DE2016056A1

DE2016056A1 - Gefärbte transparente Photomaske

Info

Publication number: DE2016056A1
Application number: DE19702016056
Authority: DE
Inventors: Satoshi Kawasaki Kanagawa Tsuda Kumomi Tokio Takeuchi, (Japan) P G03g
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1969-07-28
Filing date: 1970-04-03
Publication date: 1971-02-11
Also published as: DE2016056C3; US3754913A; JPS5022877B1; DE2016056B2; GB1323349A

Description

DAI NIPPOH INSATSU KABUSHIXI KAISHA, Tokyo» Japan

Gefärbte transparente Photomaake

Die Erfindung bezieht sich auf eine Photomaske mit einem sichtbaren Bild, welches sich auf einer gefärbten dünnen Schicht aus einem gefärbten anorganischen Material befindet, das als Schicht auf eine transparente Grundplatte aufgebracht ist. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf eine gefärbte transparente Fhotomaske mit einem gefärbten transparenten sichtbaren Bild, welches sich auf einer gefärbten dünnen Schicht eines gefärbten anorganischen Materials befindet, das als Schicht auf eine transparente gefärbte Grundplatte aufgebracht ist, so daß ein Teil des sichtbaren Lichte hindurchgeht und Licht mit einer Wellenlänge, welche ein lichtempfindliches Material exponiert, bis zu einer Intensität absorbiert wird ₅ daß das Lichtempfindliche Material nicht mehr exponiert. Der Ausdruck ■■

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"Photomasks" bezieht sich hier auf eine sogenannte Originalplatte, die aus einer transparenten Grundplatte, wie i..B» einer Glasplatte oder einer Kunststoffplatte, besteht, worauf sich ein Originalbild befindet. Eine solche Photomaake wird verwendet, wenn eine lichtempfindliche Schicht, die eich auf einer Grundplatte befindet, optisch exponiert wird, um ein Photolackbild herzustellen.

Bisher wurde eine solche Photomasice unter Verwendung von Phototrockenpiabten oder Photofilmen hergestellt, auf denen unter Verwendung eines Silbersalzes durch Photograph!« ein Bild erzeugt worden ist. Solche Trockenplatten oder Filme sind billig und können leicht und billig hergestellt werden. Es läßt sich jedoch der Nachteil nicht vermeiden, daß die optische Sicht· des Silberbildes aufgrund der Schwachheit der Gelatineschicht, in der das Silberbild eingebettet 1st, nachläßt. Um die optisch· Dichte einer solchen Photomaske zu erhöhen, wurde eine Metall-auf-Glas-Maske entwickelt, die ein metallisches

Bild auf einer Glasplatte besitzt. Eine solche Metall-auf-

Im .vakuum Glas-Maeke wird dadurch hergestellt, daß man/ein Metall auf •ine Grundplatte aufdampft, um eine dünne Metallschicht herzustellen, ein· Schicht eines lichtempfindlichen Materials auf die dünn· Metallschicht aufbringt, auf dem lichtempfindlichen Material ein latentes Bild erzeugt, das latente Bild entwickelt, um ein Photolackbild herzustellen, und hierauf unter Verwendung einer Xtztecnnik den Teil der Metallschicht entfernt, auf dem kein Photolackbild entwickelt worden ist, wodurch ein sichtbares metallisches Bild entsteht. Metalle, die für die Vakuumaufdampfung oder zum Aufstäuben verwendet werden» sind Or, Vi, Ag, Cu und dergleichen. Das bevorzugte Metall ist jedoch Chrom, da es eine hohe Festigkeit und eine gute Haftung auf der Oberfläche der Glasplatte besitzt. Die Metall-auf-Glae-Maske besitzt eine höhere optische Dichte und beim Gebrauch eine längere Lebensdauer als eine Photomaske,

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die unter Verwendung einer Phototrockenplatte oder eines Fhotofilms hergestellt worden ist.

