DE2451485A1 - Verfahren zur metallisierung von ungebranntem keramikmaterial - Google Patents

Verfahren zur metallisierung von ungebranntem keramikmaterial

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Description

Verfahren zur Metallisierung von ungebranntem Keramikmaterial
Die Erfindung betrifft ein neuartiges Verfahren zum Metallisieren von ungebranntem Keramikmaterial. Bisher ist vorgeschlagen worden, zur Metallisierung von ungebranntem Keramikmaterial eine Metallmaske zu verwenden. Eine Verbesserung gegenüber der Anwendung einer Metallmaske besteht in einem bereits vorgeschlagenen Verfahren, in dem ein organisches Material auf der Oberfläche des ungebrannten keramischen Materials aufgebracht wird, worauf dann durch das organische Material hindurch in dem ungebrannten keramischen Material vorbestimmte Muster oder Öffnungen definiert werden. Die sich daraus ergebenden Kanäle und Bohrungen werden mit einer Metallpaste ausgefüllt und nach Aufbringen der Metallpaste wird die organische Maske durch Abziehen entfernt. Dieses Verfahren ist in der US-Patentanmeldung der Anmelderin mit dem Aktenzeichen 371 925 vom 20. Juni 1973 offenbart.
Dieses Verfahren hat jedoch zwei typische Eigenschaften, die manchmal unerwünscht sind. Bei einer ablösbaren Maske muß oft die Maske vor dem Laminieren und Brennen von dem ungebrannten keramischen Material körperlich abgezogen werden. Dieser Verfahrens sch ritt kann sehr schwierig durchzuführen sein, wenn bestimmte Formen in der Maske hergestellt sind. Wenn beispielsweise ein Kreis oder eine kleine ringförmige Öffnung in dem Maskenmaterial hergestellt ist, dann ergibt ein Abziehen der zusammenhängenden Teile der Maske einen kleinen Teil der Maske, der immer noch auf der ungebrannten Keramik verbleibt. Bei Mustern extrem hoher Dichte hat dieser zusätzliche Verfahrensschritt für das Abziehen
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kleiner verbliebener Teile der Maske den Nachteil, schwierig und zeitaufwendig zu sein, insbesondere dann, wenn das in verschiedenen Bereichen der Maske vorkommt.
Aufgabe der Erfindung ist es somit, ein neuartiges Verfahren- zur Herstellung metallisierter Verbindungsleitungsmuster auf einem ungebrannten Keramikmaterial zu schaffen, welches nicht nur diese Nachteile vermeidet, sondern auch noch eine wesentlich präzisere Definition der einzelnen Leitungszüge ermöglicht. Insbesondere soll dabei ein vertieft angeordnetes Muster metallisierter Verbindungsleitungen für ungebranntes keramisches Material mit verbesserter Qualität geschaffen werden, das sich insbesondere und vorzugsweise für die Herstellung mehrschichtiger und/oder einschichtiger keramischer Verbindungsschaltungen eignet.
Von besonderem Vorteil wäre es dabei, wenn bei dem neuen Verfahren ein chemisches Ätzen wegfiele, so daß sich auch eine Qualitätsverbesserung dadurch ergäbe, daß Verunreinigungen durch chemisches Ätzen vermieden werden.
Ferner soll es durch die Erfindung ermöglicht werden, eine in Vertiefungen liegende Metallisierung auf einem ungebrannten keramischen Material herzustellen, so daß bei der Bildung komplizierter metallisierter Leitungszüge hoher Auflösung keine Maskenausrichtung erforderlich ist.
Dieses neue Verfahren für die Metallisierung von ungebranntem keramischen Material ist außergewöhnlich genau und eignet sich für den metallischen Niederschlag von sehr feinen Leitungszügen und ist außerdem für thermische Materialverarbeitung mit Laserstrahlen oder Elektronenstrahlen geeignet.
Dabei läßt sich die Metallisierung auf dem ungebrannten keramischen Material vorzugsweise sowohl mit Naßverfahren als auch mit trockenen Niederschlagsver fahren durchführen. Insbesondere können durch das neue Verfahren auch durchgehende Bohrungen und Vertiefungen in dem ungebrannten keramischen Material metallisiert werden, ohne daß nach dem Niederschlag des Metalls oder vor dem Laminieren und Brennen eine Maske abgezogen werden muß.
