DE2229302A1 - Lichtempfindliche masse - Google Patents
Lichtempfindliche masseInfo
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- C08F20/10—Esters
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Description
dft. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIEMANN
OR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT 2229302
MÜNCHEN HAMBURG
8000 MÖNCHEN 15,
TELEGRAMMErKARPATENT NUSSBAUMSTRASSEIO
\I 41 190/72 K/Ja 15. Juni 1972
Fuji Photo Film Co., Ltd. Kanagawa (Japan)
Lichtempfindliche Masse
Die Erfindung befaßt sich mit einer lichtempfindlichen
Hasse, die als eine lichtempfindliche Komponente ein Homopolymeres oder ein Copolymeres mit einem anderen
copolymerisierbaren Monomeren auf v/eist, die sich
wiederholende Monomereinheiten der folgenden allgemeinen Struktur enthalten:
.V
'-(-CH2 C -)—
CHp 0 Re
. IHI5
■ CH0-O-C-C=CH-R0
203882/1010
worin R^ Wasserstoff oder eine CH-.-Gruppe;
Rp und. R-, jeweils die Gruppierungen
-U
worin Rr Wasserstoff, einen Halogenrest, die Gruppierungen
NOp, CH,, CpHp, OCH^ oder QCpH,- darstellen und
R. und Rj- jeweils Wasserstoff, eine CU-Gruppe oder die
Gruppierung COOR, worin R Wasserstoff oder einen Alkylrest
mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen darstellt, bedeuten.
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Masse, die vorwiegend ein lichtempjiindliches Harz mit einer
Cinnamoylgruppe, einer ß-(2-Puryl)acryloyl-Gruppe oder einer Ω-(Pyridyl)acryloyl-Gruppe an dessen Seitenkette
enthält und betrifft insbesondere eine lichtempfindliche Hasse mit hoher Haftfähigkeit an Metallen, Glas
und anderen keramischen Materialien.
Ein Polyvinylcinnamatharz ist ein in weitem Umfang
verwendetes ausgezeichnetes lichtempfindliches Harz. Es besitzt jedoch den Nachteil, daß es an Iletallen nicht
sehr stark haftet und für ein System mit starker Reibung>
wie beispielsweise eine Druckplatte, nicht geeignet ist* obgleich es sich für ein reibungsfreies System, z.B* ein
Photoresist eignet. Bei den lichtempfindlichen Harzen vom Cinnanattyp gemäß dem Stand der Technik wird eine
Methode zur Herstellung eines Esters aus Polyvinylalkohol mit Hydroxylgruppen an der Hauptkette direkt als
ein Ausgangcr.iaterial verwendet. D.h., Polyvinylalkohol
mit reaktiven Gmvppen wird nit einem anderen Bestandteil
umgesetzt, um auf diese Weise ein Polymeres nit abweichenden Eigenschaften von den Eigenschaften des ursprünglichen
iiaterials zu erhalten. Dies hat ,jedoch den
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Nachteil, daß die Umsetzung nicht quantitativ-erfolgt,
da das Reaktionssystem heterogen ist.
Die Erfindung umfaßt die Verwendung eines lichtempfindlichen
IZaterials, das dadurch erhalten wird, daß
ein I-Ionomeres mit einer lichtempfindlichen Gruppe einer
Homopolymerisation oder einer Copolymerisation mit einem geeigneten damit copolyinerisierbaren Monomeren unterworfen
wird. Das Ilonomere mit einer lichtempfindlichen Gruppe
wird durch die folgende allgemeine Formel wiedergegeben:
—-ι CH^-
f1
=0
12 Π5
JH-O-C-C=CH-R OHp-O-C-C=CH-Rp
2 ; Il J 2
worin
Wasserstoff oder eine CH--Gruppe und R7 jev/eils die Gruppierung
JQ
oder
worin Rg ein Halogenaton, eine Nitrogruppe, ein ¥asser
stoffatom, die Gruppierungen CH^, C2H-, OCH7 oder OC2H
darstellt und R^ und Rr- jeweils Wasserstoff, eine ClT-Gruppe,
COOR-Gruppe, v;obei R ein Wasserstoffatom oder
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einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen darstellt,
bedeuten.
