DE2149093C3 - Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer Schmelze - Google Patents
Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer SchmelzeInfo
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Description
Achse des Strahlenbündels fokussiert, und daß ein aus
der Differenz dieser Signale mittels eines Proportionaltotegral-Differential-Reglers
nach zeitlicher Mittelung gebildetes Signal der Durchmesserüberwachung bzw. -steuerung dient
Vorteilhafte weitere Ausbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Wenn bei dem gewünschten Kristal'durchmesser der
Abstand zwischen Kristall und Tiegelwand nicht zu groß ist. kann die durch die Anwesenheit des wachsenden
Kristalls bedingte Krümmung der Schmelzenooerfläche
sofort übergehen in eine Krümmung, die durch die Tiegelward bedingt ist Die Schmelzenoberfläche
ist dabei an jenen Stellen, wo sie horizontal ist, trotzdem gebogen, und demzufolge wird sich eine Änderung
des Durchmessers des anwachsenden Kristalls in einer Richtungsänderung der Reflexionsstrahlung zeigen.
Vorzugsweise ist die optische Vorrichtung derart angeordnet daß die Einstrahlung parallel zur Ziehachse
ist Dabei ist die Lage der beleuchteten Oberflächenstelle der Flüssigkeit in bezug auf den Kristall unabhängig
von der Höhe des Flüssigkeitspegels im Tiegel. Der Tiegel hat vorzugsweise eine zylindrische Innenwand.
Zur Erzeugung der Srahluiig kann im Prinzip eine
Glühlampe verwendet werden. Zum Erhalten einer annähernd punktförmigen Strahlungsquelle ist eine Bogenlampe
besser geeignet. Vorzugsweise wird Laserstrahlung verwendet. Laserstrahlung ist kohärente
Strahlung, wodurch ein praktisch ideales Bündel paralleler Strahlung hoher Intensität erhältlich ist.
Bei Drehung des Kristalls wird sich bei Abweichung vom völlig runden Querschnitt eine fortwährende Richtungsänderung
der Reflexionsstrahlung ergeben. Insbesondere bei Verwendung einer annähernd punktförmig
auf die Schmelzenoberfläche fokussierten Strahlung wird die auf die Stelle der beiden Photozellen fokussierte
Reflexionsstrahlung eine Bewegung ausführen, bei der bald die eine, bald die andere Photozelle vom
reflektierten Strahl getroffen wird. Beim mittleren Sollwert des Durchmessers des anwachsenden Kristallteils
wird in der Zeit einer völligen Drehung des Kristalls jede Photozelle eine gleiche Beleuchtung durch Reflexionsstrahlung
empfangen, gegebenenfalls zu verschiedenen Momenten, während dagegen bei Abweichung
dt mittleren Durchmessers vom Sollwert bei einer voi gen Drehung des Kristalls eine Phot<
/eile mehr Reflexionsstrahlung empfangen wird als die andere.
Die Differenz ergibt sich dann aus der integrierten Reflexionsstrahlung. Eine Differenz ergibt sich auch, wenn
bei unrundem Durchmesser eine weniger fokussierte Reflexionsstrahlung die Photozellen treffen würde.
Ein Aubfi'hrungsbeispiel der Erfindung ist in der
Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
Die Figur zeigt schematisch in vertikalem Schnitt eine Ausführungsform einer ei findungsgemäßen Vorrichtung
zum Züchten eines Einkristalls aus einer Schmelze.
Die Vorrichtung zeigt einen Tiegel 1, z. B. aus Graphit,
auf einem Träger 40. Der Tiegel 1 ist von einer Hochfrequenzspule 30 umgeben. Die Hochfrequenzspule
30 wird von einem Hochfrequenzgenerator 31 gespeist. Durch Hochfrequenzinduktion wird der Tiegel
geheizt. In dem Tiegel 1 befindet sich eine Schmelze 2 aus dem zu kristallisierenden Material oder aus einer
Lösung dieses Materials. Zum Ziehen des Kristalls 5 ist eine Ziehstange 3 vertikal über der Schmelze angeordnet,
die an ihrem unteren Ende Mittel zur Befestigung eines Keimkristalls 4 aus dem Material des zu züchtenden
Einkristalls aufweist Mittels an sich bekannter Antriebsmechanismen kann die Stange 3 mit regelbarer
Geschwindigkeit hochgezogen und gleichzeitig um ihre Achse gedreht werden.
