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Aufzeichnungsverfahren und Aufzeichnungselement Die Erfindung befaßt
sich mit einem Aufzeiehnungsverfahren und einem hierfür geeigneten Aufzeichnungselement.
Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung eines permanenten
Bildes lediglich durch Bestrahlung eines getemperten Metallhalogenides mit Licht
ohne Anwendung einer chemischen Behandlung, sowie ein Element, das ein derartiges
getempertes oder angelassenes Metallhalogenid enthält.
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Gemäß der Erfindung werden sichtbare Bilder durch bildweise Aussetzung
eines angelassenen oder getemperten Metallhalogenides mit einer Energie einer Intensität
entsprechend der folgenden Formel D =ktln erhalten, worin D die optische Dichte,
I die Aussetzungsintensität, t die Zeit der Aussetzung, k eine Konstante und n eine
Zahl bedeuten. Gleichfalls wird ein photographisches Element, das ein derartiges
angelassenes oder getempertes Metallhalogenid enthält, erfindungsgemäß angegeben.
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Bilder werden photographisch durch bildweise Aussetzung von lichtempindlice
Materialien, wie Silberhalogenidemulsionen, lichtempfindlichen Diazomassen und dergleichen
und Behandlung der Materialien mit den Verfahren der Entwicklung, Fixierung und
dergleichen hergestellt. Insbesondere
lassen sich Verfahren unter
Anwendung von Silberhalogenidals als ausgezeichnete Aufzeichnungsverfahren insofern
bezeichnen, als Bilder mit hoher Empfindlichkeit und hoher Auflösungsstärke erhalten
werden können.
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In sämtlichen üblichen Aufzeichnungsverfahren können jedoch keine
Bilder erhalten werden, wenn nicht chemische oder physikalische Behandlungen bewirkt
werden und, da sie für sichtbares licht und licht mit hierzu benachbarten Wellenlängen
empfindlich sind, müssen die Aufzeichnungsmaterialien im Dunkeln vor der Ausbildung
der Bilder gehar1dhabt werden.
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Es wurden jedoch gegenüber diesen Verfahren unterschiedliche Verfahren
bereits angegeben.
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Beispielsweise beschreibt Michael R. Tubbs ein Aufzeichnungsverfahren
unter Anwendung eines dünnen Filmes eines Materials, welches eine Metallhalogenidverbinduiig
oder eine Chalcogenverbindung und dergleichen enthält, in "The Journal of Photographic
Science", Band 71, 162-169 (1969). Bei diesem Bericht wird angegeben, daß wenn ein
im Vakuum aufgedampfter Film von Bleijodid mit sichtbarem licht oder Ultraviolettstrahlen
mit einer Wellenlänge kürzer als 5200 i-bei 160 bis 220cm bestrahlt wird, sich der
bestrahlte Bereich von gelb-orange zu farblos ändert und sich ein Bild-mit hoher
Auflösungsstärke ergibt und daß, wenn ein Metallsilberfilm und ein Bleijodidfilm
auf einem Glasträger aufgeschichtet werden und an licht mit 1 J/cm2 bei Raumtemperatur
ausgesetzt werden, ein Bild mit einer Auflösungestärke von oberhalb 1 Mikron erhalten
werden kann. Das Bild wird jedoch geschädigt, falls es nicht mit einem Deckfilm
und dergleichen überzogen ist.
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Infolge von ausgedehnten Untersuchungen nach Verfahren zur Aufzeichnung
von Bildern an hellen Stellen ohne Durchführung von chemischer-oder physikalischer
Behandlung wurde
nunmehr ein Aufzeichnungsverfahren gefunden, das
absolut unterschiedlich von den vorstehend geschilderten Verfahren ist. Gemäß der
Erfindung ergibt sich somit ein neues Aufzeichnungsverfahren.
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Eine Aufgabe der Erfindung liegt in einem Aufzeichnungsverfahren
zur Ausbildung von Bildern lediglich durch Aussetzung.
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Eine weitere Aufgabe der Erfindung liegt in einem Aufzeichnungsverfahren,
wo ein Aufzeichnungsmaterial in hellen Räumen gehandhabt werden kann.
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Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Aufzeichnungsverfahren
zur Bildung von Hochkontrastblldern.