Die Herstellung des oben beschriebenen llonomeren
erfolgt im allgemeinen unter Verwendung des folgenden
Verfahrens: Zimtsäure, iO-(2-Furyl) acrylsäure oder ß-(Pyridyl)acrylsäure wird zu Glycidylmethacrylat oder
Glycidylacrylat in Gegenwart eines tertiären Amins, z.B. Triäthylamin, Pyridin, !!,N-Diäthylcyclohexylamin, Triäthanolamin
und dergleichen zugegeben, und die durch die Zugabe neu gebildete Hydroxylgruppe wird weiter
mit Zimtsäurechlorid, ß-(2-Furyl)acrylsäurechlorid
oder ß-(2-Pyridyl)acrylsäurechlorid in Gegenwart einer Base, wie beispielsweise Triäthylamin, Pyridin, Piperidin
und dergleichen, umgesetzt. Beispielsweise kann die obige Umsetzung erfolgen, indem die Zimtsäure oder
das Chlorid, die ß-(2-Furyl)acrylsäure oder das Säurechlorid, die ß-(Pyridyl)acrylsäure oder das Säurechlorid
in einem Ilolverhältnis von 1:1 bis 2:1, vorzugsweise 1,1:1 bis 1,4:1 angewendet wird, und die Umsetzungen
können bei einer Temperatur von etwa 50 bis 1OGTG, vorzugsweise·
65 bis 850C^durchgeführt werden. Die erfindungsgemäß
verwendete Verbindung mit hohem Molekulargewicht kann, durch eine homogene hochmolekulare Reaktion erhalten
werden. D.h., Polyglycidyacrylat oder Polyglycid3?-1-methacrylat
wird in einem organischen Lösungsmittel, z.B. Tetrahydrofuran, Dioxan, !Τ,ΙΤ-Dimethylforinamid,
Dimethylsulfoxid, Benzol, Toluol, Xylol, Aceton, Kethylacetat,
Äthylacetat und dergleichen,gelöst und dann mit
einer Säure und einem Säurechlorid aufeinanderfolgend in einer zur Herstellung des IJononeren ähnlichen Nielse
ungesetzt. Das auf diese I'Jeise erhaltene ilonouere besitzt
stets zwei lichtempfindliche Gruppen je Ilolekül
und kann als ein Ausgcuigsi'icterial für ein lichte;rpfindliches
Harz verwendet worden, das eine wesentlich höhere Lichtempfindlichkeit als die bekannten lichteupfindlicjien
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Harze aufweisen. Das oben /beschriebene additionspolymerisierbare
Monomere kann leicht allein polymerisiert werden und darüber hinaus mit einem geeigneten Monomeren
in einer Höhe von etwa 5 bis 30 Gewichts^, bevorzugt
etwa 15 bis 25 GewichtsSo, copolyperisiert werden, so daß die Löslichkeit, Haftfähigkeit und Mischbarkeit
mit anderen Harzen und Pigmenten erhöht werden. Beispiele geeigneter Monomerer zur Copolymerisation sind
folgende:
3 .
CH2=CH-COOH , CH2=C-COOR , CH2=CH-CIr
CH2=CH-OCOCH3, CH2=CCl2, CH2=CH-COOH, CH2=C-COOH
CH2=CH-CONH2 · (wobei R ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen
ist) ji
Qlyc erinacrylat, Glyc erinmethacrylat, Natriumvinylbenzols,ulfonat
j ß-Hydroxyäthylmethacrylat, N-Methylolacrylamid
und Ithylenglykolmethacrylatphosphat.