In den letzten Jahren wurde die sogenannte fotoätztechnik entwickelt, wobei Photomasken zur Herstellung der verschiedensten Industrieprodukte verwendet werden, für die eine hohe Genauigkeit erforderlich ist. Hier sollen insbesondere elektro nische Teile, wie E.B. Transistoren und integrierte Schaltungen, erwähnt werden, bei denen eine ultrahohe Genauigkeit erforderlich ist. Bein Photoätzen ist es von besonderer Wichtigkeit, daß die Photomaeke feet ist, weil sie nämlich als Originalplatte wiederholt verwendet werden muß. Aus diesem Grunde wird die Metall-auf-Glas-Maske bevorzugt. Wenn die Photomaake für die Herstellung von elektronischen Teilen, wie z.B. Transistoren und integrierten Schaltungen, verwendet wird, dann sollte eine solch· Photomasks unter Verwendung einer sorgfältigen Positionierung derart auf eine Siliciuaplatte, auf der sich ein Siliciumreliefbild befindet und die mit einen Photolack beschichtet ist, gelegt werden, daß das sichtbare Bild der Photomasks auf den Siliciumreliefbild liegt. Bei den oben erwähnten Fhotosasken ruht das undurchsichtige Bild auf der Grundplatte, und deshalb· 1st es unmöglich, das Siliciumreliefbild, das sich auf der Oberfläche der Siliciumplatte befindet, zu sehen, da das Bild hinter dem undurchsichtigen Bild verborgen ist, weshalb sich bei der Positionierung Schwierigkeiten ergeben. Wenn die Photomaske ein durchsichtiges Bild hat, das für da<* bloße Auge sichtbar ist, dann ist «β möglich, das vorher auf der Oberfläche der Silioiumplatte hergestellte Siliciumreliefbild zu sehen, weshalb die Positionierung leicht mit Genauigkeit ausgeführt werden kann. Dies ist auf Seite 17 ff des Buchs "Proceedings of the 2nd Kodak Seminar on Microminiaturization" (4. und 5. April 1966) erläutert. Das Buch beschreibt

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jedoch kein Verfahren zur Herstellung einer Photomasks mit eines gefärbten !»transparenten Bild. Das Photolackbild kann Jedoch mit einem Farbstoff gefärbt werden, und das Silberbild kann durch die übliche Farbstoffkupplungsentwicklung in ein gefärbtes Bild umgewandelt werden. Bin solches gefärbtes Silberbild besitzt die gleiche Genauigkeit und optische Dichte wie das normale Silberbild· Ee gibt Jedoch keinen Farbstoff, mit dem man dem Photolackbild eine tiefe Farbe geben könnte, weshalb das Licht mit einer das lichtempfindliche Material exponierenden Wellenlänge nicht vollständig ausgeblendet wird und einen Sohleier erzeugt. Wenn der Photolack eine große Menge Verunreinigungen enthält, dann wird die Auflösekraft und Dichte des Photolackbilde Terringert, auch wenn ein tief gefftrbt·· Bild vorliegt, und deshalb wird das tief gefärbte Photolackbild im Gegensatz sum herkömmlichen Silberbild verschlechtert. Man kann swar gewisse Diazoverbindungen und ein photochromes Material für die Herstellung eines tief gefärbten Bilde· verwenden, aber «in solches gefärbtes Bild besitzt •ine au gering· optleche Dichte.

Ziel der Erfindung ist es, eine gefärbte, transparente Photomaske zu schaffen, welche die Hachteile der bekannten Photomasken nicht besitzt.

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, eine gefärbte, transparente Fhotomaske su schaffen, welche eine ausreicheod hohe Auslösekraft, Dauerhaftigkeit und Positionierungsfähigkeit besitzt«

So wird gemäß der Erfindung eine gefärbte transparente Photomaske vorgeschlagen, die dadurch hergestellt wird, daß man

