DE2312675A1 - Aufzeichnungsverfahren und aufzeichnungselement - Google Patents

Aufzeichnungsverfahren und aufzeichnungselement

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DE2312675A1
DE2312675A1 DE19732312675 DE2312675A DE2312675A1 DE 2312675 A1 DE2312675 A1 DE 2312675A1 DE 19732312675 DE19732312675 DE 19732312675 DE 2312675 A DE2312675 A DE 2312675A DE 2312675 A1 DE2312675 A1 DE 2312675A1
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metal halide
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tempered
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exposure
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Eiichi Inoue
Hiroshi Kokado
Shuichi Ohtsuka
Isamu Shimizu
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Description

  • Aufzeichnungsverfahren und Aufzeichnungselement Die Erfindung befaßt sich mit einem Aufzeiehnungsverfahren und einem hierfür geeigneten Aufzeichnungselement. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung eines permanenten Bildes lediglich durch Bestrahlung eines getemperten Metallhalogenides mit Licht ohne Anwendung einer chemischen Behandlung, sowie ein Element, das ein derartiges getempertes oder angelassenes Metallhalogenid enthält.
  • Gemäß der Erfindung werden sichtbare Bilder durch bildweise Aussetzung eines angelassenen oder getemperten Metallhalogenides mit einer Energie einer Intensität entsprechend der folgenden Formel D =ktln erhalten, worin D die optische Dichte, I die Aussetzungsintensität, t die Zeit der Aussetzung, k eine Konstante und n eine Zahl bedeuten. Gleichfalls wird ein photographisches Element, das ein derartiges angelassenes oder getempertes Metallhalogenid enthält, erfindungsgemäß angegeben.
  • Bilder werden photographisch durch bildweise Aussetzung von lichtempindlice Materialien, wie Silberhalogenidemulsionen, lichtempfindlichen Diazomassen und dergleichen und Behandlung der Materialien mit den Verfahren der Entwicklung, Fixierung und dergleichen hergestellt. Insbesondere lassen sich Verfahren unter Anwendung von Silberhalogenidals als ausgezeichnete Aufzeichnungsverfahren insofern bezeichnen, als Bilder mit hoher Empfindlichkeit und hoher Auflösungsstärke erhalten werden können.
  • In sämtlichen üblichen Aufzeichnungsverfahren können jedoch keine Bilder erhalten werden, wenn nicht chemische oder physikalische Behandlungen bewirkt werden und, da sie für sichtbares licht und licht mit hierzu benachbarten Wellenlängen empfindlich sind, müssen die Aufzeichnungsmaterialien im Dunkeln vor der Ausbildung der Bilder gehar1dhabt werden.
  • Es wurden jedoch gegenüber diesen Verfahren unterschiedliche Verfahren bereits angegeben.
  • Beispielsweise beschreibt Michael R. Tubbs ein Aufzeichnungsverfahren unter Anwendung eines dünnen Filmes eines Materials, welches eine Metallhalogenidverbinduiig oder eine Chalcogenverbindung und dergleichen enthält, in "The Journal of Photographic Science", Band 71, 162-169 (1969). Bei diesem Bericht wird angegeben, daß wenn ein im Vakuum aufgedampfter Film von Bleijodid mit sichtbarem licht oder Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge kürzer als 5200 i-bei 160 bis 220cm bestrahlt wird, sich der bestrahlte Bereich von gelb-orange zu farblos ändert und sich ein Bild-mit hoher Auflösungsstärke ergibt und daß, wenn ein Metallsilberfilm und ein Bleijodidfilm auf einem Glasträger aufgeschichtet werden und an licht mit 1 J/cm2 bei Raumtemperatur ausgesetzt werden, ein Bild mit einer Auflösungestärke von oberhalb 1 Mikron erhalten werden kann. Das Bild wird jedoch geschädigt, falls es nicht mit einem Deckfilm und dergleichen überzogen ist.
  • Infolge von ausgedehnten Untersuchungen nach Verfahren zur Aufzeichnung von Bildern an hellen Stellen ohne Durchführung von chemischer-oder physikalischer Behandlung wurde nunmehr ein Aufzeichnungsverfahren gefunden, das absolut unterschiedlich von den vorstehend geschilderten Verfahren ist. Gemäß der Erfindung ergibt sich somit ein neues Aufzeichnungsverfahren.
