DE2209373A1 - Verfahren zur herstellung metallueberzogener glas-keramik-gegenstaende - Google Patents
Verfahren zur herstellung metallueberzogener glas-keramik-gegenstaendeInfo
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Description
Dr. F. Zumsteln sen. - Dr. E. Assmann Dr. R. Koenlgsberger - Dlpl.-Phys. R. Holzbauer - Dr. F. Zumsteln Jun.
PATENTANWÄLTE
BANKKONTO: BANKHAUS H. AUFHÄUSER
8 MÜNCHEN 2,
53/My
Case K-I(lshi)/KM
Ishizuka Garasu Kabushiki Kaisha, Aichi-ken/Japan
Verfahren zur Herstellung metallüberzogener Glas-Keramik-
Gegenstände
Die Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zur Herstellung von Glas-Keramik-Gegenständen (glass-ceramic
articles), die mit einem leitfähigen Überzug aus metallischem Kupfer oder Silber oder aus beiden Metallen
überzogen sind.
Glas-Keramika oder Devitrikationskeramika sind, wie es gut
bekannt ist, kristalline Keramika, die durch Kristallisation eines Glaskörpers unter kontrollierten Bedingungen
hergestellt wurden. Glas-Keramika werden durch Schmelzen gemäß bekannten Glasherstellungsverfahren aus einem Glas
liefernden Ansatz, der ein Keimbildungsmittel und/oder einen Kristallisationsbeschleuniger enthält, hergestellt. Die entstehende
Schmelze wird dann geformt und danach wird der ge-
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formte Gegenstand unter kontrollierten Bedingungen in der Wärme behandelt. Der geformte Glasartikel wird durch diese
Wärmebehandlung entglast. Anders ausgedrückt, wird der geformte Glasartikel in einen Glas-Keramik-Artikel überführt,
der feinverteilte Kristalle, die fast einheitlich in der Glasmatrix dispergiert sind, enthält.
Eins der Verfahren zur Herstellung eines metallischen Überzugs auf der Oberfläche von Glas-Keramik-Gegenständen
wird in der japanischen Patentschrift 479 655, US-Patentschrift 3 464 806, deutschen Patentschrift 1 496 540,
französischen Patentschrift 1 383 611 und britischen Patentschrift
944 571 beschrieben. Die Inhaberin der ersten vier genannten Patentschriften ist die Anmelderin der
vorliegenden Anmeldung. Das erwähnte Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man bei dem bekannten Verfahren
zur Herstellung von Glas-Keramik-Gegenständen in den Ausgangsglasansatz, den man dabei verwendet, eine geringe
Menge entweder einer Kupfer- oder einer Silberverbindung außer dem Keimbildungsmittel einarbeitet und daß die Entglasungs-Wärmebehandlung
in einer reduzierenden Atmosphäre durchgeführt wird. Während des Kristallisationsverfahrens des Glases durch die Entglasungs-Wärmebehandlung
migriert die Metallverbindung, die in dem Glasansatz enthalten ist, durch die Glasmatrix an die Oberfläche des
Gegenstands und bildet dort metallische Ionen. Die metallischen Ionen oder Metallionen, die an die Oberfläche diffundiert
sind, werden zu winzig kleinen metallischen Teilen reduziert, wenn sie der umgebenden reduzierenden Atmosphäre
ausgesetzt sind. Dies bringt mit sich, daß man einen Glas-Keramik-Gegenstand mit einer metallischen Überzugsschicht
oder einem metallischen Film erhält. Jedoch liegt ein Hauptteil der feinkörnigen metallischen Teilchen, die durch
Reduktion bei einem solchen Verfahren gebildet wurden, getrennt von den anderen Teilchen vor. Eine metallische
Filmschicht, die eine kontinuierliche Phase als Ganzes
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bildet, entsteht nicht. Dieser überzug, der feine metallische Teilchen enthält, kann in eine kontinuierliche
metallische Schicht überführt werden, indem man die Ober- fläche der Gegenstände einer mechanischen Behandlung wie
einer Polierbehandlung unterwirft} dabei werden die metallischen Teilchen durch die Reibewirkung geglättet und
miteinander verbunden, und man erhält eine ebene und glatte, kontinuierliche Oberfläche. Jedoch treten große
Schwierigkeiten beim Polieren der gesamten Oberfläche auf, wenn man innere Oberflächen von feinen, röhrenförmigen
Gegenständen oder Gegenstände, die eine komplizierte Form besitzen, polieren will.
