm pro Ouadrat. m der Kegel 10'-' Ohm pro Ouadral. aufweisen. In den Rillen, in denen Schichtträger hulrophi'hen Charakters verwende! werden, beispielsweise im Lalle von .ms Polymeren aufgebauten l-ihnschichtträgern. vermeiden die erfindung>genv-il.'.en Zwischenschichten eine Modifizierung der hydrophoben Träger, i.in sie hydrophil zu machen, so daß eine hydrophile Kolloidschicht besser hallet. Jedoch können die Schichtträger .inch zusätzlich nach Methoden, die zum 1 lydrophilmachen von Schichtträger!! bekannt sind, behandelt oder modifiziert werden, wobei die zusätzliche Modifizierung der Schichtträger vor n-'iT nach tier Aufbringung der eriindungsgomäl.'ien Zwischenschicht erfolgen kann. So ist es beispielsweise möglich, auf die antistatisch wirksame Zwischenschicht noch eine übliche hydrophile Kolloidschicht aufzuhrimien. bevor eine oder mehrere stnihluiigsempl'indliche hydrophile Kolloidschi chi en aufgebracht werden, wobei these zusätzliche hydrophile Kolloidschicht zwischen antistatisch wirksamer Zwischenschicht und de: ..dct den strahlungsempfindhchen Schichten als zusätzliche Zwischen- otler Haftschicht dient.

Der Schichtträger eines strahlunnsempfindlichen photographischen Aufzeichnutigsmat jrials nach der Erfindung kann sonnt aus einem der üblichen bekannten dielektrischen Schichtträger bestehen, bei spielsweise aus einem Celluloseester, z. B. Cellulosenitrat und Celluloseacetat, ferner aus Polyvinylacetat polymeren. Polycarbonaten. Polyestern. z.B. Imearer Polyestern bifun^ltioneller »esättigter und ungesättigter aliphatischer und aromatischer Dicarbonsäuren, die mit bifunktionellen Polyhydroxyverbindungen kondensiert werde.!, z. B. mit Poivhydroxyalkoholen. z.B. aus Polyestern aus einem Alkylenglykol und' oder Glyzerin mit Terephthalsäure. Isopht! .'.!säure. Adipinsäure. Maleinsäure. Fumarsäuer und/oder Azelainsäure. Die Schichtträger können ferner auch aus Polyhalohydrokohlenwasserstoffen bestehen, z. B. Polyvinylchlorid oder anderen polymeren Kohlenwasserstoffen, beispielsweise Polystyrol und Polyolefinen, insbesondere Polymeren von Olefinen mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die Schichtträger können somit aus den üblichen bekannten flexiblen Schicruträgermaterialien bestehen aber auch aus Schichtträgern aus Glas oder Papier. Als besonders vorteilhafte Schichtträger haben sich Papierschichtträger erwiesen, die mit einem a-OIefinharz beschichtet sind, beispielsweise mit Polyäthylen. Polypropylen oder einem Äthylen-Butenmischpolymerisat.

Die hydrophie Kolloidschicht, die mittels der antistatisch wirksamen Zwischenschicht an den Schichtträger eebunden sein kann, kann unter Verwenduna

der üblichen bekannten hydrophilen, wasserpermeablen Kolloide hcrgestell; werden. 'Anbei oil·, r mehren.· hydrophile Kolloide verwendet werden können. hei denen es sich um natürlich vorkommende Substanzen, wie auch um synthetische Polymere handeln kann. T\pische hydrophile Kolloide, die zur Herstellung der hydrophilen Kolloiilschiclilen verwendet werden können, sind Proteine. /Ii. Gelatine und (ielalmederivate. ferner C'ellulosederisalc und Polysaccharide. / 1! Dextran und (itimmiarahicum. (ieeignete synthetische Polymere sinil /. !5. in Wasser lösliche Po|y\ inylverbirdunücn. wie Ρολυπιν Ipv rr<> lidon und Acrylamulpolymeu¹

(iegehenenfalls können zur Hersielhim: ilt'i hydm philen Kolloidschichtcn lictncirsam nut den hvdio philen Kolloiden auch anilere s\ nlhelische polymcic Verbindungen verwendet werden. /. B solche, welche

olloidschiclil cihöhen.