  • Eine Aufgabe der Erfindung liegt in einem Aufzeichnungsverfahren zur Ausbildung von Bildern lediglich durch Aussetzung.
  • Eine weitere Aufgabe der Erfindung liegt in einem Aufzeichnungsverfahren, wo ein Aufzeichnungsmaterial in hellen Räumen gehandhabt werden kann.
  • Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Aufzeichnungsverfahren zur Bildung von Hochkontrastblldern.
  • Eine weitere-Aufgabe der Erfindung besteht in einem Aufzeichnungsverfahren mit guter Empfindlichkeit und eine weitere Aufgabe liegt in einem neuen Aufzeichnungsmaterial, welches ein getempertes oder angelassenes Metallhalogenid enthält Infolge ausgedehnter Untersuchungen zum Zweck der Erzielung der vorstehend angegebenen Aufgaben wurde im Rahmen der Erfindung gefunden, daß, wenn ein angelassenes oder getempertes Metallhalogenid oder Mischkristalle hiervon nicht semipermanent durch Erregung mit einer Lichtintensität niedriger als einem bestimmten inert sensibilisiert sind, sie permanente Bilder bei der Erregung mit Licht mit einer stärkeren Intensität als dem bestimmten Wert bilden und daß derartige Halogenide die folgende Beziehung erfüllen: D = ktln worin D die optische Dichte, k eine Konstante (cm2n/Wn Sek.), t die Aussetzungszeit (Sekunden), 1 die Aussetzungsintensität (W/cm2) und n eine Zahl bedeuten, und daß eine Erscheinung, die bei üblichen lichtempfindlichen Materialien nicht beobacntet wird, von derartigen Halogeniden gezeigt wird.
  • Bei den normalen lichtempfindlichen Materialien ist die Dichte vor der Aussetzung 0 und die Dichte tritt gleichzeitig mit der Aussetzung (Lieferung von Energie an das Material) auf und nimmt entsprechend der Intensität der Energie zu. Deshalb werden die charakteristischen Eigenschaften üblicher lichtempfindlicher Materialien durch die folgende Formel wiedergegeben: D = ktl worin D, k, t und I die gleichen Grundbedeutungen wie vorstehend besitzen.
  • Die wesentlichsten Eigenschaften der erfindungsgemäß einzusetzenden Materialien liegen darin, daß, selbst wenn Energie geliefert wird, die Dichte 0 verbleibt, bis die Energie einen bestimmten Wert erreicht und am Schwellenwert tritt eine Änderung der Dichte auf, was bedeutet, daß die Neigung der durch D = ktln (n=1) dargestellten Kurve groß ist. Diese Eigenschaft bringt überraschende und bemerkenswerte Effekte für das Verfahren gemäß der Erfindung, die nachfolgend abgehandelt werden.
  • In den Zeichnungen stellen die Fig. 1 bis 3 graphische Darstellungen der Aussetzung gegenüber der Dichte für verschiedene Proben, die in den Beispielen beschrieben sind, dar.
  • Entsprechend der Formel D = ktln kann D irgendein bestimmbarer Wert sein, wobei allgemein gesprochen die meisten Einzelpersonen einen D-Vert mit ausreichender Klarheit wahrnehmen, falls I einen solchen Betrag hat, daß sich ein D-Wert von 0,01 oder größer ergibt. Obwohl die Werte in der vorstehenden Formel nicht exakt aufgrund der Unterschiedlichkeiten der l-Wahrnehmungswerte zwischen mechanischen/ elektrischen Vorrichtungen und Menschen und tatsächlich sogar zwischen Einzelindividuen ergeben, beträgt D allgemein >0 bis 2,5, I hat den Wert 20 bis 109 W/cm2, n den Wert 1 bis 7 und k hat den Wert 10 12 bis 1.
  • Allgemein gesprochen variieren k und n von Material zu Material und lassen sich durch eine geeignete Auftragung von D gegen I bestimmen. Beispielsweise gelten für PbI2 die Werte n = 1,7, k = 5x10#5 (cm3,4/W1,7 Sek.).
  • Der Schwellenwert für PbI2, bestrahlt mit einem riesiegen Impulsrubylaser (Halbwertsbreite 15 ns), beträgt I = 1,7x10 6 W/cm­.