Mittels einer geeigneten Ziehgeschwindigkeit und nich» zu starker Heizung der Schmelze 2 wird zuerst an
dem Keimkristall ein konischer Teil gezüchtet bis der gewünschte Durchmesser erreicht ist Alsdann wird die
Heizung der Schmelze 2 so genau wie möglich auf einen Wert gebracht, derart daß der Kristall 5 etwa mit
konstantem Durchmesser weiterwächbt Zur automatischen Überwachung des Durchmessers durch Einregeln
des Hochfrequenzstroms in der Spule 30 ist eine optische Vorrichtung vorgesehen, die mittels örtlicher
Reflexion der Schmelzenoberfläche 7 die Überwachung des Durchmessers ermöglicht Ein Helium-Neon-Laser
11 (1 mW Dauerstrichleistung) wird als Strahlungsquelle verwendet Der aus dem Laser 11 tretende
Lichtstrahl wird durch eine Zerhackerscheibe 12 mit einer Frequenz von 1 kHz periodisch unterbrochen.
Die Zerstreuungslinse 14 macht das Laser-Lichtbündel leicht divergent so daß die Strahlung ihren Ursprung in
einem scharf definierten Punkt 15 in einer Entfernung F (Brennpunktsabstand) von der Linse 14 zu haben
scheint. Durch eine Öffnung 17 im Spiegel 16 und zwischen zwei Sirahlenteilerplatten 18 und 19 erreicht die
Strahlung die Sammellinse 20. Die Sammellinse 20 bildet den Punkt 15 mittels des Spiegels 21 in der Abtaststelle
9 auf der Schmelzenfläche 7 ab. Der Abiastpunkt 9 kann dadurch auf verschiedene Kristalldurchmesser
eingestellt werden, daß man den Spiegel 21 verschiebt. Der im Punkt 9 reflektierte Laserstrahl wird wieder
über den Spiegel 21 durch die Sammellinse 20 mittels des Spiegels 16 auf die Photodioden 25 oder 26 fokussiert,
je nachdem ob der Kristalldurchmesser zu groß oder zu klein im Vergleich zum gewünschten Wert ist.
Dies wird durch die Strahlenteilerplatten 18 und 19 erreicht, die die gesamte zurückkehrende Strahlung, welche
auf die obere Hälfte der Linsenfläche der Sammellinse 20 fällt, einige Millimeter nach oben und die durch
die untere Hälfte der Linse gehenden Strahlen einige Millimeter nach unten versetzt. Ohne die Platten 18
und 19 würde jeder von der Abtaststelle 9 zurückkehrende und in die Linsenapertur fallende Strahl in einem
Zwischenpunkt zwischen den Dioden 25 und 26 abgebildet Die Platten können auch durch zwei Prismen mit
kleinem Ablenkungswinkel ersetzt werden, die mit ihrer Spitze aufeinanderstehen.
Die durch die Zerhackerscheibe 12 fortwährend unterbrochene Strahlung erzeugt in den von ihrer Reflexion
angeregten Photozellen 25 und 20 Wechselstromsignale. Die von den Photozellen 25 und 26 erhaltenen
Signale werden in den Verstärkern 33 bzw. 34 verstärkt. Über einen PID (Proportional-lntegral-Differential)-Regler
32 wird die Differenz der Signale nach zeitlicher Mittelung (Integration) verwendet zur Leistungsregelung
des Hochfrequenzgenerators 31.
Beim Sollwert des mittleren Durchmessers des anwachsenden Kristallteils ist die integrierte Differenz
gleich Null. Wird der mittlere Durchmesser kleiner als dei Sollwert, so wird die Reflexionsfläche 9 ein wenig
gedreht, derart, daß die Photozelle 25 mehr beleuchtet wird als die Photozelle 26, und es wird ein Differenzsignal
erhalten, das die Leistung des HF-Generators 31 herabsetzt, wodurch die Temperatur der Schmelze etwas
erniedrigt wird und der mittlere Durchmesser zum Sollwert steigen wird. Ist der mittlere Durchmesser
größer als der Sollwert, wird durch Drehung der Reflexionsfläche 9 die Photozelle 26 mehr beleuchtet, und es
wird eine Differenz enigegengesetzter Art gebildet, die eine Leistungserhöhung des HF-Genciators und eine
Steigerung der Temperatur der Schmelze erzeugt, wodurch der mittlere Durchmesser zum Sollwert ernied-
rigt wird.
