DE2256624A1 - Quarzkristallschwinger und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Quarzkristallschwinger und verfahren zu seiner herstellungInfo
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Classifications
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
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Description
D 5840
KABUSHIKI KABHA MEIDENSHA No. 2-1-17, Ohsaki, Shinagawa-ku, Tokyo, Japan
Die Erfindung betrifft ganz allgemein Quarzkristallfilter, insbesondere
einen Quarz kr ista Ilse hwinger, der einen Teil eines Quarzkristallfilters
des sog. Hybrid-Typs bildet, und insbesondere ein Verfahren zur Herstellung
solch eines Quarzkristallschwingers. Der Quarzkristallfilter des Hybrid-Typs ist im allgemeinen aus einem
Quarz se hwinger und anderen üblichen Schaltungselementen, wie z.B.
Induktionsspulen und Kondensatoren, hergestellt, die mit dem Schwinger
Z/hu
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zusammenwirken und daher verschiedene vorteilhafte Loistungscharakteristiken
ergeben, die auf den hochstabilisierten Schwingungsfrequenzen
sowie auf den ausreichend großen Q -Faktoren, d. h. Gütefaktoren beruhen, mit denen der Quarzschwinger zur Verfügung
steht.
Trotz dieser vorteilhaften Leistungscharakteristiken des bekannten
Quarzkristallschwingers ist bisher insoweit ein Problem offengeblieben, als das Frequenzspektruni des Quarzkristallschwingers zusätzlich zu
den erwünschten Hauptresonanzfrequenzkomponenten auch Unterresonanzfrequenzkomponenten
enthält. Diese Unter resonanzf requenzkom ponenten bringen beim Quarzkristallschwinger eine unerwünschte Nebenresonanz
mit sich, was eine bedeutende Verschlechterung der Leistungscharakteristiken des Quarzkristallfilters zur Folge hat. Bisher sind
verschiedene Versuche unternommen worden, um diese unerwünschten Nebenresonanzen des Quarzkristallschwingers zu unterdrücken und
demgemäß die Leistungscharakteristiken des Quarzkristallfilters wieder zu verbessern, jedoch ist keiner dieser Versuche bisher vollkommen
erfolgreich gewesen.
Von den verschiedenen Arten der gegenwärtig gebräuchlichen Quarzkristallschwinger
werden diejenigen Quarzkristallschwinger, die Dickenscherungsschwinger sind, in erster Linie bei den Quarzkr istall filtern
mit relativ hohen Frequenzbereichen verwendet, und zwar aufgrund ihrer zusammenstimmenden Temperaturcharakteristiken,
Q -Faktoren (Gütefaktoren), ausreichenden Stoßwiderstandsfähigkeit und hohen Bearbeitbarkeit. Die Erfindung befaßt sich speziell mit dem
Quarzkristallschwinger dieser Art.
3 0 9 f' 7 Ί I 0 8 4 4
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die oben erwähnten Nachteile
zu beseitigen und einen Quarzkristallfilter des Hybrid-Typs zu schaffen, der einen Ouarzkristallresonator als Dirkenseherungsschwinger
aufweist und in einem relativ hohen Frequenzbereich schwingen kann sowie frei von der unerwünschten Nebenresonanz ist. Hierbei soll
der Quarzkristallschwinger bei einem vergrößerten Frequenzbereich, der sogar höher als 15 MHz sein kann, betätigbar sein. Bei dem zu
schaffenden Quarzkristallscbwinger soll die unerwünschte Nebenresonanz
auf ein befriedigendes jAusmaß unterdrückt sein, wobei
gleichzeitig die sich hierdurch ansonsten ergebende nachteilige Beeinflussung der Temperatur und der Leistungscharakteristiken des
Quarzschwingers praktisch vermieden sein soll. Eine weitere Aufgabe wird darin gesehen, ein Verfahren zur Herstellung des erwünschten
Quarzkristallschwingers zu schaffen, das einfach und wirtschaftlich arbeitet und demgemäß leicht auf kommerzieller Basis in die Praxis
umgesetzt werden kann.
Die Merkmale des zur Lösung dieser Aufgabe geschaffenen Quarzkristallschwingers
ergeben sich aus den Ansprüchen. Dieser Quarzkristallschwinger weist eine eine bestimmte Dichte besitzende Quarzkristallplatte auf, die zwei einander gegenüberliegende Hauptflächen
besitzt. Diese sind jeweils mit Ausnehmungen von einer bestimmten gemeinsamen Tiefe versehen, die jeweils eine von zwei Elektroden
von gleich großer Dichte und Dicke aufnehmen. Zwei
Zuführungsplatten, die jeweils an den Hauptflächen der Kristallplatte
angeordnet sind, stehen mit den ihnen zugeordneten Elektroden in Verbindung und erstrecken sich ineinander diametral gegenüberliegende
Richtungen, wobei das Verhältnis aus Tiefe der Ausnehmungen zur Dicke der Elektroden kleiner ist als das Verhältnis aus Dichte der
Elektroden zur Dichte der Kristallplatte. Die Zuführungsplatten
können vorzugsweise in den Ausnehmungen in den einander gegenüberliegenden
Hauptflächen der Quarzkristallplatte enthalten sein. Diese Ausnehmungen können wahlweise identisch ausgebildet sein.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung des Quarzkristallschwingers
mit der oben beschriebenen Ausbildung zeichnet sich dadurch aus, daß eine Quarzkristallplatte hergestellt wird, daß zwei
einander gegenüberliegende Hauptflächen der Kristallplatte mit einem Photowiderstand, d. h. einem Lichtabdeckmittel überzogen werden,
daß die sich ergebende Kristallplatte vorgetrocknet wird, daß auf jede der Hauptflächen der Kristallplatte ein transparenter dünner Film
aufgetragen wird, der ein gewünschtes Hchtundurchlässiges Muster trägt, daß der Überzug des Lichtabdeckmittels durch den das Muster
tragenden transparenten dünnen Film hindurch mit Licht bestrahlt wird, um den Lichtabdeckmittelüberzug gemäß dem lichtundurchlässigen
Muster eine Lichtbehandlung zu erteilen, daß die Kristallplatte mit dem Lichtabdeckmittel.überzug in eine das* Lichtabdeckmittel lösende Lösung
getaucht wird, daß die sich ergebende Kristallplatte nachgetrocknet wird, daß die nachgetrocknete Kristallplatte zum Ätzen der Hauptflächen
der Platte in ein Ätzmittel getaucht wird, daß das lichtbehandelte Lichtabdeckmittel von den Hauptflächen der Kristallplatte entfernt
wird und daß schließlich ein Paar Elektroden sowie ein Paar Zuführungsplatten
in den geätzten Teilen der Hauptflächen angebracht werden.
