DE2249878A1 - Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat - Google Patents

Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat

Info

Publication number
DE2249878A1
DE2249878A1 DE19722249878 DE2249878A DE2249878A1 DE 2249878 A1 DE2249878 A1 DE 2249878A1 DE 19722249878 DE19722249878 DE 19722249878 DE 2249878 A DE2249878 A DE 2249878A DE 2249878 A1 DE2249878 A1 DE 2249878A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ceramic substrate
conductor track
parts
raised
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19722249878
Other languages
English (en)
Inventor
Friedrich Dipl Ing Krieger
Artur Weitze
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19722249878 priority Critical patent/DE2249878A1/de
Priority to GB3736273A priority patent/GB1404697A/en
Priority to FR7335874A priority patent/FR2203258A1/fr
Priority to LU68577D priority patent/LU68577A1/xx
Priority to IT2994973A priority patent/IT995738B/it
Priority to NL7313954A priority patent/NL7313954A/xx
Priority to BE136578A priority patent/BE805951A/xx
Priority to JP11433673A priority patent/JPS4973669A/ja
Publication of DE2249878A1 publication Critical patent/DE2249878A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/107Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by filling grooves in the support with conductive material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1258Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by using a substrate provided with a shape pattern, e.g. grooves, banks, resist pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0364Conductor shape
    • H05K2201/0376Flush conductors, i.e. flush with the surface of the printed circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09009Substrate related
    • H05K2201/09036Recesses or grooves in insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0104Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
    • H05K2203/0108Male die used for patterning, punching or transferring
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/02Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
    • H05K2203/025Abrading, e.g. grinding or sand blasting
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0502Patterning and lithography
    • H05K2203/054Continuous temporary metal layer over resist, e.g. for selective electroplating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/04Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching
    • H05K3/045Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching by making a conductive layer having a relief pattern, followed by abrading of the raised portions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/108Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by semi-additive methods; masks therefor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/14Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
    • H05K3/146By vapour deposition
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3452Solder masks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/388Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a metallic or inorganic thin film adhesion layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat.
Die Herstellung von Leiterbahnen auf Keramiksubstraten erfolgt derzeit vorwiegend im Wege der Dickschichttechnik unter Verwendung des Siebdrucks. Mit erhöhten Anforderungen an die Packungsdichte und die damit verbundene Verringerung der Leiterbahnbreite und der Abstände der einzelnen Leiterbahnen unter einem Wert von etwa 0,1 mm ergeben sich hier jedoch erhebliche Schwierigkeiten. Einerseits treten dann erhebliche Ausschußquoten auf, andererseits ist die hierbei erforderliche Verwendung von Ganzmetallsiebdruckmasken sehr aufwendig.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein neues Verfahren zur Herstellung feinstrukturierter Leiterbahnen auf Keramiksubstraten anzugeben, das die Herstellung außerordentlich geringer Leiterbahnbreiten und Leiterbahnabstände erlaubt und nur einen geringen Aufwand erfordert.
Die Erfindung löst diese Aufgabe durch ein Verfahren zur Herstellung" feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat, wobei erfindungsgemäß ein Prägewerkzeug, das die herzustellenden Strukturen erhaben oder als Vertiefung trägt, auf ein ungebranntes Keramiksubstrat gepreßt wird, so daß auf dem Keramiksubstrat ein Relief der LMterbahnstrukturen gebildet wird und vor oder nach dem Brennen des Keramiksubstrates die die Leiterbahnstrukturen bildenden Teile des Keramiksubstrates metallisiert werden.
VPA 9/730/2004 Fc/The
-2-
816/1010
-2- "2249378
Gemäß einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die für die Leiterbahnstrukturen vorgesehenen vertieften Teile des Keramiksubstrates nach dem Brennen mit einer pastenförmigen Metalldi'spersion ausgefüllt, die sodann gesintert werden, wobei eventuell auf den erhabenen Teilen des Keramiksubstrates vorhandene Teile der Metallschichten durch Schleifen, Sandstrahlen und dgl. entfernt werden.