  • Als Beispiele für erfindungsgemäß einsetzbare Metallhalogenide seien aufgeführt Bleijodid, Bleichlorid, Bleibromid, Silberjodid, Silberbromid, Kupferjodid, Xupferbromid, Quecksilberjodid, Bleifluorid und dergleichen. Mischungen können selbstverständlich verwendet werden.
  • Als Metalle in den Metallhalogeniden werden solche mit einer großen Anzahl von Elektronen bevorzugt. Da die sensibilisierende Energieintensität (zur Dichteänderung erforderliche Energie) in der Reihenfolge von Metalljodid, Metallbromid, Metallchlorid und Metallfluorid zunimmt, kann das geeignete Halogenid in Abhängigkeit von dem Endgebrauchszweck des Aufzeichnungselementes gewählt werden. Im alSgemeinen kann das Metall im Metallhalogenid aus Metallen der Gruppe IB, IIB und IVA des Periodensystems oder Gemischen hiervon gewählt werden, wenn auch Gemische wohl selten eingesetzt werden. Beispiele sind Kupfer, Silber, Cadmium, Quecksilber, Zinn, Blei und dergleichen, Wenn auch dies#e Materialien am stärksten bevorzugt werden, da sie ausgezeichnete Ergebnisse bringen, können auch Metalle aus anderen Gruppen des Periodensystems entsprechend gewählt werden.
  • Das Anlassen oder die Temperung der vorstehend geschilderten Metallhalogenide wird durch Erhitzen derselben bewirkt. Die Wärmebehandlung wird in solchem Ausmaß durchgeführt, daß das Röntgenbeugungsinuster der Verbindung eine Änderung im Vergleich zum Muster vor der Temperung oder Anlassung erleidet und vom Gesichtspunkt der Verfahrenswlrksamkeit, Verarbeitbarkeit und dergleichen wird üblicherweise die Wärmebehandlung bei etwa 50< bis etwa 600#, vorzugsweise bei etwa 50 bis 4500C während einiger Stunden, üblicherweise etwa 0,5 bis etwa 24 Stunden ausgeführt. Als allgemeine Regel erfordern niedrigere Anlaß- oder Temperungstemperaturen längere Anlaß- oder Temprungszeiten, Die Änderung im Röntgenbeugungsmuster gibt sich dadurch zu erkennen, daß das Muster aufgrund der Temperung oder des Anlassens breit wird und schließlich verschwindet.
  • Spezifisch wird die Wärmebehandlung beispielsweise in folgender' Weise ausgeführt: eine geringe überschüssige Menge einer Kaliumjodidlösung wird zu einer Mischlösung aus Bleiacetat und Silbernitrat zugegeben und Bleijodid und Silberjodid werden unter Rühren ausgefüllt. Anschliessend wird der gebildete Niederschlag bei etwa 80 getrocknet. Der dabei erhaltene Silberhalogenidmischkristall (AgI und PbI2) wird dann bei etwa 3000C während etwa 5 Stunden in einem Inertgas, wie Argongas, angelassen oder getempert.
  • In diesem Fall zeigt das Gemisch von Bleijodid und Silber jodid das Röntgenbeugungsmuster von Bleijodid und Silberjodid vor der Anlassung oder Temperung, während das Beugungsmuster nach der Anlassung oder Temperung verschwunden ist.
  • Als spezifisches Beispiel für ein derartiges Verfahren wurden Bleiacetat und Silbernitrat in einem bestimmten Verhältnis (entsprechend dem gewünschten Produkt) in Wasser gelöst und die Lösung bei einer konstanten Temperatur von 0 bis 100#, vorzugsweise etwa 80cm, gehalten. Dann wurde Kaliumjodidlösung zu dieser Lösung, die bei der vorstehenden Temperatur gehalten wurde, unter kräftigem Rühren des Systems zugesetzt.
  • Die Menge des zugefügten Faliumjodids kann von weniger als etwa 20 % als dem stöchiometrisohen Wert bis zu mehr als 100 % des stöchiometrischen Wertes betragen und beträgt vorzugsweise mehr als 10 # des stöchiometrischen Wertes. Sämtliche Konzentrationen, bei denen wasserhaltige Lösungen erhalten werden können, können eingesetzt werden, wobei die bevorzugten Konzentrationen 0,05 Mol/l bis 0,5 Mol/l betragen Die Temperung oder das Anlassen kann im Vakuum, -in luft oder in einer Inertgasatmosphäre wie N2, Ar, Ne, He, CO, und dergleichen ausgeführt werden. Vorzugsweise wird jedoch die Temperung oder die Anlassung in einem Inertgas bei 1 atm durchgeführt. Allgemein läßt sich ein Druck von Hochvakuum bis etwa 2 atm anwenden.