Die Erfindung wird im folgenden in Form mehrerer bevorzugter Ausführungsbeispiele
anhand der Zeichnung erläutert. Diese zeigt in:
Fig. IA ein repräsentatives Ausführungsbeispiel des
bekannten Quarzkristallschwingers schematisch in Draufsicht,
3 C ° ft V /! / 0 8 4 4
Fig. IB in Seitenansicht und
Fig. IC im Schnitt gemäß Linie IC-IG in Fig. IA;
Fig. 2 ein Diagramm, das einen Zustand zeigt, bei
dem beim Quarzkristallschwinger gemäß Fig. IA bis IC eine unharmonische Schwingungsform
herbeigeführt ist;
Fig. 3A ein weiteres typisches Ausführungsbeispiel
des bekannten Quarzkristallschwingers schematisch in Draufsicht,
Fig. 3B in Seitenansicht und
Fig. 3C im Schnitt gemäß Linie 3C-3C in Fig. 3A;
Fig. 4A eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Ouarzkristallschwingers schematisch
in Draufsicht,
Fig. 4B in Seitenansicht und
Fig. 4C im Schnitt entlang der Linie 4C-4C in Fig. 4A sowie
Fig. 5 perspektivisch eine weitere bevorzugte Aus
fuhrungsform des erfindungsgemäßen Quarzkristallschwingers.
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In Fig. IA bis IC ist ein typisches Ausführungsbeispiel eines bekannten
Quarzkristallschwingers 10 dargestellt. Die Erfindung ist auf einen Quarzkristallschwinger desjenigen Typs gerichtet, der
bei relativ hohen Frequenzen in Dickenscherungsform schwingt, weswegen vorausgesetzt wird, daß der hier gezeigte Quarzkristallschwinger
von diesem Typ ist. Der Quarzkristallschwinger 10 weist eine Quarzkristallplatte 11 in Scheibenform mit einander gegenüberliegenden
Hauptflächen 12 und 12' auf, die eine gemeinsame Fläche besitzen. Wie aus Figur IB ersichtlich, besitzt die Quarzkristallplatte 11 eine Dicke t.. und einen Durchmesser Φ-. Es ist in diesem
Fall bekannt, daß eine temperaturabhängige Quarzkristallplatte oder eine solche mit negativem Temperaturgang, d.h. eine AT-Quarzkristallplatte oder eine BT-Quarzkristallplatte, die in Dickenscherungsform
in einer Grundschwingung oder in einer ungeradzahligen Oberschwingung
schwingt, zur Anwendung bei demjenigen Quarzkristallschwinger besonders geeignet ist, der in einem relativ hohen Frequenzbereich
betreibbar ist; dies beruht auf den miteinander zusammenwirkenden Temperaturcharakteristiken, dem Q-Faktor (Gütefaktor), der
Stoßwiderstandsfähigkeit und der Bearbeitbarkeit, wie zuvor schon erwähnt. Es wird angenommen, daß die Quarzkristallplatte 11 gemäß
Fig. IA bis IC vom AT- oder BT-Typ sei. Die Quarz kr ist allplatte
trägt mittig auf ihren Hauptflächen 12, 12' jeweils eine Elektrode 13 bzw. 13' von im allgemeinen kreisförmiger Ausbildung. Diese mittigen
kreisförmigen Elektroden 13, 13' weisen, wie aus Fig. IB ersichtlich,
einen gemeinsamen Durchmesser JL sowie eine gemeinsame Dicke t„
auf und sind aus gutleitendem Metall gebildet, wie beispielsweise Silber, Aluminium, Kupfer oder Gold, das mittels eines geeigneten
chemischen oder elektrochemischen Verfahrens, beispielsweise mittels Vakuumverdampfung oder Elektroplattierung, jeweils auf die
Hauptflächen 12, 12' der Quarzkristallplatte 11 aufgetragen ist.
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An den Hauptllächen 12, 12' sind zwei längliche metallische Zuführungsplatten
14, 14' befestigt, die daher jeweils mit den kreisförmigen
Elektroden 13, 13' in Verbindung stehen. Diese Zuführungspläten 14,
14* erstrecken sich von den mittleren kreisförmigen Elektroden 13,
13' aus in diametral einander gegenüberliegende Richtungen und enden
jeweils am Außenumfang der Hauptflächen 12, 12' der Quarzkristallplatte 11. Wie insbesondere aus Fig. IB ersichtlich, weisen die
länglichen Zuführungsplatten 14, 14' eine gemeinsame Länge d- in
radialer Richtung der Hauptflächen 12, 12' auf, was m. a. W. bedeutet, daß die mittigen kreisförmigen Elektroden 13, 13' um den
radialen Abstand d- kleiner sind als die Hauptflächen 12 bzw. 12' der
Quarzkristallplatte 11. Die länglichen metallenen Zuführungsplatten 14, 14' dienen nicht nur dazu, die elektrische Verbindung der
kreisförmigen Elektroden 13, 13' mit außenliegenden, jedoch nichtdargestellten Schaltelementen herzustellen, die einen Teil des Quarz kristallfilters
bilden, sondern auch dazu, eine mechanische Verstärkung der Quarzkristallplatte 11 in Verbindung mit üblichen
Lagerungen hierfür zu bewirken.
Es ist bekannt, daß die unerwünschten Nebenresonanzen, die bei den
Dickenscherungsschwingungen der Quarzkristallschwinger herbeigeführt werden, im allgemeinen in die folgenden drei Hauptkategorien
zerlegt werden können:
a) in hochzahlige Kontur-Resonanzschwingungen, die von den spezifischen Konturen oder Außenabmessungen der die
Schwingereinheiten bildenden Quarzkristalle diktiert werden;
b) in die unharmonischen Resonanzschwingungen;
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c) in verschiedene Resonanzschwingungen, die durch mechanische
und/oder thermische Kupplungen zwischen den die Quarzkristall schwinger bildenden Elementen hervorgerufen werden. Hierbei
werden die unerwünschten Nebenresonanzen dieser besonderen Art vernachlässigt oder als vernachlässigbar klein angesehen,
da sie zum Verständnis des hier beschriebenen Quarzkristall schwingers ohne Bedeutung sind.