Es wurde nun gefunden, daß man einen glatten, metallischen Überzug mit kontinuierlicher Phase bei der Herstellung
metallüberzogener Glas-Keramik-Gegenstände direkt bilden kann, wenn man nach der zuvor beschriebenen Wärmebehandlung
in einer reduzierenden Atmosphäre eine Wärmebehandlung des Gegenstands in einer oxydierenden Atmosphäre und
danach nochmals eine Wärmebehandlung in einer reduzierenden Atmosphäre durchführt. Zur Erklärung, weshalb ein
kontinuierlicher, metallischer Überzug durch eine solche dreistufige Wärmebehandlung gebildet wird, kann der folgende
Grund angeführt werden. Die feinen metallischen, kristallinen Teilchen, die auf der Oberfläche des Gegenstandes
nach der ersten Wärmebehandlung in einer reduzierenden Atmosphäre diskret bzw. einzeln abeschieden sind,
werden durch die zweite Wärmebehandlung in einer oxydierenden Atmosphäre oxydiert, wobei ein Metalloxyd gebildet
wird. Dies bringt eine Vergrößerung der kristallinen Form mit sich, und benachbarte Teilchen werden daher miteinander
verbunden, und danach werden die Metalloxydkristalle,während
sie sich noch in gebundenem Zustand befinden, wieder zu ihrer metallischen- Form durch die dritte Wärmebehandlung in
reduzierender Atmosphäre reduziert. Der entstehende kontinuierliche, metallische Überzug kann durch ein Elektronen-
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Mikroskop festgestellt werden. Die Kontinuität des Überzugs
kann ebenfalls durch Messung seiner Leitfähigkeit gezeigt werden.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren erhält man somit einen kontinuierlichen, metallischen Überzug, dessen Teilchen in
innigem Kontakt miteinander stehen. Daher ist es nicht erforderlich, den Gegenstand zu polieren. Da das erfindungsgemäße
Verfahren auf Glas-Keramik-Gegenstände jeder Form und Konfiguration angewendet werden kann, tritt die Schwierigkeit,
Gegenstände komplizierter Form zu polieren wie bei früheren Verfahren, nicht auf. Der metallische Überzug,
der auf die erfindungsgemäße Weise gebildet wird, ist integral, d.h. sehr eng mit dem Glas-Keramik-Körper verbunden,
und er besitzt eine Abschälfestigkeit bzw. Abstreifkraft (stripping force), die wesentlich größer ist
als die anderer metallischer Überzüge, die man durch andere Verfahren wie Verdampfen im Vakuum, Aufstreichen, Verbacken,
Verspritzen bzw. Verstäuben o.a. erhält. Der Wert beträgt ungefähr 10 bis 20 kg/mm und im Durchschnitt ungefähr
15 kg/mm~. Durch das erfindungsgemäße Verfahren ist es weiterhin möglich, die Dicke und die Struktur des
metallischen Überzugs des Endprodukts zu kontrollieren, indem man die Mengen, die man zu dem Ausgangsglasansatz an metallischer
Verbindung für den Überzug zufügt,und/oder die Bedingungen, unter denen die Wärmebehandlung in der oxydierenden
Atmosphäre durchgeführt wird, kontrolliert. Man kann somit einen metallüberzogenen Glas-Keramik-Gegenstand
mit der gewünschten Leitfähigkeit herstellen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist zur Herstellung metallüberzogener
Glas-Keramik-Gegenstände, die die gewünschte Leitfähigkeit besitzen, sehr nützlich. Diese Gegenstände
sind als Grundmaterial für gedruckte Schaltungen, Kondensatoren, elektronische Bauelemente uad ähnliche Gegenstände
sehr nützlich. Die erfindungsgemäßen Gegenstände
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sind ebenfalls geeignet, um verschiedene Gegenstände des täglichen Gebrauchs, Dekorationsgegenstände u.a. herzustellen,
da sie einen feinen metallischen Glanz besitzen» Gewünschtenfalls können die hergestellten, überzogenen
Oberflächen mit anderen Metallen plattiert werden wie mit Kupfer, Silber und anderen Metallen, die durch Elektroplattierverfahren
aufgebracht werden können.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein verbessertes Verfahren zur Herstellung von Glas-Keramik-Gegenständen,
die einen eng verbundenen Metallüberzug aus entweder Kupfer oder Silber oder aus beiden dieser Metalle enthalten.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein Verfahren zur Herstellung metallüberzogener Glas-Keramik-Gegenstände
mit kontrollierter Leitfähigkeit.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines metallüberzogenen
Glas-Kerainik-Gegenstandes ist dadurch gekennzeichnet,
daß man einen Glas liefernden Ansatz, der sin Keimbildungsmittel und 0,05 bis 5%t berechnet als Metall,
bezogen auf das Gesamtgewicht des glasbildenden Ansatzes, einer Kupfer- und/oder Silberverbindung enthält, schmilzt,
aus der Glasschmelze einen Glasgegenstand der gewünschten Form bildet, den geformten Glasgegenstand einer ersten
Wärmebehandlung in einer reduzierenden Atmosphäre unterwirft, um das Glas zu entglasen, wobei die Metallionen,
die aus der Metallverbindung gebildet werden, durch die Glasmatrix migrieren und an die Oberfläche des entglasten
Gegenstands diffundieren und wobei die Metallionen an der Oberfläche zu Metallteilchen reduziert werden, gefolgt
von einer zweiten Wärmebehandlung des Gegenstandes in einer oxydierenden Atmosphäre, wobei die Metallteilchen
zu kristallinen Metalloxydteilchen, die miteinander verbunden sind, oxydiert werden. Darauf folgt eine dritte
Wärmebehandlung des entstehenden Gegenstands erneut in
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einer reduzierenden Atmosphäre, wobei das Metalloxyd zu Metall reduziert wird und wobei
der Metallüberzug auf der Oberfläche des entglasten Gegenstandes gebildet wird.
Wie zuvor angegeben, ist das Verfahren zur Herstellung eines metallüberzogenen Glas-Keramik-Gegenstandes durch
Schmelzen eines glasbildenden Ansatzes, der ein Keimbildungsmittel und eine Metallverbindung als Quelle für den
Metallüberzug enthält, Verformen der Schmelze zu der gewünschten Form und Behandeln in der Wärme des entstehenden
Gegenstands in einer reduzierenden Atmosphäre bekannt.
Das wichtigste Merkmal der vorliegenden Erfindung liegt darin, den Gegenstand nach der Wärmebehandlung in der
reduzierenden Atmosphäre einer zweiten Wärmebehandlung in einer oxydierenden Atmosphäre und schließlich einer
dritten Wärmebehandlung in einer reduzierenden Atmosphäre zu unterwerfen.
Im folgenden werden einige bevorzugte, erfindungsgemäße Ausführungsformen näher beschrieben.