  • Das Metallhalogenid kann als Einkristall, als Polykristall, als ihkristalle oder in einer Schicht, boispielsweise in fester Form, beispielsweise als Block nach dem Schmelzen, in Pelletform (geformt durch Verpressung eines Pulver), und dergleichen angewandt werden. Beispiele für derartige Schichten umfassen auf einem Träger wie Glasplatten, Metallplatten, Kunststoffilmen und dergleichen durch Yakuumaufdampfung gebildete Filme, dispergierte Schichten aus Metallhalogeniden in einem Binder und ähnliche Materialien.
  • Die Dampfabscheidung wird unter Anwendung üblicher Verfahren, beispielsweise bei einer Temperatur nahe dem Schmelzpunkt der Probe unter Niederdruck, beispielsweise in der Größenordnung von 10 5 mmHg ausgeführt.
  • In einer Dispersionsschicht oder Binderschicht beträgt das Gewichtsverhältnis des argelassenen oder getemperten Metallhalogenides zu dem Binder naiarlich lediglich denjenigen Betrag, der einen ausreichenden Halogenidbetrag zur Bildbildung liefert und dieser Betrag liegt allgemein in der Größenordnung von 10:1 bis 10:10, vorzugsweise in der Größenordnung von etwa 1:1.
  • Als Binder können hydrophile und hyrophobe Binder verwendet werden. Beispielsweise können Gelatine, Gelatinederivate, Cellulosederivate, synthetische Polymere, wie Polyvinylverbindungen, Acrylamidpolymere und dergleichen eingesetzt werden. Der gewählte Binder ist insofern nicht wesentlich, als er lediglich eine physikalische Tragfunktion erfüllt.
  • Der im Vakuum aufgedampfte Film oder die Dispersionsschicht haben vorzugsweise mehr als 1 Mikron Stärke.
  • Als zur Bild ausbildung verwendbare Energiequelle können sämtliche elektromagnetischen Quellen mit der notwendigen Lichtintensität zur Verursachung der nichtlinearen Dichteansprechbarkeit im Material zufriedenstellend eingesetzt werden, und Laserlicht, beispielsweise Rubylaserlicht (hellen länge: 6943 i) kann eingesetzt werden. Beispielsweise besitzt ein Dispersionsfilm aus Bleijodidpulver keine Absorption im Bereich der Wellenlängen länger als 520 mlu, während nach der bildweisen Bestrahlung mit einem Rieseni,mpulsrubylaserlicht (giant pulse ruby laser light) mit einer Spitzenstärke von 30 Mill (Halbwer-tsbreite: 15 Sek. n#Sek., Wellenlänge 694 m/u) bei Raumtemperatur ei geschw#rztes Bild erhalten wird.
  • Die Stärke der ~lichtquelle muß selbstverständlich ausreichen, um eine Intensität oberhalb des Schwellenwertes zu erhalten. Falls dieses Kriterium erfüllt ist, sind die exakte Lichtquelle, deren Intensität und dergleichen nicht kritisch.
  • Allgemein jedoch liegt die Stärke der Lichtquelle innerhalb eines Bereiches von etwa 0,5 W/cm2 bis etwa 3000 14W/cm2. Als Beispiele für die zahlreichen brauchbaren Lichtquellen seien feste Laser wie Impulsrubylaser, und dergleichen, Gaslaser, wie Ar-Tonenlaser, He-Ne-Laser und ähnliche Laser, Xenonentladungslampen, Superhochdruckquecksilberlampen und dergleichen aufgeführt.
  • Wenn auch die Aussetzungszeit in Abhängigkeit von der eingesetzten Lichtquelle variiert, werden üblicherweise innerhalb eines Bereiches von wenigen Nano-SeXunden bis zu einigen Minuten sämtliche wesentlichen Ausführungsformen umfaßt, wobei natürlich bei schwächeren Lichtquellen längere Aussetzungen erforderlich sind.
  • Beispielsweise beträgt die Aussetzungszeit bei einem Impulsrubylaser einige zehn Nano-Sekunden und bei einem Ar-Ionenlaser wenige Mikrosekunden.