Mit dem neuen Verfahren ist es nicht nur nicht mehr erforderlich, während der Fl 973 OHH
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Metallisierung einer einzigen Materialschicht die Maske abzuziehen, sondern man kann auch Strukturen ausgezeichneter Qualität bei einem nachfolgenden Laminierverfahren erzielen.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird diese Aufgabe bei einem Verfahren zum Metallisieren von Vertiefungen und durchgehenden Bohrungen in einem ungebrannten keramischen Material mit nachfolgender Laminierung dieses Materials bei der Bildung von mehrschichtigen keramischen Packungen dadurch gelöst, daß man zunächst auf dem ungebrannten keramischen Material ein maskenbildendes Material aufbringt, das durch das anschließend niederzuschlagende Metall nicht benetzbar und das während des nachfolgenden Aufheizens verflüchtigbar ist, so daß die Notwendigkeit, die Maske durch Ätzen oder Abziehen zu entfernen, entfällt. Außerdem besitzt das die Maske bildende Material thermisch plastische Eigenschaften, die ein Laminieren einer Anzahl von mit metallischen Leitungen versehenen, ungebrannten Keramikmaterialien bei einer Temperatur unterstützt, die unterhalb der Verflüchtigungstemperatur liegt.
Die Erfindung wird nunmehr anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der einzigen Figur beschrieben, in der die einzelnen Verfahrensschritte der Erfindung abgegebenen sind.
Im Schritt 10 wird ein maskenbiidendes Material 11 auf ein Trägermaterial 12, wie z.B. Polyäthylenterephthalatpolyester, wie z.B. durch Tauchen, Sprühen oder Aufwalzen aufgebracht. In der bevorzugten Ausführungsform besteht das maskenbildende Material 11 aus einem Polyvinylalkohol oder einer Polyamidver- \ bindung. - ■ ;
Anschließend wird im Schritt 14 ein Brei 13 aus keramischem Meterial, der an sich in üblicher Weise hergestellt sein kann, über das maskenbildende Material j
11 gegossen, das zunächst an dem organischen Trägermaterial, nämjich dem j
Polyestermaterial 12, anhaftet. Die Zusammensetzung und Zubereitung des Keramik-j breis 13 für die bevorzugte Ausführungsform ist beispielsweise in einem Aufsatz "A Fabrication Technique For Multi-Layer Ceramic Modules" von H. D. Kaiser |
und anderen in "Solid State Technology" vom Mai 1972, Seiten 35 bis 40 beschrieben. Selbstverständlich können ohne Abweichen vom Erfindungsgedanken auch andere keramische Zusammensetzungen verwendet werden, solange die Randbe-
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dingungen der vorliegenden Erfindung eingehalten werden. Nach Trocknen des keramischen Materials wird das organische Polyestermaterial 12 abgezogen, so daß das maskenbildende Material 11, das wiederum eine Polyvinylalkohol oder eine Polyamidschicht sein kann, an dem trockenen ungebrannten keramischen Material 13 anhaftet.
Im Schritt 16 wird das ungebrannte keramische Material durch geeignete Verfahren maschinell bearbeitet. In der bevorzugten Ausführungsform wird ein Elektronenstrahl oder ein Laserstrahl zur mechanischer Bearbeitung verwendet und es werden durch das Maskenmaterial hindurch die durchgehenden Bohrungen 15 und die zu metallisierenden Vertiefungen 17 hergestellt.
Andererseits kann das maskenbildende Material 11, wie z.B. ein Polyvinylalkohol oder ein Polyamidharz auch auf ein bereits hergestelltes ungebranntes keramisches Material aufgebracht werden, wie dies durch die punktierte Linie 18 angezeigt ist. In diesem zweiten Verfahren wurde die thermische, mechanische Bearbeitung nach dem unmittelbaren Aufbringen des maskenbildenden Materials auf dem ungebrannten keramischen Materia! durchgeführt, und es wäre hierbei nicht notwendig, das maskenbildende Material auf einer Folie aus Polyäthylen aufzubringen und diese vor der mechanischen Bearbeitung abzuziehen. Selbstverständlich sind auch andere Verfahren zum mechanischen Bearbeiten des ungebrannten keramischen Materials zur Bildung von durchgehenden Bohrungen und vertieften Linienzügen für gewisse Anwendungsgebiete,'wie z.B. Stanzen oder Fräsen in gleicher Weise anwendbar.
