JPH0230207A - 水晶振動子及びその製造方法 - Google Patents

水晶振動子及びその製造方法

Info

Publication number
JPH0230207A
JPH0230207A JP17895088A JP17895088A JPH0230207A JP H0230207 A JPH0230207 A JP H0230207A JP 17895088 A JP17895088 A JP 17895088A JP 17895088 A JP17895088 A JP 17895088A JP H0230207 A JPH0230207 A JP H0230207A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
plate
electrodes
etching
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17895088A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoaki Hayashi
林 仁顕
Isao Mutai
務台 功
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Dempa Co Ltd
Original Assignee
Asahi Dempa Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Dempa Co Ltd filed Critical Asahi Dempa Co Ltd
Priority to JP17895088A priority Critical patent/JPH0230207A/ja
Priority to DE19893910460 priority patent/DE3910460C2/de
Publication of JPH0230207A publication Critical patent/JPH0230207A/ja
Priority to US07/813,048 priority patent/US5283496A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は厚みすべりモードで振動する水晶振動子および
その製造方法に関するもので、特にQ値が大きいととも
にQ値の温度特性がなめら力)な水晶振動子およびその
製造方法に関するものである。
(従来の技術) 所望の形状の水晶板の表裏の表面に互いに対向するよう
に電極を被着した電極密着型の水晶振動子の電気的等価
回路は一般に第7図に示すように表記されている。この
ような水晶振動子における振動の効率を表わすQ値は、 で表される。ここにfは振動周波数である。したがって
、成る特定の周波数の水晶振動子のQ値を大きくするに
は、水晶振動子の容量C3を小さくするか、振動に対す
る抵抗を表わすインピーダンスR,を小さくする必要が
ある。ところで水晶振動子の振動周波数fは、例えば厚
みすべり振動子の代表的な訂カット板では、 fζ1660X n / t   ・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・(2)で表される。ここにr
の単位はKFlz、 nは振動の次数で基本波に対して
は1、第3次、第5次・・・・・・のオーバートーンに
対しては3,5・・・・・・の値をとり、tは水晶板の
厚みで単位は閣である。ここで振動次数は予め決められ
るので、厚みすべり振動子の振動周波数fは水晶板の厚
みtで決まることになる。このため、成る周波数の水晶
振動子のQ値を大きくするためにその容量CIを小さく
しようとする場合には電極の面積を小さくする必要があ
る。
しかしながら、厚みすべり水晶振動子において電極の面
積を小さくすることには以下に述べるように限界がある
第8図は電極密着型の厚みすべり振動子の一般的構成を
示すものであり、水晶板1の表裏に互いに対向するよう
に電極2,3を被着し、これらの電極にそれぞれ接続し
た導電性の支持線4,5によって水晶板を支持し、これ
ら支持線を端子6゜7にそれぞれ接続し、これら端子を
絶縁物8.9を介してベース10aに固着し、このベー
スにカバー10bを取付け、ベースおよびカバーによっ
て囲まれる空所に不活性ガスを充填した構造となってい
る。電極2.3は通常蒸着によって水晶板1の両面に互