H nieren kann es sich

aus lien I'S-PX

. 3 2:0 x-u. 3 :^ :s'>

die Dimensionssiahilitin der
Bei el· rarligen ■·. üthetischen
beispielsweise um solche

3142 56S.} μη Λ.χί·,. 3 ιιλ: t

und 3 4 I I ¹M I bekannten I ■> ps handeln Besonder·· wirksame Polymere dieses lyp- sind beispielsweise die in Wasser unlöslichen PoK nieren \{\n A!k\!acr\ laten und Alkv Imethacry laien. Acrvlsäiire. S'ilfoalkylacrylaten oder Sulfoalky Imethacry hüen. fernei solche Polymere, die i|uer\ernet/ende /entreu haben, wel ehe das Härter) der Pohine,.;; erleichtern. /.B des aus der I S-PS 34XX 70S bekannten Typs sowie lei ner solche Polymere mn wiederkehrenden SuIIo- '■" betaineinheilen. /. B des aus iier CA-PS "77.1 I)M h_c kaniiten Typs.

Die hydrophilen Kolloide können dabei unter \ erwendting tier verschiedensten üblichen bekannten organischen und anorganischen Härtiiimsmittel. allein r. oder in Kombination miteinander gehärtet werden.

Die strahhmnsempfindliche hydrophile Kolloidschicht eines Aufzeichniiniisniaterials nach der Ii findung kann beispielsweise aus einer panchromatischen oder orthochromatischen Schicht bestehen '■'■ oder einer Schicht, die lediglich gegenüber Röntgenstrahlen empfindlich ist oder gegenüber bestimmten Teilen oder Abschnitten des elektromagnetischen Spektrums.

Im einfachsten Falle weist das strahlungsempfind- ''■ liehe Auf/eichmmgsmatcri.il nach fler Erfindung eine einzige Kolloidschicht auf. in der eine strahlungsempfindliche Verbindung dispergiert ist. gegebenenfalls gemeinsam mit üblichen bekannten photographischen Zusätzen. Andererseits kann das erfindungsgemäRe ">" Aufzeichnungsmaterial auch aus einer Vielzahl von Schichten aufgebaut sein, wobei eine oder mehrere dieser Schichten strahlumisempfindliche Verbindungen enthalten können. Die der antistatisch wirksamen Haftschicht benachbarte hydrophile Kolloidschicht « kann strahlungsempfindlich sein oder nicht.

Das slrahlungsempfindliche photographische Aufzeichnungsmaterial nach der Erfindung kann somit beispielsweise aus einem farbphotographischen AuI-zeichungsii-' '_! "-it einer Vielzahl von Emulsions- feo schichten bestehen, die gt-^.. ^;. λτ verschiedenen Bereichen des sichtbaren Spektrums sensibilisicrt sind. In typischer Weise ist die dem Schichtträger am nächsten liegende Kolloidschicht selbst von strahlungsempfindlichen Verbindungen frei. Obgleich jede der Schichten aus einer hydrophilen Koüoidschicht bestehen kann, braucht doch lediglich die Schicht, die an die antistatisch wirksame Zwischenschicht ani'ien/t. aus einer Incirophilen Kolloidschicht /u bestehen. Txpische Indiophile Kolloidschichten, die an du¹ antistatisch wirksame Schicht angrenzen können und selbst keine strahlungsenipfinilliche Verbindungen enthalten können, beispielsweise Silberhalogenid, können beispielsweise aus sogenannten l.ichtholscliut/schichten bestehen oder sogenannten Keimschichten, wie sie beispielsweise im Rahmen chemischer (^!bertragungs\erfahren als Empfangsschichten verwendet werden. Derartige Schichten können fer-η·.·ι beispielsweise aus Bcizmittelschichten zur Atifnnlmn· son Farbstoffen bestehen.

