DE2249878A1 - Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat - Google Patents
Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstratInfo
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Description
Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat.
Die Herstellung von Leiterbahnen auf Keramiksubstraten erfolgt derzeit vorwiegend im Wege der Dickschichttechnik
unter Verwendung des Siebdrucks. Mit erhöhten Anforderungen an die Packungsdichte und die damit verbundene Verringerung
der Leiterbahnbreite und der Abstände der einzelnen Leiterbahnen unter einem Wert von etwa 0,1 mm ergeben sich hier
jedoch erhebliche Schwierigkeiten. Einerseits treten dann erhebliche Ausschußquoten auf, andererseits ist die hierbei
erforderliche Verwendung von Ganzmetallsiebdruckmasken sehr aufwendig.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein neues Verfahren zur Herstellung feinstrukturierter Leiterbahnen
auf Keramiksubstraten anzugeben, das die Herstellung außerordentlich geringer Leiterbahnbreiten und Leiterbahnabstände
erlaubt und nur einen geringen Aufwand erfordert.
Die Erfindung löst diese Aufgabe durch ein Verfahren zur Herstellung" feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat,
wobei erfindungsgemäß ein Prägewerkzeug, das die herzustellenden
Strukturen erhaben oder als Vertiefung trägt, auf ein ungebranntes Keramiksubstrat gepreßt wird, so daß auf
dem Keramiksubstrat ein Relief der LMterbahnstrukturen gebildet wird und vor oder nach dem Brennen des Keramiksubstrates
die die Leiterbahnstrukturen bildenden Teile des Keramiksubstrates metallisiert werden.
VPA 9/730/2004 Fc/The
-2-
816/1010
-2- "2249378
Gemäß einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die für die Leiterbahnstrukturen vorgesehenen
vertieften Teile des Keramiksubstrates nach dem Brennen mit einer pastenförmigen Metalldi'spersion ausgefüllt,
die sodann gesintert werden, wobei eventuell auf den erhabenen Teilen des Keramiksubstrates vorhandene Teile
der Metallschichten durch Schleifen, Sandstrahlen und dgl. entfernt werden.
Gemäß einer zweiten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die gesamte das Leiterbahnrelief tragende
Oberfläche des Keramiksubstrates ganzflächig mit einem dünnen Metallfilm durch Aufdampfen, Aufstäuben oder durch Aufspritzen
von flüssigen Metalldispersionen überzogen, sodann die erhabenen Teile des Keramiksubstrates mit einem abdeckenden
und gegen Galvanikbäder resistenten Lack überzogen und schließlich die Metallschicht in den vertieften Teilen des Keramik-Bubstrates
galvanisch verstärkt. Anschließend wird der Lack abgelöst und durch Ätzen oder Sandstrahlen die Metallisierung
auf den erhabenen Teilen entfernt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens wird die gesamte das Leiterbahnstrukturenrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates mit einer dünnen
Metallschicht überzogen, sodann auf den erhabenen Teilen ein Lötstoplack aufgebracht und die Metallisierungen in den vertieften
Teilen mit einer Zinnschicht überzogen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die mit dem Prägemuster versehene ungebrannte
Keramik an den vertieften Teilen metallisiert, wobei unerwünschte Metallniederschläge an den erhabenen Teilen sofort
nach dem Metallisieren entfernt werden.
VPA 9/730/2004 -3-
4098 16/ 101(J
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet man mit Vorteil ein Prägewerkzeug mit einer ebenen
Stempeloberfläche, in die das Leiterbahnmuster erhaben oder vertieft eingearbeitet ist. Dies kann auf photolithographischem
Weg und_durch Abätzen der unerwünschten Bereiche, im Wege der Galvanoplastik, durch Funkenerosion und ähnliche
Abtrags- bzw. Aufbauverfahren hergestellt werden.