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ein gefärbtes transparentes Material auf eine transparente harte Grundplatte, wie z.B. eine Glasplatte, im Vakuum aufdampft oder durch Zerstäubung oder Beschichtung aufbringt, um eine gefärbte dünne Schicht herzustellen, welche vorzugsweise eine Sicke von weniger als Λ Lt/ aufweist und eine optische Dichte von mehr als 1,5 im zu absorbierenden Wellenlängenbereich besitzt, eine Schicht eines geeigneten lichtempfindlichen Materials auf die gefärbte dünne Schicht aufbringt, das lichtempfindliche Material optisch exponiert, um ein latentes Bild herzustellen, das latente Bild entwickelt, um ein Photolackbild herzustellen, und unter Verwendung einer Ätztechnik den Teil der gefärbten dünnen Schicht, auf dem sich kein Photolackbild befindet, entfernt, um ein gefärbtes sichtbares Bild auf der durchsichtigen Grundplatte herzustellen. Die gefärbte dünne Schicht kann auch in der Oberfläche der Glasplatte erzeugt werden, wenn man Färbetechniken verwendet, bei denen gewisse Materialien eindiffundiert werden·

Ea wird bevorzugt, ein glasartiges Material für die Herstel*-

lung der gefärbten dünnen Schicht zu verwenden« Das übliche Glas ist Jedoch im allgemeinen schwierig zu verdampfen. Ss wird deshalb bevorzugt, ein sogenanntes Ghaloogenglas zu vorwenden, das dadurch hergestellt wird, daß man eine Mischung aus As, S und Se oder anderen metallischen Elementen schmilzt· Die gefärbte dünne Schicht, die aus As und S besteht, ist gelb und kann Licht unterhalb einer Wellenlänge von ungefähr 500 mn, absorbieren. Sine solche, gefärbte dünne Schicht konnte als Maske für die herkömmlichen Fhotolacke verwendet werden, die im Wellenlängenbereich von 250-550 ^jUL empfindlich sind. In der Praxis kann die Verwendung einer solchen Photomaske jedoch nicht, in Betracht gezogen werden, da sie gelb und schlecht zu unterscheiden ist. Wenn eine gefärbte dünne Schicht aus einer Mischung aus As, S und Se hergestellt wird,

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dann ist ihre Farbe Je nach der Menge des in der Mischung enthaltenen Se orange bis rot. Se wird in der Praxis bevorsugt, die orange oder rot gefärbte dünne Schicht aus Ohaloogenglas zu verwenden. Die optische Dichte eines sol» oben Chalcogenglases kann erhöht werden, wenn man Se und/ oder Oe zusetzt, und deshalb besitzen die Ae-S-Ge- und die As-Se^Ge-Chaloogenglastypen eine hohe optische Dichte.

Bin solches Ohalcogenglas besitzt jedoch einen beträchtlichen Hachteil, weil es einen hohen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 10 oder mehr besitzt. Im Gegensatz hierzu besitzt gewöhnliches Glas einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten Ton 10"°'. Aus diesem Grunde ist es oftmals sehr schwierigt *i&* feste Haftung des Chalcogenglases auf der herkömmlichen Glasplatte zu erzielen.

Es wurde gefunden, daß dieser Sachteil der Chaloogengläser verringert werden kann, wenn man «wischen die herkömmliche Glasplatte und das Ohalcogenglas eine Zwischenschicht legt, welch· sowohl am Chalcogenglas als auch an der Glasplatte fest haftet. Venn das Zwisohenschichtmaterial undurchsichtig 1st, dann sollte die Zwischenschicht ausreichend dünn sein, daß sie durchsichtig erao^eint. Ee wurde gefunden, daß eine solche dünne Schicht zufriedenstellend verwendet werden kann«

Die dünne Zwischenschicht kann aus einem Metall der Gruppen III A, IT A und TI A des Periodensystems oder aus deren Oxyden oder aus Magnesiumfluor id bestehen. Es wird darauf hingewiesen, daß die dünne Zwischenschicht weggelassen werden kann, wenn ein germaniumhaltiges Chalcogenglas direkt durch Takuumverdampfung oder durch Aufstäuben auf eine Glasplatte aufgebracht wird, die einen verhältnismäßig hohen

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thermiecben Ausdehnungskoeffizienten besitzt·