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Eine weitere-Aufgabe der Erfindung besteht in einem Aufzeichnungsverfahren
mit guter Empfindlichkeit und eine weitere Aufgabe liegt in einem neuen Aufzeichnungsmaterial,
welches ein getempertes oder angelassenes Metallhalogenid enthält Infolge ausgedehnter
Untersuchungen zum Zweck der Erzielung der vorstehend angegebenen Aufgaben wurde
im Rahmen der Erfindung gefunden, daß, wenn ein angelassenes oder getempertes Metallhalogenid
oder Mischkristalle hiervon nicht semipermanent durch Erregung mit einer Lichtintensität
niedriger als einem bestimmten inert sensibilisiert sind, sie permanente Bilder
bei der Erregung mit Licht mit einer stärkeren Intensität als dem bestimmten Wert
bilden und daß derartige Halogenide die folgende Beziehung erfüllen: D = ktln worin
D die optische Dichte, k eine Konstante (cm2n/Wn Sek.), t die Aussetzungszeit (Sekunden),
1 die Aussetzungsintensität (W/cm2) und n eine Zahl bedeuten, und daß eine Erscheinung,
die bei üblichen lichtempfindlichen Materialien nicht beobacntet wird, von derartigen
Halogeniden gezeigt wird.
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Bei den normalen lichtempfindlichen Materialien ist die Dichte vor
der Aussetzung 0 und die Dichte tritt gleichzeitig mit der Aussetzung (Lieferung
von Energie an das Material) auf und nimmt entsprechend der Intensität der Energie
zu. Deshalb werden die charakteristischen Eigenschaften üblicher lichtempfindlicher
Materialien durch die folgende Formel wiedergegeben: D = ktl worin D, k, t und I
die gleichen Grundbedeutungen wie vorstehend besitzen.
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Die wesentlichsten Eigenschaften der erfindungsgemäß einzusetzenden
Materialien liegen darin, daß, selbst wenn Energie geliefert wird, die Dichte 0
verbleibt, bis die Energie einen bestimmten Wert erreicht und am Schwellenwert tritt
eine Änderung der Dichte auf, was bedeutet, daß die Neigung der durch D = ktln (n=1)
dargestellten Kurve groß ist. Diese Eigenschaft bringt überraschende und bemerkenswerte
Effekte für das Verfahren gemäß der Erfindung, die nachfolgend abgehandelt werden.
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In den Zeichnungen stellen die Fig. 1 bis 3 graphische Darstellungen
der Aussetzung gegenüber der Dichte für verschiedene Proben, die in den Beispielen
beschrieben sind, dar.
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Entsprechend der Formel D = ktln kann D irgendein bestimmbarer Wert
sein, wobei allgemein gesprochen die meisten Einzelpersonen einen D-Vert mit ausreichender
Klarheit wahrnehmen, falls I einen solchen Betrag hat, daß sich ein D-Wert von 0,01
oder größer ergibt. Obwohl die Werte in der vorstehenden Formel nicht exakt aufgrund
der Unterschiedlichkeiten der l-Wahrnehmungswerte zwischen mechanischen/ elektrischen
Vorrichtungen und Menschen und tatsächlich sogar zwischen Einzelindividuen ergeben,
beträgt D allgemein >0 bis 2,5, I hat den Wert 20 bis 109 W/cm2, n den Wert
1
bis 7 und k hat den Wert 10 12 bis 1.
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Allgemein gesprochen variieren k und n von Material zu Material und
lassen sich durch eine geeignete Auftragung von D gegen I bestimmen. Beispielsweise
gelten für PbI2 die Werte n = 1,7, k = 5x10#5 (cm3,4/W1,7 Sek.).
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Der Schwellenwert für PbI2, bestrahlt mit einem riesiegen Impulsrubylaser
(Halbwertsbreite 15 ns), beträgt I = 1,7x10 6 W/cm.
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Als Beispiele für erfindungsgemäß einsetzbare Metallhalogenide seien
aufgeführt Bleijodid, Bleichlorid, Bleibromid, Silberjodid, Silberbromid, Kupferjodid,
Xupferbromid, Quecksilberjodid, Bleifluorid und dergleichen. Mischungen können selbstverständlich
verwendet werden.
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Als Metalle in den Metallhalogeniden werden solche mit einer großen
Anzahl von Elektronen bevorzugt. Da die sensibilisierende Energieintensität (zur
Dichteänderung erforderliche Energie) in der Reihenfolge von Metalljodid, Metallbromid,
Metallchlorid und Metallfluorid zunimmt, kann das geeignete Halogenid in Abhängigkeit
von dem Endgebrauchszweck des Aufzeichnungselementes gewählt werden. Im alSgemeinen
kann das Metall im Metallhalogenid aus Metallen der Gruppe IB, IIB und IVA des Periodensystems
oder Gemischen hiervon gewählt werden, wenn auch Gemische wohl selten eingesetzt
werden. Beispiele sind Kupfer, Silber, Cadmium, Quecksilber, Zinn, Blei und dergleichen,
Wenn auch dies#e Materialien am stärksten bevorzugt werden, da sie ausgezeichnete
Ergebnisse bringen, können auch Metalle aus anderen Gruppen des Periodensystems
entsprechend gewählt werden.