  • Da jedes einzelne Metallhalogenid seine eigene Absorptionswellenlänge hat, wird es bevorzugt, mit einem Licht mit einer längeren Wellenlänge als diese Eigenabsorptionswellenlänge zu bestrahlen.
  • Wenn das Metallhalogenid, wie gemäß der Erfindung, getempert oder angelassen wurde, nimmt die Empfindlichkeit desselben markant im Vergleich zu derjenigen vor dem Anlassen oder der Temperung zu. Selbstverständlich sind Silberhalogenide, die gemäß der Erfindung angelassen oder getempert wurden, gegenüber den üblichen Silberhalogeniden unterschiedlich. Es zeigt sich auch ein Unterschied zwischen den nach dem Anlaß- oder Temperungsverfahren gemäß der wrfindung behandelten Silberhalogeniden (entsprechend D =kann) und den nach den üblichen Verfahren zur Erhöhung der Empfindlichkeit für Lichtbestrahlung behandelten Silberhalogeniden.
  • Die nach dem Anlaß- oder Temperungsverfahren gemäß der Erfindung behandelten Silberhalogenide sind empfindlich für Wellenlängen, für die die nach den üblichen Verfahren behandelten Silberhalogenide nicht empfindlich sind.
  • Weiterhin kann eine vorherige Aussetzung an Strahlung, beispielsweise Ultraviolettstrahlen, vor der bildweisen Belichtung zur Lieferung der vorstehenden Energie weiterhin markant die Empfindlichkeit erhöhen. Beispielsweise im Fall der Anwendung von Licht mit einer Wellenlänge von 250 m/u bis 800 m/u ist eine Aussetzung von 0,01 MJ/cm2 bis 10 MJ/cm2 geeignet. Als verwendbare Lichtquelle können im sichtbaren Bereich Quecksilberlampen, Wolframlampen, Xenonlampen und dergleichen verwendet werden, die eine Stärke weniger als 0,1 W/cm­ haben.
  • Gemäß der Erfindung kann ein Hochkontrastbild von hoher Auflösungsstärke lediglich erhalten werden, wenn das Metallhalogenid mit einem Licht einer definierten Energie bestrahlt wird und deshalb tritt der Vorteil ein, daß eine mehrfache Aufzeichnung möglich ist, so daß sämtliche Arbeitsgänge bis zur Bildausbildung bei gewöhnlichen Temperaturen unter sichtbarem Licht ausgeführt werden können und ein permanentes Bild ohne Behandlungen, wie Entwicklung, Fixierung, Stabilisierung und dergleichen erhalten werden kann. Das Verfahren gemäß der Erfindung läßt sich somit auf die Herstellung von Masken zur Anwendung beim Kopieren und für verschiedene Wiedergabe-, Druck-und photographische Systeme, wie #hotowiderstände, Negativ-oder Positivfilme, Mikrofilmansammlung von Informationen und dergleichen anwenden.
  • Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.
  • Beispiel 1 Ein Niederschlag eines Mischkristallsystemes aus PbI-AgI (mit einem Gehalt von 30 Mol-<0 AgI) wurde, wie nachfolgend beschrieben, hergestellt und der erhaltene Niederschlag abfiltriert, mit Wasser gewaschen und dann in einem Vakuumofen getrocknet. Proben der erhaltenen Mischkristalle wurden bei 50N in Luft oder bei 150S, 700C oder 4500C in Argongas während 5 Stunden getrocknet und dann abgekühlt, jeweils bei Atmosphärendruck.
  • Sämtliche ~auf diese Weise be'nandelten Mischkristalle wurden dann in einer Tetrahydrofuranlösung von Polyvinylchlorid (Gewichtsverhältnis von Binder zu Mischkristall 1:1) dispergiert, auf eine Glasplatte. zu einer Stärke von 50/u aufgetragen und dann im Vakuum getrocknet. Dadurch wurden die Proben A, B, C und D hergestellt. Jede Probe wurde mit einem Rubylaserlicht (Spitzenst-ärke 30 MS, Halbwertsbreite 15 n.Sek., Bestrahlungszeit 15 n.Sek.) bestrahlt. Die Beziehung zwischen dem Betrag der Bestrahlung und der optischen Dichte ist in Fig. 1 unter Anwendung der Buchstaben A, B, C und D angegeben.