Fast alle bekannten Gläser sind bei Zimmertemperatur im Vergleich mit dem stabileren kristallinen Zustand metastabil
und tausende von Glaszusammensetzungen, die die üblicherweise zur Herstellung von Glas verwendeten Bestandteile
enthalten, wurden erfolgreich zu Glas-Keramik kristallisiert. Das erfindungsgemäße Verfahren ist daher
nicht auf die Zusammensetzung von glasbildenden Ansätzen beschränkt. Jedoch sind typische Glaszusammensetzungen,
die bei der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendet werden, solche, die SiIiciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd-,
Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd-Magnesiumoxyd-, Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd-Zinkoxyd-,
Siliciumdioxyd-, Aluminiumoxyd-Magnesiumoxyd-, Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Calciumoxyd-
und Siliciumdioxyd-
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Lithiumoxyd-Systeme enthalten. Die Mengen der Bestandteile, die in diesen Zusammensetzungen enthalten sind,
können, bezogen auf eine Gewichtsbasis, im Bereich von 40 bis 88% Siliciumdioxyd, 1 bis 35% Aluminiumoxyd,
0,5 bis 40,7% Lithiumoxyd, 0,5 bis 30% Magnesiumoxyd,
1 bis 30% Zinkoxyd und 1 bis 15% Calciumoxyd variieren.
Gewünschtenfalls können zusätzlich andere Bestandteile vorhanden sein. Beispielsweise können in den Zusammensetzungen
bis zu 10% Boroxyd, bis zu 22% Natriumoxyd und/oder Kaliumoxyd und bis zu 15% '■ Bleioxyd enthalten
sein.
Als Keimbildungsmittel und Kristallisationsbeschleuniger sind verschiedene Verbindungen bekannt. Alle diese bekannten
Verbindungen können bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Von den Keimbildungsmitteln werden
bevorzugt verwendet: Titandioxyd, fluorhaltiges Zirkondioxyd bzw. fluorhaltige Zirkonerde (zirconia
fluorine), Phosphorpentoxyd, Titandioxyd-Zirkondioxyd,
fluorhaltiges Titandioxyd-Zirkondioxyd (titania-zirconiafluorine),
Zirkondixoyd, fluorhaltiges Titandioxyd (titania fluorine), fluorhaltiges Phosphorpentoxyd,
Titandioxyd-Phorphorpentoxyd, Zirkondioxyd-Pho sphorpentoxyd,
fluorhaltiges Titandioxyd-Phosphorpentoxyd (titania-phosphorus pentoxide-fluorine), fluorhaltiges
Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd (zirconia-phosphorus pentoxide-f
luorine) , Titandioxyd-Zirkondioxyd-Phoephorpentoxyd und fluorhaltiges Titandioxyd-Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd
(titania-zirconia-phosphorus pentoxide-fluorine). Diese Mittel v/erden in Mengen, berechnet auf das Gesamtgewicht
des glasbildenden Ansatzes von 0,5 bis 20% Titandioxyd, 0,5 bis 15% Zirkondioxyd, 0,2 bis 15% Fluor und
0,5 bis 20% Phosphorpentoxyd verwendet. Zusätzlich zu den zuvor erwähnten Keimbildungsmitteln kann man ebenfalls
Calciumfluorid, Zinnoxyd, Berylliumoxyd, Chromoxyd, Vanadiumoxyd, Nickeloxyd, Arsenoxyd und Molybdänoxyd
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verwenden. Jede dieser Verbindungen kann im Bereich von 1 bis 10% eingesetzt werden.
Die Metallverbindung, die in den glasbildenden Ansatz als Metallquelle für den Überzug eingearbeitet wird, ist entweder
eine Kupfer- oder Silberverbindung oder eine Mischung aus Kupfer- und Silberverbindungen. Als diese Verbindungen
kann man die Oxyde dieser beiden Metalle oder Verbindungen, die in einer oxydierenden Atmosphäre bei erhöhten
Temperaturen in Oxyde überführbar sind, verwenden. Es sind praktisch alle die üblicherweise zur Verfügung stehenden
Metallverbindungen verwendbar. Als typische Beispiele können die Oxyde, Halogenide, Sulfite, Sulfate,
Nitrate, Phosphate und Hydroxyde von Kupfer und Silber erwähnt werden. Diese Metallverbindungen werden in einer
Menge von 0,05 bis 5$, berechnet als Metall, bezogen auf
das Gesamtgewicht des Glasansatzes, zugefügt, wobei man sicherstellen muß, daß ein ausreichend kohärenter und
stabiler Überzug gebildet wird und daß die Migration der Ionen bei der Entglasungsstufe nicht gestört wird.
Der glasbildende Ansatz, der das zuvor erwähnte Keimbildungsmittel
und die Metallverbindung enthält, wird zuerst gemäß den bekannten Glasherstellungsverfahren geschmolzen
und dann stellt man daraus einen transparenten Glasgegenstand der gewünschten Form her. Dieser gebildete
Glasgegenstand wird dann Entglasungsbedingungen in einer reduzierenden Atmosphäre unterworfen. Die Bedingungen
sind die gleichen, wie sie bis heute als Bedingungen zur Herstellung von Glas-Keramik-Gegenständen bekannt sind.
Das bedeutet, daß der Gegenstand allmählich auf eine Temperatur über den Umwandlungspunkt bzw. Übergangspunkt
des Glases erwärmt und bei einer Temperatur, bei der die Kristallisation des Glases stattfindet, gehalten wird.
Die Erwärmungsgeschwindigkeit sollte vorzugsweise nicht 5°C/min (3OO°C/h) übersteigen. Die Temperatur, bei der
der Gegenstand gehalten wird, ist eine Temperatur zwischen
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dem Umwandlungspunkt des Glases und dem Schmelzpunkt des
Metalls, mit dem der Gegenstand überzogen werden soll. Der Schmelzpunkt von Kupfer beträgt 108O0C und der von
Silber 9630C. Der Umwandlungspunkt von Glas hängt von
der Zusammensetzung des verwendeten Ansatzes ab, und er kann durch Messung der thermischen Differentialkurve
bestimmt werden. Die Standzeit beträgt im allgemeinen von ungefähr 15 Minuten bis ungefähr 5 Stunden.
Zur Bildung der reduzierenden Atmosphäre können Wasserstoff, Kohlenmonoxyd und verbrennbare Gase wie Methan,
Äthan, Propan, Butan und Stadtgas verwendet werden.