いに対向するように設けられている。ここで厚みすべり
振動子とは、第9図に示すように、水晶板1がその薄い
面内で対向電極2.3と平行にずれるように動く振動を
いうが、このような厚みすべり振動では、対向する電極
の間の水晶は電気入力によってずれようとするが、電極
が設けられていない外周部はそのずれに対する抵抗とし
て作用する。したがって、一定の寸法の水晶板でその容
量CIを小さくしてQ値を大きくするために電極の面積
を小さくすると、インピーダンスR。
が大きくなってしまい、その結果としてQ値を大きくす
ることができなくなる。そこで電極を小さくするととも
に水晶板1の電極2,3が付いていない部分も極力小さ
くすることが考えられるが、水晶板1の一方の表面に形
成された電極2およびこれに接続された支持線4と、他
方の表面に形成された電極3およびこれに接続された支
持線5とを電気的に絶縁して水晶振動子を構成するには
水晶板の電極が設けられていない外周部は成る程度以上
の巾が必要である。一般に、この外周部の巾は1〜2胴
は必要とされている。このことからQ値を大きくするた
めに、電極の面積を小さくすることによって容1 c 
+を小さくすることには限界がある。
一方、水晶振動子のインピーダンスR3は一般の電気回
路における抵抗とはその性質が異なり、水晶板の機械的
振動に対する抵抗である。このような抵抗の原因は理論
的に完全に解明されてばいないが、大きく分けて以下の
4点が考えられている。
第1は前述したように電極が付いていない部分が振動を
拘束することによる抵抗、第2は水晶板を支持する支持
線が振動を拘束することによる抵抗、第3は電極の部分
で発生した振動が水晶板の端面で反射され、この反射波
の位相が、電極部で発生される振動の位相とずれること
による抵抗、第4は振動子を製造する過程で水晶板に生
ずる各種の欠陥などに起因する抵抗である。このような
要因から、厚みすべり水晶振動子のインピーダンスを小
さくするためには従来より種々の提案が為されてきたが
、以下説明するように十分に満足な解決策を与えるもの
ではなかった。
(発明が解決しようとする課題) インピーダンスR8を小さくした従来の水晶振動子とし
て、第10図に示すように水晶板1の一方の面を球面と
し、この球面と対向する他方の面を平面として両面を鏡
面に研いたものがある。このような振動子はコンベック
ス型水晶振動子と称され、振動エネルギーを振動子の中
央に集中させ、周辺部の変位を殆ど零とすることができ
るので、R1に対する上述した第1の要因による抵抗を
小さくすることができる。また、厚みと輪郭で決まる高
次輪郭信号の結合を小さくすることができるため、R,
に対する第2の要因による抵抗も小さくすることができ
る。さらに両面を鏡面にみがいているのでR,に対する
第4の要因による抵抗も小さくすることができる。これ
らのことからコンベック型の水晶振動子のQ値は高いも
のとなるが、最大の欠点は球面に加工しなければならな
いため、製造が非常に面倒となり、コストが非常に高く
なることである。したが号て、コンベックス型水晶振動
子は経済性が余り問題とならない極く限られた用途にし
か用いられていないのが実情である。
第11図はR,を小さくするようにした従来の水晶振動
子の他の例を示すものであり、水晶板1の周縁を斜めに
研磨して面取りを行う所謂ベベリングが施されている。
このようにベベリングした水晶振動子においてもコンベ
ックス型水晶振動子と同様に振動変位を中央に集中させ
、端縁における支持損失を小さくするのに有効で、この
結果R3を小さくすることができる。しかし、このよう
な水晶板端縁の面取りでR,を小さくすることには限度
があるとともに周波数の高い振動子では加工の困難性に
比べて面取りの効果が左程大きく現れないという欠点が
ある。先に述べたように、水晶振動子の振動周波数fは
水晶板1の厚みで一義的に定まり、例えば基本波(n=
1)でf = I MHzの水晶板の厚みは1.66m
mXf =10MHzでは0.166mmとなる。振動
周波数fが高くなると水晶板1はこのように薄くなるの
で、振動周波数が10MHz程度以上の振動子に対して
面取りを適用することは通常行われていない。
R3を小さくするさらに他の方法は、水晶板の両面を鏡
面にみがく所謂ラッピング処理を施すことである。通常
水晶板は所定の結晶方位に切断された後、砥粒により研
磨されるが、この砥粒による研磨は初めは粗い砥粒で、