  • Aus Fig. 1 zeigt es sich, daß ein Hochkontrastbild mit hoher Auflösungsstärke erhalten wird. Außerdem zeigte sich bei diesem Beispiel, daß bei einer Anlaß- oder Temperungstemperatur nahe 500E eine hohe Empfindlichkeit erhalten wurde.
  • Ausfällungsverfahren: 0,06 Mol Silbernitrat und 0,14 Mol Bleiacetat wurden in 1 1 Wasser gelöst und die Lösung bei 80N gehalten. Dann -wurde eine Lösung von Kaliumjodid (0,5 Mol/l) hergestellt und 0,5-l hiervon zu der vorstehenden Lösung unter Rühren zugesetzt und bei 800C gehalten. Die Zeitdauer der Zugabe betrug 5 Minuten.
  • Beispiel 2 PbI2-AgS und PbI2-Kristalle mit einem Gehalt von 0 Mol%, 1 Mol-%, 10 Mol-%, 30 Mol, 60 Mol-% und 90 Mol Ag wurden wie in Beispiel 1 ausgefüllt, abfiltriert, und mit Wasser gewaschen und im Vakuum getrocknet. Anschließend wurde jede Kristallprobe bei 300% während 5 Stunden in Argongas wärmebehandelt und der Abkühlung überlassen. Eine Dispersionsschicht wurde auf eine Glasplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Anwendung der erhaltenen Niederschläge ausgebildet. Dadurch wurden die Proben E, F9 G, H, I und J hergestellt Diese Proben wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt und die erhaltene Änderung der optischen Dichte gegenüber dem Bestlsahlungsbetrag mit Las erlicht ist in Fig. 2 gezeigt, wobei die Buchstaben E-J zur Identifizierung der Kurven der entsprechenden Proben verwendet werden.
  • Aus Fig. 2 ist ersichtlich, daß jede Probe ein Hochkontrastbild mit hoher Auflösungsstärke ergab. Es läßt sich auch ersehen, daß wenn der Gehalt an Silber 10 bis 30 Mol-% betrug, eine höhere Empfindlichkeit erhalten wurde.
  • Be#ispiel 3 Ein Niederschlag eines Mischkristallsystems aus PbI2-AgI (mit einem Gehalt von 1 Mol-# AgI)' wurde entsprechend dem Verfahren nach Beispiel 1 hergestellt und eine Probe in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 erhalten. Die erhaltene Probe wurde mit Ultraviolettstrahlen bei 365 m/u mit einer 2 Lichtintensität von 3,44 MW/cm bestrahlt und anschließend wurde die Änderung der optischen Dichte gegen den Betrag der Bestrahlung mit Laserlicht in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestimmt, wovon die Ergebnisse in Fig. 3 (Kurve K) aufgeführt sind. Im Fall der Anwendung der gleichen Probe ohne vorherige Aussetzung an Ultraviolettstrahlen wurden die in Fig. 3 als Kurve L erhaltenen Werte erhalten.
  • Aus Fig. 3 ist ersichtlich, daß durch eine vorherige Aussetzung an Ultraviolettstrahlen markant die Empfindlichkeit für Laserlicht erhöht wird.
  • Beispiel 4 0,2 Mol Kaliumjodid und 0,2 Mol Kaliumbromid wurden in 0,5 1 Wasser gelöst und die Lösung zu einer Lösung von 0,3 Mol Bleiacetat in 1 1 Wasser zugesetzt. Das Gemisch der beiden Lösungen wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 verarbeitet.
  • Eine Dispersionsschicht wurde auf einer Glasplatte unter Anwendung dieses Niederschlages in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 ausgebildet. Die Temperung oder das Anlassen erfolgte bei 300S unter Anwendung des Verfahrens nach Beispiel 1 Diese Probe wurde mit dem gleichen Impulsrubylaser wie in Beispiel 1 unter den gleichen Bedingungen bestrahlt und, wenn die Änderung der optischen Dichte gegenüber dem Betrag der Bestrahlung bestimmt wurde, zeigte es sich, daß PbI2-PbBr2 die gleiche Empfindlichkeit wie PbBr2 allein hatte.