(iciiehenenlalls können die erliiulunussiemiil.V'n Aiif/eichnungsinatenalien aulier der erfindunüsüeniiü.i ν et w endeten antistatisch wirksamen Zwischenschicht noch anileie iibliche antistatisch wirksame oder leitende Schichten aufweisen. Derartige Schichten können unter Verwcndiin» löslicher Salze. z.B. \on ('liloriden oder Nitraten, unter \'erwenilung \on loliiseiieii !*( »l\ nierul'i, \\'iC sie l"»Cisj"Mc!>n eise ii't uCi'i

IS-PS 2 Xh] OMi und .1206 312 beschrieben werden oiler unter Verwendung unlöslicher anorganischer Salze des aus der I¹S-PS 3 42X451 bekannten Typs aufgebaut sein.

In der Zeichnung sind slrahlungsempfindliche photographische Aui/eiehnungsmaterialien nach der Ii finduiig beispielsweise im Schema dargestellt.

Das in I- i 1 d irgestellte Aiifzeichinüi.sniateria¹ I besteht aus einet ι dielektrischen Schichtträger 3 und einer hydrophilen Kolloidschicht 5. die mittels der antistatisch wirksamen Zwischenschicht 7 auf i\vn S hichllra'ger gebunden ist.

Das m Fig. 2 dargestellte Auf'/; ichnungsmaterial 10 besteht aus einem dielektrischen Schichtträger 12 mil einer dielektrischen hydrophoben Polymerschicht 14. einei strahlungsempfindlichen Kolloidschicht 16 mit einer siraliiungscmpfindlichen Verbindung und der antistatisch wirksamen Zwischenzeit 18. welche die strihlung'-empfindliche Schicht 16 an den Schichtträger bindet.

Das in F ι g. 3 dargestellte strahlungsempfindliche Aufzcichnuni'smaterial 100 besteht aus dem dielektrischen Schichtträger 102 mit einer dielektrischen hydrophoben Polymerschicht 104. einer antistatisch wirksamen Zwischenschicht 106 und einem strahlungsemplindlichen Teil 108 aus einer hydrophilen Kolloidschicht 110. die keine oder praktisch keine strahlungscmpfindlichc Verbindung enthält und einer strahlunusenipfinillichcn Emulsionsschicht 112. die auf dei Schicht 110 auflieft.

Beispiel 1

Dies Beispiel veranschaulicht die Erzeugung einer antistatisch wirksamen Haftschicht aus Chrom und Siliciummonoxid auf einem Polyälhylcnterephthalatfilmschichtträger. der gegebenenfalls vor Aufbrinsicn der antistatisch wirksamen Zwischenschicht einei Oberflächenvorbehandlung unterworfen werden kann oder auf dem eine iibliche Haft- oder Zwischenschicht aufgebracht sein kann, beispielsweise eine Schicht aus einem Terpolymeren aus Acrylnitril. Vinylidenchlorid und Acrylsäure.

Das Aufbringen der antistatisch wirksamen Schicht erfolgte in einer Vakuumkammer, in dem ein PoIyäthylenterephthalatfümträger einer Breite von etwa 12.7 cm über einen Satz von Antriebswalzen geführt wurde.

ίο

In einen Schmelztiegel, der sich in einer Entfernung von 30.5 cm unterhalb der unteren Oberfläche des um die Antriebswalz.cn geführten Sc'nichtträgers befand, wurde eine Legierung aus Chrom und SiIiciummonoxid gegeben. Die Beheizung des Sehmelzticgels und die Verdampfung des Schmelztiegelinhnltes erfolgte mittels eines Elektronenstrahls. Zwischen den Schmelztiegel und den Schichtträger wurde eine Maske gebracn, um die Bedampfungsfläche zu begrenzen. In der Maske war ein Schieber angeordnet, mit dem die Bezirke eingestellt werden konnten, die bedampft werden sollten. Der Schichtträger wurde mit Hilfe der Antricbswalzen bewegt, wobei je nach Sicbcröffnungen Abschnitte mit verschieden starken antistatisch wirksamen Zwischenschichten erhalten wurden.