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Das Anlassen oder die Temperung der vorstehend geschilderten Metallhalogenide
wird durch Erhitzen derselben bewirkt. Die Wärmebehandlung wird in solchem Ausmaß
durchgeführt, daß das Röntgenbeugungsinuster der Verbindung eine Änderung im Vergleich
zum Muster vor der Temperung oder Anlassung erleidet und vom Gesichtspunkt der Verfahrenswlrksamkeit,
Verarbeitbarkeit und dergleichen wird üblicherweise
die Wärmebehandlung
bei etwa 50< bis etwa 600#, vorzugsweise bei etwa 50 bis 4500C während einiger
Stunden, üblicherweise etwa 0,5 bis etwa 24 Stunden ausgeführt. Als allgemeine Regel
erfordern niedrigere Anlaß- oder Temperungstemperaturen längere Anlaß- oder Temprungszeiten,
Die Änderung im Röntgenbeugungsmuster gibt sich dadurch zu erkennen, daß das Muster
aufgrund der Temperung oder des Anlassens breit wird und schließlich verschwindet.
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Spezifisch wird die Wärmebehandlung beispielsweise in folgender'
Weise ausgeführt: eine geringe überschüssige Menge einer Kaliumjodidlösung wird
zu einer Mischlösung aus Bleiacetat und Silbernitrat zugegeben und Bleijodid und
Silberjodid werden unter Rühren ausgefüllt. Anschliessend wird der gebildete Niederschlag
bei etwa 80 getrocknet. Der dabei erhaltene Silberhalogenidmischkristall (AgI und
PbI2) wird dann bei etwa 3000C während etwa 5 Stunden in einem Inertgas, wie Argongas,
angelassen oder getempert.
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In diesem Fall zeigt das Gemisch von Bleijodid und Silber jodid das
Röntgenbeugungsmuster von Bleijodid und Silberjodid vor der Anlassung oder Temperung,
während das Beugungsmuster nach der Anlassung oder Temperung verschwunden ist.
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Als spezifisches Beispiel für ein derartiges Verfahren wurden Bleiacetat
und Silbernitrat in einem bestimmten Verhältnis (entsprechend dem gewünschten Produkt)
in Wasser gelöst und die Lösung bei einer konstanten Temperatur von 0 bis 100#,
vorzugsweise etwa 80cm, gehalten. Dann wurde Kaliumjodidlösung zu dieser Lösung,
die bei der vorstehenden Temperatur gehalten wurde, unter kräftigem Rühren des Systems
zugesetzt.
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Die Menge des zugefügten Faliumjodids kann von weniger als etwa 20
% als dem stöchiometrisohen Wert bis zu mehr als 100 % des stöchiometrischen Wertes
betragen und beträgt vorzugsweise mehr als 10 # des stöchiometrischen Wertes. Sämtliche
Konzentrationen, bei denen wasserhaltige Lösungen erhalten
werden
können, können eingesetzt werden, wobei die bevorzugten Konzentrationen 0,05 Mol/l
bis 0,5 Mol/l betragen Die Temperung oder das Anlassen kann im Vakuum, -in luft
oder in einer Inertgasatmosphäre wie N2, Ar, Ne, He, CO, und dergleichen ausgeführt
werden. Vorzugsweise wird jedoch die Temperung oder die Anlassung in einem Inertgas
bei 1 atm durchgeführt. Allgemein läßt sich ein Druck von Hochvakuum bis etwa 2
atm anwenden.
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Das Metallhalogenid kann als Einkristall, als Polykristall, als ihkristalle
oder in einer Schicht, boispielsweise in fester Form, beispielsweise als Block nach
dem Schmelzen, in Pelletform (geformt durch Verpressung eines Pulver), und dergleichen
angewandt werden. Beispiele für derartige Schichten umfassen auf einem Träger wie
Glasplatten, Metallplatten, Kunststoffilmen und dergleichen durch Yakuumaufdampfung
gebildete Filme, dispergierte Schichten aus Metallhalogeniden in einem Binder und
ähnliche Materialien.