Gemäß einer zweiten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die gesamte das Leiterbahnrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates ganzflächig mit einem dünnen Metallfilm durch Aufdampfen, Aufstäuben oder durch Aufspritzen von flüssigen Metalldispersionen überzogen, sodann die erhabenen Teile des Keramiksubstrates mit einem abdeckenden und gegen Galvanikbäder resistenten Lack überzogen und schließlich die Metallschicht in den vertieften Teilen des Keramik-Bubstrates galvanisch verstärkt. Anschließend wird der Lack abgelöst und durch Ätzen oder Sandstrahlen die Metallisierung auf den erhabenen Teilen entfernt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die gesamte das Leiterbahnstrukturenrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates mit einer dünnen Metallschicht überzogen, sodann auf den erhabenen Teilen ein Lötstoplack aufgebracht und die Metallisierungen in den vertieften Teilen mit einer Zinnschicht überzogen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die mit dem Prägemuster versehene ungebrannte Keramik an den vertieften Teilen metallisiert, wobei unerwünschte Metallniederschläge an den erhabenen Teilen sofort nach dem Metallisieren entfernt werden.
VPA 9/730/2004 -3-
4098 16/ 101(J
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet man mit Vorteil ein Prägewerkzeug mit einer ebenen Stempeloberfläche, in die das Leiterbahnmuster erhaben oder vertieft eingearbeitet ist. Dies kann auf photolithographischem Weg und_durch Abätzen der unerwünschten Bereiche, im Wege der Galvanoplastik, durch Funkenerosion und ähnliche Abtrags- bzw. Aufbauverfahren hergestellt werden.
Für die Herstellung des erfindungsgemäßen Werkzeuges ist nur ein einziger Bearbeitungsschritt erforderlich. Ferner lassen sich die Leiterbahnstrukturen mit größerer Feinheit und Präzision als mit den bisher bekannten Techniken zur Herstellung von Leiterbahnen herstellen.
Im folgenden werden an Hand der Figuren Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben.
Figur 1 zeigt das Einprägen der Leiterbahnstrukturen in die
grüne Keramik,
Figur 2 zeigt ein erstes Verfahren zur Metallisierung der
Leiterbahnstrukturen,
Figur -3 zeigt ein weiteres Verfahren zur Metallisierung der Leiterbahnstrukturen.
Gemäß Figur 1 wird ein Prägewerkzeug, das auf seiner Oberfläche erhaben die Leiterbahnstruktur 2 trägt, in ein ungebranntes Keramiksubstrat 3 eingepreßt, wodurch in vertiefter Form die Leiterbahnstrukturen 4 erzeugt werden. Die Höhe der erhabenen Bereiche 2 des Prägestempels 1 liegt zweckmäßig zwischen 10 /U und 100/U. Die Herstellung des Leiterbahnreliefs auf dem Prägewerkzeug 1 kann z.B. durch Photolithographie und Abätzen der unerwünschten Bereiche erfolgen. Das Keramiksubstrat 3» in das die Leiterbahnstrukturen 4 eingeprägt sind, wird sodann etwa bei Temperaturen zwischen 1400 und 17000C gebrannt. Die Leiterbahnstrukturen bleiben dabei vollkommen erhalten, jedoch tritt während des Brennens ein Schwund um ca. 15 # auf, der bei der Herstellung des Prägewerkzeuges berücksichtigt werden nuß.
VPA 9/730/2004 -4-
409816/101Ü
Nach dem Brennen der Keramik erfolgt gemäß Figur 2 die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen 4 in der Weise, daß eine pastöse Metalldispersion 6 mit einer Rakel 7 in die Vertiefungen 4 der Struktur hineingedrückt und diese damit gefüllt werden. Auf den·erhabenen Teilen des Keramiksubstrates 3 verbleibende Metallreste werden nach dem anschließenden Sintern der Metallschicht durch Schleifen, Sandstrahlen, Trommeln und dgl. entfernt.
Die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen kann jedoch gemäß Figur 3 auch in der Weise erfolgen, daß zunächst die gesamte Oberfläche des Keramiksubstrates 3 durch Aufdampfen, Aufstäuben oder durch Aufspritzen von flüssigen Metalldispersionen mit einem dünnen Metallfilm 8 überzogen wird. Dieser Metallfilm 8 füllt die Vertiefungen 4 der Oberfläche des Keramiksubstrates 3 nicht vollständig aus. In einem folgenden Arbeitsschritt wird dann auf die erhabenen Bereiche der Oberfläche des Keramiksubstrates 3 eine gegen Galvanikbäder resistente Lackschicht 9 aufgebracht und sodann das Mehl in den vertieften Bereichen durch galvanische Abscheidung in Form einer galvanischen Verstärkung 10 verstärkt. Die galvanische Verstärkung 10 kann unter dem Niveau der Oberfläche der erhabenen Teile liegen, mit ihr gleich sein oder darüber hinaus ragen. Nach dem Entfernen des Lackes 9 werden die die erhabenen Teile des Keramiksubstrates 3 überdeckenden Teile der Metallisierung 8, z.B. durch Ätzen oder Sandstrahlen entfernt.
Eine Abwandlung des an Hand der Figur 3 beschriebenen Verfahrens ist dadurch möglich, daß anstelle des galvanikfesten Lackes 9 ein Lötstoplack aufgebracht wird und die Leiterbahnen mit einer Zinnschicht überzogen werden. Wird als Metallisierung 8 ein hochtemperaturbeständiges Metall aufgebracht, so können die Leiterbahnen auch in Form hochschmelzender Metalle hergestellt werden. Die Schicht 8 auf den erhabenen Stellen muß , dann vor diesem Vorgang entfernt werden.
VPA 9/730/2004 -5-
409816V 1 01 U
Statt die Metallisierung der Leiterbahnstrukturen erst nach dem Brennen der Keramik vorzunehmen, kann man die Metallisierung auch unmittelbar nach dem Prägen des Leiterbahnmusters vornehmen. Bei Anwendung refraktärer Metalldispersionen z.B. Molybdän, Uran, Platin kann das Sintern zugleich mit dem Brennen der Keramik erfolgen.
Durch Verwendung eines Preßwerkzeuges, das auf seiner Oberfläche die Leiterbahnstrukturen vertieft trägt, können in der Keramik die Leiterbahnstrukturen auch erhaben erzeugt werden und die Metallisierung kann dann durch Aufwalzen einer Metalldispersion oder nach Abdecken der freizuhaltenden tiefer liegenden Bereiche durch Bedampfen, Aufstäuben, ggf. mit nachfolgender galvanischer Verstärkung erfolgen.
3 Figuren
6 Patentansprüche
VPA 9/730/2004 -6-
409816/1010