Für die Herstellung des erfindungsgemäßen Werkzeuges ist nur ein einziger Bearbeitungsschritt erforderlich. Ferner
lassen sich die Leiterbahnstrukturen mit größerer Feinheit und Präzision als mit den bisher bekannten Techniken zur Herstellung
von Leiterbahnen herstellen.
Im folgenden werden an Hand der Figuren Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben.
Figur 1 zeigt das Einprägen der Leiterbahnstrukturen in die
grüne Keramik,
Figur 2 zeigt ein erstes Verfahren zur Metallisierung der
Figur 2 zeigt ein erstes Verfahren zur Metallisierung der
Leiterbahnstrukturen,
Figur -3 zeigt ein weiteres Verfahren zur Metallisierung der Leiterbahnstrukturen.
Figur -3 zeigt ein weiteres Verfahren zur Metallisierung der Leiterbahnstrukturen.
Gemäß Figur 1 wird ein Prägewerkzeug, das auf seiner Oberfläche erhaben die Leiterbahnstruktur 2 trägt, in ein ungebranntes
Keramiksubstrat 3 eingepreßt, wodurch in vertiefter Form die Leiterbahnstrukturen 4 erzeugt werden. Die Höhe der
erhabenen Bereiche 2 des Prägestempels 1 liegt zweckmäßig zwischen 10 /U und 100/U. Die Herstellung des Leiterbahnreliefs
auf dem Prägewerkzeug 1 kann z.B. durch Photolithographie und Abätzen der unerwünschten Bereiche erfolgen. Das Keramiksubstrat
3» in das die Leiterbahnstrukturen 4 eingeprägt sind, wird sodann etwa bei Temperaturen zwischen 1400 und
17000C gebrannt. Die Leiterbahnstrukturen bleiben dabei vollkommen
erhalten, jedoch tritt während des Brennens ein Schwund um ca. 15 # auf, der bei der Herstellung des Prägewerkzeuges
berücksichtigt werden nuß.
VPA 9/730/2004 -4-
409816/101Ü
Nach dem Brennen der Keramik erfolgt gemäß Figur 2 die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen 4 in der Weise,
daß eine pastöse Metalldispersion 6 mit einer Rakel 7 in die Vertiefungen 4 der Struktur hineingedrückt und diese
damit gefüllt werden. Auf den·erhabenen Teilen des Keramiksubstrates
3 verbleibende Metallreste werden nach dem anschließenden Sintern der Metallschicht durch Schleifen, Sandstrahlen,
Trommeln und dgl. entfernt.
Die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen kann jedoch gemäß
Figur 3 auch in der Weise erfolgen, daß zunächst die gesamte Oberfläche des Keramiksubstrates 3 durch Aufdampfen,
Aufstäuben oder durch Aufspritzen von flüssigen Metalldispersionen mit einem dünnen Metallfilm 8 überzogen wird. Dieser
Metallfilm 8 füllt die Vertiefungen 4 der Oberfläche des Keramiksubstrates 3 nicht vollständig aus. In einem folgenden
Arbeitsschritt wird dann auf die erhabenen Bereiche der Oberfläche des Keramiksubstrates 3 eine gegen Galvanikbäder resistente
Lackschicht 9 aufgebracht und sodann das Mehl in den vertieften Bereichen durch galvanische Abscheidung in Form
einer galvanischen Verstärkung 10 verstärkt. Die galvanische Verstärkung 10 kann unter dem Niveau der Oberfläche der erhabenen
Teile liegen, mit ihr gleich sein oder darüber hinaus ragen. Nach dem Entfernen des Lackes 9 werden die die erhabenen
Teile des Keramiksubstrates 3 überdeckenden Teile der Metallisierung 8, z.B. durch Ätzen oder Sandstrahlen entfernt.