Bei den oben beschriebenen Wärmebehandlungsverfahren werden Metallionen, die den zugefügten Kupfer- oder Silberverbindungen entsprechen, gebildet, und, bedingt durch ihre
hohe Mobilität, migrieren diese durch die Glasmatrix und diffundieren an die Oberfläche des Glasgegenstanclsp,- Die
Migration der Ionen an die Oberfläche des Gegenstands wird umso schneller je höher die Temperatur steigt, und
die Menge nimmt im Verlauf der Zeit zu. Durch eine Elektron- Mikroröntgenstrahlen-Analysiervorrichtungen beobachtet
man einen Gradienten in der Konzentration der Metallionen innen von der Oberfläche aus in dem verglasten
Gegenstand. Die Anwesenheit eines sehr überraschenden Peaks in der Konzentrationverteilung wird im
Bereich von 5 bis 20/u von der Oberfläche entfernt beobachtet.
Die Metallionen, die so während des Entglasungsverfahrens
an die Oberfläche des Gegenstandes diffundierten· und die
mit der umgebenden reduzierenden Atmosphäre in Kontakt kommen, werden zu ihrer metallischen Form reduziert. Ein
Hauptteil des reduzierten Metalls scheidet sich diskret auf der gesamten Oberfläche des Gegenstands in Form feiner
kristalliner Teilchen ab. Es soll bemerkt werden, daß die
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Dicke der abgeschiedenen Metallschicht kontrolliert werden kann, indem man die Menge an verwendeter Metallverbindung
und/oder die Behandlungstemperatür und Zeit kontrolliert
bzw. variiert.
Nach der zuvor erwähnten Wärmebehandlung in der reduzierenden Atmosphäre wird eine zweite Wärmebehandlung in
oxydierender Atmosphäre bzw. bei oxydierender Temperatur durchgeführt. Die oxydierende Atmosphäre kann entweder
von Sauerstoff oder einem Gas, das Sauerstoff enthält wie Luft, gebildet werden. Bevor das oxydierend wirkende Gas
eingeführt wird, wird das zuvor verwendete, reduzierend wirkende Gas zweckdienlich durch Spülen mit einem inerten
Gas wie Stickstoff oder Helium entfernt. Die Temperatur, die bei dieser Wärmebehandlungsstufe vorzugsweise verwendet
wird, liegt im Bereich zwischen 2000C und dem
Schmelzpunkt des überzogenen Metalls. Die sehr feinen kristallinen Teilchen des Metalls, die an der Oberfläche
des entglasten Gegenstands bei der vorherigen Stufe abgeschieden
wurden, werden oxydiert, da sie der oxydierend wirkenden Atmosphäre bei erhöhter Temperatur bei dieser
weiten Wärmebehandlungsstufe ausgesetzt sind, und sie
werden in das Metalloxyd überführt. Da die diskreten feinen metallischen Teilchen ihre Form wechseln und während
der Überführung in ein Oxyd größer werden, verbinden sich die oxydierten Teilchen miteinander. Der Grad des Verbindens
hängt von der Temperatur und der Zeit der Wärmebehandlung ab, und er wird gleichmäßig mit zunehmender
Temperatur und/oder Verlängerung der Zeit erhöht. Entsprechend dem Bindungsgrad,der erwünscht ist, kann die
Wärmebehandlungszeit von einer kurzen Zeitdauer von ungefähr
1 Sekunde bis ungefähr 1,5 Stunden innerhalb des zuvor erwähnten Temperaturbereichs variiert werden.
Das Produkt, das man bei der zweiten Wärmebehandlung erhält, wird schließlich einer dritten Wärmebehandlung in
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reduzierender Atmosphäre unterworfen. Diese reduzierende Atmosphäre ist die gleiche wie die, die bei der
ersten Stufe beschrieben wurde, wobei . die Wärmebehandlungstemperatur
zwischen 2000C und dem Schmelzpunkt des überzogenen Metalls liegt, wie es auch bei der zweiten
Stufe der Fall war. Der Metalloxydüberzug, der auf der Oberfläche des Gegenstands während der zweiten Stufe gebildet
wurde, wird wieder zu seiner metallischen Form reduziert, indem man ihn bei dieser dritten Stufe einer
reduzierenden Atmosphäre aussetzt. Die Metalloxydteilchen, die in der zweiten Stufe miteinander verbunden
wurden, werden reduziert, während ihr gebundener Zustand intakt bleibt. Die reduzierten Metallteilchen sind somit
miteinander verbunden und bilden eine kontinuierliche Phase. Diese unterscheidet sich eindeutig von der nichtkontinuierlichen
Phase, die man bei der ersten Stufe erhalten hatte, eine Phase, die aus reduzierten Teilchen,
die diskret auf der Oberfläche des Gegenstandes abgeschieden sind, bestand. Die Zeit der Wärmebehandlung muß
bei der dritten Stufe so gewählt werden, daß mindestens
ein Teil des Metalloxyds zu Metall reduziert wird, und sie hängt von der verwendeten Temperatur ab. Sie beträgt
im allgemeinen minimal ungefähr 30 Sekunden. Es ist nicht notwendigerweise erforderlich, daß alle Metalloxydteilchen
vollständig reduziert werden. Der Grad der Reduktion kann entsprechend der in dem fertigen Produkt gewünschten Leitfähigkeit
gewählt werden. Anschließend wird man den Gegenstand auf Zimmertemperatur bei Bedingungen,
bei denen der Metallüberzug, der durch Reduktion gebildet wurde, nicht oxydiert, abkühlen. So erhält man schließlich
das fertige Produkt.
Aus der vorhergehenden Diskussion ist ersichtlich, daß die Stärke der Leitfähigkeit des Endprodukts nicht nur von der
Menge an Metallverbindung, die in di.e Ausgangsglas liefernde Masse eingearbeitet wurde, abhängt, sondern daß sie ebenfalls
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hauptsächlich durch den Grad, wie stark die Metalloxydteilchen während der zweiten Wärmebehandlungsstufe verbunden
werden, wie auch durch die Bedingungen der dritten Wärmebehandlungsstufe reguliert werden kann. Die Temperaturen
und Zeiten der Wärmebehandlungen, die erforderlich sind, um die gewünschten Leitfähigkeitswerte zu ergeben,
können leicht von einem Fachmann bestimmt werden.