Der Reflexionsstrahl kann beim Sollwert« scr auch in anderen Richtungen als gemäß
des Eingangsstrahls gehen, wobei die Ausbi optischen Vorrichtung entsprechend ange
würde.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Vorrichtung air Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer in einem Tiegel befindlichen
Schmelze, mit einer optischen Überwachung und/oder Steuerung des Durchmessers des anwachsenden
Kristalls, enthaltend eine Anordnung zum Einstrahlen eines Lichtbündels auf eine infolge des
Kristalls gebogene Stelle der Schmelzenoberfläche, zum Auffangen der reflektierten Strahlung und zum
Umwandeln dieser Strahlung in elektrische Signale, die der Durchmesserüberwachung bzw. -steuerung
diesen, dadurch gekennzeichnet, daß die Stelle, auf die das Lichtbündel trifft, so weit vom
Rand des anwachsenden Kristalls entfernt ist, daß die Schmelzenoberfläche höchstens geringfügig von
der Waagerechten abweicht, daß das eingestrahlte Lichtbündel von der Ziehachse höchstens um einen
Winkel von )0° abweicht, daß zum Auffangen der
reflektierten Strahlung und Umwandeln in elektrische Signale zwei photoelektronische Bauelemente
nach einer Trennvorrichtung für die Strahlung in zwei voneinander entfernten Punkten angeordnet
sind, auf welche die Trennvorrichtung Strahlungsanteile beiderseits der Achse des Strahlenbündels
fokussiert, und daß ein aus der Differenz dieser Signale mittels eines Proportional-Integral-Differential-Reglers
nach zeitlicher Mittelung gebildetes Signal der Durchmesserüberwachung bzw. -steuerung
dient.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das eingestrahlte Lichtbündel auf eine Stelle der Schmelzenoberfläche gerichtet ist, die unter
einem Winkel von maximal 5° von der Waagerechten abweicht.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das eingestrahlte Lichtbündel auf eine
Stelle der Schmelzenoberfläche gerichtet ist, die beim Sollwertdurchmesser mindestens 3 mm vom
Rand des anwachsenden Kristallteils entfernt ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Anordnung zum Einstrahlen eines engen Lichtbündels ein Laser ist
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zum Umwandeln der
reflektierten Strahlung in elektrische Signale Photozellen sind.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zum Umwandeln der
reflektierten Strahlung in elektrische Signale Photodioden sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Photozellen oder Photodioden
derart angeordnet sind, daß sie beim Sollwertdurchmesser des anwachsenden Kristallteils
die reflektierte Strahlung mit gleicher Intensität empfangen und bei Abweichung von diesem Durchmesser
durch die Änderung der Orientierung der Auftreffstelle auf der Schmelzenoberfläche Strahlung
mit verschieden starker Intensität empfangen, wobei die Steuerung des Kristallwachsvorganges
über die Differenz der von den beiden Photozellen oder Photodioden herrührenden elektrischen Signale
erfolgt.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Anordnung zum Einstrahlen eines Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur
Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus tiner in einem Tiegel befindlichen Schmelze, mit einer optischen
Überwachung und/uder Steuerung des Durchmessers
des anwachsenden Kristalls, enthaltend eine Anordnung zum Einstrahlen eines Lichtbündels auf
eine infolge des Kristalls gebogene Stelle der Schmelzoberfläche, zum Auffangen der reflektierten Strahlung
und zum Umwandeln dieser Strahlung in elektrische Signale, die der Durchmesserüberwachung bzw. -steuerung
dienen.