Nach Aufbringen des Schichtträgers auf die Antriebsrollen und nach Einführen des Chroni-Siliciummonoxidpulvers in den Schmelztiegel wurde die Vakuumkammer aiii einen Unterdruck von 2.3 χ !0 ■■ Torr evakuiert, worauf der Schmelztiegclinhalt mittels seines Elektronenstrahls, der auf die Oberfläche lies Pulvers gerichtet wurde, erhitzt wurde. Nach dem eine ausreichend hohe Temperatur für die Sublimation des Schmelztiegelinhaltes erreicht worden war. wurde der Schieber geöffnet, wobei der Schichtträger in der gewünschten Dicke beschichtet wurde. Die Schichtdicke wurde durch einen üblichen Quarzkristall-Dickenmonitor bestimmt.

Auf dem Schichtträger wurden in seitlichen Abständen voneinander Chrom-Siliciummonoxidschiehten verschiedener Schichttärke von 30 bis 1 5(1 Antist rom niedergeschlagen. Nach Herausnehmen aus der Vakuumkammer wurden die optische Dichte und der O'nci flächen« icicrstand der Schichten, die auf dem Schichtträger erzeugt wurden, gemessen. Anschließend wurden die Metall-Mctalloxidzsvischenschichten einem Test unierw.irfen, bei dem die beschichteten Träger bei einer 50* nigen relativen Luftfeuchtigkeit und 50° C aufbewahrt wurden. Die Ergebnisse dieses Tests sind in der folgenden Tabelle 1 zusammengestell!. Die optischen Dichten sind in allen Fällen absolute optische Dichten, bestimmt unter Verwendung eines optischen Sensitometers, wie sie sich aus der Differenz zwischen der optischen Dichte des unbeschichtelcn und des beschichteten Schichtträger^ ergaben. Der Oberflächenwiderstand wurde dadurch bestimmt, daß auf die beschichte Oberfläche des Schichtträgers Elektroden parallel zueinander in einem ihrer Länge entsprechenden Abstand voneinander gebracht wurden, worauf der Obcrflächenwiderstand direkt in Ohm als der die Elektroden trennende Widerstand ermittelt werden konnte.

Abgesehen davon, daß die erzeugten Chrom-Siliciummonoxiitscliichten eine ausgezeichnete I.agcr-Stabilität aufwiesen, wurden *ie auch nicht angegriffen, wenn sie in üblichen photographischen Entwicklungsbädern, beispielsweise wäßrigen alkalischen Entwicklerlösunsien und wäßrigen sauren Fixier- und l'nterbrecherbädcrn. gebadet wurden. Der geringe elektrische Oberflächenwiderstand der Schichten führte zu einem ausgezeichneten antistatischen Schutz der Sehiehtträcer.

Libelle 1

/us.iinmen- scl/imu der Schicht	ο Cr- „ SiO	Oherflacheii- hchaiuHuni! de·. Schicliurayei·.	!tr,	CS M.llcn.ll	ttklcisl.MUl (Ohm (.1u.nii.itI	1: W ι «dien sicl.i »»pll-cIlC I lichte	JJCiIc-- Malcri.il Obcrll.ichcn- uidiTstaml (Ohm 0»adr;i\|)
70" 30"	ο (V- o SiO	keine	n. ίο		3500	0.(W	2.7 χ 10·*
50" 50 "	,. (. r- o SiO	keine	0.(W 0.0		1.7 · Itr	O.iW	3.5 ^ 10"
50" 50"	ο (Ί ο SiO	keine	0.25		2S00	0.25	4200
⁷O" 30"	ο Cr- o SiO	TerpoKmer	0.13		3000	0.11	1.5 χ 10⁴
5t;"	TerpoK iner	0.15		1.2 xlO*	0.13	2.6 χ 10⁴

Die unterschiedlichen Dichte- und Obertlächenwidei standswerte für Schichten gleicher Zusammensetzung ergeben sich aus unterschiedlichen Schichtdicken.

Beispiel 2

Unter Verwendung öer in Beispie! '. beschriebenen Vakuumkammer wurden auf einen PolyäthylenterephthalatfUmschichUräger, der eine Terpolymer-Haftschicht aufwies, verschiedene weitere Schichten aus innig miteinander vermischtem Chrom und Siliciummonoxid aufgetragen. Dabei wurde ein Gemisch aus Chrom und Siliciummonoxid mit einem Gewichtsverhältnis von 1 : 1 verwendet. Das Chrom-Siliciummonoxidgemisch wurde mit einem Elektronenstrahl soweit erhitzt bis eine starke Sublimieruna des Cemisches einsetzte. Daraufhin wurde der den Schichtträger abdeckende Schalter geöffnet und der Schichtträger hinter der cü'rflteröffnung so schnell bewegt, daß auf dem Schici .träger Chrom-5iiici«mrr,-5r=r.s:i:chk^ ten eine Schichtstärke von ungefähr 40 bis 70 Angstrom abgeschieden wurden.