Es ist andererseits ebenfalls bekannt, daß beim Quarzkristall schwinger
10 der aus Fig. IA bis IC ersichtlichen Konstruktion die
Hauptresonanzfrequenz der Quarzkristallplatte 11 in einem Bereich relativ hoher Frequenz liegt, so daß das Verhältnis aus Durchmesser
Φ- zu Dicke t- der Quarzkristallplatte größer als 40 sein muß,
d.h. also Φ . / t.y 40. Wenn daher der Abstand d- zwischen
dem jeweiligen Außenumfang der Quarzkristallplatte 11 und den mittigen kreisförmigen Elektroden 13, 13' derart gewählt wird, daß das Verhältnis
aus Abstand dj zu Dicke ίχ größer als 15 ist, d.h. dj/ ^ ^ 15,
und wenn gleichzeitig die Dicke t„ der kreisförmigen Elektroden 13,
13' so gewählt wird, daß die Elektroden eine vorgegebene Masse aufweisen,
so ist die mechanische Energie, welche die Resonanzschwingungen der Quarzkristallplatte 11 bewirkt, in demjenigen Bereich der
Quarzkristallplatte 11 konzentriert, der, wie durch die in unterbrochenen
Linien gezeichnete Kurve in Fig. IC angedeutet, zwischen den beiden kreisförmigen Elektroden 13, 13' liegt. Dies bedeutet, daß
die unerwünschte Nebenresonanzschwingung der oben definierten Kategorie a) auf vorteilhafte Weise unterdrückt werden kann, indem
die Anordnung und Dicke der mittigen kreisförmigen Elektroden 13, 13' entsprechend ausgewählt wird.
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Wenn hiervon abgesehen der radiale Abstand Cl1 zwischen dem jeweiligen
Außenumfang der Quarzkristallplatte 11 und den mittigen kreisförmigen
Elektroden 13. 13' sowie die Dicke t. der Kristallplatte 11 derart ausgewählt werden, daß das oben erwähnte Verhältnis d../ t,2*
gilt, so hängt die unharmonische Nebenresonanzschwingung oder der störende Frequenzgang gemäß Kategorie b) von dem Verhältnis
aus Durchmesser Φ „ der mittigen kreisförmigen Elektroden 13,
13' zu Dicke t.. der Quarzkristallplatte 11 und von einem Verhältnis
R aus Masse pro Flächeneinheit der beiden kreisförmigen Elektroden 13, 13' zu Masse pro Flächeneinheit der Quarzkristallplatte
ab; hierbei kann das Verhältnis R folgendermaßen ausgedrückt werden:
R= l p 2 -" h ,
wobei ο .. die Dichte der Quarzkristallplatte Hund ο die Dichte
jeder der kreisförmigen Elektroden 13 und 13' ist.
Wie bekannt, hängt eine P-zahlige Eigenfrequenz fo (wobei P eine
ungerade ganzzahlige Zahl ist und 1, 3, 5 ... betragen kann) der Dickenscherungsschwingungsform der Quarzkristallplatte von der
Dicke t.. der Platte ab und läßt sich folgendermaßen ausdrücken:
(2)
wobei Cßß, eine Kompensationssteifheit der Quarzkristallplatte 11 ist.
Demgegenüber kann die Eigenfrequenz fe der Dickenscherungsschwingungsform , die sich unter oder zwischen den mittigen kreisförmigen Elektroden
13, 13' ergibt, durch folgende Gleichung angenähert werden:
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(3)
fe =
2P.tj (1 (- R) V
Wenn in diesem Fall die Frequenz f durch die oben definierte Frequenz
fo normiert wird und daher gilt
a = f/fo. <">
so ist ein Frequenzabfall bei der Eigenschwingungsfrequenz der
Quarzkristallplatte 11 definiert durch:
Λ = (fo - fe) /fo = 1 - ·? p. (5)
Es ergibt sich daher, daß für den Belevitch Parameter ¥ folgende
Gleichung gilt:
a = a - P' a e (6)
ρ (ι - a e)
Es ist bekannt, daß sich eine oder mehrere unharmonische Schwingungsformen im Bereich der Ouarzplatte 11 unterhalb der kreisförmigen
Elektroden 13, 13* bei Frequenzen ergeben, mit denen der Belevitch
Parameter ^ aufgrund des bekannten Energieschluck- bzw. -abfangphänomens
einen Wert von 0-1 annimmt. Im Diagramm gemäß Fig. 2 sind verschiedene Beziehungen zwischen dem Belevitch
Parameter ^ und dem Wert P ( -i>
/t..)\/ Λ dargestellt, wobei
auf der Ordinate der Belevitch Parameter :' und auf der Abszisse der
3 ü 9 B ? 2 / 0 8 4 4
Wert P ( *2/tl^ \/ Δ aufgetragen ist. Die verschiedenen in
Figur 2 gezeigten charakteristischen Kurven wurden aufgrund von Analysen der Energieschluckschwingungen einer idealen Quarzkristall platte
sowie dadurch erhalten, daß in Gleichung 6 die Ergebnisse von Versuchen eingesetzt wurden. Diese Versuche wurden durchgeführt
mit einem idealen Quarzkristallschwinger unter Verwendung einer Quarzkristallplatte mit einer unendlich großen Länge längs seiner
X-Achse und einer endlich großen Länge längs seiner Z-Achse sowie mit Elektroden von bestimmter Dicke, die an beiden Hauptflächen
der Quarzkristallplatte befestigt waren. Diejenigen Ziffern, die den in Klammern aufgeführten Buchstaben 1 und m auf der rechten Seite
des Diagramms gemäß Fig. 2 zugeordnet sind, geben die Anzahl der Pole der unharmonischen Schwingungsformen in der X- bzw. Z-Achse
an. Es ist in diesem Fall darauf hinzuweisen, daß sich die unharmonischen Schwingungsformen auch in einem Bereich ergeben, der im
Diagramm gemäß Fig. 2 durch das Bezugszeichen A angedeutet ist, obwohl er aus Gründen der Einfachheit hier nicht aufgeführt ist.
Aufgrund der Kurven gemäß Fig. 2 zeigt sich, daß das Energieniveau
der unharmonischen Schwingungen bei abnehmendem Belevitch Parameter ebenfalls abnimmt und daher die Dämpfung erreicht, wenn der
Belevitch Parameter f sich dem Wert 1 nähert. Es sei außerdem
darauf hingewiesen, daß sich symmetrische unharmonische Schwingungsformen ergeben, wenn beide Zahlen 1 und m ungerade sind, wie
bei der Schwingungsform mit (1,3) oder (3, l),und daß sich antisymmetrische
unharmonische Schwingungsformen ergeben, wenn beide Zahlen 1 und m gerade sind. Die antisymmetrische Schwingungsform wird
beim Quarzkristallschwinger der Konstruktion gemäß Fig. IA bis IC
nicht herbeigeführt, bei dem die Elektroden auf beiden Seiten der Quarzkristallplatte untereinander identisch sind, und zwar in bezug
auf die Form, die Größe, die Masse und relative Lage zur-Quarz -
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kristallplatte. Wenn dagegen die Elektroden auf der Quarzkristall platte
bezüglich ihrer Geometrie und/oder Masse voneinander verschieden sind, ergeben sich Schwingungen des antisymmetrischen
unharmonischen Schwingungstyps. Wie bekannt, ist diese antisymmetrische unharranische Schwingungsform weniger intensiv als der
symmetrische Schwingungstyp.