Gemäß der Erfindung kann dee Cbaloogenglaa auch durch eine gefärbte organische Verbindung eraetBt werden, wie ε.B. Cadmiumsulfid (rot), Zinkeulfid (gelb), Oadmiumaelenid (rot), Chromrot, Molybdänrot, Antimonrot, Quecksilber/ Cadmiumsulfid_t Cadmiumchronat oder Gemische derselben· Hierbei kann- man in der gleichen Weise wie bei Chalcogenglas gefärbte dünne Schichten herstellen, die in ihrer Farbe von gelb über orange bla rot variieren. A

Sie obigen Techniken aur Herstellung der gefärbten dünnen Schicht können auch durch solche Färbetechniken ersetzt werden, bei denen die Qlasoberflache «it einem Metall, wie z.B. Kupfer, Silber oder dgl«, gefärbt wird. Beispielsweise kann man die Glasoberflache alt einer Paste, die ein Kupfersalz und !Fon oder dgl· enthält, beschichten, worauf aan das beschichtete Glas erhitzt, um die Kupferionen zu einer Diffusion in die Glasoberfläche zu veranlassen· Die Paste wird dann vom erhitzten Glas entfernt, worauf dann das Glas in Gegenwart einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt wird, ' i um eine Kupferfärbung auf der Glasoberfläche herzustellen. Hierbei kann-die Paste ein Reduktionsmittel enthalten, um die Färbetechnik zu vereinfachen. Diese Verfahrensweise wird im "Handbook for Glase Engineering*_T Seiten 588-599 und Seite ?5O von Taro Moriya et al (herausgegeben von der Asakura Books Co.) genau erläutert. Die auf diese Weise hergestellte gefärbt© Schicht besitzt im Vergleich zur Chalcogenglas schicht eine blasse Farbe, aber eine Lichtsperrsehicht kenn, hierbei schon bei einer Dicke von 0,5/Ί- bis 1 Us in der Oberfläche der Glasplatte erreicht werden.

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Schließlich wurde auch festgestellt, daß die Glasplatte mit einem Lotglas (80\deringglas), welches Cadmiumselenid (rot) und Cadmium oder Selen enthält, gefärbt werden kann, wenn man die Glasplatte Bit dem Lötglas beschichtet und das Lötglas auf eine Temperatur von 300-7CX)⁰C erhitzt.

Das Fhotolackbild wird bei der erfindungsgemäßen Arbeiteweise genauso wie bei den herkömmlichen Verfahren hergestellt, bei denen sich eine gefärbte dünne Schicht auf einer herkömmlichen Glasplatte oder Kunststoffplatte befindet« Bann wird der Teil der gefärbten dünnen Schicht, auf der sich kein Fhotolackbild befindet« von der Glasplatte entfernt,, indem dieser Teil der gefärbten dünnen Schicht mit einem alkalischen Ätzmittel, wie z.B. Hatriumhydroxyd, Kaliumhydroxyd, Ammoniumhydroxyd oder dgl., oder mit einem sauren Ätzmittel, wie z.B. Fluorwaeeer stoffsäure, abgeätzt wird, wobei das gefärbte transparente Bild auf der Glasplatte zurückbleibt. Wenn ein positiv arbei tender Fhotolack, wie z.B. AZ-III von Skipley Company, und eine gefärbte dünne Schicht der AS-S Se-Chalcogenglastype auf die Glasplatte aufgebracht werden, dann kann ein gefärbtes transparentes Bild erzeugt werden» wenn man ein latentes Bild entwickelt und gleichzeitig den Teil der gefärbten dünnen Schicht, auf dem kein latentes Bild vorliegt, entfernt» Wenn die Glasplatte mit einer gefärbten anorganischen Verbindung oder mit dem LÖtglas oder mit der MetalIfärbungstechnik ge färbt wird, dann Verm eine gefärbte Photomaske mit hoher optischer Dichte hergestellt werden, wenn man den Teil der gefärbten Schicht, auf dem kein Photolaekbild vorliegt, von der Glasplatte durch Ätzen des genannten Teils der gefärbten Schicht entfernt, wobei man als Ätzlösung Fluorwasserstoff säure verwendet.

