DE2151040A1 - Rasterplatte fuer photomechanische Reproduktion - Google Patents

Description

Unser Zeichen; T 1Q90

Rasterplatte für photomechanische Reproduktion

Die Erfindung bezieht sich auf Rasterplatten, die für Halbtonverfahren bei der Reproduktion beim Buchdruck, bei der Photolithographie und bei der Photogravüre verwendet werden. Bei diesem Verfahren v/erden kontinuierliche Farbabstufungen des Originals durch Abstufungen ersetzt, die aus den Größen und der Konzentration oder der Verteilung einer Vielzahl von kleinen Elementen hervorgehen, in die der ursprüngliche Gegenstandumgesetzt wird. Für diese Umwandlung oder Um~ Setzung wird bei der photographischen Reproduktion des Originals eine Rasterplatte verwendet.

Die bisher für diese Zwecke verwendeten Rasterplatten haben eine ebene Oberfläche, die ein Muster von zellenartigem Charakter in zwei verschiedenen Arten aufweisen. Bei der ersten Rasterplattenart, die als eine Glasrasterplatte mit gekreuzten Linien bezeichnet v/erden kann,

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sind die zellenartigen Bereiche durchsichtig und sie haben eire undurchsichtige Umrandung. Diese Basterplatte besteht üblicherweise aus zwei liniierten, geätzten, mit einer undurchsichtigen Füllung gefüllten und zusammengeklebten Gläsern, wobei sich die Linien unter einem Winkel von 90° kreuzen. Diese Rasterplattenart wird in Reproduktionskameras verwendet, bei denen die Rasterplatte in einem vorbestimmten Abstand vor der lichtempfindlichen Platte oder vor dem lichtempfindlichen Film genau eingestellt werden kann. Dieeer Abstand hängt von der Anzahl der Linien pro Zoll der Liniierung und von anderen Faktoren ab.

Bei der zweiten Rasterplattenart, die als eine Kontakt— rasterplatte mit veränderbarer Dichte bezeichnet werden kann, sind benachbarte zellenartige Bereiche von einem dunklen zu einem hellen Zentralpunkt vignettiert, wobei die Grundform die eines Schachbrettmusters ist. Eine derartige Rasterplatte kann entweder in einer Reproduktionskamera oder in einem Vergrößerungsgerät verwendet werden und sie steht üblicherweise mit der lichtempfindlichen Platte oder mit dem lichtempfindfc liehen Film in Berührung. Aus diesem Grund wird eine derartige Rasterplatte als Kontaktrasterplatte bezeichnet.

In Anbetracht der undurchsichtigen oder teilweise undurchsichtigen Muster auf den Rasterplatten schlucken die jetzt in Gebrauch befindlichen Rasterplatten einen wesentlichen Anteil des Lichtes, das von dem zu reproduzierenden Bild oder von einem anderen zu reproduzierenden Gegenstand durch die Rasterplatte geht. Diese bekannten Rasterplatten haben auch noch andere, un—

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erwünschte Nachteile. So ist eine Easterplatte mit sich kreuzenden Linien nicht in der Lage, die Farbtöne und die Einzelheiten eines Originals genau zu reproduzieren, da durch die verwendeten Winkel von 90° die zellenartigen Bereiche nur in zwei Richtungen gleich weit entfernt liegen, während der Abstand in der diagonalen Richtung gleich dem Abstand eines benachbarten zellenartigen Bereiches multipliziert mit der Quadratwurzel aus zwei ist. Dies hindert einen Lichtkegel aus einer Linse beim Durchgang durch jeden Rasterplattendurchlaß an der Ausbildung eines unendlich kleinen Punktes, wie dies der Fall wäre, wenn die Rasterplattendurchgänge kreisförmig wären« Auf der Bildebene ist auch nur 25% des Originals sichtbar.

Bei der zweiten Rasterplattenart, nämlich der Kontaktrasterplatte, ist die Reproduktion von Einzelheiten besser, jedoch sind die Licht abs or pt ion und die Lichtstreuung bei einer Graukontaktrasterplatte ein in Kauf zu nehmender Nachteil, während bei einer Färbkontaktrasterplatte für Magentarot Schwierigkeiten auftreten, wenn gefärbte Filter verwendet werden. Die Mchtabsorption und in geringerem Maße die Lichtstreuung sind weitere Nachteile.