Aus der oben aufgeführten Analyse wird deutlich, daß das Auftreten
der unharmonischen Schwingungen bzw. der zuvor erwähnten unerwünschten Nebenresonanzen der Kategorie b) beim Quarzkr istall schwinger
verhindert werden kann, wenn die beiden Elektroden 13, 13' auf den Hauptflächen 12 bzw. 12' der Quarzkristallplatte 11 untereinander
vollkommen übereinstimmen, und zwar bezüglich ihrer Masse, Konturen, Abmessungen und Relativlage zur Quarzkristallplatte 11.
In Anbetracht der ungeradzahligen unharinonlsüien Schwingungsform,
insbesondere des (1, 3) - Schwingungstyps gemäß dem Diagramm nach Figur 2, ist es daher vorteilhaft, den Quarzkristallschwinger derart
auszubilden, daß folgende Beziehung erfüllt wird:
P(
Aus dieser Beziehung wird deutlich, daß die unerwünschte Nebenresonanz
des Quarzkristallschwingers äußerst wirkungsvoll unterdrückt werden kann, wenn der Außendurchmesser Φ „ der mittigen
kreisförmigen Elektroden 13, 13' und der Frequenzabfall A ausreichend
klein sind. Dieser FrequenzabfalU läßt sich im Hinblick auf die Gleichungen 1, 2, 3 und 5 in folgender Form formulieren:
A= R/ ( 1 + R), (7)
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so daß es genügt, das Verhältnis R zu verkleinern, um auch den
Frequenzabfall Δ zu verringern.
Wenn beispielsweise ein Quarzkristallschwinger unter Verwendung einer AT-Quarzkristallplatte konstruiert wird, die eine Grundschwingungseigenfrequenz
von 20 MHz, eine Dicke t.. von 83 Mikron und kreisförmige
Elektroden aus Silber mit einer Dicke t„ von 0,1 Mikron aufweist,
dann entspricht das Verhältnis R aus Gleichung 1 dem Wert 0, 0095,
und demgemäß entspricht der Frequenz abfall x. aus Gleichung 7 dem
Wert 0, 0095, da die Dichte ρ 1 von Quarz 2, 65 g/cm und die Dich-
3
te P 2 von Silber 10, 50 g/cm beträgt, Wenn die Grundfrequenz des
te P 2 von Silber 10, 50 g/cm beträgt, Wenn die Grundfrequenz des
Quarzkristallschwingers als dessen Resonanzfrequenz verwendet
wird, so beträgt der Wert ρ eins, so daß der Durchmesser Φ2 der
kreisförmigen Elektroden aufgrund der oben erwähnten Ungleichung
kleiner als 0, 57 mm sein sollte.
Aufgrund dieses besonderen Ausführungsbeispiels des bekannten Quarzkristallschwingers
wird deutlich, daß der Durchmesser der Elektroden auf der Quarzkristallplatte in dem Verhällnis verringert werden sollte,
in dem die Resonanzfrequenz oder der Obersehwingungsgrad des
Schwingers abnimmt. Die Verringerung des Durchmessers der Elektroden bewirkt jedoch, daß die Impedanz des Quarzkristallschwingers
anwächst, weswegen es erforderlich wird, den Quarzkristallfilter zu konstruieren, um die Impedanz in ihrer Gesamtheit
zu vergrößern. Dies ist jedoch in jeder praktischen Hinsicht unangenehm. Ein praktikables Mittel zur Vermeidung dieser Schwierigkeit
besteht darin, daß der Durchmesser 4>„ der Elektroden unverändert
gehalten wird und der Frequenzabfall j und demgemäß das Verhältnis
R auf relativ kleine Werte eingestellt werden, und zwar durch Verwendung solcher Elektroden, die aus einem Material mit einer
3 0 9 8 2 2 / Ü 8 4 4
relativ geringen Dichte gebildet sind, wie beispielsweise aus Aluminium,
dessen Dichte o_ 2, 69 g/cm betragt. Zum Erzielen des gewünschten
Zweckes trägt es ebenfalls bei, wenn auch die Dicke t« der aus diesem Material hergestellten Elektroden verkleinert wird. Wenn
dagegen vom Puarzkristallschwinger der Betrieb bei erhöhten Resonanzfrequenzen
gefordert wird, ist dieses oben beschriebene Hilfsmittel tatsächlich undurchführbar, und zwar im Hinblick auf verschiedene
sich aus der Praxis ergebende Beschränkungen, die dann überwunden werden müßten und sich ergeben aus den spezifischen
Eigenschaften der zur Verfügung stehenden Materialien, aus den Verfahren zum Anbringen der Elektroden an der Ouarzkristallplatte und
aus der Steuerung der Stabilität und Dicke des für die Elektroden verwendeten Metalls. Da darüber hinaus der spezifische Widerstand
der Elektroden abrupt ansteigt und sich gleichzeitig ein unerwünschter Dünnfilm-Effekt ergibt, wenn die Dicke der Elektroden über eine bestimmte
Grenze hinaus verringert wird, ist die Verringerung der Dicke t„ bei solchen Quarzkristallschwingern undurchführbar, die zum
Betrieb in Hochfrequenzbereichen vorgesehen sind.
Zur Lösung dieser Probleme wurde eine verbesserte Version des Quarzkristall schwinger s vorgeschlagen und auch schon praktisch angewendet.
Ein Ausfiihrungsbeispiel dieses Schwingers ist aus Figur 3A bis 3C ersichtlich. Dieser Quarzkristallschwinger 20 entspricht
in seiner Konstruktion weitgehend derjenigen des Quarzkristall schwingers 10 gemäß Fig. IA bis 1 C. weswegen einander entsprechende
Teile der beiden Schwinger gleiche Bezugszeichen aufweisen. Der Quarzkristallschwinger 20 unterscheidet sich jedoch von dem zuvor
beschriebenen Schwinger 10 dadurch, daß Überzüge 21, 21' aus einem dielektrischen Material, beispielsweise Siliziumoxid {SiO«). typischerweise
mittels eines Vakuumaufdampfverfahrens auf diejenigen Teile
der einander gegenüberliegenden Hauptllüchen 12,12' der
Quarzkristallplatte 11 aufgebracht worden sind, die nach außen gerichtet sind. d.h. auf diejenigen Teile, auf denen ,
sich die mittigen, kreisförmigen Elektroden 13,13' und die länglichen Elektrodenplatten 14,14' nicht befinden. Wenn in
diesem Fall die dielektrischen Überzüge 21,21' eine Dichte d_ und eine Dicke t„ aufweisen, dann ist das Verhältnis
R' aus der Masse der beiden Überzüge 21, 21' zur Masse .