In einer weiteren Versuchsreihe wurden auf dem Träger Nickel- und Chromschichten einer Dicke von 25 Angström erzeugt.

Die erhaltenen beschichteten Schichtträger wurden dann wiederum auf ihre optische Dichte und ihren

ί 1

WuK-r.,and geicstet. wobei für die Versuche Irisches Material und ein solches verwendet wurde, das 14 Wochen lang bei einer Luftfeuchtigkeit von 50" Ί>

und einer Temperatur von .SO « aufbcwihrt word<.:i war Die erhaltenen Ergebnisse sind in der !olgendeii Tabelle Il zusammeimestelll.

Libelle II	SiO	frisches M.iierul	()boi-niiohon	14 Woohon	uel.i'jertes M;ileri;il
/us.tmiiK'n-	SiO	liptlsollO	uiilcrsumi!	optische	(.'iicrlliiclion-
-Cl/uni! iler		Dichte	(Ohm Ou.itliail	Dichte	wiclcrstiuu!
Vhioht			1.4 y K)⁴		(Ohi-, Ou.iiii.il)
		0.10	V¹« · ΚΓ	0,IW	2.2 χ IO
50",, Cr-50%	0.0^s	^l>.f> -10'	0.04	LS ■ !0
50",, Cr-50",,	o.i:	S40	0.0'/	2.2 - 10"
Chrom	o.i:		0.05	1 · 10"'
Nickel

Πιο unterschiedlichen Dichte- und < >herriiichenwidei st.im.isv.crte für Schichten gleicher /iis.uniii-nsel/iiiig ergeben sich .ms unterschiedlichen Schichldicken.

Die Stabilität der C'hrom-Silieiummonoxidschichten war au?gezeichnet und die Stabilitii! der /ti Vergleichs/wecken mit getesteten dünnen Schichten aus Chrom und Nickel überlegen Die Chroiii-Siliciummonoxidsehichtcn wurden auch nicht in photographischen Entwicklungslösungen angegriffen, ι. B. wäßrigen Entwicklerlösungen und wäßrigen sauren Unterbreeherbädcrn und Fixierlösungen, wohinucgen reine Nickelschichten und rsine Chrommetallschichten teilweise ausgebleicht wurden. Auf die in antistatisch wirksamen Zwischenschichten wurden photographische Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschichten. z. B. Gelatine-Silberbromidjodidemulsionsschichtcn und Silberchloridbromidemulsionsschichten aufgebracht. Diese Schichten hafteten ausgezeichnet r> auf den antistatisch wirksamen Schichten, und zwar sowohl im nassen als auch trockenen Zustand.

Beispiel 3

Auf einen Glasträger wurden zunächst durch Auf- ■'·>'· dampfen im Vakuum Goldelektroden aufgebracht, worauf auf den Glasträger nach dem in Beispiel I beschriebenen Verfahren eine Chrom-Siliciummonoxidschicht aufgedampft wurde. Die Schicht wies nach einer 5 Minuten währenden Luftexponierunii 4 eine optische Dichte von 0.22 auf. An die Elektroden wurden nun elektrische Leitungen angelegt, worauf der Prüfling in eine Vakuumkammer gebracht wurde, die durch Evakuieren auf einen Druck von 1.0 χ 10 ⁵Torr gebracht wurde. Der beschichtete Träger so wurde zunächst auf 200^ C erhitzt, worauf bei verschiedenen Temperature: Widerstandsmessungen vorgenommen wurden

In entsprechender Wr-: wurde auf einen Glasträcpr eir, Nickelfilr.i mit einer optischen Dichte von 0,13 erzeugt und getestet. Die erhaltenen Ergebnisse iind in der folgenden Tabelle III zusammengestellt.