Anschließend wird im Schritt 20 eine elektrisch leitende Metalipaste 21 in die durchgehenden Bohrungen und in die Vertiefungen, beispielsweise mit Hilfe eines Spritzkopfes, durch Aufrollen oder Einreiben aufgebracht. In der bevorzugten Ausführungsform wird eine elektrisch leitende Paste mit einem Bindemittel benutzt und die einzige Randbedingung besteht darin, daß das Bindemittel das Maskenmaterial 11 nicht auflösen darf, das die durchgehenden Bohrungen und die Vertiefungen in ihren Abmessungen bestimmt. Eine flüssige oder puiverförmige leitende Paste kann ebenfalls bei bestimmten Anwendungsgebieten eingesetzt werden und es besteht keine Beschränkung auf eine bestimmte elektrisch leitende Paste.
Mit dem hier verwendeten keramischen Brei und dem in der bevorzugten Ausfüh-Fl 973 044
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rungsform der Erfindung verwendeten Bindemittel ist ein maskenbildendes Material aus Polyvinylalkohol oder Polyamid vorzuziehen. Die wesentlichen Eigen-
! schäften des maskenbildenden Materials sind: .
j 1. Es darf durch die im Schritt 20 benutzte elektrisch leitende Paste nicht benetzbar sein und
2. Es muß während einem nachfolgenden Aufheizschritt verflüchtigbar sein. Außerdem sollte das maskenbildende Material wünschenswerterweise, jedoch nicht so kritisch wie die beiden anderen Bedingungen, einen gewissen Grad thermischer Verformbarkeit aufweisen, insbesondere dann, wenn die elektrisch leitenden, aus ungebranntem Material bestehenden Schichten zu Schichtungen laminiert zusammengefaßt und in mehrschichtigen keramischen Packungen verwendet werden sollen.
Wenn beispielsweise im Schritt 22 die mit Metall ausgefüllten, einzelnen ungebrannten keramischen Folien auf Sinter- oder Brenntemperatur aufgeheizt werden, dann erreicht das aus Polyvinylalkohol oder Polyamid bestehende Material kurz vor der Verflüchtigung einen thermoplastischen Zustand und unterstützt die Bindung zwischen einer Anzahl von aus thermoplastischen Material bestehenden Plättchen zu einem einheitlichen Körper. Bei weiter zunehmender Temperatur verflüchtigt sich auch das maskenbildende Material Π und wird dadurch von der Mehrschichtstruktur entfernt, ohne daß dabei ein Abziehen, Abschälen oder ein anderes körperliches Entfernen dieser Schicht erforderlich ist, so daß sich im Hinblick auf die elektrischen oder physikalischen Eigenschaften keine Beeinflussung der geschichteten Packung ergibt. Bei Schritt 22 ist die Struktur nach Aufheizen und Verflüchtigen der Maskenschicht nur für ein einziges Plättchen dargestellt, wobei das Verfahren für eine Anzahl übereinandergestapelter Plättchen natürlich genauso abläuft.
In der bevorzugten Ausführungsform wird eine Molybdänpaste benutzt. Für bestimmte Anwendungsgebiete kann es jedoch erwünscht sein, selektiv auch nichtleitende Materialien in der gleichen Weise aufzubringen, wie im vorliegenden Fall metallisierte Muster aufgebracht werden.
Natürlich ist es wichtig, daß das maskenbildende Material in.der Metallzusammensetzung und den Bindemitteln unlöslich ist, so daß die vorbestimmten Muster nicht beschädigt oder zerstört werden, wobei diese Eigenschaft sich aus dem Ausdruck
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"nicht benetzbar" ergibt. Innerhalb der oben angegebenen Randbedingungen lassen sich auch Polyvinylchlorid und viele andere Stoffe als Maskenmaterial einsetzen. Für Mehrschichtenpackungen erreicht das ungebrannte keramische Hochtemperaturmaterial, das in der vorliegenden Erfindung zur Unterstützung der Laminatbildung eingesetzt wird, bei einer Temperatur um etwa 80 0C einen thermoplastischen Zustand und verflüchtigt sich bei einer Temperatur im Bereich zwischen 400 und 500 C, während das Brennen der aus ungebranntem keramischen Material bestehenden Plättchen im Bereich zwischen 1500 und 1600 0C stattfindet.
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Claims (1)