der Quarzkristallplatte 11 durch eine Gleichung R' = (2p - · t„) / (Pj · tj gegeben, so daß die Eigenschwingungsfrequenz fo' des Quarzkristallschwingers 20 unter Berücksichtigung von Gleichung 3 in folgender Form geschrieben
werden kann:
foV * ■ ■ 1 Λ [ "66' (8)
1 1 / C66'
• I1(ItR')' ' Vn1
Es wird daher der Frequenzabfall Δ', der sich aus der Anwesenheit der Elektroden 13,13' auf der Quarzkristallplatte
ergibt, folgendermaßen ausgedrückt:
Δ V='(R -R*) /(I +R) " (9)
Es läßt sich demgemäß die Wirkung, die sich aufgrund der
dielektrischen Überzüge 21,21' ergibt, folgendermaßen ausdrucken:
' " = Λ/Τ- R' -l/l - Ρ3^3
(10) R V Pt
309822/0044
Dieser wünschenswerte Effekt wird jedoch aufgehoben durch ein bedeutendes Absinken des in Zusammenhang mit der Hauptschwingungsfrequenz
stehenden Q-Faktors und durch eine nachteilige Beeinflussung der Temperaturcharakteristiken des
Quarzkristallschwingers, und zwar aufgrund des gleichzeitigen Vorhandenseins von Material, das mit der Quarzkristallplatte
nicht artverwandt ist. Hinsichtlich der Verschlechterung der Temperaturcharakteristiken ist darauf hinzuweisen, daß die
Temperatureigenschaftskurve in kubischer Form, die vom
Schnittwinkel der Quarzkristallplatte abhängig ist, in einem breiten Bereich schwankt.was auf die Anordnung dielektrischer
Schichten auf der Quarzkristallplatte zurückzuführen ist. Zusätzlich zu diesen Problemen ergeben sich Schwierigkeiten bei
der Steuerung der Dicke und der Gleichförmigkeit der dielektrischen Überzüge.
Der erfindungsgemäß vorgeschlagene Quarzkristallschwinger ist frei von all den obenerwähnten Nachteilen, die den bekannten
Quarzkristallschwingern eigen sind, während die unerwünschten Nebenresonanz schwingungser scheinungen, wie beispielsweise
die hcchzahligen Konturresonanzschwingungsformen, die auf der spezifischen äußeren Ausbildung der Quarzkristallplatte beruhen,
und die unharmonischen Resonanzschwingungen wfrksam unterdrückt werden. Die Störresonanzen werden beim erfindungsgemäßen
Quarzkristallschwinger aufgrund von Gesetzen unterdrückt, die durch die Gleichungen 1 und 8 gegeben sind, und zwar ohne
Einschränkungen, die sich aus den Begrenzungen der Werte Φ „
und Δ ergeben, Werte, dte dem in einem Bereich relativ hoher Frequenz arbeitenden Schwinger eigen sind. Eine bevorzugte
3 ü 9 H ?. 2 / 0 8 4 4
-- 17 -
225662A
Ausführungsform des Quarzkristallschwingers, mit dem diese
Wirkungen erzielt werden, ist in Fig. 4A bis 4C dargestellt.
Dieser Quarzkristallschwinger 30 ist zum Betrieb in einer Dickenscherungsschwingungsform, wie zuvor erwähnt, ausgebildet
und weist daher eine kreisförmige Quarzkristallplatte 31
mit einander gegenüberliegenden Hauptflächen 32, 32' auf. Diese Quarzkristaliplatte 31 ist von AT-oder BT-Ausbildung, deren
Hauptflächen 32, 32' zur Kristallachse der Platte 31 um solche Winkel geneigt sind, die zum Erzielen der erwünschten
Temperaturcharakteristiken geeignet sind. Die Ouarzkristall-.platte
31 weist einen Durchmesser Φ ^1 eine Dicke tj und eine
Dichte ρ . auf. Es ist in diesem Fall von Bedeutung, daß die
Dicke t. der Quarzkristallplatte 31 derart gewählt wird, daß
sie der Bedingung gemäß Gleichung 2 genügt.
Die Quarzkristallplatte 31 weist auf ihren gegenüberliegenden Hauptflächen 32,32' jeweils eine Ausnehmung 36 bzw. 36' auf,
die identisch ausgebildet sind und eine Tiefe 6 t aufweisen, so daß die Quarzkristallplatte 31 an ihrem, den Ausnehmungen 36,
36' entsprechenden Abschnitt eine verringerte Dicke t. besitzt.
Diese Ausnehmungen 36, 36' weisen mittige kreisförmige Teile und in radialer Richtung sich längs erstreckende oder schwalbenschwanzförmige
Teile auf, die von den kreisförmigen Teilen diametral in einander entgegengesetzten Richtungen verlaufen
und an den einander gegenüberliegenden Hauptflächen 32, 32' am Außenumfang der Quarzkristallplatte 31 jeweils
enden, wie am besten aus Fig. 4A ersichtlich. Die oben beschriebene Form und Ausbildung der Ausnehmungen 36,36'
3 (XS 8 2 2 I 0 8 k 4
stellt jedoch lediglich ein Ausführungsbeispicl dar, weswegen
diese Ausnehmungen 36, 36' derart ausgebildet werden können, daß sie wahlweise jegliches andere Muster, beispielsweise
ein dreieckiges, rechteckiges oder quadratisches Muster, aufweisen können. Es ist möglich, den Ausnehmungen 36,36' verschiedene
Muster aufgrund des Umstandes zu erteilen, daß die Bedingung d./t. ^15 leicht dadurch erfüllt werden kann, daß
der Durchmesser Φ 1 der Quarzkristallplatte 31 innerhalb eines
Gräßenbereiches von 5 - 8 mm ausgewählt wird, da die zuvor
definierte Frequenz fo derart eingestellt ist, daß sie höher als 15MHz ist. Zur Ausbildung der Ausnehmungen 36,36' kann
vorteilhafterweise ein an sich bekanntes Photoätzverfahren verwendet werden, wie im folgenden im einzelnen beschrieben.