Eine Vorrichtung der obenerwähnten Art ist beschrieben in der USA.-Patentschrift 3 291 650. Der Tiegel
enthält dabei eine auf der Schmelze schwimmende
Scheibe, die mit einem zentralen Loch versehen ist in dem die Schmelze etwas empo.-gepreßt wird mittels
auf der Scheibe angeordneten Gewichten, derart, daß die Schmelze etwas aus dem Loch herausragt. An dieser
Stelle wird der Kristall durch Ziehen gezüchtet.
Eine seitlich angeordnete optische Vorrichtung enthält eine Anordnung zum Einstrahlen eines konzentrischen
Lichtbücdels auf die nach dem Kristall hochgezogene Schmelzenfläche und eine Anordnung zum Auffangen
der reflektierten Strahlung. Das Lichtbündel wird schräg eingestrahlt und. der ebenfalls schrägen Lage
des bestrahlten Oberflächenteils wegen, wieder schräg zurückgestrahlt. Durch die große Krümmung der
Schmelzenfläche an der Reflexionsstelle wird sich bei sehr geringen Änderungen des Umfangs des an wach-
senden Kristallteils der Winkel des bestrahlten Schmelzenflächenteils
mit der waagerechten Lage erheblich ändern. Eine solche erhebliche Lageänderung kann
dazu führen, daß die reflektierte Strahlung die Empfangsanordnung überhaupt nicht erreicht, und dementsprechend
ist es nicht ohne weiteres feststellbar, nach welcher Seite die Reflexionsstrahlung von der ge
wünschten Richtung abweicht. Das bedeutet also, daß nicht mehr festzustellen ist, ob der Durchmesser des
anwachsenden Kristallteils zu groß oder zu klein geworden ist.
Ein weiterer wichtiger Nachteil der bekannten Vorrichtung ist der, daß bei einer Senkung des Schmelzenvolumens
eine ganz andere Stelle der hochgezogenen Schmelzenfläche mit einer anderen Lage durch das eingestrahlte
Lichtbündel getroffen wird. Dadurch wird sich die Richtung der reflektierten Strahlung in einem
Maß ändern, das größenordnungsmäßig vergleichbar ist mit der Richtungsänderung, die eintritt bei Änderung
des Durchmessers des anwachsenden Kristallteils.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, diese Nachteile zu beheben oder wenigstens herabzusetzen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Stelle, auf die das Lichtbündel trifft, so weit
vom Rand des anwachsenden Kristalls entfernt ist, daß die Schmelzenoberfläche höchstens geringfügig von
der Waagerechten abweicht, daß das eingestrahlte Lichtbündel von der Ziehachse höchstens um einen
Winkel von 10° abweicht, daß zum Auffangen der reflektierten Strahlung und Umwandeln in elektrische Signale
zwei photoelektronische Bauelemente nach einer Trennvorrichtung für die Strahlung in zwei voneinander
entfernten Punkten angeordnet sind, auf welche die Trennvorrichtung Strahlungsanteile beiderseits der
Priority Applications (18)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19712149093 DE2149093C3 (de) | 1971-10-01 | 1971-10-01 | Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer Schmelze |
AU47167/72A AU4716772A (en) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Apparatus for manufacturing single crystals by crystallization froma melt, method of growing single crystals while using said apparatus, and single crystals manufactured by said method |
GB4480572A GB1405447A (en) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Crystal growing apparatus |
IT2982772A IT967977B (it) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Dispositivo di controllo dell ac crescimento di cristalli da una massa fusa metodo di fabbricazione di monocristalli con l impiego di tale dispositivo di controllo e monocristalli in tal modo prodotti |
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AU47168/72A AU4716872A (en) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Control-device for controlling crystal growth froma melt, method of manufacturing single crystals using sucha control device and single crystals thus made |
NL7213119A NL7213119A (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | |
CH1415472A CH559062A5 (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | |
JP9669672A JPS533757B2 (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | |
NL7213118A NL7213118A (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | |
JP9669772A JPS5238512B2 (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | |
CH1415372A CH558206A (de) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Verfahren zur herstellung eines einkristalles durch ziehen aus einer schmelze und vorrichtung zur ausfuehrung des verfahrens. |
GB4480472A GB1400593A (en) | 1971-10-01 | 1972-09-28 | Growing crystals from a melt |
BE789553A BE789553A (fr) | 1971-10-01 | 1972-09-29 | Appareil servant a produire des monocristaux a partir d'une masse fondue, procede pour faire croitre des monocristaux a l'aide decet appareil et monocristaux ainsi obtenus |
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FR7234814A FR2154776B1 (de) | 1971-10-01 | 1972-10-02 | |
FR7234815A FR2154777B1 (de) | 1971-10-01 | 1972-10-02 | |
CA152,978A CA997255A (en) | 1971-10-01 | 1972-10-02 | Apparatus for growing single crystals |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19712149093 DE2149093C3 (de) | 1971-10-01 | 1971-10-01 | Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer Schmelze |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2149093A1 DE2149093A1 (de) | 1973-04-05 |
DE2149093B2 DE2149093B2 (de) | 1974-12-05 |
DE2149093C3 true DE2149093C3 (de) | 1975-07-24 |
Family
ID=5821216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712149093 Expired DE2149093C3 (de) | 1971-10-01 | 1971-10-01 | Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen durch Ziehen aus einer Schmelze |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS533757B2 (de) |
AU (2) | AU4716772A (de) |
BE (2) | BE789554A (de) |
CA (1) | CA997255A (de) |
CH (2) | CH559062A5 (de) |
DE (1) | DE2149093C3 (de) |
FR (2) | FR2154776B1 (de) |
GB (2) | GB1405447A (de) |
IT (2) | IT967978B (de) |
NL (2) | NL7213119A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5612863B2 (de) * | 1973-07-11 | 1981-03-25 | ||
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-
1971
- 1971-10-01 DE DE19712149093 patent/DE2149093C3/de not_active Expired
-
1972
- 1972-09-28 IT IT2982872A patent/IT967978B/it active
- 1972-09-28 AU AU47167/72A patent/AU4716772A/en not_active Expired
- 1972-09-28 CH CH1415472A patent/CH559062A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-09-28 AU AU47168/72A patent/AU4716872A/en not_active Expired
- 1972-09-28 IT IT2982772A patent/IT967977B/it active
- 1972-09-28 JP JP9669672A patent/JPS533757B2/ja not_active Expired
- 1972-09-28 NL NL7213119A patent/NL7213119A/xx unknown
- 1972-09-28 CH CH1415372A patent/CH558206A/de not_active IP Right Cessation
- 1972-09-28 GB GB4480572A patent/GB1405447A/en not_active Expired
- 1972-09-28 GB GB4480472A patent/GB1400593A/en not_active Expired
- 1972-09-28 NL NL7213118A patent/NL7213118A/xx unknown
- 1972-09-28 JP JP9669772A patent/JPS5238512B2/ja not_active Expired
- 1972-09-29 BE BE789554A patent/BE789554A/xx unknown
- 1972-09-29 BE BE789553A patent/BE789553A/xx unknown
- 1972-10-02 FR FR7234814A patent/FR2154776B1/fr not_active Expired
- 1972-10-02 FR FR7234815A patent/FR2154777B1/fr not_active Expired
- 1972-10-02 CA CA152,978A patent/CA997255A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU4716772A (en) | 1974-04-04 |
IT967977B (it) | 1974-03-11 |
NL7213119A (de) | 1973-04-03 |
IT967978B (it) | 1974-03-11 |
DE2149093B2 (de) | 1974-12-05 |
FR2154776B1 (de) | 1976-08-20 |
GB1405447A (en) | 1975-09-10 |
BE789553A (fr) | 1973-03-29 |
GB1400593A (en) | 1975-07-16 |
CH559062A5 (de) | 1975-02-28 |
FR2154777B1 (de) | 1976-08-20 |
JPS4842981A (de) | 1973-06-21 |
FR2154777A1 (de) | 1973-05-11 |
JPS4842980A (de) | 1973-06-21 |
CA997255A (en) | 1976-09-21 |
FR2154776A1 (de) | 1973-05-11 |
JPS533757B2 (de) | 1978-02-09 |
JPS5238512B2 (de) | 1977-09-29 |
DE2149093A1 (de) | 1973-04-05 |
CH558206A (de) | 1975-01-31 |
NL7213118A (de) | 1973-04-03 |
BE789554A (fr) | 1973-03-29 |
AU4716872A (en) | 1974-04-04 |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
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