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    PATENTANSPRÜCHE
    Verfahren zum Metallisieren von aus ungebranntem keramischen Material bestehenden Plättchen,
    gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
    - Niederschlagen eines Materials auf einem aus ungebranntem keramischen Material bestehenden Plättchen, wobei das niederzuschlagende Material durch eine Verbindung nicht benetzbar ist, die anschließend zur Bildung von Mustern auf dem ungebrannten keramischen Plättchen benutzt wird, und bei einer vorbestimmten Temperatur verflüchtigbar ist,
    - Niederschlagen dieser Verbindung über dem ungebrannten keramischen Plättchen, so daß sich diese Verbindung in Vertiefungen und durchgehenden Bohrungen niederschlägt, die durch das nichtbenetzbare Material nicht bedeckt sind und
    - Aufheizen des ungebrannten keramischen Plättchens zur Verflüchtigung und Beseitigung des nichtbenetzbaren Materials.
    Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtbenetzbare Material eine elektrisch leitende Verbindung ist.
    |3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Material
    der nichtbenetzbaren Schicht bei einer unterhalb der Verflüchtigungs- ; temperatur liegenden Temperatur thermoplastisch ist.
    4. Verfahren nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
    - Laminieren einer Anzahl metallisierter, ungebrannter keramischer ι Plättchen übereinander und
    - Aufheizen der geschichteten Plättchen, so daß zunächst das nichtbenetzbare Material in einen thermoplastischen Zustand übergeht und die Anzahl der Plättchen aneinander bindet und daß bei weiterem Aufheizeh der Anzahl übereinandergeschichteter, ungebrannter Plättchen das nichtbenetzbare Material sich verflüchtigt^ so daß eine Packung aus mehren Schichten aus Keramikmaterial mit elektrischen Ver-
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    bindungsleitungen zur Verbindung von integrierte Halbleiterschaltungen tragenden Halbleiterplättche gebildet wird.
    Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß für die elektrisch leitende Verbindung eine metallhaltige Verbindung mit Bindemitteln ausgewählt wird, die eine metallhaltige Paste bilden und daß das nichtbenetzbare Material so ausgewählt wird, daß.es in den Bindemitteln unlöslich ist.
    Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als nichtbenetzbares Material ein Polyvinylalkohol verwendet wird.
    ! 7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als nichtbe-
    netzbares Material ein Polyamidmaterial benutzt wird.
    i
    8. Verfahren zum Metallisieren ungebrannter keramischer Plättchen nach
    Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl von integrierte Schaltungen aufweisender Halbleiterplättchen mit der aus mehreren Schichten bestehenden metallisierten Packung verbunden werden.
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DE19742451485 1973-12-13 1974-10-30 Verfahren zur metallisierung von ungebranntem keramikmaterial Withdrawn DE2451485A1 (de)