Die derart in der Quarzkristallplatte 31 ausgebildeten Ausnehmungen
36, 36' nehmen in ihren mittigen Teilen jeweils mittige Elektroden 33 bzw. 33' auf. Diese mittigen Elektroden 33, 33'
sind in der Zeichnung mit einer kreisförmigen Ausbildung dargestellt, die mit der Ausbildung der mittigen Teile der Ausnehmungen
36, 36' weitgehend identisch ist. Dies stellt jedoch lediglich ein Ausführungsbeispiel dar, weswegen die Außenabmessungen
der mittigen Elektroden 33, 33* insoweit auf jede gewünschte Weise abgewandelt werden können, als ihre Ausbildung
aus den vorerwähnten Gründen weitgehend mit der besonderen Ausbildung der mittigen Teile der Ausnehmungen 36, 36'
auf beiden Seiten der Quarzkristallplatte 31 übereinstimmt. Die mittigen Elektroden 33, 33' weisen eine Dicke t„ und eine Dichte
P_ auf, wobei die mittigen Elektroden 33,33* einen Durchmesser
φ besitzen, wenn sie die dargestellte kreisförmige Ausbildung
aufweisen.
3 ü 9 S 2 2 / Ü 8 4 4
In den radial längsgestreiften odor schwalbonKchwanzförmigen
Teilen der Ausnehmungen 36, 36' befinden sich längsgestreckte oder schwalbenschwanzförmige Zuführungselektroden 34 bzw. 34',
die jeweils mit den mill igen Elektroden 33, 33' direkt verbunden
oder hiermit einstückig sind, um zwischen diesen mittigen Elektroden S3, 33' und den mit dem Quarzkristallschwinger 30
zusammenwirkenden äußeren Schaltkreiselementen eine elektrische Verbindung zu schaffen. Diese länglichen Zufuhrungselektroden
34, 34' besitzen in ähnlicher Weise wie dir mittigen Elektroden 33, 33' eine Dicke t» und eine Dichte δ 2,
Die längliehen Zuführungselektroden 34, 34' sind derart dargestellt,
daß sie sich in diametral einander entgegengesetzten Richtungen erstrecken, de vorzugsweise mit der X-Achse der Kristallplatte
31 fluchten; wenn erwünscht^ können die Zuführungselektroden 34,34' jedoch in jeder gewünschten Richtung
angeordnet und demgemäß auch die die Zuführungselektroden aufnehmenden Ausnehmungsteile in jeder gewünschten Richtung
ausgebildet werden.
Obwohl der Quarzkristallschwinger 30 in der Zeichnung derart
dargestellt ist, daß er ein an der Quarzkristallplatte 31 angeordnetes Elektrodenpaar 33,33' verwendet, stellt dies lediglich
ein Ausführungsbeispiel dar, weswegen nach Wunsch jede andere geeignete Anzahl Elektroden auf jeder der Hauptflächen der
Kristallplatte angeordnet werden kann. Eine diesbezügliche Ausführungsform
des Quarzkristallschwingers ist aus Fig. 5 ersichtlich.
30^822/0844
225662A
Bei dieser abgewandelten Ausflihrungsforni gemäß Fig. 5 weist
der Quarzkristallsehwinger 40 eine rechteckige Quarzkristallplatte 41 auf, die zwei einander gegenüberliegende Hauptflächen42,42f
mit gemeinsamer bzw. gleich großer Fläche besitzt. In diesen Hauptflächen 42, 42' sind vier voneinander getrennte,
nicht im einzelnen bezifferte Ausnehmungen vorgesehen, die, wie dargestellt, in einer Reihe nebeneinanderliegen. Die
Ausnehmungen der einen Hauptfläche 42 nehmen einen Elektrodensatz 43 auf, während die Ausnehmungen der anderen
Hauptfläche 42' einen weiteren Elektrodensatz 43' aufnehmen. Diese Elektroden 43,43' sind derart dargestellt, daß sie eine
rechteckige Ausbildung aufweisen. Die Elektroden 43,43' sind mit äußeren Schaltkreiselementen über Zuführungselektroden
verbunden, die ebenfalls von den auf beiden Seiten der Ouarzkristallplatte 41 ausgebildeten Ausnehmungen aufgenommen
werden und eine entsprechende Ausbildung aufweisen.
Die Ausnehmungen in der Ouarzkristallplatte des erfindungsgemäßen Quarzkristallschwingers werden vorteilhafterweise
mittels eines Photoätzverfahrens gebildet, bei dem ein geeignetes Fluorid, beispielsweise eine übersättigte Lösung von
Amoniumfluorid oder Fluoramoniumsäure oder Fluorwasserstoffsäure verwendet wird. Zu diesem Zweck wird zuerst eine
entsprechend ausgeschnittene und geformte Ouarzkristallplatte hergestellt, deren einander gegenüberliegende Hauptflächen
danach gleichförmig mit einem geeigneten Photowiderstandsmaterial bzw. Lichtabdeckmittel überzogen werden, das gegenüber
Fluorid beständig ist Als Lichtabdeckmittel kann beispielsweise das im Handel unter dem Handelsnamen Kodack Metal
Etching Resist vertriebene Mittel verwendet werden. Die sich
3 C 9 H 2 2 } 0 8 A 4
aus dem Lichtabdeckmittel ergebendon überzüge, die auf beiden
Seiten der Ouarzkristallplatte ausgebildet werden, werden sodann in ausreichender Weise vorgetrocknet. Der Oberfläche
jedem der vorgetrockneten Ijchtwiderstandsüberzüge wird sodann ein transparenter dünner Film überlagert, der ein lichtundurchlässiges, opakes Muster trägt, das mit dem gewünschten
Muster der in der Ouarzkristallplatte auszubildenden Ausnehmungen übereinstimmt. Die Liehtwiderstandsüberzüge werden
sodann durch den jeweiligen transparenten dünnen Film hindurch mit Licht bestrahlt, so daß die unterhalb der transparenten
Teile des dünnen Films liegenden Flächen der Überzüge dem Lieht ausgesetzt werden, wobei die verbleibenden
Teile durch die lichtundurchlässigen Muster bzw. Schablonenbilder abgedeckt sind. Die Ouarzkristallplatte wird sodann zu- ·
sammen mit den getrockneten Lichtwiderstandsüberzügen in eine entsprechende organische Lösung eingetaucht, wie beispielsweise
in eine gemischte Lösung aus Trichloräthylen, Toluol, Azeton und Essigsäure, um dadurch das unbehandelte
Lichtabdeckmaterial von denjenigen Flächen der Hauptflächen der Ouarzkristallplatte zu entfernen, die beim vorhergehenden
Verfahrensschritt der Bestrahlung mit Licht nicht ausgesetzt ■wurden. Die Überzüge aus dem lichtbehandelten Photowiderstandsmaterial
werden sodann nachgetrocknet und die Quarzkristallplatte, welche die nachgetrockneten lichtwiderstandsfähigen
TJberzüge aufweist, wird in ein Ätzbad getaucht, so daß die Ouarzkristallplatte auf ihren Flächen, welche keine
lichtwiderstandsfähigen Überzüge aufweisen, geätzt wird. Die Ätzzeit sollte derart gesteuert sein, daß die Ouarzkristallplatte
auf eine vorbestimmte Tiefe geätzt wird. Bei der derart
3 0 9 8 2 2/
gebildeten QuarzkristallplaUe, we Irin? auf ihren beiden Seiten
die Ausnehmungen aufweist, wird das auf den Hauptflächen verbleibende Lichtabdeckmittel entfernt und in den Ausnehmungen
werden die Elektroden befestigt, deren Ausbildung in Übereinstimmung mit derjenigen der Ausnehmungen steht.
