DE2224372A1 - Verfahren zum Abscheiden von Metall - Google Patents
Verfahren zum Abscheiden von MetallInfo
- Publication number
- DE2224372A1 DE2224372A1 DE19722224372 DE2224372A DE2224372A1 DE 2224372 A1 DE2224372 A1 DE 2224372A1 DE 19722224372 DE19722224372 DE 19722224372 DE 2224372 A DE2224372 A DE 2224372A DE 2224372 A1 DE2224372 A1 DE 2224372A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- aqueous solution
- silver
- substrate
- electroless plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/58—Processes for obtaining metallic images by vapour deposition or physical development
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
PATENTANWALTS BÜRO
ThOMSEN - TlEDTKE - BüHLING
S3 0212
Dipl.-Chem. Dr. D. Thomoen Dipl.-Ing. W. Weinkauff
Dipl.-Ing. H. Tiedtke (Fuchshohl 71)
Dipl.-Chem. G. Bühling Dipi.-ing. R. Kinne
Dipl.-Chem. Dr. U. Eggers
8000 München
Imperial Chemical Industries Limited London, Großbritannien
Verfahren zum Abscheiden von Metall
Die Erfindung bezieht sich auf ein Metallabscheidungsverfahren,
insbesondere auf ein Verfahren zum Intensivieren photografischer Bilder durch Abscheiden von Metall
auf belichteten Bezirken bestimmter Arten photoempfindlicher Filme.
In den britischen Patentanme!düngen 57862769 und
25203/70 ist beschrieben, wie Metalle auf Substraten abgeschieden werden können, in denen eine aktive Komponente, bestehend
u.a. aus Radikalkationen, vorhanden ist, indem man das Substrat mit einer stromlosen Plattierlösung in Berührung bringt,,
209852/0960
Bei einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens
bilden sich Radikalkationen dadurch, daß man einen Film aus einem wasserdurchlässigen Polymeren, welcher ein Salz der
Struktur I oder substituierte Derivate davon enthält, der Bestrahlung aussetzt.
(CH = CH)
2X
Beispiele solcher Salze sind Bipyridyliumsalze, Bich inoliniumsalze,
Diazapyraniumslaze und 1.2-bis-(Pyridylium)äthylensalze.
Der Substituent R ist Wasserstoff oder eine große Vielfalt organischer Gruppen und X ist ein Anion einer starken Säure
(pKa vorzugsweise weniger als 2,5).
Die empfindliche Zubereitung, welche bei der Herstellung des Filmes verwendet wird, kann auch Sensibilisatoren
(beispielsweise Isoalloxazin und dessen Derivate), Geschwindigkeitsbeschleuniger
und Vernetzungmittel (beispielsweise Glyoxal für Polyvinylalkoholfilme) enthalten.
Es ist beschrieben, wie nach der Belichtung der Film in Entwickler eingetaucht wird, welcher aus einer stromlosen
Plattierlösung besteht, um das Abbild aus Radikalkation durch ein entsprechendes Abbild aus Metall zu ersetzen.
209852/0960
Nunmehr wurde gefunden, daß die endgültige optische
Dichte des entwickelten Film gesteigert ist, wenn man den
belichteten, jedoch nicht entwickelten Film ihxeine wässrige
Lösung eintaucht, welche Silberionen enthält, und zwar vorzugsweise
in Anwesenheit auch eines oder mehrerer oberflächenaktiver
Mittel. ';~--V -
Ein zweckmäßiger 'Konzentrationsbereich an Silberionen x
in der Lösung ist 0,001- bis 0,5-Molar, wobei ein Bereich von
0,01 bis 0,1 bevorzugt ist. Silbernitrat ist für ,diesen Zweck
eine leicht zur Verfügung stehende Silberquelle, obgleich andere lösliche Silbersalze verwendet werden können. Es ist vorteilhaft,
der Lösung ein oberflächenaktives Mittel einzuverleiben. Ein zweckmäßiger Konzentrationsbereich für das ober-,
flächenaktive Mittel ist 0,01 bis 0,1 Gew.-%. Man kann irgendein oberflächenaktives Mittel verwenden, doch eine Kombination
eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels zum Benetzen, und eines kationischen oberflächenaktiven Mittels zum Verhüten
der Abscheidung von Silber auf dem Film, ist bevorzugt.