Das fertige Produkt, das man durch das erfindungsgemäße Verfahren erhält, besitzt auf seiner Oberfläche einen
stark kohärenten bzw. vollkommen zusammenhängenden überzug, der entweder Kupfer oder Silber oder diese beiden
Metalle enthält und der den gewünschten Leitfähigkeitswert besitzt. Die kristalline Struktur des Glas-Keramik-Körpers
hängt hauptsächlich von der Zusammensetzung des als Ausgangsmaterial verwendeten Glasansatzes ab, und
wird durch Röntgenbeugungsanalyse bestimmt. Die kristalline Struktur ist entweder ß-Eukryptit, ß-Spodumen, Anorthoklas,
Diopsid oder Anthophirit.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie jedoch zu beschränken.
Glasansätze, die verschiedene Keimbildungsmittel und Kupferverbindungen und verschiedene Zusammensetzungen
besaßen, wurden geschmolzen. Aus diesen Schmelzen wurden Glasgegenstände mit zylindrischer Form und einem Durchmesser
von 5 mm und einer Länge von 15 mm geformt. Diese Gegenstände wurden den erfindungsgemäßen ersten, zweiten
und dritten Wärmebehandlungen unterworfen. Die erste Wärmebehandlung wurde in einer Wasserstoffatmosphäre, die
zweite Wärmebehandlung in einer Luftatmosphäre und die dritte Wärmebehandlung schließlich wieder in einer Wasserstoff
atmosphäre durchgeführt. In allen Fällen erhielt man
Glas-Keramik-Gegenstände, die mit Kupfer überzogen waren.
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Es wurden die Versuche 1 bis 8 durchgeführt, und die erhaltenen
Ergebnisse sind in Tabelle I angegeben. In der Tabelle ist der Kupferbestandteil zur Bildung des Metallüberzugs
als CuOp angegeben. In Beispiel 7 würde oedocli
Kupfersulfat verwendet.
Die Erwärmungsgeschwindigkeit, die in der Tabelle angegeben ist, ist die Geschwindigkeit, mit der die Temperatur pro
Stunde erhöht wurde, um die Probe bei der ersten Wärmebehandlung
auf maximale Temperatur zu erhitzen* Der elektrische
Widerstand (-Γ1) ist der Widerstand des fertigen Produkts,
bestimmt zwischen ά·2η beiden Enden der zylindrischen
Probe.
1 | Zusammensetzung | 59,3 | 2 | Tabel | le I | k | »* | 6 | 7 | δ | |
Versuch Nr. | des Glasansatzes | 15,0 | 3 | ||||||||
(Gew.%) | 5,0 | ||||||||||
SiO2 | 6,0 | ||||||||||
Al2O3 | - | 54,0 | 58,2 | 57,8 | 7S,7 | 52,4 | 67,9 | ||||
Li2O | 4,0 | 15,0 | 54,5 | 12,0 | 11,9 | 3,9 | 4,6 | 16,0 | |||
MgO | - | 3,0 | 17,5 | 2,1 | 2,1 | 12,1 | 10,7 | 5,2 | |||
CaO | - | 10,0 | 3,0 | 8,3 | 8,3 | _ | 10,7 | 3,4 | |||
B2O3 | 4,0 | - | 10,0 | 6,1 | - 6,1 | - | |||||
Na2O | 5,0 | - | - | - | - | - | |||||
K2O | - | 3?7 | 3,7 | - | - | ||||||
ZrO2 | - | - | - | 0,9 | 0,9 | - | |||||
P | 1,0 | 5,5 | - | 3,0 | 3,0 | HX. | 7,6 | ||||
TiO2 | 0,7 | 8,0 | 5,5 | 5,2 | 5,2 | - | - | ||||
P2O5 | - | 8,0 | „ | - | mm | - | 6,5 | ||||
BeO | - | „ | - | 1,9 | 13,0 | ||||||
Cu2O | 1,0 | - | - | - | « | - | - | ||||
1,0 | I1O | 1,0 | 1,0 | 1,0 | 1,0 | ||||||
0,5 |
3OS S38/0554
- 14 Fortsetzung Tabelle I
Versuch Nr. 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 |
Erwärmungs- geschwind. (°C/h) 170 |
170 | 170 | 170 | 170 | 170 | "170 | 170 |
Erste Wärme behandlung |
|||||||
maximale Temp.(0C) 800 |
950 | 950 | 820* | * 820 |
850 | 900 | 900 |
Standzeit (Std.) 1 |
1 | 1 | 1/2 | 1/2 | 1 | 1 | 1 |
Zweite Wärme behandlung |
|||||||
Temp.(0C) 400 | 800 | 800 | 350 | 600 | 550 | 700 | 900 |
Standzeit (Min.) 20 |
1,2 | 1, | 6 3 | 5 | 10 | 1 | .1/2 |
Dritte Wärme behandlung |
|||||||
Temp.(0C) 400 | 800 | 800 | 300 | 600 | 400 | 700 | 800 |
Standzeit (Min.) 30 |
10 | 5 | 15 | 3 | 4 | 1/2 | 1 |
Wider stand (^2) < 1 |
O | 15 | 500 | < 1 | <1 | O | 10 |
Bei der ersten Wärmebehandlung im Falle der Versuche 4 und 5 wurden die Proben i/2 Stunde bei 6000C gehalten, bevor
sie,wie in der Tabelle angegeben wurde, eine halbe Stunde
bei 8200C behandelt wurden.