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GB (1) GB1455938A (de)
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3134918A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka "elektrode auf waermebestaendigem isolierendem substrat und verfahren zur herstellung derselben"
US5368911A (en) * 1992-03-27 1994-11-29 General Electric Company Method for fabrication of composite materials and composite

Families Citing this family (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4039338A (en) * 1972-12-29 1977-08-02 International Business Machines Corporation Accelerated sintering for a green ceramic sheet
CH575166A5 (de) * 1974-05-20 1976-04-30 Suisse Horlogerie
FR2296988A1 (fr) * 1974-12-31 1976-07-30 Ibm France Perfectionnement aux procedes de fabrication d'un module de circuits multicouches en ceramique
JPS5328266A (en) * 1976-08-13 1978-03-16 Fujitsu Ltd Method of producing multilayer ceramic substrate
US4189509A (en) * 1976-09-09 1980-02-19 Texas Instruments Incorporated Resistor device and method of making
US4169001A (en) * 1976-10-18 1979-09-25 International Business Machines Corporation Method of making multilayer module having optical channels therein
US4289719A (en) * 1976-12-10 1981-09-15 International Business Machines Corporation Method of making a multi-layer ceramic substrate
US4117588A (en) * 1977-01-24 1978-10-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of manufacturing three dimensional integrated circuits
US4127680A (en) * 1977-02-03 1978-11-28 Sprague Electric Company Making a capacitor employing a temporary solid mask in the porous anode
US4206254A (en) * 1979-02-28 1980-06-03 International Business Machines Corporation Method of selectively depositing metal on a ceramic substrate with a metallurgy pattern
JPS55138294A (en) * 1979-04-11 1980-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of forming through hole connector
JPS55165698A (en) * 1979-06-11 1980-12-24 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Multilayer integrated circuit board
US4343833A (en) * 1979-06-26 1982-08-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing thermal head
GB2124037B (en) * 1982-07-19 1986-02-26 Gen Electric Co Plc Methods of forming patterns on substrates
US4604799A (en) * 1982-09-03 1986-08-12 John Fluke Mfg. Co., Inc. Method of making molded circuit board
US4461077A (en) * 1982-10-04 1984-07-24 General Electric Ceramics, Inc. Method for preparing ceramic articles having raised, selectively metallized electrical contact points
US4586972A (en) * 1983-04-05 1986-05-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for making multilayer ceramic body
US4504340A (en) * 1983-07-26 1985-03-12 International Business Machines Corporation Material and process set for fabrication of molecular matrix print head
US4546065A (en) * 1983-08-08 1985-10-08 International Business Machines Corporation Process for forming a pattern of metallurgy on the top of a ceramic substrate
WO1985001415A1 (en) * 1983-09-21 1985-03-28 Allied Corporation Method of making a printed circuit board
KR850700099A (ko) * 1983-09-21 1985-10-21 로이 에이취. 맷신길 인쇄회로판 제조방법
US5094811A (en) * 1983-09-21 1992-03-10 Allied-Signal Method of making a printed circuit board
US5061438A (en) * 1983-09-21 1991-10-29 Allied-Signal Inc. Method of making a printed circuit board
US4555285A (en) * 1983-12-14 1985-11-26 International Business Machines Corporation Forming patterns in metallic or ceramic substrates
US4581098A (en) * 1984-10-19 1986-04-08 International Business Machines Corporation MLC green sheet process
US4645552A (en) * 1984-11-19 1987-02-24 Hughes Aircraft Company Process for fabricating dimensionally stable interconnect boards
US4662989A (en) * 1985-10-04 1987-05-05 Honeywell Inc. High efficiency metal lift-off process
US4766671A (en) * 1985-10-29 1988-08-30 Nec Corporation Method of manufacturing ceramic electronic device
US4753694A (en) * 1986-05-02 1988-06-28 International Business Machines Corporation Process for forming multilayered ceramic substrate having solid metal conductors
US4802945A (en) * 1986-10-09 1989-02-07 Hughes Aircraft Company Via filling of green ceramic tape
JPH01128587A (ja) * 1987-11-13 1989-05-22 Tdk Corp セラミック配線基板の製造方法
US5302219A (en) * 1991-04-03 1994-04-12 Coors Electronic Package Company Method for obtaining via patterns in ceramic sheets
US5309629A (en) * 1992-09-01 1994-05-10 Rogers Corporation Method of manufacturing a multilayer circuit board
KR0127666B1 (ko) * 1992-11-25 1997-12-30 모리시다 요이찌 세라믹전자부품 및 그 제조방법
US5480503A (en) * 1993-12-30 1996-01-02 International Business Machines Corporation Process for producing circuitized layers and multilayer ceramic sub-laminates and composites thereof
US5522963A (en) * 1994-05-31 1996-06-04 International Business Machines Corporation Method for machining and depositing metallurgy on ceramic layers
US5707575A (en) * 1994-07-28 1998-01-13 Micro Substrates Corporation Method for filling vias in ceramic substrates with composite metallic paste
US5821846A (en) * 1995-05-22 1998-10-13 Steward, Inc. High current ferrite electromagnetic interference suppressor and associated method
US5645673A (en) * 1995-06-02 1997-07-08 International Business Machines Corporation Lamination process for producing non-planar substrates
US5635000A (en) * 1995-12-22 1997-06-03 International Business Machines Corporation Method for screening using electrostatic adhesion
US20010001406A1 (en) * 1998-02-17 2001-05-24 Michael James Liberatore Method of making transmission lines and buried passive components in green tape
US6572830B1 (en) 1998-10-09 2003-06-03 Motorola, Inc. Integrated multilayered microfludic devices and methods for making the same
US6592696B1 (en) * 1998-10-09 2003-07-15 Motorola, Inc. Method for fabricating a multilayered structure and the structures formed by the method
US6352014B1 (en) * 1999-12-15 2002-03-05 International Business Machines Corporation Method for making punches using multi-layer ceramic technology
DE19963281A1 (de) * 1999-12-27 2001-06-28 Tridonic Bauelemente Verfahren zum Herstellen von Leiterbahnen
GB2374205B (en) 2001-04-04 2004-12-22 Rolls Royce Plc An electrical conductor winding and a method of manufacturing an electrical conductor winding
US6676784B2 (en) 2001-07-17 2004-01-13 International Business Machines Corporation Process for the manufacture of multilayer ceramic substrates
US7332805B2 (en) * 2004-01-06 2008-02-19 International Business Machines Corporation Electronic package with improved current carrying capability and method of forming the same
JP4421910B2 (ja) * 2004-01-29 2010-02-24 日本碍子株式会社 熱処理用トレー及びそれを用いたセラミック製品の製造方法
EP2003939A1 (de) * 2007-06-14 2008-12-17 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Verfahren zur Erstellung eines Musters für eine dreidimensionale elektrische Schaltung
EP2146559A1 (de) * 2008-07-15 2010-01-20 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Verfahren zum Formen einer Struktur mit hoher Dichte
US8410371B2 (en) * 2009-09-08 2013-04-02 Cree, Inc. Electronic device submounts with thermally conductive vias and light emitting devices including the same
US8772817B2 (en) 2010-12-22 2014-07-08 Cree, Inc. Electronic device submounts including substrates with thermally conductive vias
WO2013070201A1 (en) 2011-11-09 2013-05-16 Advantest America, Inc. Fine pitch microelectronic contact array and method of making same
CN104626334B (zh) * 2013-11-13 2017-01-11 深圳市金宝盈文化股份有限公司 金属陶瓷无缝结合工艺
CN111231561A (zh) * 2020-01-16 2020-06-05 淄博职业学院 一种多层叠彩艺术陶瓷制品及制备工艺
CN115460773A (zh) * 2022-07-26 2022-12-09 德中(天津)技术发展股份有限公司 用激光制造开口转移物料制电路板的方法、软件及设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2101945A1 (en) * 1971-01-15 1972-07-20 Siemens Ag Metallic coatings prodn - on semiconductor or dielectric substrates