Claims (6)

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung feiner Leiterbahnstrukturen auf einem Keramiksubstrat, dadurch gekennzeich net , daß ein Prägewerkzeug, das die herzustellenden Strukturen erhaben oder als Vertiefung trägt, auf ein ungebranntes Keramiksubstrat gepreßt wird, so daß auf dem Keramiksubstrat ein Relief der Leiterbahnstrukturen gebildet wird und daß vor oder nach dem Brennen des Keramiksubstrates die die Leiterbahnstrukturen bildenden Teile des Keramiksubstrates metallisiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net , daß die für die Leiterbahnstrukturen vorgesehenen vertieften Teile des Keramiksubstrates nach dem Brennen mit einer pastenförmigen Metalldispersion ausgefüllt werden, die sodann gesintert werden, wobei eventuell auf den erhabenen Teilen des Keramiksubstrates vorhandene Teile der Metallschichten durch Schleifen, Sandstrahlen und dgl. entfernt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net , daß die gesamte das Leiterbahnrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates ganzflächig mit einem dünnen Metallfilm durch Aufdampfen, Aufstäuben oder durch Aufspritzen von flüssigen Metalldispersionen überzogen wird, daß sodann die erhabenen Teile des Keramiksubstrates mit einem abdeckenden und gegen Galvanikbäder resistenten Lack überzogen werden und daß sodann die Metallschicht in den vertieften Teilen dee Keramiksubstrates galvanisch verstärkt wird, worauf durch Ätzen oder Sandstrahlen die Metallisierung auf den erhabenen Teilen entfernt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net , daß die gesamte das Leiterbahnstrukturenrelief tragende Oberfläche des Keramiksubstrates mit einer dünnen Me-
VPA 9/730/2004 -7-
40981 6/ 1 01 Ü
tallschicht überzogen wird, daß sodann auf den erhabenen ' Teilen ein Lötstoplack aufgebracht wird und die Metallisierungen in den vertieften Teilen mit einer Zinnschicht überzogen werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net , daß die mit dem Prägemuster versehene ungebrannte Keramik an den vertieften Teilen metallisiert wird, wobei
' unerwünschte Metallniederschläge an den erhabenen Teilen sofort nach dem Metallisieren entfernt werden.
6. Prägewerkzeug zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren der.vorhergehenden Ansprüche, g e k e η η zeichnet durch eine ebene Stempeloberfläche, in die das Leiterbahnmuster erhaben oder vertieft eingearbeitet ist.
VPA 9/730/2004
9-816/1010
Leerseite
DE19722249878 1972-10-11 1972-10-11 Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat Pending DE2249878A1 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19722249878 DE2249878A1 (de) 1972-10-11 1972-10-11 Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat
GB3736273A GB1404697A (en) 1972-10-11 1973-08-07 Production of fine conductor path structures on ceramic substrates
FR7335874A FR2203258A1 (de) 1972-10-11 1973-10-08
LU68577D LU68577A1 (de) 1972-10-11 1973-10-09
IT2994973A IT995738B (it) 1972-10-11 1973-10-10 Procedimento per formare fini strutture di piste conduttrici su un substrato di ceramica
NL7313954A NL7313954A (de) 1972-10-11 1973-10-10
BE136578A BE805951A (fr) 1972-10-11 1973-10-11 Procede pour realiser des structures fines de voies conductrices sur un substrat en ceramique
JP11433673A JPS4973669A (de) 1972-10-11 1973-10-11