Die Hauptaufgabe der Erfindung ist es, eine Rasterplatte zu schaffen, die einen größeren Anteil des auftreffenden Lichtes durchläßt und die die oben genannten Nachteile der bekannten Rasterplatte vermindert oder vermeidet©

Erfindungsgemäß besteht die Lösung dieser Aufgabe in einer Rasterplatte für die photomechanische Repro-

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duktion, die aus einer durchsichtigen Platte mit einer Außenfläche oder einer Zwischenfläche zwischen Materialien mit unterschiedlichen Lichtbrechungsindizes besteht, die ungleichförmig oder reliefartig ist, um eine Linsenwirkung auf das hindurchtretende Licht auszuüben.

Die Erfindung umfaßt weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Rasterplatte, bei dem eine im wesentlichen ebene Oberfläche einer Ausgangsplatte durch photographische oder mechanische Mittel in eine reliefartige Oberfläche verwandelt wird«

Weitere Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen,.die in der Zeichnung dargestellt sind. In dieser sind:

Fig.1, 2 und 3 Ausführungsformen eines bevorzugten, zellenartigen Musters, das bei der Herstellung einer erfindungsgemäßen Rasterplatte Verwendung findet,

Fig.4 eine Seitenansicht eines Schnittes durch eine relief- oder linsenartige Rasterplatte gemäß der Erfindung, wobei der Schnitt in der Ebene liegt, die durch die Mitten f, o, c der in Fig.1 gezeigten Zellen geht,

Figo5 und 6 aufeinanderfolgende Verfahrensstufen bei der Herstellung einer gemusterten Komponente zur Verwendung bei der Herstellung einer Rasterplatte gemäß der Erfindung,

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Fig.7 eine perspektivische und etwas schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, die zur Ausführung mechanischer Tätigkeiten zur Herstellung einer in Fig.4 gezeigten Rasterplatte Verwendung findet und

Pig_e8 und 9 vergrößerte Seitenansichten des Stößels oder des Eindrückgerätes, der bzw. das in der in Fig.7 gezeigten Vorrichtung Verwendung findet.

Bei der Ausführung der Erfindung wird es bevorzugt, daß die zellenartigen Bereiche der Rasterplatte eine im wesentlichen sechseckige Form und Anordnung haben· Die nachfolgende Beschreibung einer Ausfuhrungsform einer erfindungsgemäßen Rasterplatte, die durch ein photochemisches Verfahren hergestellt wird, bezieht sich auf eine Rasterplatte mit Zellen dieser Form. Es sei jedoch bemerkt, daß die Erfindung für Rasterplatten verwendbar ist, bei denen die zellenartigen Bereiche andere Formen und Anordnungen haben und die Erfindung ist nicht nur auf Rasterpaltten mit sechseckigen Zellen beschränkt, sondern die erfindungsgemäßen Rasterplatten können auch Zellen von im wesentlichen beliebiger, zweckdienlicher Form oder Anordnung haben.

Die Herstellung einer Ausführungsform der Rasterplatte gemäß der Erfindung durch photochemische Mittel ist in den Fig.1 - 6 der Zeichnung dargestellt. Die Herstellung umfaßt die Verfahrensstufen einer Anfertigung einer ebenen Rasterplatte, die in undurchsichtigen und in durchsichtigen Bereichen das gewünschte zellen-

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artige Muster tragt. Die nächste Verfahrensstufe besteht in einem Belichten einer lichtempfindlichen Fläche mit dem Bild des. Musters. Danach folgt zur Ausbildung einer dauerhaften reliefartigen Oberfläche in Übereinstimmung mit dem Muster, mit dem die Oberfläche belichtet worden ist, eine chemische Behandlung der belichteten Fläche. Die Materialplatte mit dieser reliefartigen Oberfläche kann selbst die gewünschte Rasterplatte bilden oder sie kann als eine Matrize verwendet werden, in die ein durchsichtiges |l Material, beispielsweise Kunststoff, gegossen wird, das dann eine relief artige Oberfläche hat, die der Reliefoberfläche der Matrize entspricht.

Gemäß Fig.1 - 6 kann die ebene Rasterplatte eine Platte oder ein Film 1 sein, deren Oberfläche durch ein sechseckiges Netzwerk 3 in sechseckige Zellen 2 aufgeteilt ist. Die Zellen können undurchsichtig und das Netzwerk durchsichtig oder umgekehrt sein. Es sei bemerkt, daß durch die sechseckige Anordnung die Mitte O irgendeiner Zelle von den Mitten a, b, c, d, e und f aller angrenzenden Zellen gleich weit ent- * fernt ist.

Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung einer Rasterplatte, wie sie in Fig.1 dargestellt ist, ist im nachfolgenden beschrieben.

Eine mit einem undurchsichtigen Ätzgrund beschichtete Glasplatte v/ird durch maschinelle Bearbeitung mit zwei Reihen von im Abstand befindlichen parallelen Linien liniiert, die eine ausgewählte Breite haben und die zueinander um 60°"geneigt sind. Diese durchsichtigen

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Linien umschließen Rhomben der nicht beseitigten Beschichtung. Die Platte wird mit einer dritten Reihe von Linien liniiert. Diese dritte Linienreihe ist um 60° zu den zwei vorher genannten Reihen geneigt und so angeordnet und bemessen, daß durch sie die Spitzen jedes Rhomboids beseitigt werden, wodurch sechseckige Bereiche der nicht entfernten Beschichtung zurückbleiben. Nach dem Ätzen der Platte längs der eingearbeiteten Linien wird der verbliebene Ätzgrund, d_eh_e der Ätzgrund in den sechseckigen Zellen, beseitigt. Die geätzten Vertiefungen werden mit einem undurchsichtigen Material ausgefüllt, um eine Platte mit einer Anordnung von durchsichtigen Sechsecken mit undurchsichtigen Umrandungen zu schaffen, wie dies in Fig.5 dargestellt ist. In Fig.5 sind die Linienbereiche punktiert dargestellt, um die Undurchsichtigkeit dieser Bereiche anzudeuten· Das in Fig.1 dargestellte Honigwabenmuster wird dann unter Verwendung dieses Originals auf photographischem Wege hergestellt, indem eine dreifache Belichtung einer lichtempfindlichen Platte erfolgt. Jede der drei Belichtungen wird mit dem Original in einer gegenüber der vorhergehenden Belichtung verschobenen Stellung durchgeführt. Auf diese Weise erzeugt eine erste Belichtung sechseckige Zellen, die so angeordnet sind, wie dies in Fig.6 in dicken ausgezogenen Linien dargestellt ist. Eine zweite Belichtung erzeugt weitere sechseckige Zellen, die so angeordnet sind, wie dies in Fig.6 in gestrichelten Linien gezeigt ist, und eine dritte Belichtung erzeugt eine weitere Reihe von sechseckigen Zellen, die in Fig.6 mit dünnen Linien dargestellt sind. Wenn die Platte nach dieser dreifachen Belichtung entwickelt wird, zeigt sie Sechsecke,

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wie sie in Fig.1 angeordnet sind. Es sei bemerkt, daß die Platte in einem beliebigen Bereich die dreifache Anzahl der sechseckigen Zellen hat als sie in Fig.5 gezeigt ist. Falls erwünscht, können durchsichtige Sechsecke mit einem undurchsichtigen Netzwerk auf photographischem Wege von dieser dreifach belichteten Platte der Fig.6 nach dem Entwickeln durch eine weitere Kopierverfahrensstufe erzielt werden.

Auf Wunsch kann eine vignettierte Rasterplatte durch einen weiteren Verfahrensschritt hergestellt werden. Zu diesem Zweck muß eine der beiden oben beschriebenen durchsichtigen und undurchsichtigen Rasterplatten mit sechseckigen Zellen von der lichtempfindlichen Platte abgehoben werden, so daß die Rasterplatte nicht mit der lichtempfindlichen Platte in Berührung steht und es ist eine Belichtung durchzuführen. Bei der Entwicklung entsteht eine vignettierte Rasterplatte mit Sechsecken. An Stelle der Verwendung von normalen Entwicklern, die silberne, graue Bilder herstellen, kann zur Herstellung gefärbter Bilder eine '!Farbkopplung" verwendet werden»

Alternativ kann ein Diagramm, d.h., eine Zeichnung hergestellt werden, die große umrandete Sechsecke hat, die hexagonal angeordnet sind, und diese Einehe it wird optisch verkleinert und photographisch kopiert, wobei eine stufenweise arbeitende Reproduktionsmaschine verwendet wird. Auf diese Weise können Rasterplatten hergestellt werden, wie sie in den Fig.2 oder 3 dargestellt sind.