その後細かい砥粒で行われ、仕上げの砥粒は#2500
〜#4000.粒径にして数ミクロンの砥粒が用いられ
ている。この仕上げ砥粒の大きさは実用上必要な性能と
コストとのバランスで決められているが、経済性を無視
して非常に細かい砥粒で研磨し、最終的には鏡面にまで
仕上げようとするとR1に対する第4の要因を低下させ
てR6を小さくする効果は成る程度得られるが、コスト
が著しく高くなってしまい、実用性に乏しいという欠点
がある。さらに、このような砥粒による機械的研磨では
、水晶板の表面に生ずる加工変質層をなくすことは実際
上できないので、R1を小さくすることにも限界がある
さらに、単にR,を小さくするためだけでなく、研磨に
よって生じた加工歪みを除去したり、表層の汚れを除去
することによって振動周波数の経年変化を小さくするた
めに、水晶板全体を弗化アンモン溶液のようなエツチン
グ液に浸漬してエツチングすることも提案されている。
このようなエツチング処理によってRtを小さくするこ
とができるが、エツチングし過ぎるとかえって水晶板の
表面を荒らし、R8が増大してしまうばかりでなく、電
極を付着すべき表面部分もエツチングされるので蒸着膜
として形成される電極の水晶板に対する付着力が弱くな
ってしまうとともに水晶板の厚さが所望の値とならない
ため振動周波数が狂ってしまう欠点がある。
以上のことから、現在大量に生産されている厚みすべり
水晶振動子は、水晶板を所定の形状に切り出した後、適
当な細かさの砥粒で研磨し、所要に応じて面取りを行い
、次いで研磨された面全体をエツチングして、そのイン
ピーダンスR+を許容し得る値以内としてQ値を大きく
するように製造されている。しかしながら、水晶振動子
の性能および価格に対する使用者側の要求は益々厳しく
なってきており、現在使用されている厚みすべり水高振
動子では、このような製造技術を駆使しても使用者の要
求を満たすことが困難となってきており、より一層R,
を小さくすることが望まれている。また、R,の温度特
性には、通常デイツプと呼ばれている非連続的な変化が
あり、このデイツプは水晶振動子の周波数の温度特性の
デイツプも関連があって補償するのが困難であるので、
R1や周波数の温度特性にデイツプがなくしかも安価な
水晶振動子の実現が強く望まれている。
本発明の目的は上述した従来の欠点を除去し、インピー
ダンスR1が小さく、したがってQ値が大きく、温度特
性にデイツプが少なく、かつ所望周波数で安定に振動す
る厚みすべり振動子を提供しようとするものである。
本発明の他の目的は、上述したような厚みすべり振動子
を容易かつ安価に製造することができる方法を提供しよ
うとするものである。
(課題を解決するための手段および作用)本発明は、水
晶板の表裏表面に電極を設けた厚みすべり水晶振動子に
おいて、水晶板の電極で覆われていない部分の少なくと
も一部の表面において、ほぼ透明となる程度まで生地結
晶が露出されていることを特徴とするものである。
このような本発明の水晶振動子によれば、水晶板の電極
で覆われていない部分の全部または一部の表面において
、生地の結晶を露出させてほぼ透明としているから、加
工による塑性変形層や残留応力層、2次割れなどを含む
加工変質層が殆ど除去されているので、上述した第4の
要因による抵抗を小さくすることができるとともに電極
が設けられていない部分のマスも小さ(なるので第1の
要因による抵抗も小さくすることができる。また、加工
変質層が除去されていることによってインピーダンスR
9や周波数の温度特性も安定したものとなり、従来のよ
うなデイツプが発生しなくなる。
また、本発明による水晶振動子の製造方法は、所望の形
状に切断した厚みすべり水晶板の表面の、電極が被着さ
れる部分を除いた部分の少なくとも一部分を化学的また
は物理的にエツチングして加工変質層がほぼ除去されて
ほぼ透明となる程度まで生地結晶を露出させることを特
徴とするものである。
このような本発明の製造方法における物理的または化学
的エツチングは加工変質層を生ずることがないものであ
るので、上述したように優れた特性を有する水晶振動子
を容易かつ安価に製造することができる (実施例) 第1図AおよびBは本発明の厚みすべり水晶振動子の一
例の構成を示すもので水晶板とその表裏の表面に被着し
た電極のみを示している。水晶板11は5.4 mmX
5.4 mmの正方形のもので、その厚さは0.166
 mmである。また、電極12および13の直径は3.