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19722249878 DE2249878A1 (de) 1972-10-11 1972-10-11 Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2249878A1 true DE2249878A1 (de) 1974-04-18

Family

ID=5858760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19722249878 Pending DE2249878A1 (de) 1972-10-11 1972-10-11 Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPS4973669A (de)
BE (1) BE805951A (de)
DE (1) DE2249878A1 (de)
FR (1) FR2203258A1 (de)
GB (1) GB1404697A (de)
IT (1) IT995738B (de)
LU (1) LU68577A1 (de)
NL (1) NL7313954A (de)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3023905A1 (de) * 1980-06-26 1982-01-14 Adam Opel AG, 6090 Rüsselsheim Armaturentafel fuer fahrzeuge, insbesondere kraftfahrzeuge, und verfahren zur herstellung einer solchen
EP0138671A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138673A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138672A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0146241A2 (de) * 1983-12-19 1985-06-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Leiterplatte
DE3507341A1 (de) * 1982-12-06 1986-09-04 Fine Particle Technology Corp., Camarillo, Calif. Verfahren zum bilden von elektrisch-leitenden bahnen auf einem substrat
EP0289137A2 (de) * 1987-03-27 1988-11-02 Fujitsu Limited Herstellung von Komponenten in gedruckter Schaltungstechnik
DE3821121A1 (de) * 1988-06-23 1990-02-08 Ullmann Ulo Werk Verfahren zur herstellung von kontakttraegerkoerpern
EP1360645A1 (de) * 2001-02-02 2003-11-12 SCHLUMBERGER Systèmes Tragbares objekt mit einem chip und einer spule