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Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert..

Beispiel 1

2 Gew««Teile Arsen, 0,5-1 Gew.-Teil Schwefel und 2-2,5 Gew.-Teile Selen wurden in ein Pyrexglasrohr unter Stickstoffgas eingewogen, und das Pyreacglasrohr wurde evakuiert« worauf die Enden durch Erhiteen verschlossen wurden. Das Pyrexglaa-

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rohr wurde in einen elektrischen Ofen eingebracht und 5 Stun» den auf ungefähr 65O°C erhitzt, um ein Ohalcogenglas hersustellen· Das pyrexglasrohr wurde dann abgekühlt/ und eins geeignete Menge Chalcogenglas wurde zwecks Verdampfung in ein Schiffchen überführt.

Eine Glasplatte wurde mit einer Mischung aus Kaliumbichro-* mat und konzentrierter Schwefelsäure entfettet und gewaschen, dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die saubere Glas» platte wurde mit einer dünnen Schicht Chrom beschichtet, indem Chrom unter einem verminderten Druck von ungefähr 10 Torr im Vakuum aufgedampft wurde, wobei die Glasplatte auf I eine Temperatur von 50-2O0°C und aas Schiffchen auf eine Temperatur von 1300-'1400⁰C gehalten wurde»

Die verchromte Glasplatte wurde dann mit einer Ch&lcogenglassohicht einer Dicke von 1000-10000S beschichtet, wobei das Ohalcogenglas unter einem vermindertem Druck von ungefähr 10 Torr im Vakuum aufgedampft wurde, währenddessen die verchromte Glasplatte auf einer Temperatur im Bereich von Baumtemperatur bis 150⁰C und das Schiffchen auf einer Temperatur im Bereich von 400™500°C gehalten wurde»

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Ee wird· festgestellt, daß die Glasplatte mit einer orange gefärbten transparenten Schicht überzogen war und daß die gefärbte Glasplatte Licht mit einer Wellenlänge unterhalb 550 Bit/ absorbierte· Die gefärbte (Glasplatte wurde dann mit einer iELschung aus einem Phenolharz der Novolaktype und Ohinondiazid (AZ-III Photolack der Skipley Company) in einer Schleuder bei 4000-9000 U/min beschichtet. Sine Platte mit de« Bild einer integrierten Schaltung wurde dicht auf den

Fhotolack gelegt.der ⁸^* Lieht exponiert und anschließend

' · würde

mit einem geeigneten Entwickler entwickelt/. Wenn der Photolack in den exponierten Bereichen zusammen mit der Chalcogen glassohicht entfernt wurde, dann erhielt man eine Photomaske, auf der ein orange gefärbtes Bild der integrierten Schaltung vorhanden war. Die -Photomasks konnte mit zufriedenstellenden Hesultaten auf einen Photolack gedruckt werden, der aus einem Zimts&ureester von Polyvinylalkohol bestand (ein Photolack der Kodak Company). Die Haftfestigkeit zwischen der gefärbten Schicht und der Glasplatte wurde dadurch geprüft, daß ein Klebeband auf die gefärbte Schicht gedrückt und dann rasch abgerissen wurde· Ee konnte keine Beschädigung in der Größe eines Radellochs auf der Photomaske gefunden werden«

Beispiel 2

Sogenanntes Cadmiumrot wurde unter Verwendung einer Mischung aus 70-75 Gew.~£ Cadmium, aua 5 10 Ge* -^ Selen und aus Schwefel hergestellt*

Eine Glasplatte wurde mit einer dünnen Schicht Aluminium unter Verwendung eines Vakuumaufdampfverfahrene beschichtet,

Die aluminierte Glasplatte und eine saubere Glasplatte wurden jeweils mit dem Cadmiumrot beschichtet, so daß eine gefärbte