7 mmで、水晶板の周縁から0.7鵬内側に入ったと
ころまでは面取りされている。また、水晶板11の、電
極12’、 13を被着していない部分は弗化アンモニ
ウムで水晶の生地結晶すなわち自然な面が出る程度まで
エツチングしである。第1図Bの断面図は実際の寸法関
係を表わすものではなく、厚みを著しく拡大して示しで
ある。このような水晶振動子は基本波による10MHz
の振動周波数を有している。
第2図に示す曲線AおよびBは本例の水晶振動子の周波
数の変化率(Δf/f )およびインピーダンスR1の
温度特性を示すものであり、インピーダンスは7.4〜
8.8Ωと小さいとともに、インピーダンスの温度特性
にデイツプがなく、かつインピーダンスの温度による変
化も小さくなっている。また、周波数の温度に対する変
化率も+7ppm〜−10ppmと著しく小さくなって
いる。
第3図の曲線AおよびBは第1図に示す水晶振動子にお
いて水晶板の周辺部をエツチングしていない従来の水晶
振動子のインピーダンス及び周波数の変化率の温度特性
を示すものである。この従来の水晶振動子ではインピー
ダンスは25〜30Ωと本発明の水晶振動子に比べて約
3倍も大きいとともに温度に対して急激に変化するデイ
ツプが現れている。また、周波数の変化率も+15pp
m〜−15ppmと大きいばかりでなく、温度に対して
も滑らかでない。
第1図に示した本発明の水晶振動子の実施例では水晶板
11の外周部の面取りを施した部分についてだけエツチ
ングを行ったが、第4図Aに示すように面取りを実施し
た部分と電極12.13で覆われている部分との中間の
平坦部分の表面までエツチングしてもよいし、第4図B
やCに示すように、上記平坦部分の一部分を残してエツ
チングしたり、僅かであれば電極12.13の、外周縁
の下側の部分をもエツチングしてもよい。また、支持線
と電極とを接続するための電極リード部と接している水
晶板の部分もエツチングしてもよい。
水晶板の加工変質層あるいは加工歪み層を除去する程度
は、インピーダンスR0を小さくする効率との兼ねあい
であるが、最も好ましくは生地結晶あるいは水晶の自然
な面が出る程度にまで行うのが良いが、若干の加工度t
Nが残っていても差支えない場合もある。いずれの場合
でも水晶板のエツチングされた表面は肉眼で見るとほぼ
透明となっているが、顕微鏡で観察するとそれぞれ滑ら
かで浅い凹状の球面が多数並んだ構造となっている。
これに対し、エツチングをしていない部分の表面は肉眼
では乳白色で殆ど不透明となっており、顕微鏡で観察す
るときわめて小さな凹凸が多数存在している。本発明に
おいては、電極と接していない水晶板の外周部の表面状
態が電極と接している部分よりもより自然の結晶状態に
近いことが重要である。また、加工変質層が除去されて
いる程度はすべての部分において同じである必要はなく
、例えば第1図に示す実施例において、電極12.13
と面取り部分との間の平坦な部分をもエツチングする場
合において、この部分の加工変質層の除去される程度を
面取り部分の程度よりも少なくしてもよい。このように
加工変質層の除去程度を場所によって異ならせてもよい
次に、上述した本発明の水晶振動子を製造する本発明の
方法について説明する。
外径8.3 rtm、厚さ0 、26mm、基本波の振
動数が6.4M1lzの厚みすべり水晶振動板21を従
来技術にしたがって作製した。次に水晶板21の両面を
#4000の砥粒を以って研磨し、第5図Aに示すよう
に外周縁から1.4鴫まで内側に入ったところまで面取
りを行う。次に、水晶板21の表裏表面の中央に第5図
Bに示すように直径5mmの円形状にパラフィン層22
.23を塗布する。このようにパラフィン層22、23
を塗布した水晶板21を室温の弗化アンモニウム液中に
15時間浸漬し、パラフィン層によって被覆されていな
い水晶板21の表面をエツチングする。その後、パラフ
ィンM22.23をアルコールで除去した後、常法によ
り第5図Cに示すように直径5 mmの電極24.25
を表裏表面に蒸着する。
上述したようにして38個の水晶振動子を製造し、それ
らの25゛Cにおけるインピーダンスを測定したところ
その最小値は9.3Ω、最大値は17.0Ωで、平均で
は11.2Ωであった。これに対し、エツチングを施さ
ない従来の振動子40個の25“Cにおけるインピーダ
ンスは最小で20.lΩ、最大で44.6Ω、平均で2
666Ωであった。すなわち、本発明の水晶振動子では
インピーダンスを従来のものに比べて約172〜1/2
.6程度まで小さくすることができ、それだけQ値を大
きくすることができる。
次に、水晶振動子を大量生産するのに好適な本発明の製
造方法の他の例を説明する。先ず、表面を研磨し、面取
りを行った水晶板を数十〜数百枚積み重ねて積層体を形
成する。次に、この水晶板積層体を、加熱して溶かした
レジスト液、例えばパラフィン液中に浸漬する。この際
積層体の隣接する水晶板の間にもレジストが十分に浸入
するようにする。次に積層体をレジスト液から引き上げ
、冷却した後、外周をレジストを溶解させる成分を含浸
させた布で拭くと、水晶板の外周部のレジストが除去さ
れ中央部がレジストで接着された棒状の積層体が得られ
る。第6図にこのようにして水晶板21を積層して形成
した棒状の積層体31を示す。
次に、この積層体31を室温の弗化アンモニウム液中に
浸漬し、レジスト層32によって被覆されていない水晶
板21の外周部の表面をエツチングする。