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Die Dampfabscheidung wird unter Anwendung üblicher Verfahren, beispielsweise
bei einer Temperatur nahe dem Schmelzpunkt der Probe unter Niederdruck, beispielsweise
in der Größenordnung von 10 5 mmHg ausgeführt.
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In einer Dispersionsschicht oder Binderschicht beträgt das Gewichtsverhältnis
des argelassenen oder getemperten Metallhalogenides zu dem Binder naiarlich lediglich
denjenigen Betrag, der einen ausreichenden Halogenidbetrag zur Bildbildung liefert
und dieser Betrag liegt allgemein in der Größenordnung von 10:1 bis 10:10, vorzugsweise
in der Größenordnung von etwa 1:1.
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Als Binder können hydrophile und hyrophobe Binder verwendet werden.
Beispielsweise können Gelatine, Gelatinederivate, Cellulosederivate, synthetische
Polymere, wie Polyvinylverbindungen, Acrylamidpolymere und dergleichen eingesetzt
werden.
Der gewählte Binder ist insofern nicht wesentlich, als er lediglich eine physikalische
Tragfunktion erfüllt.
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Der im Vakuum aufgedampfte Film oder die Dispersionsschicht haben
vorzugsweise mehr als 1 Mikron Stärke.
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Als zur Bild ausbildung verwendbare Energiequelle können sämtliche
elektromagnetischen Quellen mit der notwendigen Lichtintensität zur Verursachung
der nichtlinearen Dichteansprechbarkeit im Material zufriedenstellend eingesetzt
werden, und Laserlicht, beispielsweise Rubylaserlicht (hellen länge: 6943 i) kann
eingesetzt werden. Beispielsweise besitzt ein Dispersionsfilm aus Bleijodidpulver
keine Absorption im Bereich der Wellenlängen länger als 520 mlu, während nach der
bildweisen Bestrahlung mit einem Rieseni,mpulsrubylaserlicht (giant pulse ruby laser
light) mit einer Spitzenstärke von 30 Mill (Halbwer-tsbreite: 15 Sek. n#Sek., Wellenlänge
694 m/u) bei Raumtemperatur ei geschw#rztes Bild erhalten wird.
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Die Stärke der ~lichtquelle muß selbstverständlich ausreichen, um
eine Intensität oberhalb des Schwellenwertes zu erhalten. Falls dieses Kriterium
erfüllt ist, sind die exakte Lichtquelle, deren Intensität und dergleichen nicht
kritisch.
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Allgemein jedoch liegt die Stärke der Lichtquelle innerhalb eines
Bereiches von etwa 0,5 W/cm2 bis etwa 3000 14W/cm2. Als Beispiele für die zahlreichen
brauchbaren Lichtquellen seien feste Laser wie Impulsrubylaser, und dergleichen,
Gaslaser, wie Ar-Tonenlaser, He-Ne-Laser und ähnliche Laser, Xenonentladungslampen,
Superhochdruckquecksilberlampen und dergleichen aufgeführt.
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Wenn auch die Aussetzungszeit in Abhängigkeit von der eingesetzten
Lichtquelle variiert, werden üblicherweise innerhalb eines Bereiches von wenigen
Nano-SeXunden bis zu einigen Minuten sämtliche wesentlichen Ausführungsformen umfaßt,
wobei natürlich bei schwächeren Lichtquellen längere Aussetzungen erforderlich sind.
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Beispielsweise beträgt die Aussetzungszeit bei einem Impulsrubylaser
einige zehn Nano-Sekunden und bei einem Ar-Ionenlaser wenige Mikrosekunden.
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Da jedes einzelne Metallhalogenid seine eigene Absorptionswellenlänge
hat, wird es bevorzugt, mit einem Licht mit einer längeren Wellenlänge als diese
Eigenabsorptionswellenlänge zu bestrahlen.
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Wenn das Metallhalogenid, wie gemäß der Erfindung, getempert oder
angelassen wurde, nimmt die Empfindlichkeit desselben markant im Vergleich zu derjenigen
vor dem Anlassen oder der Temperung zu. Selbstverständlich sind Silberhalogenide,
die gemäß der Erfindung angelassen oder getempert wurden, gegenüber den üblichen
Silberhalogeniden unterschiedlich. Es zeigt sich auch ein Unterschied zwischen den
nach dem Anlaß- oder Temperungsverfahren gemäß der wrfindung behandelten Silberhalogeniden
(entsprechend D =kann) und den nach den üblichen Verfahren zur Erhöhung der Empfindlichkeit
für Lichtbestrahlung behandelten Silberhalogeniden.