Bei der Durchführung des obenbeschriebenen Photoätzverfahrens auc h
kann/ediglich eine der die lichtwiderstandsfähigen Überzüge
tragenden Hauptflächen mit dem Licit bestrahlt werden, um die Lic htwider stands must er auf beiden Seiten der Kristallplatte auszubilden.
Dies beruht auf dem Umstand, daß die Quarzkr istall platte weitgehend transparent ist, insbesondere dann, wenn die
Platte spiegelglatt bearbeitete Hauptflächen aufweist. Wenn die Quarzkristallplatte etwas mattierte oder weißliche Oberflächen
besitzt, die beispielsweise auf eine Genauigkeit von etwa 0, 6 Mikron bearbeitet wurden, so kann die Kristallplatte immer
noch weitgehend transparent sein, wenn die Wellenlänge der verwendeten Lichtstrahlen entsprechend ausgewählt wird. Es
werden daher die lic htwider standsfähigen Muster gleiclizeitig
auf beiden Hauptflachen der Quarzkristallplatte und über den
gleichen Flächen mit einem einzigen Lichtbestrahlungs-Verfahrensschritt
gebildet. Dies trägt beträchtlich zur Vereinfachung des Verfahrens zur Herstellung des Quarz kr ist allschwinge rs
sowie zu einer gleichförmigen Qualität des auf kommerzieller Basis gefertigten Schwingers bei. Wenn nun das Verhältnis aus
Masse der Elektroden auf der Quarzkristallplatte zur Masse der Kristallplatte mit R" und die Eigenfrequenz der inDickenscherungsschwingungsform
zwischen den Elektroden hervorgerufenen Schwingungen mit f e"bezeichnet wird, so gilt:
3 0 9P22/0844
2p2 " l2
-~~r— ünd <n)
1 · 4
Der aufgrund der vorhandenen Elektroden hervorgerufene Frequenzabfall Δ" ist sodann:
R»+(l -tJtA)
Die Dicke 6t jeder der auf beiden Seiten der Quarzkristallplatte
gebildeten Ausnehmungen ist offensichtlich gegeben durch:
6t =(tj -t4)/2, (14)
°2
wobei gilt δ. t < ■
. t
O1
i
Aus Gleichung 2 und 12 ergibt sich:
r t; 2p _ · t.
_
te
te
(15)
Wenn Gleichung 14 in obenerwähnte Ungleichung eingesetzt wird,
ergibt sich:
t 2 ο . - t 4 π 2__2_ ν
> j
so daß fo > fe'1.
5840
309822/0 0.A
Es folgt daher, daß die Energieabfang- bzw. -schluckschwingungen
in demjenigen besonderen Bereich der Quarzkr istall platte herbeigeführt werden, der unterleib und zwischen den
Elektroden auf beiden Seitender Platte angeordnet ist.
Nach Einsetzen von Gleichung 11 und 14 in Gleiching 13 kann
der Frequenzabfall Δ" folgender malten geschrieben werden:
*"-C2-1,--!-St)Z(D2-t2 + -J-P1. t4) (16)
Diese Gleichung sagt aus, daß der FrequenzabfallA" weitgehend
beliebig durch entsprechende Auswahl der Werte "^, ο t
und δ t verringert werden kann. Demgemäß kann der Wert Φ - im Parameter "P{$„/\.^)~\J Δ" beträchtlich groß gemacht
werden, und zwar insoweit, als dieser Parameter einen Wert kleiner als 2 annimmt, so daß die unharmonische Resonanzschwingung
des Quarzkristallschwingers wirksam unterdrückt werden kann. Es wurde mit einem Quarz kr ista Ilse hwinger ein
Versuch durchgeführt, und zwar unter Verwendung/^Ατ-Schnitt-Quarzkristallplatte
mit einer Dicke von 83 Mikron und mit einer Grundresonanzschwingung von 20 MHz. Der Quarzkristallschwinger
wurde bei einer Oberschwingungsfrequenz von 60 MHz erregt, wobei P ,auf 3 und 6t /L auf 0,2% eingestellt war.
Der Versuch zeigte, daß sich erstens beim Äquivalenzwiderstand/öen
Hauptschwingungen der dritten Oberschwingungsform mit dem auf 0, 2% eingestellten Wert des ^t/t* kein bedeutsamer
Anstieg ergabt daß jedoch zweitens bei den Temperatureigenschaften
des Quarzkristallschwingers die Neigung zu einer merkbaren Änderung bestand, wenn der Wert 6t etwas größer als
3ÜS822/0844
Null war. Wenn die Tiefe 6t der Ausnehmung in der Quarz kristallplatte
so groß ist, daß hierdurch die Temperatureigenschaften des Quarzkristallschwingers beeinflußtwerden, sollte
der Schnittwinkel der Quarz kristallplatte derart eingeregelt werden,
daß dieser Einfluß auf die Temperatureharakteristiken ausgeglichen
wird. Es ist in jedem Fall erforderlich, daß der Frequenzabfall Δ vergrößert wird, wenn sich die Werte fo und P
vergrößern, so daß die Dicke t0 und der Durchmesser * der
mittigen Elektroden inner halb erlaubter Grenzen auf einen größtmöglichen
Wert eingestellt werden sollte, während gleichzeitig die Dichte P o der Elektroden relativ klein gewählt werden soll.
Es ist weiterhin festzustellen, daß die Zuführungselektroden auf
einander gegenüberliegenden Flächen der Quarzkristallplatte nicht in Deckung miteinander sind, so daß die Eigenresonanzfrequenz
ie*'*, die sich in den Bereichen der Quarzkristallplatte unterhalb diesen Elektroden ergibt, höher ist als die Eigenfrequenz
fo der Kristallplatte, weswegen gilt: fo< few . Dies bedeutet, daß
die in diesen besonderen Bereichen sich ergebende Schwingungsfrequenz
nicht aufgefangen wird und daher erlöscht, vorzugsweise bei solchen Quarzkristallplatten, die frei von den geätzten Ausnehmungen
sind. Wenn für die Dicke t2 der mittigen Elektroden
der größtmögliche Wert gewählt wird, ergeben sich hinsichtlich der elektrischen Verbindung/aer Halterung der Zuführungselektroden
Probleme, obwohl die mitt ige η Elektroden selbst frei von
solchen Problemen sind. Wenn beispielsweiseElektroden aus einem elektrisch leitenden Kunststofflack verwendet werden, ergibt
sich die Gefahr, daß der Metallfilm in solch einem Anstrich absorbiert wird und demgemäß zu Stücken zerbrochen wird.