Unabhängig von der Herstelltung wird eine ebene un-

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durchsichtige-durchsichtige Rasterplatte, wie sie oben beschrieben ist, verwendet, um durch photochemische Mittel eine Reliefoberfläche herzustellen. Es sind verschiedene Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes in Gelatine bekannt, die zu diesem Zweck verwendet werden können. Als Beispiel ist hier angeführt»

a. Eine Platte auf der Basis eines Filmes ist mit einer weichen bichromatierten Gelatine beschichtet und sie wird durch die undurchsichtige-durchsichtige Rasterplatte belichtet, wodurch auf der belichteten Oberfläche ein Bild projeziert wird. Nach einem Eintauchen in warmes Wasser löst sich die weiche Gelatine auf, die nicht belichtet worden ist. Dadurch bleibt ein reliefartiges Bild der Gelatine zurück, die infolge der Einwirkung des Lichtes nicht aufgelöst wird.

b. Ein weiteres Verfahren, das beispielsweise zur Anwendung kommen kann, ist als Ätz^/Bleichverfahren bekannt. Ein lichtempfindlicher Film wird mit einem Bild einer undurchsichtigen-durchsichtigen Rasterplatte belichtet, entwickelt, fixiert und in bekannter Weise gewaschen. Der Film wird dann in ein Ätzbad aus Kupfervitriol/Wasserstoffsuperoxyd eingetaucht, das das ganze Silber und die zugehörige Gelatine beseitigt, wodurch ein Reliefbild aus Gelatine zurückbleibt.

Falls eine Rasterplatte mit sechseckigen Zellen, wie sie in Fig.1 gezeigt sind, in einer kurzen Entfernung vor einem lichtempfindlichen Film angeordnet wird, wonach entweder das Verfahren a. oder b_e folgt, und der Film belichtet und entsprechend den Erfordernissen des verwendeten Verfahrens behandelt wird, . wird eine

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Rasterplatte mit sechseckiger Anordnung von sich veränderndem Relief erzeugt. Diese Verfahren können auch verwendet werden, um eine "beliebige andere Form als Sechsecke einer veränderlichen reliefartigen Rasterplatte herzustellen.

Bei den vorgenannten Verfahren kann ein beliebiges, lichtempfindliches Material, das ein Reliefbild bildet, anstelle von Gelatine als eine Beschichtung oder als vollständige Rasterplatte verwendet werden, und als Beispiel sei ein Photopolymer genannt. Bei der Verwendung unterschiedlicher Zwischenräume zwischen dem Originalmuster und der lichtempfindlichen Oberfläche beim Belichten können steile oder flache Kurven der vertieften Bereiche letztendlich in der Reliefoberfläche erzielt werden.

Wie oben erwähnt kann die Unterlage, auf der eine Reliefoberfläche durch die oben genannte photochemische Behandlung ausgebildet wird, als die endgültige Rasterplatte verwendet werden, oder es wird von diesem Relief eine Form angefertigt, von der weitere Kopien hergestellt werden können.

Die Rasterplatte kann aus beliebigem Material angefertigt werden, das selbst durchsichtig ist. Die Rasterplatte kann mit einer Fläche oder mit einer Oberfläche einstückig sein, die geformt oder gegossen ist, um das gewünschte Profiel zu bilden oder sie kann auf einem durchsichtigen Grundkörper, beispielsweise Glas oder auf einem Film aus Kunststoff, aufgebracht sein. . Außerdem kann die Rasterplatte in einer der beiden oben genannten Ausführungsformen hergestellt

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sein und sie kann mit einem durchsichtigen Film oder einer durchsichtigen Beschichtung auf der Reliefoberfläche versiegelt sein, um eine vollständig glatte Oberfläche zu bilden, wodurch die reliefartige Oberfläche vor einer Beschädigung und einer Verschmutzung geschützt ist. FaIIs diese Beschichtung entweder eine geringe unterschiedliche Dicke zu dem Grundkörper und/ oder einen unterschiedlichen Brechungsindex hat, bildet sie eine optische Zwischenfläche, um die relative Stellung des Brennpunktes des Profiles der Elemente zu verändern, wenn die Rasterplatte umgedreht verwendet wird, d.h. wenn die beschichtete Seite auf der Seite der lichtempfindlichen Emulsion angeordnet ist. Hierdurch ist dann eine Kontaktrasterplatte mit zwei unterschiedlichen Färbtonbereichen geschaffen, und zwar einen für jede Seite der Rasterplatte, was die Rasterplatte anpassungsfähiger macht als dies eine der bekannten Kontaktrasterplatten ist·.