Der pH-Wert des Vorbades ist wichtig. Geeigneterweise liegt er zwischen pH 1 und 7, vorzugsweise zwischen pH
und 6, und stärker bevorzugt zwischen pH H und 5. Geeignete
Puffermittel, zweckmäßig Natriumacetat/Essigsäure, können hier verwendet werden.
Den belichteten Film taucht man in das Vorbad für eine Zeitdauer von vorzugsweise 10 bis,60 Sekunden ein. Er
wird dann entfernt, zur Entfernung überschüssigen Silbers ge-
209852/01360
waschen und in die stromlose Plattierlösung übertragen.
Stromlose Plattierlösungen sind in der Literatur beschrieben, insbesondere Plattierlösungen zur Abscheidung von
Silber, Kupfer und Nickel. Eine allgemeine Bezugnahme, welche brauchbare Rezepturen enthält, ist W. Goldie "Metal Coating
of Plastics", Band I, I968. Andere brauchbare Rezepturen sind
in der niederländischen Patentanmeldung 6901919 und in der deutschen Patentanmeldung 1 900 983 enthalten.
Im Handel erhältliche Lösungen wie die "Enplate"-Reihe der Enthone Inc., New Haven, Connecticut, sind geeignet.
Wenn auch das erfindungsgemäße Silbervorbadverfahren besonders relevant für die Behandlung von Film ist, welcher
anschließend in einer Silberplattierlösung entv/ickelt werden soll, so ist es doch auch brauchbar mit Entwicklungslösungen,
welche andere Metallionen als Silber aufweisen. Angemessene Plattierlösungen zur erfindungsgemäßen Verwendung sind diejenigen,
welche Metalle der Gruppe VIII, IB oder Quecksilber, Blei, Zinn, Antimon und Wismut enthalten.
Silber- und kupferhaltige Lösungen, in denen das Reduktionsmittel ein Aldehyd wie Formaldehyd ist, können verwendet
werden. Silberhaltige Lösungen, in denen das Reduktionsmittel ein Aminophenol, ein Ferro/Ferri-Paar oder eines oder
mehrere der anderen üblichen organischen Reduktionsmittel ist, welche in photografischen Entwicklern verwendet werden, sind
ebenfalls allgemein anwendbar. Typische Lösungen, welche zum
209852/0960 -
Entwickeln von Eisen-, Kobalt- oder Nickelabbildern rezeptiert sind, enthalten Hypophosphit als reduzierenden Anteil»
Die Erfindung sei durch das folgende Ausführungsbeispiel veranschaulicht. Filmstreifen der nachstehend angegebenen
Zusammensetzung, werden schrittweise unter einer GAMAC TLC-Lampe
in 30 cm Abstand 10, 20, 40, 80, 160 und 320 Sekunden
belichtet. Die belichteten Filme taucht man in ein Vorbad mit
unterschiedlichen Silberkonzentrationen ein und man entwickelt dann in einer stromlosen Plattierlösung der nachstehend angegebenen
Zusammensetzung.
Die optische Dichte wird gegen die log^Q-Belichtungszeit
aufgetragen und die Ergebnisse sind in Fig. 1 gezeigt. Es ist ersichtlich, daß höhere Silberkonzentrationen die Zeit
herabsetzen, welche erforderlich ist, um eine gegebene optische Dichte zu erreichen. Film- und Entwicklungsdaten für experimentelle
charakteristische Kurven sind in den Fig. 1 und 2 gezeigt.