60

65

Tabelle III	Chrom-Sihenim-	Nickel
Temperatur	niünoMdsehiciii
C	'A'-derslanJ.	WiJ-::rs!:;r.J.
	Ohm O-iiä'Jri·	Oh,\i Quudr.iL
	LI χ !()"'	1 ^ χ '.0*
23	9.3 χ 10^:	!.3XlO-¹
100	S.<?x !0"	1.4 >: Uf
150	7.9xlO^:	! s .. ι n-i
200

Die Chroni-Siliciummoiuixidschicht wies einen negativen Temperaiunviderstanclskocffizienten auf. woraus sich ergibt, daß die Art der elektrischen Stromlcitiam in dieser Schicht der Stromleitung von Semikonduktor-Materialien ähnlicher ist als der Stromleitung von Metallen. Hieraus kann gefolgert werden, daß keine kontinuierliche Mctallstruktur m der Beschichtung vorliegt und daß die Chrompartikel mindestens teilweise durch das Siliciummonoxid eineeschlossen sind. Dieser Umstand trägt zu der ausgezeichneten Stabilität des beschichteten Trägers bei seiner Aufbewahrung bei.

Beispiel 4

Zunächst wurde auf einen Polya'thylcntcrepnthalatfilmschichtri'.gcr in der im folgenden beschriebenen Weise eine sogenannte Anliblockicrungsschieht aufgebracht.

In e ner üblichen Vakuumbcschichtuiigskammer wurde eine Rolle eines üblichen Polyäthylcntcrephthalatfilmschichtträgers eingespannt, ("ileichzcitig wurde in einen Schmelztiegel ein sogenanntes Antiblockierungsglas eingebrac'nt. im vorliegenden Falle em Borosilicatglas. worauf das Glas mittels eines Elektronenstrahls aufgeheizt wurde. Glc.jli/eitir· wurde die Vakuumkammer geschlossen und bw ,u einem Druck von 7.2 χ K)"¹ Torr leergepumpt. Das Glas wurde mit dem Elektronenstrahl so lange erhitzt, bis es schnell verdampfte. Nunmehr wurde der den Schichtträger abdeckende Schieber geöffnet, worauf der Schichtträger mi', einer soivli-n Geschwindigkeit durch den Dampi'strom gezogen wurde, daß sich das Glas auf dem Schichtträger in Form eines Filmes einer Schichtdicke von weniger als 100 Angström abschied. Nach der Beschichtung des Schichtträgers wurde der Schmelztiegel abgekühU, der Druck in der Kammer auf Atmosphärendruck gebracht und die beschichtete Rolle zurückgespult, so daß nunmehr die andere Seite des Schichtträgers, d. h. die der mit Glas beschichteten Seite gegenüberliegenden Seite beschichtet werden konnte.

Der Grund der Glasbeschichtniie hfstand darin. die Oberfläche des Polyäthyleiiterephthalatschichtträ gers /:u bedecken, um ein" Blockierung der Träüerrolle nach Aufbringen von MstaHschichiCf? auf Jkandere Seite des Schichti:äc£r; zu vermeiden. Π*:, Aufbringen einer -'!ntibiockierenoen Giasschicht ist jedoch ;m Fa?k t>r Verwendung erfindür^sgeinäßet

Zwischenschichten von molekularem Mischgrad unnötig, da diese Schichten keinerlei Blockierungstendenz aufweisen. Die Antiblockierungsschicht wurde jedoch aufgebracht, um einen direkten Vergleich der Charakteristika der einzelnen herzustellenden Mate- ϊ rialien zu gewährleisten.

Auf die Oberfläche des Schichtträgers, die der Seite des Schichtträgers gegenüberlag, die die AnIiblockierungsschicht aufwies, wurde nach dem aleichen Verfahren eine antistatisch wirksame Zwischen- in schicht nach der Erfindung aufgebracht. Die Schicht wurde aus Chrom und Siliciummonoxid in einem Oewichtsverhältnis von 1 : 1 erzeugt. Des weiteren wurden zu Vergleichszwecken nach dem bleichen Verfahren eine Schicht aus Nickel und eine Schicht aus Aluminium erzeugt.