  • Beispiel 5 300 ml einer wasserfreien Kaliumjodidlösung mit 0,5 Mol/l wurde zu 1 1 mit 0,1 Mol Kupfer(II)-sulfat/l bei Raumtemperatur unter Rühren und Einblasen von Gas der schwefligen Säure zugesetzt, wobei der Zugabezeitraum 2 Minuten betrug. Der Niederschlag (Kupfer(II)-jodid) wurde mit Wasser gewaschen, getrocknet und dann bei ?30%" während 2 Stunden in Luft bei Atmosphärendruck angelassen oder getempert. Eine Dispersionsschicht wurde auf einer Glasplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Anwendung des Niederschlages hergestellt.
  • Der gleiche Impulsrubylaser wie in Beispiel 1 wurde auf die Probe unter den Bedingungen in Beispiel 1 aufgestrahlt.
  • Aus der Änderung der optischen Dichte gegenüber dem Betrag der Bestrahlung wurde in der Formel D = ktln für n der Wert 2,3 und für k der Wert 1,5 x 10 10 ermittelt.
  • Im vorstehenden wurde die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.

Claims (14)

  1. Patentansprüche
    Aufzeichnungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, .daß bildweise ein getempertes oder angelassenes Metallhalogenid mit einer Energie einer Intensität entsprechend der folgenden Formel: D = ,ktln worin D die optische Dichte, k eine Konstante (cm2n/Wn Bekunden), I die Aussetzungsintensität (W/cm2), t die Zeit der Aussetzung (Sekunden) und n eine Zahl von mindestens 1 bedeuten, ausgesetzt wird.
  2. 2. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß solche Bedingungen angewandt werden, worin D den Wert >0-2,5, I den Wert )0-10 n den Wert 1-7 und k den Wert 10 12-1 besitzen.
  3. 3. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 2, dadurch -gekennzeichnet, daß d einen Wert von mindestens etwa 0,01 besitzt.
  4. 4. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Metallhalogenid ein Jodid, Bromid, Chlorid, Fluorid oder eine Kombination hiervon mit einem Metall aus einer oder mehreren der Gruppen IB, IIB oder IVA' des Periodensystems verwendet wird.
  5. 5. Aufzeichnungsv'erfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Metall Kupfer, Silber, Cadmium, Quecksilber oder Blei verwendet wird.
  6. 6. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Metallhalogenid, welches auf etwa 50 bis etwa 600cc während etwa 0,5 bis etwa 24 Stunden angelassen wurde, verwendet wird.
  7. 7. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallhalogenid in Schichtform auf einem Träger verwendet wird.
  8. 8. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht, welche das Metallhalogenid dispergiert in einem Binder enthält, verwendet wird.
  9. 9. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet., daß ein Gewichtsverhältnis von Metallhalogenid zu Binder in der Schicht von 10:1 bis 1:10 angewandt wird.
  10. 10. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß ein angelassenes oder getempertes Metallhalogenid, welches kein Röntgenbeugungsmuster nach dem Anlassen ~oder Tempern zeigt, verwendet wird.
  11. 11. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die bildweise Aussetzung bei einer Intensität von etwa 0,5 W/cm2 bis 3000 MM/cm2 durchgeführt wird.
  12. 12. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallhalogenid vor der bildweisen Aussetzung vorhergehend an Licht von 250 bis 800 nm ausgesetzt wird, wobei die Vor-Aussetzung bei 0,01 MJ/cm2 bis 105 MJ/cm2 erfolgt.
  13. 13. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das getemperte oder angelassene Metallhalogenid in Schichtform mit einer Stärke von etwa 1 Mikron oder größer verwendet wird.
  14. 14. Bildgebendes Element, welches ein Bild bei bildweiser Aussetzung an eine Energie mit einer Intensität, die die folgende Formel D = ktln erfüllt, ergibt, worin D die optische Dichte, k eine Konstante (cm2n/Wn Sekunden), t die Zeit der Aussetzung (Sestunden), I die Aussetzungsintensität (W/cm2) und n eine Zahl von mindestens 1 bedeuten und worin D den Wert>0 bis 2,5, I den Wert )0 bis 109, n nden Wert 1-7 und k den Wert 10 12-1 haben, wobei die aktiven bildgebenden Komponenten des Elementes aus einem Metallhalogenid, worin das Metall aus den Gruppen IB, IIB oder IVA des Periodensysteins besteht, welches bei etwa 500C bis etwa 6000C während etwa 0,5 bis etwa 24 Stunden angelassen oder getempert wurde, und zwar vor der bildweisen Aussetzung, besteht.
    L e e r s e i t e
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