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Die nach dem Anlaß- oder Temperungsverfahren gemäß der Erfindung
behandelten Silberhalogenide sind empfindlich für Wellenlängen, für die die nach
den üblichen Verfahren behandelten Silberhalogenide nicht empfindlich sind.
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Weiterhin kann eine vorherige Aussetzung an Strahlung, beispielsweise
Ultraviolettstrahlen, vor der bildweisen Belichtung zur Lieferung der vorstehenden
Energie weiterhin markant die Empfindlichkeit erhöhen. Beispielsweise im Fall der
Anwendung von Licht mit einer Wellenlänge von 250 m/u bis 800 m/u ist eine Aussetzung
von 0,01 MJ/cm2 bis 10 MJ/cm2 geeignet. Als verwendbare Lichtquelle können im sichtbaren
Bereich Quecksilberlampen, Wolframlampen, Xenonlampen und dergleichen verwendet
werden, die eine Stärke weniger als 0,1 W/cm haben.
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Gemäß der Erfindung kann ein Hochkontrastbild von hoher Auflösungsstärke
lediglich erhalten werden, wenn das Metallhalogenid mit einem Licht einer definierten
Energie bestrahlt wird und deshalb tritt der Vorteil ein, daß eine mehrfache Aufzeichnung
möglich ist, so daß sämtliche Arbeitsgänge bis zur Bildausbildung bei gewöhnlichen
Temperaturen unter sichtbarem Licht ausgeführt werden können und ein permanentes
Bild ohne Behandlungen, wie Entwicklung, Fixierung, Stabilisierung und dergleichen
erhalten werden kann. Das Verfahren gemäß der Erfindung läßt sich somit auf die
Herstellung von Masken zur Anwendung beim Kopieren und für verschiedene Wiedergabe-,
Druck-und photographische Systeme, wie #hotowiderstände, Negativ-oder Positivfilme,
Mikrofilmansammlung von Informationen und dergleichen anwenden.
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Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.
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Beispiel 1 Ein Niederschlag eines Mischkristallsystemes aus PbI-AgI
(mit einem Gehalt von 30 Mol-<0 AgI) wurde, wie nachfolgend beschrieben, hergestellt
und der erhaltene Niederschlag abfiltriert, mit Wasser gewaschen und dann in einem
Vakuumofen getrocknet. Proben der erhaltenen Mischkristalle wurden bei 50N in Luft
oder bei 150S, 700C oder 4500C in Argongas während 5 Stunden getrocknet und dann
abgekühlt, jeweils bei Atmosphärendruck.
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Sämtliche ~auf diese Weise be'nandelten Mischkristalle wurden dann
in einer Tetrahydrofuranlösung von Polyvinylchlorid (Gewichtsverhältnis von Binder
zu Mischkristall 1:1) dispergiert, auf eine Glasplatte. zu einer Stärke von 50/u
aufgetragen und dann im Vakuum getrocknet. Dadurch wurden die Proben A, B, C und
D hergestellt. Jede Probe wurde mit einem Rubylaserlicht (Spitzenst-ärke 30 MS,
Halbwertsbreite 15 n.Sek., Bestrahlungszeit 15 n.Sek.) bestrahlt. Die Beziehung
zwischen
dem Betrag der Bestrahlung und der optischen Dichte ist in Fig. 1 unter Anwendung
der Buchstaben A, B, C und D angegeben.
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Aus Fig. 1 zeigt es sich, daß ein Hochkontrastbild mit hoher Auflösungsstärke
erhalten wird. Außerdem zeigte sich bei diesem Beispiel, daß bei einer Anlaß- oder
Temperungstemperatur nahe 500E eine hohe Empfindlichkeit erhalten wurde.
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Ausfällungsverfahren: 0,06 Mol Silbernitrat und 0,14 Mol Bleiacetat
wurden in 1 1 Wasser gelöst und die Lösung bei 80N gehalten. Dann -wurde eine Lösung
von Kaliumjodid (0,5 Mol/l) hergestellt und 0,5-l hiervon zu der vorstehenden Lösung
unter Rühren zugesetzt und bei 800C gehalten. Die Zeitdauer der Zugabe betrug 5
Minuten.