Die Dicken und optischen Dichten der Schichtträger mit dem Metall- und Chrom-Siliciummonoxidschichten ergeben sich aus der folgenden Tabelle IV.

Tabelle IV

Aulucdampl'lc Schicht

Dicke

Opi ιμ,-Ιι..· Dichte

Nickel	iuminonoxid	4OA	0.21
Aluminium	100 A	0.41
Chrom-Silit	125 A	0.15

Aus den erhaltenen Meßergebnissen ergibt sich die vorteilhafte geringe optische Dichte der Chrom-Siliciummonoxidschicht.

Die beschichteten Materialien wurden in Form von Rollen zwei Wochen lang unter normalen Bedingungen aufbewahrt, worauf sie in einer üblichen Emulsionsbcschichtungsvorrichtung mit einer üblichen photographischen Gelatine-Silberbromidjodidemulsion in einer Schichtstärke entsprechend 400 mg Silber/ 0.0929 m² beschichtet wurden.

Zu Vergleichszwccken wurden weitere unbehandelte Polyäthylenterephthalatschichtträger und mit einer üblichen Haftschicht aus einem fcrpolymcren aus Methylacrylat, Vinylidenchlorid und Acrylsäure versehene Polyäthylenterephthalatschichtträger in entsprechender Weise mit der Emulsion beschichtet.

Es wurden folgende Ergebnisse erhalten:

Die trockene nicht entwickelte photographische Emulsionsschicht haftete nur sehr schlecht auf dem keine Haftschicht aufweisenden Schichtträger und ließ sich sehr leicht von dem Schichtträger lösen, wenn dieser gebogen wurde. Ein solcher Effekt trat nicht auf. wenn zwischen Emulsionsschicht und Schichtträger eine Zwischenschicht angeordnet war. Hieraus ergibt sich, daß vor der Entwicklung jede der Zwischenschichten bis zu einem bestimmten Grade die Bindung zwischen Schichtträger und Emulsionsschicht verbessert.

Um den Einfluß < Mi photographischen Arbcitslösungcn auf die Adhäsion der Emulsionsschichten auf den Schichtträgern zu veranschaulichen, wurden Streifen der Aufzeichnungsmaterialicn in einer wäßrigen Hntwicklcrlösung eines abgepufferten pH-Wertes von ungefähr 10 mit etwa gleichen Gcwichtsteilcn P Methvkm-iiiophcnolsulfal und Hydrochinon 2 Minuten lang Ivi 23" C einwickelt und anschließend 3 Minute!) lang in einem NaI' iiii-nH'-sulfat enthaltenden wäßrigen Fixierbad fixiert. Das Entwicklerbad besaß folgende Zusammensei zung:

Wasser. e:\va 50 C

p-Vleih\laminophenoIsi!lfai

Wilriumsiilfii. entwässert

Hydrochinon

Natrium meta horat

kaliumbromid

mit Wasser aufgefüllt auf

750 ml

2.5 g
50,0 a

2.5 g
20.0 a

0.5 g

I Liter.

Das N.itriumihiosullai enthaltende wäßrige Fixierbad besaß folgende Zusammensetzung:

Wasser, etwa SU C 600 ml

Nalriumihiosullat 240.Ou

Natriumsulllt. entwässert 15,0e

Essigsäure 28%ig 40.0ml

U.„■„■;,.,--. Ir.cl.llir. -!<..

UV· .ΐτι t.i *.. n··^.. /.--t;

kaliumalaun 15.0 c

mit kaltem Wasser aufgefüllt auf 1.0 Liter.

Die Filmstreifen wurden anschließend 30 Minuten lang in fließendem Wasser von 20° C gewaschen. Eine Betrachtung der Aufzeichnungsmaterialien nach der Entwicklung, jedoch vor dem Trocknen der

so Emulsionsschichten zeigte, daß sämtliche Emulsionsschichten bis auf diejenige, die auf den Schichtträger oiine Haftschicht aufgetragen worden war, auf den Schichtträgern gut hafteten. In den Fällen in denen Nickel- und Aluminium-Zwischenschichten verwen-

i¹· det wurden, zeigten sich einige Falten oder Rillen längs der Kanten des Trägers, wohingegen im Falle der üblichen Terpolymer-Zwischenschicht und der erfindungsgemäß verwendeten antistatisch wirksamen Chrom-Siliciummonoxidschicht keinerlei Falten- oder

■»o Rillcnbildung festgestellt werden konnte und die aufgequollene Emulsion fest auf dem Schichtträger haftete.

t^ Beispiel?