Die Haftfestigkeit bzw. Kohäsionsfestigkeit der in diesen Beispielen erhaltenen Kupferüberzüge war in allen Fällen
stark. Wurde beispielsweise das Produkt von Versuch 5 gemessen, so betrug sie 18 kg/mm .
stark. Wurde beispielsweise das Produkt von Versuch 5 gemessen, so betrug sie 18 kg/mm .
309838/0554
Die elektrische Widerstandsfähigkeit des Produkts von Versuch Nr. 5, das nur die erste Wärmebehandlung erfahren
hatte, das aber nicht gemäß der zweiten und dritten Wärme-
10
behandlung behandelt worden war, betrug 10 Ohm. Dies
zeigt an, daß ein wesentlicher Teil der Kupferteilchen, die auf der Oberfläche der Probe abgeschieden waren, isoliert
voneinander vorlagen.
Ein Glasansatz | der folgenden Zusammensetzung (Gew.^o) wurde | wurden hergestellt. |
verendet. Zylindrische Proben, die gleich waren wie die | 53,4 | |
in Jeispiel 1, | 16,6 | |
SiO2 | 1,9 | |
Al2O3 | 7,6 | |
LiO2 | 5,4 | |
MgO | 0,8 | |
CaO | 4,0 | |
B2O3 | 2,7 | |
Na2O | 6,5 | |
ZrO2 | 1,0 | |
F | ||
Cu2O |
Bei der ersten Wärmebehandlung wurden diese Proben auf eine Temperatur von 95O0C erwärmt, indem man in allen Fällen
mit einer Geschwindigkeit von 170°C/h erwärmte und diese Temperatur 1 Stunde hielt. Anschließend wurden die Proben
einer zweiten und dritten Wärmebehandlung unterworfen, wobei die Bedingungen variiert wurden. Vierzehn Versuche (Nr. 9
bis 22 wurden auf diese Weise durchgeführt. Die bei den
verschiedenen Stufen verwendeten umgebenden Atmosphären waren gleich wie die von Beispiel 1. Die erhaltenen Ergebnisse
sind in Tabelle II "aufgeführt. Daraus ist ersichtlich, daß der elektrische Widerstand des Überzugs des fertigen Produkts
kontrolliert werdet) $&ty& /^§ψ% man die Bedingungen,
309838/0S54
unter denen die zweite und dritte Wärmebehandlung durchgeführt werden, variiert.
Versuch Zweite Wärmebehandlung Dritte Wärmebehandlung Elektr.
Nr. Temp.(0C) Zeit(Min.) Temp.(0C) Zeit(Min.) Widerstand
(ja)
1/4 950 1/2 2
1/3 950 20 500
1/2 850 1 80
15 850 40 3
1/12 750 20 900
3 750 30 <1
1/2 650 1 100
5 650 10 < 1
1/2 550 1 <1
5 550 20 <1
1 /2 450 30 < 1
5 450 20 · 30
1 350 30 150
40 350 70 <1
Beispiel 3
Beispiel 1 wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß Silberverbindungen
zur Herstellung der Metallüberzüge verwendet wurden. Sieben Versuche (Nr. 23 bis 29) wurden durchgeführt.
Als Silberverbindung wurden in den Versuchen 25 und 28 Silberchlorid verwendet, während bei dem Rest der Versuche
Silbernitrat eingesetzt wurde. Man erhielt in allen Fällen einen Glas-Keramik-Körper, der einen stark haftenden Silberüberzug
besaß. Die Zusainmens et zungen der Glasansätze, die Wärmebehandlungsbedingvingen bei den verschiedenen Stufen
und die elektrischen Widerstände der entsprechenden Produkte sind in Tabelle III angegeben. Die in der Tabelle verwendeten
309838/0554
9 | 950 |
10 | 950 |
11 | 850 |
12 | 850 |
13 | 750 |
14 | 750 |
15 | 650 |
16 | 650 |
17 | 550 |
18 | 550 |
19 | 450 |
20 | 450 |
21 | 350 |
22 | 350 |
Ausdrücke besitzen die gleichen Bedeutungen wie die von
Tabelle I
23 | Tabelle III | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | |
Versuch Nr. | 24 | ||||||
Glasansatzzusam-
mensetzung(Gew.%) |
59,0 | . 58,5 | 62,4 | 62,5 | 52,4 | 67,0 | |
SiO2 | 15,0 | 57,8 -. | 11,9 | 9.7 | 18,8 | 16,9 | |
Al2O3 | 5,0 | 11,9 | 2,0 | ™ | 10,7 | p. <%. | |
Li2O | 6,0 | 2,1 | 8,8 | 7,4 | - | 10,7 | |
MgO | - | 8,3 | 6,2 | 7,9 | - | ||
CaO | 4,0 | 6,1 | 3,7 | — | — | ||
B2O3
Na2O |
- | 3,7 | 0,3 | ||||
K2O | - | 0,9 | - | - | „ | ||
PbO | - | - | - | 3,3 | «■ | ||
MoO3 | - | - | - | - | =·, | ||
CaF2 | 4,0 | - | 3,1 | - | - | 7,P | |
ZrO2 | 5,0 | 5,0 | 4,2 | - | - | - | |
F | - | 5,2 | - | _ | 6,5 | ||
TiO2 | 1,0 | „ | ■KI | 13,C | — | ||
P2O5
BeO |
1,0 | : | 1,0 | 1,0 | - ι,ο | 1,0 | |
Ag2O | 170 | 1,0 | 170 | 170 | 170 | 170 | 170 |
Erwärmungsge- schwindigk.( C/h) |
850 | 170 | #· 800 |
850 | 850 | 900 | 900 |
1.Wärmebehandlung max.Temp.(0C) |
1 | 800* | 1/2 | 1 . | 2 | 1 | 1 |
Standzeit(Std.) | 350 20 |
1/2 | 550 5 |
650 2 |
Söö
-■ /i ' - Le |
1 | 900 1/2 |
2.Wärmebehandlung Temp.(0C) Standzeit(Min.) |
350 10 |
750 *"> |
550 3 |
650 i |
1 | 7ÖG | 7GO |
3.Wärmebehandlung Temp.( C) Standzeit(Min.) |
200 | 750 ι |
<1 | 30 | 70 | .CW | 70 |
Widerstand( -Π. ) | < 1 | ||||||
300Ö38/05S*
Bei den Versuchen 24 und 25 bei der ersten Wärmebehandlung wurden die Proben 1 Stunde bei 600°C gehalten, bevor sie
1 Stunde auf 8000C, wie in der Tabelle angegeben, erwärmt
wurden. -
Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei man aber als Metallüberzug liefernde Verbindung sowohl eine Kupferverbindung
als auch eine Silberverbindung zusammen einsetzte. Sechs Versuche (Nr. 30 bis 35) wurden durchgeführt. Bei jedem Versuch
wurde die Temperatur bei der ersten Wärmebehandlung mit einer Geschwindigkeit von 17O°C/h erhöht. In allen
Fällen erhielt man einen Glas-Keramik-Körper mit einem starkhaftenden metallischen Überzug, der sowohl Kupfer als auch
Silber enthielt. Die Zusammensetzungen der Glasansätze, die Wärmebehandlungsbedingungen der verschiedenen Stufen
und die elektrischen Widerstände der entstehenden Produkte sind in Tabelle IV angegeben. Die in dieser Tabelle verwendeten
Ausdrücke besitzen die gleichen Bedeutungen wie die von Tabelle I. ImFaIIe der ersten Wärmebehandlung von
Versuch 31 wurde die Probe 1 Stunde bei 6000C aufbewahrt,
bevor sie 1/2 Stunde bei 8000C, wie in der Tabelle angegeben,
gehalten wurde.