Als eine Alternative zu dem oben beschriebenen photochemischen Verfahren zur Herstellung einer Rasterplatte gemäß der Erfindung kann ein mechanisches Verfahren verwendet werden, das in Verbindung mit den Fig.7 - 9 beschrieben ist.

Bei diesem mechanischen Verfahren wird ein Stößel 4-in eine Oberfläche einer weichen Metallegierung - " oder eines beliebigen anderen weichen, nicht elastischen Materials gestoßen oder eingedrückt, die einen vollständigen Eindruck der Stößelspitze beibehält, wobei der Stößel nach der Art eines Hammers getrieben wird. Die Stößelspitze kann mit einem Diamanten, einem Saphir, einem Silikonkarbid, einem Borkarbid, einem gehärteten

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Stahl oder mit einem ähnlichen harten Material versehen sein. Die Stößelspitze ist sorgfältig zu der erforderlichen Große und Form bearbeitet. Das weiche Oberflächenmaterial ist auf dem Bett einer Maschine angeordnet, die nach dem System einer Liniiermaschine arbeitet, deren Prinzip bekannt ist.

Das Maschinenbett, auf dem die Platte aus einer weichen Metallegierung oder aus einem anderen Material befestigt ist, bleibt während der hin- und hergehenden Bewegung des Stößels stillstehen.

Der Stößel 4 geht in einem Support 5 in senkrechter Richtung hin und her. Der Support 5 ist in einem Schlitz einer Brücke 6 verschiebbar angeordnet. Die Brücke 6 erstreckt sich quer über einen Grundrahmen 7»cLer Rinnen 8 und 9 enthält. Ein Bett 10 hat Gleitteile 11 und 12, die in den Rinnen 8 bzw. 9 verschiebbar sind.

An dem Ende einer Schraube 14 ist ein Klinkenrad 13 befestigt. Über das Klinkenrad 13 wird das Bett 10 , parallel zu der Schraube 14 absatzweise über eine Entfernung bewegt, die von der Anzahl der pro Zoll erforderlichen Punkte abhängt. Wenn das Bett stillsteht, fällt der Stößel herunter, wobei er gemäß Fig.7 die Oberfläche eindrückt. Die Auswahl und/oder die Einstellung der Anzahl der bewegten Klinkenzähne bestimmt die erforderliche Bewegung. Die Maschine arbeitet kontinuierlich, bis eine Reihe von Eindrücken fertiggestellt ist, worauf durch die oben genannte C Schraube 14 das Bett in die Ausgangsstellung zurückbewegt wird.

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Der Stößelsupport 5 ist durch eine zweite Schraube bewegbar, die rechtwinklig zu der erstgenannten Schraube 14- auf einer Traverse über dem Maschinenbett 10 angebracht ist. Die zweite Schraube 15 wird bewegt, um den Stößel genau für die Eindrücke in einer zweiten Reihe anzuordnen und einzustellen. Dieses Verfahren wird fortgesetzt, bis der gesamte gewünschte Bereich mit Eindrücken oder Vertiefungen versehen ist«

Der Stößel kann gemäß Pig·8 durch eine drehbare Kurvenscheibe 16 gesteuert werden, die zusammen mit der Bewegung des Klinkenrades I3 arbeitet, wodurch die Kurvenscheibe so eingestellt wird, daß sie dem Stößel ermöglicht, während jeder Stillstandsperiode des Bettes 10 herunterzufallen. Die Kurvenscheibe 16 hebt den Stößel so an, daß er von der weichen Oberfläche freikommt, ehe die Schraube 14 erneut gedreht wird. Die Tiefe des Eindruckes oder der Vertiefung wird durch das Gewicht des Stößels bestimmt, das nach Erfordernis durch Hinzufügen von kleinen Bleigewichten an das obere Ende des Stößelschaftes vergrößert werden kann.