T/Heim, die durch Homopolymerisation oder Copolymerisation
erhaltene hochmolekulare Verbindung auf einen Träger, wie beispielsweise einen Polyester, z.3. PoIyäthy^enterephthalat,
einen Celluloseester, z.B. Cellulosetriacetat oder eine Metallplatte, z.B. eine Alurai-Qiumglattejj,
eine Kupferplatte, eine Zinkplatte zusammen mit einem Sensibilisator aufgetragen wird, getrocknet,- belichtet und gehärtet wird und anschließend der
nicJat belichtete Bereich mit eineEi Lösungsmittel aus-
> wird, wird ein scharfes Bild erhalten. Die
geiaäße Verbindung von hohem Molekulargewicht
sich sur Verwendung für .Offsetdruckplatten, Pho-
und andere Zwecke, wie die polymeren Ziintsäure
ester"-
203882/1Ö10
-S-
derivate des Standes der Technik. Sin geeignetes HoIekulargewicht
für die erfindungsgenäße Verbindung von
hohem Molekulargewicht kann im Bereich von etwa 5 000 bis 50 000, bevorzugt etwa 10 000 Ms 30 000 liegen,
obgleich das Molekulargewicht der Verbindung nicht auf diesen Bereich begrenzt ist.
Die folgenden sich v/i ederholenden Ilononereinlieiten
sind als eriCindungsgemä.G verwendete lichtempfindliche
Verbindung von hohem Molekulargewicht wirksam:
ta) -(-CH2-CH-
C=
■ A
C=O
ι2 Ι
CH-O-C-CH=CH CH0-O-C-CH=1
(D)
CH-OCOCH=CH-\
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-(-CH2-C ■·
CO2C2H5
CH-OCO-CH=CH—M
'CH2OCO-CH=CH—f^
C
C=O
C=O
2C
. CO2CH,
!H-OCOCH=C
(!H9~0C0CH=CH-ll J
-O CH2-C L0 . CO2CH3
H2
JH-OCOCH=CH
JH-OCOCH=CH
CH2-OCOCH='
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— ο —
JOOH.
3H-OCOCH=CH
CH2-O-COCH=CH-V
Als Sensibilisator können aromatische Nitroverbindungen und aromatische Ketonverbindungen, die Sensibilisatoren
für übliche Zimtsäureester darstellen, gleichfalls erfindungsgeifiäß
eingesetzt werden, da der lichtempfindliche Teil der Erfindung eine ähnliche Reaktivität
wie die Cinnamoylgruppe besitzt. Beispiele geeigneter Sensibilisatoren der Erfindung sind 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon,
5-Nitro-acenaphthen, p-Hitrodiphenyl,
p-Nitroanilin, Picramid, Michlcrs Keton, 1,2-Benzanthrachinon,
N-Acetyl-4-nitro-i-naphthylamin und N-Benzoyl-4-nitro-1-naphthylamin.
Die I-lenge an zuzufügendem Sensibilisator,
die von der Art des Sensibilisator abhängt, beträgt vorzugsweise etwa 0,5 bis 20 Gev/ichtsprozent,
bezogen auf das Gerächt der lichtempfindlichen hochmolekularen Verbindung.
Die folgenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Erfindung.
14 g Glycidylinethacrylat, 16 g Zimtsäure und 5g Triethylamin
iriurden in 240 g Ilethyläthylketon gelöst, dem
metallisches Kupfer zugesetzt worden xi&r und während etwa
10 Stunden unter Rühren und Rückfluß erhitzt, !lach
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der Umsetzung "wurden die niedrigsiedenden Verbindungen
unter vermindertem Druck abdestxlliert. Das Gemisch wurde in etwa 15Og Pyridin gelöst, dem 20 g Zimtsäurechlorid
dann absatzweise bei normalt emperatur unter Rühren
zugesetzt vmrden. Hach etwa 2stündiger Umsetzung wurde
das Reaktionsgemisch in 500 ml Wasser gegossen und das so abgetrennte ölige Produkt wurde mit Äthylacetat extrahiert.
Die Äthylacetatlösungfwurde in adäquater V/eise
mit Wasser und verdünnter Chlorwasserstoffsäure gewaschen, mit Glaubersalz getrocknet und die Lösung unter
vermindertem Druck destilliert, wobei 34 g eines hellgelben öligen Materials erhalten wurden.