309838/0554
22G9373
30 | Tabelle | IY | 33 | 34 | 35 · | |
Versuch Nr. | 31 | 32 | ||||
Glasansatzzusammen | ||||||
setzung (Gew.%) | 59,0 | 62,5 | 52,4 | 67,0 | ||
SiO2 | 15,0 | 57,8 | 62,4 | 18,8 | 4,6 | 16,9 |
Al2O3 | 5,0 | 11,9 | 9,7 | 5,0 | 10,7 | 5,2 |
Li2O | 6,0 | 2,1 | - | - | 10,7 | 3,4 |
MgO | - | 8,3 | 7,4 | - | - | - |
CaO | 4,0 | 6,1 | 7,9 | - | - | - |
B2O3 | - | - | - | - | - | - |
Na2O | - | 3,7 | 6,1 | - | - | - |
K2O | - | 0,9 | - | 0,2 | - | - |
PbO | - | - | - | - | - | - |
MoO3 | - | - | 3,3 | 13,0 | - | - |
CaF2 | 4,0 | - | - | - | 7,6 | - |
ZrO2 | 5,0 | 3,0 | - | - | - | |
F | - | 5,2 | 2,2 | - | - | |
TiO2 | - | - | - | - | 13,0 | - |
P2O5 | 1,0 | - | - | - | - | - |
BeO | 0,5 | - | - | 0,3 | 0,3 | 0,7 |
Cu2O | 0,5 | 0,5 | 1,0 | 0,2 | 0,7 | 0,3 |
Ag2O | 0,5 | 0,5 | ||||
1. Wärmebehandlung | 850 | 850 | 900 | 900 | ||
max.Temp.(0C) | 1 | 800 | 850 | 2 | 1 | 1 |
Standzeit(h) | 1/2 | 1 | ||||
2. Wärmebehandlung | 400 | 350 | 700 | 900 | ||
Temp.(0C) | 15 | 750 | 800 | 5 | 1 | 1/2 |
Standzeit(Min.) | 2 | 1/2 | ||||
3. Wärmebehandlung | 400 | 350 | 700 | 700 | ||
Temp.(0C) | 10 | 750 | 800 | 10 | 1/2 | 3 |
Standzeit(Min.) | 5 | 1 | 1 | 1000 | 500 | 800 |
Widerstand ( SX ) | 1 | 80 | ||||
3Ö9838/ÖSS4
Claims (2)
- - 20 PatentansprücheVerfahren zur Herstellung eines metallüberzogenen Glas-Keramik-Gegenstandes durch Schmelzen eines Glas liefernden Ansatzes, der ein Keimbildungsmittel und 0,05 bis 5 Gew.%, berechnet als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht des glasbildenden Ansatzes, einer Kupfer- und/oder Silbermetallverbindung enthält, Verformen der Schmelze zu einem Glasgegenstand der gewünschten Konfiguration und Erwärmen des geformten Glasgegenstands in einer reduzierenden Atmosphäre, um das Glas zu entglasen, während die Metallionen, die aus der Metallverbindung gebildet werden, durch die Glasmatrix migrieren und an die Oberfläche des entglasten Gegenstandes diffundieren und auf der Oberfläche die Metallionen zu Metallteilchen reduziert werden, dadurch gekennzeichnet, daß man die Wärmebehandlung in drei Stufen durchführt:einer ersten Stufe, bei der der geformte Glasgegenstand in reduzierender Atmosphäre wie oben beschrieben erwärmt wird,einer zweiten Stufe, bei der der Gegenstand in oxydierend wirkender Atmosphäre erwärmt wird, wobei die Metallteilchen oxydiert werden, und kristalline Metalloxydteilchen, die eng miteinander verbunden sind, gebildet werden, und daran anschließendeiner dritten Stufe, bei der der erhaltene Gegenstand erneut in einer reduzierenden Atmosphäre erwärmt wird, wobei das Metalloxyd in den metallischen Zustand auf der Oberfläche des entglasten Gegenstands überführt wird.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß bei der ersten Wärmebehandlung die Temperatur des gebildeten Glasgegenstands mit einer Geschwindigkeit, die 170°C/h nicht übersteigt, auf eine Temperatur zwischen dem Übergangspunkt des Glases und dem Schmelzpunkt des Metalls,309838/0554mit dem der Gegenstand überzogen v/lrd, erwärmt wird, der Gegenstand bei dieser Temperatur während einer Zeitdauer gehalten wird, die ausreicht, daß das Glas entglast, die zweite Wärmebehandlung durchgeführt wird, indem man den Gegenstand bei einer Temperatur zwischen 2000C und dem Schmelzpunkt des Metalls'hält während der Zeitdauer, die erforderlich ist, daß mindestens ein Teil der Metallteilchen, die auf der Oberfläche des Gegenstands durch die erste Wärmebehandlung gebildet wurden, oxydiert wird, und wobei die dritte Wärmebehandlung durchgeführt wird, indem man den Gegenstand bei einer Temperatur zwischen 20O0C ..und dem Schmelzpunkt des Metalls hält während einer Zeitdauer, die ausreicht, damit die Metalloxydteilchen, die durch die zweite Wärmebehandlung gebildet werden, mindestens teilweise reduziert werden und in ihren Metallzustand überführt werden.309838/0554
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Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3914517A (en) * | 1971-02-23 | 1975-10-21 | Owens Illinois Inc | Method of forming a conductively coated crystalline glass article and product produced thereby |
US3854919A (en) * | 1971-07-23 | 1974-12-17 | Owens Illinois Inc | Method of forming transparent glass ceramic with compression layer |