Filmzusammensetzung 15 % N.N'-Dimethyl-bipyridylium-Gew.-X
methosulfat
10 % Glyoxal
2 % Riboflavin 0,3 Ji "Lissapol N"+ 3-M pH ■
2 % Riboflavin 0,3 Ji "Lissapol N"+ 3-M pH ■
Grund film Polyäthylenterephthalat ; "Meli'nix" +
(ICI)'
209852/096Ö
Substrat
Dicke Ablagern
Vorbad
stromlose Plattierlösung
Polyvinylalkohol Gohsenol+GL-05 (Nippon Goshei)
2,8 u
Film 2 Minuten bei 95°C ablagern zur Bewirkung des Vernetzens von Glyoxal
und PVA, so daß der Film hinreichend unlöslich ist für nachfolgendes Verarbeiten.
Silbernitrat
(0-0,5-m)
0,05 % Armac 12D+
•0,05 % Lissapol N+
Zeit 10 Sek,
4-5 pH.
Silbernitrat
(0-0,5-m)
0,05 % Armac 12D+
•0,05 % Lissapol N+
Zeit 10 Sek,
4-5 pH.
0,15"ITi Ferroammoniumsulfat
0,08-m Ferrinitrat 0,1-m Zitronensäure 0,02 % Armac 12D+
0,02 % Lissapol N+ Temp. 200C Zeit 100 Sek.
Die Auswirkung des pH-Wertes des Vorbades auf die
Empfindlichkeit des Filmes ist in Fig. 2 geaeigt.
+ eingetragenes Warenzeichen
209852/0960
Claims (8)
1. Verfahren zum Abscheiden von Metall in oder auf einem ' Substrat, welches eine aktive Komponente in Form von Radikalkationen
aufweist, durch Inberührungbringen des Substrats mit einer stromlosen Plattierlösung, dadurch gekennzeichnet,
daß man das Substrat vor dem Behandeln mit der stromlosen Plattierlösung mit einer wässrigen Lösung in Berührung bringt, welche
Silberionen enthält.
2. Verfahren nach Anspruch I1 dadurch gekennzeichnet,
daß die Radikalkationen durch die Wirkung einer Bestrahlung auf eine geeignete Vorstufe gebildet werden, welch letztere
in einem Film aus wasserdurchlässigem Polymerem getragen wird und daß das Inberührungbringen mit der silberionenhaltigen
Lösung nach der Belichtung mit dieser Bestrahlung erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Radikalkationen dadurch gebildet werden, daß
man einen Film aus wasserdurchlässigem Polymerem, welcher ein Salz der Struktur
2X"
[CH =
oder substituierte Derivate davon enthält, der Bestrahlung aussetzt, isobei in der Formel R Wasserstoff oder eine organische
209852/0960
Gruppe ist und X ein Anion einer starken Säure ist.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die wässrige Lösung eine Silberionenkonzentration von 0,001- bis 0,5-molar, vorzugsweise von
0,01- bis 0,1-molar, aufweist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die wässrige Lösung ein oberflächenaktives
Mittel aufweist. .
6. Verfahren nach Anspruch 5t dadurch gekennzeichnet,
daß das oberflächenaktive Mittel in einer Konzentration von · 0,01" bis 0,1 Gew.-5S vorliegt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel aus einem Gemisch nichtionischer
und kationischer oberflächenaktiver Mittel besteht,
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man die Vorbehandlung mit der wässrigen Lösung bei einem pH-Wert zwischen 1 und 7, vorzugsweise
zwischen *J und 5," bewirkt.