:. r ■ ..;.; 11 U 8 4 4
225G62A
Dies kann dadurch vermieden werden, daß eine Quarzkristallplatte verwendet wird, die an ihren die Zuführungselektroden berührenden
Bereichen verdickt ist oder indem, falls erforderlich, die Endteüe der Zuführungselektroden durch ein Doppe lauf dampfverfahren
ausgebildet werden.
Aus vorstehendem ergibt sich daher, wenn die Ausnehmungen in den besonderen Bereichen der Hauptflächen der Quarz kr istallplatte
zur Aufnahme der mittigen Elektroden und Zuführungselektroden derart ausgebildet werden, daß die Beziehung t4 + 2t„
<t. gilt, daß die Energie der Hauptschwingungen bei vergrößerten
Frequenzen aufgefangen werden kann und daß sich bei der Quarzkristallplatte
ein relativ großer Q-Faktor erzielen läßt, so daß die unerwünschten und störenden Nebenresonanzschwingungen
ausreichend unterdrückt werden können. Die verschiedenen Einschränkungen, die sich aus der Begrenzung der Dicke £ der
Elektroden und des Frequenzabfalles Δ ergeben und durch das Vorhandensein der Elektroden bewirkt sind, soweit Hochfrequenzschwingungen
der Dickenscherungsform betroffen sind, können
beim Quarzkristallschwinger gemäß der Erfindung praktisch vollständig beseitigt werden.
Da darüber hinaus zur Herstellung der Ausnehmungen in der
Quarzkristallplatte das Photoätzverfahren verwendet wird, lassen sich daher bei den Ausnehmungen klargeschnittene Kon+
türen erreichen, und es kann demgemäß auch eine stabilisierte Leistungscharakteristik des Quarzmetallschwingers erzielt werden,
die während der Verwendung des Schwingers beibehalten
wird. Das Photoätz verfahre η ermöglicht es außerdem, lichtbehandelte
Schichten auf beiden Seiten der Quarz kr istall platte
; ■ .. .■■;,.; 8 4 i
auszubilden, indem während der Herstellung des erfindungsgemäßen Quarzkristallschwingers der lic Itwider standsfähige Überzug
lediglich auf einer Seite der Platte bestrahlt wird. Trotz der Anordnung der Ausnehmungen in der Quarzkristallplatte ergibt
sich bei den Hauptschwingungen der Kristallplatte keine nachteilige
Beeinflußung der Temperatur- und Alterungseigenschaften. Dieser nachteilige Einfluß ergibt sich selbst dann nicht, wenn
die Quarzkristallplatte an ihren die Zuführungselektroden aufnehmenden Bereichen örtlich verdickt ist.
309822/0844
Claims (4)
- PatentansprücheΛ
' 1. Quarz kr ista Ilse hwinger, dadurch gekennzeichnet, daß er eine eine Dichte P - und eine Dicke t. besitzende Quarzkristallplatte (31) mit zwei gegenüberliegenden Hauptflächen (32,32') aufweist, die jeweils Ausnehmungen (36,36') mit gleich großer Tiefe 6 t besitzen, wobei die Ausnehmungen mit beidseits der Kristallplatte einander fluchtend gegenüberliegenden Mittelteilen und mit länglichen Teilen versehen sind, die von den mittigen Teilen ausgehen und jeweils am Außenumfang der Hauptflächen enden, daß die Mittelteile der Ausnehmungen jeweils Hauptelektroden (33, 33') aufnehmen, während die länglichen Teile der Ausnehmungen mit den Hauptelektroden verbundene Zuführungselektroden (34,34') aufnehmen, wobei die Hauptelektroden^re Zuführungselektroden eine gemeinsame Dichte P0 und Dicke to aufweisen,P 2 &beider 6t < —-=—10 gilt. - 2. Quarzkristallschwinger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die länglichen Teile der Ausnehmungen (36,36') und die hierin enthaltenen Zuführungselektroden (34, 34') auf beiden Hauptflächen (32,32») der Quarzkristallplatte (31) in ihrer Ausbildung übereinstimmen.309822/0844
- 3. Verfahren zur Herstellung eines Quarz kr istallschwingers gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Quarzkristallplatte mit bestimmtem Schnittwinkel hergestellt wird, daß die einander gegenüberliegenden Hauptflächen der Quarzkristallplatte mit einem lichtwiderstandsfähigen Material überzogen werden, daß die sich ergebenden Überzüge aus lichtwiderstandsfähigem Material auf der Kristallplatte vorgetrocknet werden, daß die vorgetrockneten lichtwiderstandsfähigen Überzüge mit Licht bestrahlt werden, wobei zuvor diejenigen Flächen der Überzüge, die später die mittigen Elektroden und die Zuführungselektroden aufnehmen, für die Lichtbehandlung der bestrahlten Flächen der Überzüge abgedeckt werden, daß die Kristallplatte zusammen mit den lichtwiderstandsfähigen Über-Ir-zügen^ine das Photowiderstandsmaterial auflösende Lösung getaucht werden, daß die .sich ergebende Kristallplatte nachgetrocknet wird, daß die nachgetrocknete Kristallplatte zum Ätzen der unter den mit Licht nicht behandelten Überzugsflachen liegenden Kristallplatte in ein Ätzmittel getaucht wird, daß die lichtbehandelten Überzüge von den Hauptflächen der Kristallplatte entfernt werden und in den sich ergebenden Ausnehmungen der Kristallplatte eine geeignete Anzahl von Hauptelektroden und Zuführungselektroden angeordnet wird.309822/0844
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Lichtbestrahlung der Mchtwiderstandeftthigen Überzüge diesen ein transparenter dünner Film überlagert wird, der ein ltehtundurcMassiges Muster entsprechend der Ausbildung der später beidseite der Kristallplatte anzuordnenden Haupt- und ZufUhrungselektroden trägt, und daß die vorgetrockneten UchtwiderBtandafähigen Überzüge dur ch den transparenten dünnen Film hindurch mit Licht zur Lichtbehandlung der PhotowlderstandsUberzüge bestrahlt werden, wobei die unter dem opaken Muster liegenden Flächen unbehandelt bleiben.309822/0844U .Leerseite
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