Es wurden weitere Aufzeichnungsmaterialicn wie in Beispiel 4 beschrieben hergestellt. Des weiteren wurde ein Aufzeichnungsmaterial entsprechenden Aufbaues hergestellt, das zwischen Emulsionsschicht und Schichtträger eine Borosilicatglasschicht, wie in Beispiel 4 beschrieben, aufwies.

Die Aufzeichnungsmaterialicn wurden zwei verschiedenen Tests unterworfen. In dem ersten Test wurden die Eiviulsionsschichten mit einem 0,1 mm Ritzstift bis auf den Schichtträger hindurch bcschrif tct, worauf das Aufzeichnungsmaterial unter kräftiger Bewegung entwickelt wurde. Als relatives Maß für die Adhäsion der Emulsionsschicht wurde der Grad der Abstreifbarkeit der Emulsionsschicht von dem Schichtträger gewählt.

Im Falle des /weiten Tests wurde ein Kreis eines Durchmessers von etwa 2,54 cm der Emulsionsschicht einem Waschzyklus bei 71° C unterworfen und getrocknet. Daraufhin wurde die prozentuale

f>"> Ablösung der Emulsionsschicht ermittelt. Die Zusammensetzungen tier Zwischenschichten der getesteten Aiifzeichnungsmateriaüen und die Testergebnis^e viiu! 'n flrr fo'ciidcn Tabelle V zusammengestellt.

Tabelle V

Zwischenschicht

TcM I (Rit/slil'l)

Aluminium

Cr-SiO- M ischium

Tcrpolymer

vollständige

Ablösung

0.1

4.1

1.4

("/„-Ablösiini")

vollständige Ablösung

4 1

Aus den erhaltenen Ergebnissen ergibt sich daß die Aluminiumschicht vollkommen unwirksam bezüglich der Bindung der Emulsionsschicht an den Schichtträger unter den angewandten oxidierenden Bedingungen war. Die Glasschicht, obgleich sie we-

niger gut haftete als die übliche Terpolymer-Zwischenschicht, erwies sich nichtsdestoweniger als bedeutend wirksamer als die Aluminiumschicht und bewirkte eine gewisse Haftung der Emulsionsschicht auf dem Schichtträger. Demgegenüber führte die erfindungsgemäß verwendete Chrom-Siliciummonoxidschicht 7u einer stabilen Bindung der Emulsionsschicht auf den Sd ι i el i U rager, wobei die Haftung stärker war als die Haftung, die bei Verwendung einer üblichen Terpolymer-Zwischenschicht erzielt werden konnte.

Entsprechende Ergebnisse wie in den Beispielen 1 bis 5 beschrieben wurden dann erhalten, venn anstelle von Polyäthylenterephthalatschichtträgern und Glasträgern solche aus Polycarbonaten, Polyvinylacetat und mit Polymeren kaschierten Papieren verwendet wurden.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Strahlungsempfindliches photographisches Aufzeichnungsmaterial bestehend aus einem dielektrischen Schichtträger, mindestens einer strahlungsempfindlichen hydrophilen Kolloidschicht sowie mindestens einer die Haftung der Kolloidschicht auf dem Schichtträger verbessernden, antistatisch wirksamen Zwischenschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus einer Mischung aus 30 bis 80 Gew.-°/o Chrom und 70 bis 20 Gew.-%> Siliciummonoxid besteht.

2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht eine Schichtstärke von 50 bis 500 Angströmeinheiten aufweist.

3. Aufzeichnung=r.<i;erial nach Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger au«; einem Polyesterfilmschichtträger besteht.

4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß es außer der strahlungsempfindlichen hydrophilen Kolloidschicht zwischen dieser und der antistatisch wirksamen Zwischenschicht eine weitere hydrophile Kolloidschicht aufweist.