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Beispiel 2 PbI2-AgS und PbI2-Kristalle mit einem Gehalt von 0 Mol%,
1 Mol-%, 10 Mol-%, 30 Mol, 60 Mol-% und 90 Mol Ag wurden wie in Beispiel 1 ausgefüllt,
abfiltriert, und mit Wasser gewaschen und im Vakuum getrocknet. Anschließend wurde
jede Kristallprobe bei 300% während 5 Stunden in Argongas wärmebehandelt und der
Abkühlung überlassen. Eine Dispersionsschicht wurde auf eine Glasplatte in der gleichen
Weise wie in Beispiel 1 unter Anwendung der erhaltenen Niederschläge ausgebildet.
Dadurch wurden die Proben E, F9 G, H, I und J hergestellt Diese Proben wurden in
der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt und die erhaltene Änderung der optischen
Dichte gegenüber dem Bestlsahlungsbetrag mit Las erlicht ist in Fig. 2 gezeigt,
wobei die Buchstaben E-J zur Identifizierung der Kurven der entsprechenden Proben
verwendet werden.
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Aus Fig. 2 ist ersichtlich, daß jede Probe ein Hochkontrastbild mit
hoher Auflösungsstärke ergab. Es läßt sich auch ersehen, daß wenn der Gehalt an
Silber 10 bis 30 Mol-% betrug, eine höhere Empfindlichkeit erhalten wurde.
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Be#ispiel 3 Ein Niederschlag eines Mischkristallsystems aus PbI2-AgI
(mit einem Gehalt von 1 Mol-# AgI)' wurde entsprechend dem Verfahren nach Beispiel
1 hergestellt und eine Probe in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 erhalten. Die
erhaltene Probe wurde mit Ultraviolettstrahlen bei 365 m/u mit einer 2 Lichtintensität
von 3,44 MW/cm bestrahlt und anschließend wurde die Änderung der optischen Dichte
gegen den Betrag der Bestrahlung mit Laserlicht in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 bestimmt, wovon die Ergebnisse in Fig. 3 (Kurve K) aufgeführt sind. Im Fall der
Anwendung der gleichen Probe ohne vorherige Aussetzung an Ultraviolettstrahlen wurden
die in Fig. 3 als Kurve L erhaltenen Werte erhalten.
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Aus Fig. 3 ist ersichtlich, daß durch eine vorherige Aussetzung an
Ultraviolettstrahlen markant die Empfindlichkeit für Laserlicht erhöht wird.
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Beispiel 4 0,2 Mol Kaliumjodid und 0,2 Mol Kaliumbromid wurden in
0,5 1 Wasser gelöst und die Lösung zu einer Lösung von 0,3 Mol Bleiacetat in 1 1
Wasser zugesetzt. Das Gemisch der beiden Lösungen wurde in der gleichen Weise wie
in Beispiel 1 verarbeitet.
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Eine Dispersionsschicht wurde auf einer Glasplatte unter Anwendung
dieses Niederschlages in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 ausgebildet. Die Temperung
oder das Anlassen erfolgte bei 300S unter Anwendung des Verfahrens nach Beispiel
1 Diese Probe wurde mit dem gleichen Impulsrubylaser wie in Beispiel 1 unter den
gleichen Bedingungen bestrahlt und, wenn die Änderung der optischen Dichte gegenüber
dem Betrag der Bestrahlung bestimmt wurde, zeigte es sich, daß PbI2-PbBr2 die gleiche
Empfindlichkeit wie PbBr2 allein hatte.
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Beispiel 5 300 ml einer wasserfreien Kaliumjodidlösung mit 0,5 Mol/l
wurde zu 1 1 mit 0,1 Mol Kupfer(II)-sulfat/l bei Raumtemperatur unter Rühren und
Einblasen von Gas der schwefligen Säure zugesetzt, wobei der Zugabezeitraum 2 Minuten
betrug. Der Niederschlag (Kupfer(II)-jodid) wurde mit Wasser gewaschen, getrocknet
und dann bei ?30%" während 2 Stunden in Luft bei Atmosphärendruck angelassen oder
getempert. Eine Dispersionsschicht wurde auf einer Glasplatte in der gleichen Weise
wie in Beispiel 1 unter Anwendung des Niederschlages hergestellt.
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Der gleiche Impulsrubylaser wie in Beispiel 1 wurde auf die Probe
unter den Bedingungen in Beispiel 1 aufgestrahlt.
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Aus der Änderung der optischen Dichte gegenüber dem Betrag der Bestrahlung
wurde in der Formel D = ktln für n der Wert 2,3 und für k der Wert 1,5 x 10 10 ermittelt.
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Im vorstehenden wurde die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen
beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.