エツチング後、積層体31をエツチング液から引き上げ
、洗浄、乾燥した後、レジスト層32を除去することに
より、外周部表面のみがエツチングされた水晶板が多数
得られる。このような方法によれば、多数の水晶板を同
時にエツチング処理することができるので製造はきわめ
て容易となるとともに製造コストも安価となる。
本発明においては、水晶板の外周部の表面に形成されて
いる加工変質層をエツチングにより除去するが、このエ
ツチング液としては水晶板をエツチングするために通常
用いられている弗化アンモニウム液を用いたが、他のエ
ツチング液を用いることもできる。また、エツチングに
対するレジストとしては、上述したパラフィンの他に密
ろう、松やに、これらの混合物などエツチング液に対す
るレジストとして作用するものであればどのような物を
用いてもよい。さらに、加工変質層を除去する方法とし
ては上述したエツチング液を用いる化学的エツチングの
他に、加工により変質層が導入されないものであれば物
理的、熱的、機械的方法を用いることもできる。例えば
物理的エツチングの例としては、IC製造工程でSi0
g膜を除去するために使用されるCF、ガスによるプラ
ズマエツチング法、すなわち活性ガスイオンエツチング
法を採用することもできる。
次に本発明の水晶振動子のインピーダンスがエツチング
時間によってどのように変化するのかを調べるために、
−辺が5.4 nunで厚さが0.20mmの正方形の
水晶板に直径3.7Mの電極を被着し、基本波の振動数
8.33MHz 、 3倍オーバートーンの振動数25
MH2の振動子をエツチング時間を種々変えて製作した
。いずれの水晶板においても機械的な面取りは行ってい
ないものを使用した。第1表はエツチング時間によるイ
ンピーダンスの変化を示すもので、基本波のインピーダ
ンスは96.4Ωから12.5Ωまで177以下に低下
した。また、3倍オーバートーンのインピーダンスも基
本波のものに比べて変化は小さいが、若干小さくなった
。このようにインピーダンスの値はエツチングの進行に
つれて小さくなるので、所望のインピーダンスに応じた
エツチング時間を適宜選択すればよいことがわかった。
表1 (発明の効果) 上述したように、本発明の水晶振動子はインピーダンス
が小さく、したがって電極面積を実用性ある範囲の大き
さとしてもQ(lIIを大きくすることができる。また
、インピーダンスの温度特性にデイツプが少ないので安
定に動作することになる。
さらに本発明による水晶振動子の製造方法によれば、高
価な製造設備が不要となるので製造コストも安価となる
。さらに、水晶板の電極を設ける振動面はエツチングし
ないので、初期加工の精度が狂うことはなく、振動数も
設計通りのものが容易に得られることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図AおよびBは本発明による水晶振動子の一実施例
の構成を示す平面図および断面図、第2図は同じくその
インピーダンスおよび周波数変化率の温度特性を示すグ
ラフ、 第3図は従来の水晶振動子の同様の温度特性を示すグラ
フ、 第4図A−Cは本発明による水晶振動子の他の実施例を
示す断面図、 第5図A−Cは本発明による水晶振動子の製造方法の一
実施例の順次の工程を示す断面図、第6図は本発明によ
る製造方法の他の実施例における水晶板積層体を示す図
、 第7図は水晶振動子の等価回路を示す図、第8図は従来
の水晶振動子の構造を示す図、第9図は厚みすべり振動
子の振動モードを示す図、 第10図は従来のコンベックス型水晶振動子を示す断面
図、 第11図は従来のベベリングを施した水晶振動子を示す
断面図である。 11゜ 21・・・水晶板 12゜ 13゜ 24゜ 25・・・電極 22゜ 23゜ 32・・・レジスト層 31・・・水晶板積層体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.水晶板の表裏表面に電極を設けた厚みすべり水晶振
    動子において、水晶板の電極で覆われていない部分の少
    なくとも一部の表面において、ほぼ透明となる程度まで
    生地結晶が露出されていることを特徴とする水晶振動子
  2. 2.厚みすべり水晶板の表面の、電極で覆われていない
    部分のほぼ全体の表面の加工変質層が、その他の部分の
    加工変質層よりも多く除去されていることを特徴とする
    水晶振動子。
  3. 3.所望の形状に切断された厚みすべり水晶板の周辺部
    が、加工変質層の導入が起こらないエッチング処理を受
    けていることを特徴とする水晶振動子。
  4. 4.所望の形状に切断した厚みすべり水晶板の表面の、
    電極が被着される部分を除いた部分の少なくとも一部分
    を化学的または物理的にエッチングして加工変質層がほ
    ぼ除去されてほぼ透明となる程度まで生地結晶を露出さ
    せることを特徴とする水晶振動子の製造方法。
  5. 5.所望の形状に切断した厚みすべり水晶板を多数枚積
    み重ねて化学的エッチングに対するマスクを形成するレ
    ジスト液中に浸漬して引き上げた後、各水晶板の周辺部
    のレジスト液を除去して中央部がレジストで接着された
    水晶板積層体を形成し、次にこの水晶板積層体をエッチ
    ング液中に浸漬して各水晶板の周辺部のみをほぼ生地結
    晶が露出されるまでエッチングし、次に水晶板積層体か