Die Bestätigung, daß diese Verbindung mit β,γ-Dicinnamoyloxy-n-propylmethacrylat
identisch war, erfolgte durch kernmagnetisches P>.esonanzspektrum und Infrarotabsorbtionsspektrum.
34 g des vorstehenden Monomeren und 2,6 g Methylmethacrylat
wurden in 100 ml Methyläthylketon gelöst, zu dem 340 mg Ν,Ν'-Azobisisobutyronitril als Initiator
zugesetzt worden war, und das Gemisch wurde bei 70PC
während etwa 5 Stunden unter Stickstoff umgesetzt. Nach der Umsetzung wurden 200 ml Methyläthylketon und 1,7 g
5-Nitroacenaphthen (als Sensibilisator) unter Erhalt einer lichtempfindlichen Lösung zugesetzt. Dann wurde
die erhaltene lichtempfindliche Lösung auf eine PS-Aluminiumplatte,
die gesandstrahlt und mit Zirconfluorid behandelt worden war, aufgebracht und dann getrocknet,
um auf diese Weise· einen stark haftenden Überzug zu erhalten.
Die so erhaltene lichtempfindliche Masse wurde bildweise in üblicher Weise bearbeitet, wobei eine ablösungsfreie
Druckplatte mit ausgezeichneter Beständig keit erhalten wurde.
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Eine ähnliche Umsetzung und ein ähnliches Verfahren wie in Beispiel 1 wurden mit der Abweichung wiederholt,
daß 18 g ß-(2-Furyl)acrysäurechlorid anstelle des Zimtsäurechlorids
verwendet wurden, wobei etwa 30 g γ-Cinnainoyloxy-ß-(ß-(2-furyl)acryloyloxy)
-n-propylmethacrylat erhalten wurden. 30 g des so erhaltenen Monomeren und
2,8 g Äthylmethacrylat wurden in 100 ml Äthylacetat gelöst, zu dem 300 g Benzoylperoxid als Initiator zugesetzt
waren, und das Gemisch wurde bei 7OfC während etwa
7 Stunden unter Stickstoff umgesetzt. Nach der Umsetzung wurden 200 ml Äthylacetat und 1,5 g Michlers
Keton zugegeben, um eine, lichtempfindliche Lösung zu erhalten. Diese lichtempfindliche Lösung wurde auf einen
Polyäthylenterephthalat-Film von 50/ü Stärke, auf den
Kupfer in einer Stärke von 5/u elektro-aufplattiert
war, aufgetragen. Die Stärke der Überzugsschicht betrug
etwa 3 /u. Die so erhaltene lichtempfindliche Masse wurde auf ein Negativ für die Photographie aufgelegt, während
etwa 30 Sekunden unter Verwendung eines Plano-PS-Druckgeräts A 3 (hergestellt von der Fuji Photo Film Co.,
Ltd.) belichtet und dann mit Äthylacetat vollständig gewaschen. Das Polymere in dem nichtbelichteten Bereich
wurde unter Freilegung der Kupferoberfläche gelöst, während das auf dem belichteten Bereich unlöslich wurde,
so daß es auf der Kupferoberfläche als ein Überzugsfilm
verblieb. Nachdem der gesamte Film mit einer 40Jaigen wässrigen
Eisenlll-chloridlösung bei 4Q1C behandelt worden
war, verschwand lediglich das Kupfer auf dem überzugsfreien Bereich während 30 Sekunden und andererseits verblieb
das Kupfer auf dem unlöslichen polymerüberzosenen Bereich bildweise.
Beispiel 3
14 g Polyglycidylacrylat, 14 g ß-(2-Furyl)acryl-
14 g Polyglycidylacrylat, 14 g ß-(2-Furyl)acryl-
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und
säure/ 5 £ Triethylamin "wurden in 300 g Methyläthyl-Iceton
gelöst und unter Stickstoff während etwa 12 Stunden unter Rückfluß behandelt. Nach der Umsetzung wurde
das Polymere in η-Hexan ausgefällt und gereinigt. Ausbeute: 93 %. Das so erhaltene Polymere wurde in 100 g
Pyridin gelöst, zu dem 18 g ß-(2-Furyl)acrylsäurechlorid absatzweise bei Hormaltemperatur unter Rühren zugesetzt
worden Tiaren. Nach der Umsetzung wurde ein Po- i
lymeres in 1 000 ml Wasser ausgefällt und gereinigt.