US4001476A (en) * | 1971-09-17 | 1977-01-04 | Pilkington Brothers Limited | Manufacture of float glass |
JPS5324966B2 (de) * | 1972-12-25 | 1978-07-24 | ||
FR2234239B1 (de) * | 1973-06-25 | 1977-02-18 | Ishizuka Glass | |
US4030903A (en) * | 1974-01-01 | 1977-06-21 | Corning Glass Works | Exuded transition metal films on glass-ceramic articles |
JPS5912624B2 (ja) * | 1975-05-24 | 1984-03-24 | 石塚硝子 (株) | 高温用断熱材とその製造方法 |
US4084973A (en) * | 1977-01-07 | 1978-04-18 | Corning Glass Works | Glass articles with hematite and/or magnetite and/or metallic iron surfaces |
US4084972A (en) * | 1977-01-07 | 1978-04-18 | Corning Glass Works | Glass-ceramics with metallic iron surfaces |
US4083727A (en) * | 1977-01-07 | 1978-04-11 | Corning Glass Works | Glass-ceramics with magnetic surface films |
US4413061A (en) * | 1978-02-06 | 1983-11-01 | International Business Machines Corporation | Glass-ceramic structures and sintered multilayer substrates thereof with circuit patterns of gold, silver or copper |
US4442175A (en) * | 1983-01-27 | 1984-04-10 | Corning Glass Works | Cellular ceramic bodies and method making same |
US4441905A (en) * | 1983-01-27 | 1984-04-10 | Corning Glass Works | Method of forming ceramic bodies |
US4472185A (en) * | 1983-01-27 | 1984-09-18 | Corning Glass Works | Method of producing a cellular ceramic body |
US4836837A (en) * | 1987-11-16 | 1989-06-06 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Metal coated glass fibers |
US5053361A (en) * | 1988-07-18 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Setter tile for use in sintering of ceramic substrate laminates |
US4971738A (en) * | 1988-07-18 | 1990-11-20 | International Business Machines Corporation | Enhanced removal of carbon from ceramic substrate laminates |
US5718046A (en) * | 1995-12-11 | 1998-02-17 | General Motors Corporation | Method of making a ceramic coated exhaust manifold and method |
US6030681A (en) * | 1997-07-10 | 2000-02-29 | Raychem Corporation | Magnetic disk comprising a substrate with a cermet layer on a porcelain |
WO2007121052A2 (en) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | 3M Innovative Properties Company | Metal-coated superabrasive material and methods of making the same |
US8181483B2 (en) * | 2007-06-01 | 2012-05-22 | Schott Ag | Processes for preparing electrically-conductive glass-ceramics |
US8241395B2 (en) * | 2007-06-11 | 2012-08-14 | Schott Corporation | Glass-ceramic membranes |
US9139465B2 (en) | 2009-08-04 | 2015-09-22 | Lehigh University | Conductive doped metal-glass compositions and methods |
US11370685B2 (en) | 2016-08-02 | 2022-06-28 | Corning Incorporated | Methods for melting reactive glasses and glass-ceramics and melting apparatus for the same |
CN110885189B (zh) * | 2019-11-13 | 2021-12-03 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 无锆羊脂釉及使用无锆羊脂釉制得的定位晶花陶瓷砖 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL261774A (de) * | 1960-02-29 | |||
DE1496540B1 (de) * | 1963-02-27 | 1970-08-06 | Ishizuka Glass | Verfahren zur Erzeugung von UEberzuegen aus metallischem Kupfer und/oder Silber auf entglasten keramischen Formkoerpern |
DE1490706A1 (de) * | 1964-11-18 | 1969-09-04 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Widerstandskoerpers |
US3490887A (en) * | 1966-03-30 | 1970-01-20 | Corning Glass Works | Ferroelectric glass-ceramics |
US3639113A (en) * | 1969-01-31 | 1972-02-01 | Margarita Semenovna Aslanova | Method of manufacturing tape possessing semiconducting properties |
US3704110A (en) * | 1971-05-13 | 1972-11-28 | John B Finn | Electrically conductive surface |
-
1972
- 1972-02-23 US US00228757A patent/US3790360A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-02-23 GB GB836672A patent/GB1341533A/en not_active Expired
- 1972-02-25 FR FR7206441A patent/FR2172880B1/fr not_active Expired
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Also Published As
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GB1341533A (de) | 1973-12-25 |
DE2209373B2 (de) | 1974-04-04 |
FR2172880B1 (de) | 1977-06-17 |
US3790360A (en) | 1974-02-05 |
FR2172880A1 (de) | 1973-10-05 |
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