    ら水晶板を1枚ずつ分離した後、その表裏の表面に電極
    を被着することを特徴とする水晶振動子の製造方法。
JP17895088A 1988-07-20 1988-07-20 水晶振動子及びその製造方法 Pending JPH0230207A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17895088A JPH0230207A (ja) 1988-07-20 1988-07-20 水晶振動子及びその製造方法
DE19893910460 DE3910460C2 (de) 1988-07-20 1989-03-31 Verfahren zur Herstellung eines Dickenscherungs-Kristallresonators
US07/813,048 US5283496A (en) 1988-07-20 1991-12-23 Thickness shear crystal resonator and manufacturing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17895088A JPH0230207A (ja) 1988-07-20 1988-07-20 水晶振動子及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0230207A true JPH0230207A (ja) 1990-01-31

Family

ID=16057488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17895088A Pending JPH0230207A (ja) 1988-07-20 1988-07-20 水晶振動子及びその製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH0230207A (ja)
DE (1) DE3910460C2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6063301A (en) * 1997-08-01 2000-05-16 Seiko Epson Corporation Crystal display processing method and crystal wafer manufacturing method
JP5719056B1 (ja) * 2014-03-26 2015-05-13 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法
JP2015188217A (ja) * 2015-03-17 2015-10-29 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法
JP2015188218A (ja) * 2015-03-17 2015-10-29 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9944217B2 (en) 2013-02-11 2018-04-17 Ferno-Washington, Inc. Equipment mounting system

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54129995A (en) * 1978-03-31 1979-10-08 Jiekoo Kk Method of trimming crystal plate
JPS55153416A (en) * 1979-05-17 1980-11-29 Matsushima Kogyo Co Ltd Piezoelectric crystal oscillator and its manufacture
JPS5847316A (ja) * 1981-09-16 1983-03-19 Seikosha Co Ltd 厚みすべり圧電振動子およびその製法
JPS5890814A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Citizen Watch Co Ltd 小型プラノコンペツクス振動片とその加工方法
JPS58129815A (ja) * 1982-01-26 1983-08-03 Citizen Watch Co Ltd 小型水晶片の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5229908B2 (ja) * 1971-11-17 1977-08-04
JPS583602B2 (ja) * 1974-11-09 1983-01-22 セイコーエプソン株式会社 スイシヨウシンドウシ
US4053351A (en) * 1975-11-21 1977-10-11 Rockwell International Corporation Chemical machining of silica and glass
DE2752734B1 (de) * 1977-11-25 1979-04-26 Siemens Ag Als Obertonresonator verwendeter Dickenscherschwinger