Das so erhaltene Polymere war ein praktisch farbloses Pulver.
Dann wurden 1C g des vorstehenden Polymeren und
10 mg 2,4,7,-Trinitro-9-fluorenon in 95 g Methläthylketon
gelöst. Diese lichtempfindliche Lösung wurde auf eine Aluminiuiaplatte der gleichen Art wie die in Beispiel
1 verwendete, aufgebracht und anschließend getrocknet. Dann wurde eine Druckplatte in üblicher Weise
hergestellt, in eine typische Offsetdruckmaschine eingesetzt, und es wurde unter Verwendung einer handelsüblichen
Druckfarbe und Benetzungswasser gedruckt, wobei ein Druck mit scharfem Bild mit sehr futen Übertragungseigenschaften
erhalten wurde. Darüber hinaus war das Polymere der Erfindung im Vergleich mit PoIyvinylcinnasiaten
im Hinblick auf die Bruckbeständigkeit und Öleiapfindlichkeit sehr günstig.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsfonaen beschrieben ohne hierauf begrenzt zu
sein.
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Claims (6)
- PatentansprücheLichtempfindliche Masse, dadurch gekennzeichnet , daß sie als eine lichtempfindliche Komponente ein Homopolymeres oder ein Copolymeres mit einem anderen copolymerisierbaren Monomeren aufweist, welche die durch die folgende allgemeine Struktur wiedergegebenen sich wiederholenden Monomereinheiten aufweisen:4 OH2- Ä-j-J=OjSLeIM!H-O-C-C=CH-R5 (!H2-O-C-C=CH-R2worinR. Wasserstoff oder einen CH^-Rest, Rp und R, Jeweils die Gruppierungenoder209882/ 1010worin Rr ein Wasserstoffatom, einen Halogenrest, die Gruppierungen NO2, CH3, C2H5, OCH5 oder OC2H5 darstellen und R. und Rp. jeweils Wasserstoff, einen CIT-Rest oder COOR-Rest, worin R ein Wasserstoffatom oder einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen darstellt , bedeuten.
- 2. Lichtempfindliche Hasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dascopolymerisierbare Monomere-aus CH2=CH-V' y ,""'CH2=CH-COOR,OH5.CHp=C-COOR, worin R die-in Anspruch 1 angegebene Bedeutung besitzt, CH2=CH-CN, CH2=CH-OCOCH3, CH2=CCl2,CHxI 3CH2=CH-COOH, CH2=C-COOH, CH2=CH-COtIH2, Glycerinacrylat, Glycerinmethacrylat, Natriumvinylbenzolsulfonat, ß-Hydro· xyäthylmethacrylat, N-Methylolacrylamid oder Äthylenglykolmethacrylatphosphat besteht.
- 3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet,· daß das Homopolymere oder Copolymere ein Molekulargewicht im Bereich von etv/a 5 000 bis 50 000 besitzt.
- 4. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein Sensibilisator in einer Menge von etwa 0,5 bis 20 Gewichtsjo, bezogen auf das Gewicht des Homopolymeren oder des Copolymeren, vorliegt.209882/101Q
- 5. Lichtempfindliche Hasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das copol^iierisierbare Honoriere in dem Copolyraeren in einer Menge von etwa 5 Ms 30 Gewichtsjj vorliegt.
- 6. Lichtempfindliches Element ge kenn.ζ eich net durch einen Träger mit einer darauf aufgebrachten Schicht der lichtempfindlichen Hasse nach Anspruch 1.209882/ 1010
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1972
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- 1972-06-14 FR FR7221370A patent/FR2141902A1/fr not_active Withdrawn
- 1972-06-15 DE DE19722229302 patent/DE2229302A1/de active Pending
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DE3931525B4 (de) * | 1988-09-21 | 2005-08-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
Also Published As
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JPS51481B1 (de) | 1976-01-08 |
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