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55165698A (en) * 1979-06-11 1980-12-24 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Multilayer integrated circuit board
JPS5785289A (en) * 1980-11-17 1982-05-27 Fujitsu Ltd Method of producing ceramic printed board
GB2124037B (en) * 1982-07-19 1986-02-26 Gen Electric Co Plc Methods of forming patterns on substrates
US4604799A (en) * 1982-09-03 1986-08-12 John Fluke Mfg. Co., Inc. Method of making molded circuit board
US5094811A (en) * 1983-09-21 1992-03-10 Allied-Signal Method of making a printed circuit board
US4614837A (en) * 1985-04-03 1986-09-30 Allied Corporation Method for placing electrically conductive paths on a substrate
GB2212332A (en) * 1987-11-11 1989-07-19 Gen Electric Co Plc Fabrication of electrical circuits
GB2374205B (en) 2001-04-04 2004-12-22 Rolls Royce Plc An electrical conductor winding and a method of manufacturing an electrical conductor winding
JP2006066637A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Murata Mfg Co Ltd セラミック多層基板の製造方法およびそれに用いられる押し型
CN109974305B (zh) * 2017-12-28 2022-09-16 武汉海尔热水器有限公司 一种外壳及电热水器
CN112643899A (zh) * 2020-12-16 2021-04-13 南京缔邦新材料科技有限公司 一种陶瓷覆铜板的细电路切割方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3023905A1 (de) * 1980-06-26 1982-01-14 Adam Opel AG, 6090 Rüsselsheim Armaturentafel fuer fahrzeuge, insbesondere kraftfahrzeuge, und verfahren zur herstellung einer solchen
DE3507341A1 (de) * 1982-12-06 1986-09-04 Fine Particle Technology Corp., Camarillo, Calif. Verfahren zum bilden von elektrisch-leitenden bahnen auf einem substrat
EP0138673A3 (de) * 1983-09-21 1986-07-30 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138672A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138672A3 (de) * 1983-09-21 1986-07-30 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138673A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138671A3 (de) * 1983-09-21 1986-08-06 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0138671A2 (de) * 1983-09-21 1985-04-24 Allied Corporation Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
EP0146241A2 (de) * 1983-12-19 1985-06-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Leiterplatte
EP0146241A3 (en) * 1983-12-19 1987-01-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Circuit board
EP0289137A2 (de) * 1987-03-27 1988-11-02 Fujitsu Limited Herstellung von Komponenten in gedruckter Schaltungstechnik
EP0289137A3 (en) * 1987-03-27 1990-07-25 Fujitsu Limited Manufacturing printed-circuit components
DE3821121A1 (de) * 1988-06-23 1990-02-08 Ullmann Ulo Werk Verfahren zur herstellung von kontakttraegerkoerpern
EP1360645A1 (de) * 2001-02-02 2003-11-12 SCHLUMBERGER Systèmes Tragbares objekt mit einem chip und einer spule

Also Published As

Publication number Publication date
GB1404697A (en) 1975-09-03
JPS4973669A (de) 1974-07-16
NL7313954A (de) 1974-04-16
IT995738B (it) 1975-11-20
BE805951A (fr) 1974-02-01
LU68577A1 (de) 1973-12-14
FR2203258A1 (de) 1974-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2249878A1 (de) Verfahren zur herstellung feiner leiterbahnstrukturen auf einem keramiksubstrat
DE2424338C2 (de) Verfahren zum Aufbringen von Mustern dünner Filme auf einem Substrat
EP0361192B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten
EP0361193B1 (de) Leiterplatte mit einem spritzgegossenen Substrat
EP0016925B1 (de) Verfahren zum Aufbringen von Metall auf Metallmuster auf dielektrischen Substraten
DE2451485A1 (de) Verfahren zur metallisierung von ungebranntem keramikmaterial
DE1925760B2 (de) Verfahren zum herstellen gemusterter duenner schichten aus metall oder metallverbindungen durch vakuumaufdampfen oder kathodenzerstaeuben
DE1924775A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte
DE2432719B2 (de) Verfahren zum erzeugen von feinen strukturen aus aufdampfbaren materialien auf einer unterlage und anwendung des verfahrens
DE2147573C2 (de) Verfahren zur Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen
DE4131065A1 (de) Verfahren zur herstellung von leiterplatten
DE2804602C2 (de) Verfahren zum Aufbringen einer elektrisch isolierenden Schicht auf ein Substrat für eine integrierte Schaltung
DE2710860C3 (de) Maskenbildender Belag für die Aufbringung von dielektrischen Schichten auf Substraten durch Vakuumaufdampfung oder Kathodenzerstäubung
DE1765790A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines integrierten Widerstands
DE2014138C3 (de) Verfahren zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten
DE2310736A1 (de) Verfahren zum ausbessern defekter metallmuster
DE2015841A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Metallschichten auf einem Grundkörper
DE2739058C3 (de) Mehrlagige Maske für Sputter-Lochmaskensysteme
DE1696138B1 (de) Aetzloesung fuer duenne aluminiumschichten und verwendung der aetzloesung
DE2201129C3 (de) Verfahren und Maske zur Herstellung von strukturierten Schichten
DE2209178B2 (de) Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE2253196A1 (de) Verfahren zum partiellen galvanisieren eines nicht- oder halbleitenden stoffes
DE667460C (de) Mutterplatte zur Herstellung von Sieben oder anderen durchlochten Metallkoerpern
DE2854045A1 (de) Erzeugung spezifischer fotolackstrukturen fuer die abhebetechnik auf glas
DE2737582A1 (de) Verfahren zur herstellung gedruckter schaltungen