209852/0960
Lee rs e i te
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1624371A GB1391423A (en) | 1971-05-21 | 1971-05-21 | Metal deposition process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2224372A1 true DE2224372A1 (de) | 1972-12-21 |
Family
ID=10073787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722224372 Pending DE2224372A1 (de) | 1971-05-21 | 1972-05-18 | Verfahren zum Abscheiden von Metall |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
AU (1) | AU4244672A (de) |
BE (1) | BE783632A (de) |
CA (1) | CA964134A (de) |
CH (1) | CH578052A5 (de) |
DE (1) | DE2224372A1 (de) |
FR (1) | FR2138794B1 (de) |
GB (1) | GB1391423A (de) |
IT (1) | IT955705B (de) |
LU (1) | LU65394A1 (de) |
NL (1) | NL7206806A (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5310581A (en) * | 1989-12-29 | 1994-05-10 | The Dow Chemical Company | Photocurable compositions |
-
1971
- 1971-05-21 GB GB1624371A patent/GB1391423A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-05-17 BE BE783632A patent/BE783632A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-05-18 AU AU42446/72A patent/AU4244672A/en not_active Expired
- 1972-05-18 DE DE19722224372 patent/DE2224372A1/de active Pending
- 1972-05-19 LU LU65394D patent/LU65394A1/xx unknown
- 1972-05-19 FR FR7218063A patent/FR2138794B1/fr not_active Expired
- 1972-05-19 CH CH751872A patent/CH578052A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-05-19 CA CA142,685A patent/CA964134A/en not_active Expired
- 1972-05-19 NL NL7206806A patent/NL7206806A/xx not_active Application Discontinuation
- 1972-05-20 IT IT2464672A patent/IT955705B/it active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA964134A (en) | 1975-03-11 |
FR2138794A1 (de) | 1973-01-05 |
AU4244672A (en) | 1973-11-22 |
FR2138794B1 (de) | 1976-08-06 |
CH578052A5 (de) | 1976-07-30 |
LU65394A1 (de) | 1972-08-23 |
IT955705B (it) | 1973-09-29 |
NL7206806A (de) | 1972-11-23 |
GB1391423A (en) | 1975-04-23 |
BE783632A (fr) | 1972-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2518559A1 (de) | Stromloses plattierungsverfahren und plattierungsbad | |
DE2049061B2 (de) | Alkalisches wäßriges Bad und dessen Verwendung zur stromlosen Verkupferung | |
DE2541896A1 (de) | Verfahren zum behandeln eines substrates aus plastikmaterial und material zur durchfuehrung desselben | |
DE3000526A1 (de) | Bad zur stromlosen abscheidung von palladium, autokatalytisches palladium- abscheidungsverfahren und palladium-legierung | |
DE2627941C2 (de) | Aktivierungslösung zum stromlosen Verkupfern auf der Basis eines Silbersalzes | |
DE2137179A1 (de) | Verfahren zum stromlosen Metalhsie ren einer Oberflache | |
DE1547819C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dispersionen von schwarzem kolloidalem Silber | |
DE2124331B2 (de) | Waessrige loesung zum stromlosen abscheiden von kupfer | |
DE2346616C3 (de) | Bad zum stromlosen Abscheiden von duktilem Kupfer | |
DE2224372A1 (de) | Verfahren zum Abscheiden von Metall | |
DE1106601B (de) | Verfahren und Mittel zur physikalischen Entwicklung photographischer Bilder | |
DE3238921C2 (de) | Bad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer auf einem Substrat und Verfahren zur stromlosen Abscheidung | |
DE2750932B2 (de) | Cyanidfreies Bad zur stromlosen Goldabscheidung und seine Verwendung | |
DE2453786C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines äußeren elektrisch leitenden Metallmusters | |
DE1937727C3 (de) | Bleichfixierbad und Verfahren zum Bleichfixieren farbphotographischer Aufzeichnungsmaterialien | |
DE954391C (de) | Entwicklersubstanzen enthaltende Halogensilberschichten | |
DE3322156A1 (de) | Saures chemisches verzinnungsbad | |
DE932533C (de) | Empfindlichkeitssteigerung von Halogensilberemulsionen | |
DE2057987C3 (de) | Verfahren zur Metallabscheidung und dessen Anwendung | |
DE2057756A1 (de) | Schemisches Silberbad | |
DE1521123B2 (de) | Verfahren zum vorbehandeln einer nichtmetallischen oberflaeche vor einer anschliessenden metallisierung | |
CH621152A5 (en) | Process for metallising surfaces | |
DE2341568C3 (de) | Positiv-Positiv-Verfahren zur Herstellung von Metallbildern | |
DE2628996A1 (de) | Druckplatte und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE1422933C (de) | Photographisches Verfahren zur Her Stellung von Edelmetallbildern mit Hilfe eines aus einem nicht metallischen Schicht trager und einer lichtempfindlichen Schicht bestehenden Aufzeichnungsmaterial |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
OHW | Rejection |