DE2806435B1 (de) * 1978-02-15 1979-05-17 Siemens Ag Quarz-Resonator mit rechteckigem Umriss und randseitigen Abflachungen

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54129995A (en) * 1978-03-31 1979-10-08 Jiekoo Kk Method of trimming crystal plate
JPS55153416A (en) * 1979-05-17 1980-11-29 Matsushima Kogyo Co Ltd Piezoelectric crystal oscillator and its manufacture
JPS5847316A (ja) * 1981-09-16 1983-03-19 Seikosha Co Ltd 厚みすべり圧電振動子およびその製法
JPS5890814A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Citizen Watch Co Ltd 小型プラノコンペツクス振動片とその加工方法
JPS58129815A (ja) * 1982-01-26 1983-08-03 Citizen Watch Co Ltd 小型水晶片の製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6063301A (en) * 1997-08-01 2000-05-16 Seiko Epson Corporation Crystal display processing method and crystal wafer manufacturing method
JP5719056B1 (ja) * 2014-03-26 2015-05-13 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法
JP2015186239A (ja) * 2014-03-26 2015-10-22 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法
JP2015188217A (ja) * 2015-03-17 2015-10-29 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法
JP2015188218A (ja) * 2015-03-17 2015-10-29 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 圧電振動片、圧電振動子、および圧電振動片の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3910460A1 (de) 1990-01-25
DE3910460C2 (de) 1994-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6441539B1 (en) Piezoelectric resonator
US4418299A (en) Face-shear mode quartz crystal vibrators and method of manufacture
KR20160037898A (ko) 복합 기판 및 그 제조방법
KR860001788B1 (ko) 세라믹 공진기 및 세라믹 공진기를 사용한 세라믹 휠터
US7320164B2 (en) Method of manufacturing an electronic component
JP2973560B2 (ja) 水晶振動子の加工方法
JPH01157108A (ja) 圧電薄膜共振子
JPH01129517A (ja) 表面波共振素子の製造方法
JPH0435108A (ja) 超薄板多重モード水晶フィルタ素子
JP2014179774A (ja) 水晶振動片、および水晶振動子
JPH0230207A (ja) 水晶振動子及びその製造方法
CN117118388B (zh) 一种多层复合晶圆及薄膜弹性波器件
US5283496A (en) Thickness shear crystal resonator and manufacturing method therefor
JP4196641B2 (ja) 超薄板圧電デバイスとその製造方法
JPH04127709A (ja) Atカット水晶振動子
US4224547A (en) Adjusting the frequency of piezoelectric crystal devices via fracturing the crystal surface
JP2001223557A (ja) 水晶振動子の電極形成方法及び水晶振動子
CN210273999U (zh) 一种凸块结构的高频抛光石英晶片
JPS61218214A (ja) 圧電薄膜共振子
JP2864242B2 (ja) 水晶振動子
JPH0131728B2 (ja)
JPS63120508A (ja) 圧電共振子の製造方法
JP2002368573A (ja) 超薄板圧電振動子及びその製造方法
RU2107987C1 (ru) Пьезоэлектрический резонатор
JPS6127929B2 (ja)