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL47563C (de) * 1936-03-30
US2993815A (en) * 1959-05-25 1961-07-25 Bell Telephone Labor Inc Metallizing refractory substrates
US3293072A (en) * 1961-06-29 1966-12-20 Vitta Corp Ceramic-metallizing tape
GB966945A (en) * 1962-01-05 1964-08-19 Corning Glass Works Method of making ceramic articles
US3632365A (en) * 1967-07-13 1972-01-04 Owens Illinois Inc Decorative decal with a pyrolyzable film base
US3502491A (en) * 1967-08-02 1970-03-24 Scm Corp Method of making edge of glazed ceramic tiles
US3518756A (en) * 1967-08-22 1970-07-07 Ibm Fabrication of multilevel ceramic,microelectronic structures
US3615980A (en) * 1970-02-12 1971-10-26 Daniel J Rose Decal metallization of ceramic substrates
US3770529A (en) * 1970-08-25 1973-11-06 Ibm Method of fabricating multilayer circuits

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2101945A1 (en) * 1971-01-15 1972-07-20 Siemens Ag Metallic coatings prodn - on semiconductor or dielectric substrates

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3134918A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka "elektrode auf waermebestaendigem isolierendem substrat und verfahren zur herstellung derselben"
US5368911A (en) * 1992-03-27 1994-11-29 General Electric Company Method for fabrication of composite materials and composite

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5091612A (de) 1975-07-22
FR2254417A1 (de) 1975-07-11
GB1455938A (en) 1976-11-17
FR2254417B1 (de) 1976-12-31
CA1043188A (en) 1978-11-28
JPS5228452B2 (de) 1977-07-27
US3948706A (en) 1976-04-06
IT1025684B (it) 1978-08-30

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