DE2252484A1 - Verfahren zum ueberwachen und steuern der zusammensetzung eines niederschlagsfilms - Google Patents

Verfahren zum ueberwachen und steuern der zusammensetzung eines niederschlagsfilms

Info

Publication number
DE2252484A1
DE2252484A1 DE2252484A DE2252484A DE2252484A1 DE 2252484 A1 DE2252484 A1 DE 2252484A1 DE 2252484 A DE2252484 A DE 2252484A DE 2252484 A DE2252484 A DE 2252484A DE 2252484 A1 DE2252484 A1 DE 2252484A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
film
composition
evaporated
electrical potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE2252484A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dorothy Morse Hoffman
Donald Leibowitz
Iii Frederick James Tams
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RCA Corp
Original Assignee
RCA Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RCA Corp filed Critical RCA Corp
Publication of DE2252484A1 publication Critical patent/DE2252484A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/548Controlling the composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
DE2252484A 1971-11-04 1972-10-26 Verfahren zum ueberwachen und steuern der zusammensetzung eines niederschlagsfilms Pending DE2252484A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US19578471A 1971-11-04 1971-11-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2252484A1 true DE2252484A1 (de) 1973-05-10

Family

ID=22722795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2252484A Pending DE2252484A1 (de) 1971-11-04 1972-10-26 Verfahren zum ueberwachen und steuern der zusammensetzung eines niederschlagsfilms

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3756847A (ja)
JP (1) JPS5216467B2 (ja)
AU (1) AU464727B2 (ja)
BE (1) BE790940A (ja)
CA (1) CA975628A (ja)
CH (1) CH590935A5 (ja)
DE (1) DE2252484A1 (ja)
FR (1) FR2156413B1 (ja)
GB (1) GB1392865A (ja)
IT (1) IT975345B (ja)
NL (1) NL7214898A (ja)
SE (1) SE379059B (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3889019A (en) * 1969-03-13 1975-06-10 United Aircraft Corp Vapor randomization in vacuum deposition of coatings
JPS5137667B2 (ja) * 1971-11-13 1976-10-16
US4021277A (en) * 1972-12-07 1977-05-03 Sprague Electric Company Method of forming thin film resistor
JPS5181791A (ja) * 1975-01-13 1976-07-17 Osaka Koon Denki Kk Ionkapureeteinguhoho
US4416912A (en) * 1979-10-13 1983-11-22 The Gillette Company Formation of coatings on cutting edges
US4617192A (en) * 1982-12-21 1986-10-14 At&T Bell Laboratories Process for making optical INP devices
US4472453A (en) * 1983-07-01 1984-09-18 Rca Corporation Process for radiation free electron beam deposition
JPS60251273A (ja) * 1984-05-28 1985-12-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸発装置の蒸発量制御方法
US4842710A (en) * 1987-03-23 1989-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Method of making mixed nitride films with at least two metals
US5514229A (en) * 1993-11-24 1996-05-07 Ramot-University Authority For Applied Research And Industrial Development Ltd., Tel Aviv University Method of producing transparent and other electrically conductive materials
US7250196B1 (en) 1999-10-26 2007-07-31 Basic Resources, Inc. System and method for plasma plating
US6503379B1 (en) * 2000-05-22 2003-01-07 Basic Research, Inc. Mobile plating system and method
US6521104B1 (en) * 2000-05-22 2003-02-18 Basic Resources, Inc. Configurable vacuum system and method
US20030180450A1 (en) * 2002-03-22 2003-09-25 Kidd Jerry D. System and method for preventing breaker failure
US20050126497A1 (en) * 2003-09-30 2005-06-16 Kidd Jerry D. Platform assembly and method
US20080057195A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 United Technologies Corporation Non-line of sight coating technique

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5216467B2 (ja) 1977-05-10
GB1392865A (en) 1975-05-07
CH590935A5 (ja) 1977-08-31
AU464727B2 (en) 1975-09-04
CA975628A (en) 1975-10-07
SE379059B (ja) 1975-09-22
JPS4855670A (ja) 1973-08-04
US3756847A (en) 1973-09-04
IT975345B (it) 1974-07-20
FR2156413A1 (ja) 1973-05-25
AU4778272A (en) 1974-04-26
BE790940A (fr) 1973-03-01
FR2156413B1 (ja) 1976-05-21
NL7214898A (ja) 1973-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2252484A1 (de) Verfahren zum ueberwachen und steuern der zusammensetzung eines niederschlagsfilms
DE60131698T2 (de) Thermische Behandlungsvorrichtung und Verfahren
DE1521553B2 (de) Verfahren zum abscheiden von schichten
DE3136798A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur ausbildung von duennen oxydfilmschichten unter verwendung der reaktiven verdampfung
DE2140092B2 (de) Verfahren zur herstellung duenner schichten auf substraten
DE2300813A1 (de) Verfahren zum niederschlagen von stickstoffdotiertem beta-tantal sowie eine beta-tantal-duennschicht aufweisender artikel
DE1950126A1 (de) Verfahren zur Aufringung isolierender Filme und elektronische Bauelemente
DE1515300A1 (de) Vorrichtung zur Herstellung hochwertiger duenner Schichten durch Kathodenzerstaeubung
DE2432503B2 (de) Elektrolumineszenzelement
EP2425035A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur hochratenbeschichtung durch hochdruckverdampfen
EP0555518B1 (de) Verfahren für die Behandlung einer Oxidschicht
DE2220086C3 (de) Vorrichtung zur Aufbringung eines Materials
DE2951453A1 (de) Verfahren zur erzeugung eines films unter anwendung von glimmentladung
DE1521267A1 (de) Verfahren zur Herstellung von optisch durchlaessigen und elektrisch leitenden Schichten
DE3800680A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur beschichtung eines substrates
DE1521313A1 (de) Verfahren zum Herstellen duenner Schichten
DE1521272A1 (de) Verfahren zum Ausformen supraleitender Materialien
DE102007053076A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlung mittels polarisierbarer Kristalle
DE2063580A1 (de) Transparenter Leiter und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69133527T2 (de) Verfahren zur Herstellung Feld-Effekt-Transistoren mit isoliertem Gate
DE2148120B2 (de) Verfahren zum Niederschlagen von Glasfilmen
DE4221361C1 (en) Plasma-supported deposition of thin insulating layers on substrates - buy vaporising insulating material and ionising in plasma of low energetic arc discharge
DE2125080B2 (de) Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
DE4304613C1 (de) Verfahren zur Stabilisierung der Plasmaerzeugung mittels Elektronenstrahlverdampfer
DE3233087A1 (de) Verfahren zum herstellen von duennen metallschichten mittels aufdampfens