Eine Abwandlung des an Hand der Figur 3 beschriebenen Verfahrens ist dadurch möglich, daß anstelle des galvanikfesten
Lackes 9 ein Lötstoplack aufgebracht wird und die Leiterbahnen mit einer Zinnschicht überzogen werden. Wird als Metallisierung
8 ein hochtemperaturbeständiges Metall aufgebracht, so können die Leiterbahnen auch in Form hochschmelzender Metalle hergestellt
werden. Die Schicht 8 auf den erhabenen Stellen muß , dann vor diesem Vorgang entfernt werden.
VPA 9/730/2004 -5-
409816V 1 01 U
Statt die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen erst nach dem Brennen der Keramik vorzunehmen, kann man die Metallisierung
auch unmittelbar nach dem Prägen des Leiterbahnmusters vornehmen. Bei Anwendung refraktärer Metalldispersionen z.B.
Molybdän, Uran, Platin kann das Sintern zugleich mit dem Brennen der Keramik erfolgen.
Durch Verwendung eines Preßwerkzeuges, das auf seiner Oberfläche
die Leiterbahnstrukturen vertieft trägt, können in der Keramik die Leiterbahnstrukturen auch erhaben erzeugt werden
und die Metallisierung kann dann durch Aufwalzen einer Metalldispersion oder nach Abdecken der freizuhaltenden tiefer
liegenden Bereiche durch Bedampfen, Aufstäuben, ggf. mit nachfolgender galvanischer Verstärkung erfolgen.
3 Figuren
6 Patentansprüche
VPA 9/730/2004 -6-
409816/1010
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat, dadurch gekennzeich
net , daß ein Prägewerkzeug, das die herzustellenden
Strukturen erhaben oder als Vertiefung trägt, auf ein ungebranntes Keramiksubstrat gepreßt wird, so daß auf dem Keramiksubstrat
ein Relief der Leiterbahnstrukturen gebildet wird und daß vor oder nach dem Brennen des Keramiksubstrates
die die Leiterbahnstrukturen bildenden Teile des Keramiksubstrates metallisiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net
, daß die für die Leiterbahnstrukturen vorgesehenen vertieften Teile des Keramiksubstrates nach dem Brennen mit
einer pastenförmigen Metalldispersion ausgefüllt werden, die sodann gesintert werden, wobei eventuell auf den erhabenen
Teilen des Keramiksubstrates vorhandene Teile der Metallschichten durch Schleifen, Sandstrahlen und dgl. entfernt
werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net , daß die gesamte das Leiterbahnrelief tragende Oberfläche
des Keramiksubstrates ganzflächig mit einem dünnen Metallfilm durch Aufdampfen, Aufstäuben oder durch Aufspritzen
von flüssigen Metalldispersionen überzogen wird, daß sodann die erhabenen Teile des Keramiksubstrates mit einem abdeckenden
und gegen Galvanikbäder resistenten Lack überzogen werden und daß sodann die Metallschicht in den vertieften Teilen
dee Keramiksubstrates galvanisch verstärkt wird, worauf durch Ätzen oder Sandstrahlen die Metallisierung auf den erhabenen
Teilen entfernt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net
, daß die gesamte das Leiterbahnstrukturenrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates mit einer dünnen Me-
VPA 9/730/2004 -7-
40981 6/ 1 01 Ü
tallschicht überzogen wird, daß sodann auf den erhabenen '
Teilen ein Lötstoplack aufgebracht wird und die Metallisierungen in den vertieften Teilen mit einer Zinnschicht
überzogen werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net , daß die mit dem Prägemuster versehene ungebrannte
Keramik an den vertieften Teilen metallisiert wird, wobei
' unerwünschte Metallniederschläge an den erhabenen Teilen
sofort nach dem Metallisieren entfernt werden.
6. Prägewerkzeug zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren der.vorhergehenden Ansprüche, g e k e η η
zeichnet durch eine ebene Stempeloberfläche, in die das Leiterbahnmuster erhaben oder vertieft eingearbeitet
ist.
VPA 9/730/2004
9-816/1010
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ID=5858760
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BE (1) | BE805951A (de) |
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