Die erforderliche Tiefe eines Eindruckes des Stößels in die Metallegierung ist so, daß die Kanten der Eindrücke in dem Material gerade aneinander angrenzen, wenn die genaue Bewegung des Stößels ausgeführt ist«

Die Spitze des Stößels ist vorzugsweise so geformt, daß sie eine Wölbung bildet. Die Kurve der Wölbung verändert sich gemäß Figo9 von der Mitte der Spitze zu den äußeren Rändern. Die Mittelkurve der Stößelspitze hat einen Brennpunkt, dessen Brennweite der

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Dicke der fertigen Rasterplatte entspricht. Die äußeren Kurven haben zunehmend längere Brennweiten. Dies erzeugt eine geformte Kontaktrasterplatte, die ein Photonegativ erzeugt, das aus Punkten besteht, die als winzige Punkte hinter der Mitte jedes Elementes des Rasterplattenprofiles beginnen und die sich zunehmendr. mit einer fortgesetzten Belichtung des Negatives in ihrer Abmessung vergrößern.

Die durch den Stößel eingedrückte Platte mit der weichen Oberfläche wird als Original zur Vervielfältigung durch Gießen verwendet. Bei einer Verwendung eines gefärbten oder farblosen durchsichtigen Kunststoffes wird durch Abformen von diesem Original eine durchsichtige Kontaktrasterplatte angefertigt. Für Kontaktrasterplatten, die in einer großen Stückzahl erforderlich sind, kann das aus einer Legierung bestehende Original auf elektrolytischem Wege kopiert werden, wobei es auf ein Original aus hartem Metall übertragen wird, von dem eine große Anzahl von Preßprofilen von Kontaktrasterplatten ohne eine Verformung der genau ausgebildeten Höhlungen oder Vertiefungen der Originalplatte aus einer Legierung angefertigt werden .

Eine direkte Formung von dem Original ergibt eine negative Arbeitsrasterplatte, und eine Form von einer galvanigraphischen Kopie des Originals ergibt eine positive Arbeitsrasterplatte_β

Jede der oben beschriebenen Rasterplatten kann durchsichtige Elemente von einer beliebigen Form in dem Relief haben. Das Profil jedes Elementes ist in einer

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solchen Weise geformt, um das durchgehende Licht zu brechen, und nach der Brechung wird das Licht zu einem vorbestimmten Brennpunkt oder zu vorbestimmten Brennpunkten geleitet. Die einzelnen Elemente können irgendein symmetrisches Muster, beispielsweise Dreiecke, Rhomboide, Kreise, Rechtecke usw. oder irgendeine unregelmäßige Form, beispielsweise eine Kreidekörnung, Leinengewebe, Marmormusterung, einen fortlaufenden Linienzug usw., haben. Auch die Anordnung der einzelnen Elemente kann entweder in einem regelmäßigen oder in einem unregelmäßigen Muster erfolgen, das ein Bild für ein beliebiges Druckverfahren herstellt. Die Rasterplatte kann auch gefärbt sein oder sie kann in vorbestimmten Bereichen mit einer Farbe oder mit einer beliebigen anderen Substanz eingefärbt sein, die bis zu einem bestimmten Maß den Durchgang des Lichtes verhindert.

Die beschriebene,bevorzugte hexagonale Anordnung- schafft einen einheitlichen Bereich mit der größten Anzahl von möglichen Punkten, wodurch die Genauigkeit verbessert wird. Es ergibt sich keine Überlappung von Punkten, die der Grund für eine Verdichtung des Tones in den hellen Lichtpunkten der Negative ist, die mit den bekannten Rasterplatten hergestellt werden, und es erfolgt kein plötzliches Springen der Tonwerte, wenn benachbarte Punkte aneinanderstoßen.

Jeder linsenartige Bereich oder jedes Sechseck hat ein Profil, wie das in Fig.4- dargestellte Profil. Dieses durch die Kurven hergestellte Profil des Reliefbildes kann entworfen werden, um eine Punktformation zu bilden, die bereits einen beliebigen gewünschten Tonbereich mit verdichteten Farbtönen oder auseinanderge-

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zogenen Tönen in einem beliebigen Teil dieses Bereiches bedeckt.

Wenn die Rasterplatte keine durchsichtigen oder gefärbten Bereiche hat, geht praktisch das ganze Licht, das auf die Rasterplatte fällt, durch die Rasterplatte auf die lichtempfindliche Emulsion. Hierdurch kann die kürzestmögliche Belichtung erreicht werden, während gleichzeitig zur Reproduktion das gesamte Original abgebildet wird«

Aus der obigen Beschreibung ergibt sich, daß die Erfindung Ausführungsformen von Rasterplatten zur Vorbereitung von Druckflächen schafft, die eine genaue Abbildung der Originalgegenstände erleichtert. Es sei jedoch auch bemerkt, daß die Erfindung nicht nur auf die Einzelheiten der oben beschriebenen Ausführungsformen beschränkt ist·

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Claims (1)

1. Fatentansp r ü c h e

   /1«/Rasterplatte für photomechanisehe Reproduktion, gekennzeichnet durch eine durchsichtige Platte mit einer äußeren Fläche oder einer Zwischenfläche zwischen Materialien mit unterschiedlichen Brechungsindizes, die unregelmäßig oder reliefartig ist, um eine linsenförmige Wirkung auf das hindurchgehende Licht zu schaffen,,

   2«, Rasterplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die unregelmäßige oder reliefartige Oberfläche mit einem Muster von erhabenen oder vertieften zellenartigen Bereichen ausgebildet ist.

   3. Rasterplatte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die unregelmäßige oder reliefartige Oberfläche aus sich kreuzenden Reihen von parallelen Rücken oder Rillen besteht, die zwischen sich eine Vielzahl von Vertiefungen bzw. Erhebungen bilden»

   4* Rasterplatte nach Anspruch 3_? dadurch gekennzeichnet, daß die sich kreuzenden Rücken zwischen sich zellenartige Bereiche mit einer geometrischen Form bilden, die im wesentlichen geradlinige Seiten hat·

   5. Rasterplatte nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet, daß die zellenartigen Bereiche eine im wesentlichen sechseckige Form haben.

   6. Rasterplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5» da-

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   durch, gekennzeichnet, daß das Plattenmaterial farblos ist.

   7. Verfahren zur Herstellung einer Rasterplatte nach einem der Ansprüche. 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine im wesentlichen ebene Oberfläche einer Grundplatte durch photographische oder chemische Mittel in eine reliefartige Oberfläche geformt wird β

   8· Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, daß die Lage der Oberfläche der Grundplatte lichtempfindlich ist und mit dem Bild des gewünschten Reliefmusters belichtet wird»

   9· Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundfläche nach dem Belichten chemisch behandelt wird, um ein Reliefmuster auf der Oberfläche auszubilden, das dem Bild entspricht, mit dem die Oberfläche belichtet worden ist·

   10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Oberfläche der Grundplatte mit einem Bild einer ebenen Rasterplatte belichtet wird, das ein Muster aus durchsichtigen und nichtdurchsichtigen Bereichen hat«

   11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung : des gewünschten Musters durch ein Liniieren mit Linien auf der Oberfläche der ebenen Rasterplatte erfolgt.

   12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,

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   daß die ebene Rasterplattenfläche durch eine Liniier-. maschine gemustert wird.

   13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Muster mehrere im Abstand befindliche Zellen hat, von denen jede eine im wesentlichen sechseckige Form aufweist, wobei die Zellen durchsichtig oder undurchsichtig sind und daß die Streifen zwischen den Zellen undurchsichtig bzw. durchsichtig sind.

   14. Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, daß die ebene Oberfläche der Grundplatte durch Vertiefungen oder Eindrücke gemustert wird.

   15· Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die ebene Oberfläche mit mehreren getrennten, im Abstand befindlichen, kleinen kraterartigen Vertiefungen ausgebildet wird·

   16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15,dadurch gekennzeichnet, daß die ebene Oberfläche durch Einsenken mit einem Schlagwerkzeug eingedrückt wird«

   17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die ebene Oberfläche durch die Spitze eines hin- und hergehenden Stößels eingedrückt wird.

   18. Verfahren nach Anspruch I7» dadurch gekennzeichnet, daß die Spitze des Stößels vorgeformt ist, um eine Vertiefung oder einen Eindruck von einer gewünschten Art zu bilden.

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   19· Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Peripherien der benachbarten Eindrücke oder Vertiefungen aneinander angrenzen.

   20· Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis ^9, dadurch gekennzeichnet, daß eine Rasterplatte durch !Formung eines durchsichtigen Materials als eine
   Platte mit einer Reliefoberfläche auf der Reliefoberfläche ausgebildet wird, die auf der Grundplatte ausgeführt ist·

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