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Schicht mit einer Dicke von 5OO-8OOO A erhalten wurde· Das Beschichten erfolgte durch Vakuumverdampfung des Cadmiumrote unter vermindertem Druck von 10 Torr, wobei die aluminierte Glasplatte und die saubere Glasplatte auf einer Temperatur von 70-150⁴C gehalten und das Schiffchen mit dem Cadmiumrot auf eine für die Verdampfung ausreichende Tempera« tür erhitzt wurden. Jede gefärbte transparente Platte wurde mit einem Photolack beschichtet, der aus teilweise cyclieiertem cie-Polyisopren (Dünnfilmphotolack von Kodak) bestand, j und es wurde ein rot gefärbtes Bild durch Verwendung üblicher Verfahren auf dem Photolack hergestellt. Dann wurde die gefärbte Platte zur Herstellung einer Photomasks geätzt, wobei eine Mischung aus Fluorwasserstoffsäure und Salzsäure verwendet wurde. Die Photomaske wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 auf Haftfestigkeit untersucht, und es wurde gefunden , daß die Photomask«, die unter Verwendung der aluminierten Glasplatte hergestellt worden war, sich besser verhielt als die Photomasks, die unter Verwendung der sauberen Glasplatte hergestellt worden war. Beide Photomaeken konnten in der Praxis verwendet werden.

Beispiel 3

Eine Kaliumglasplatte wurde mit einem Ton beschichtet, der ein Kupferoxyd enthielt, und die mit Ton beschichtete Glasplatte würde auf eine Temperatur von 400-600⁰C erhitzt. Hierauf wurde der Ton von der Glasplatte entfernt. Dann wurde die Glasplatte unter einem Vaeserstoffstrom erhitzt_y um die KupferCII)-ionen zu reduzieren und um eine Schicht einer sogenannten Kupferfarbe auf der Oberfläche der Glasplatte herzustellen. Ea wurde gefunden_T daß die Schicht rot und transparent war und eine Dicke von 1 U, oder weniger besaß«

Die gefärbte Glasplatte wurde mit dem Dünnfilmphotolack von Kodak beschichtet, und dann wurde auf dem Photolack unter

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Verwendung herkömmlicher MaSnahmen ein rotes Bild hergestellt. Dann wurde die gefärbte Qiaspiatte mit Fluorwasserstoffsbure geätzt, um eine Photomaske herzustellen· Die Photomaske konnte auf viele andere Photolacke gedruckt werden, wobei zufriedenstellende Resultate erhalten wurden· Auch konnte die Photomaske auf eine Trockenplatte von Kodak mit hoher Auflösung gedruckt werden· Die Haftfestigkeit der Photomaske wurde untersucht, und es wurde festgestellt, daß diese Haftfestigkeit größer als bei den Photomasken der Beispiele 1 und 2 war·

Die Figuren 1 bis 3 zeigen die erflndungsgemäße Photomaske. Darin bedeutet 1 eine transparente Glas- oder Kunststoffplatte, 2 ein gefärbtes transparentes sichtbares Bild und 3 eine Unterschicht aus Metall.

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Claims

Patentanaprü c he

(Iy Gefärbte transparente Photomaske mit einem gefärbten sichtbaren Bild, welches einen Teil des sichtbaren Lichts durchläßt und Licht, welches eine lichtempfindliches Material exponierende Wellenlänge aufweist, bis zu einem Intensitätswert absorbiert, daß das lichtempfindliche Material nicht mehr exponiert wird, dadurch gekennzeichnet , dad die Photomaske aus einer durchsichtigen Grundplatte «und einem gefärbten durchsichtigen Bild, das aus einem gefärbten anorganischen Material hergestellt ist, besteht.
2. Photomaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatte aus einer herkömmlichen Glasplatte oder Kunststoffplatte besteht.
3. Photomaske nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gefärbte dünne Schicht aus Chalcogenglas oder kristallinem Material besteht, welches Chaloogenelemente und Ae und/oder Ge oder eine gefärbte anorganische Verbindung enthält.
4. Verfahren zur Herstellung einer gefärbten durchsichtigen Photomasks', dadurch gekennzeichnet , daß man eine gefärbte dünne Schicht aus einem gefärbten anorganischen Material auf einer transparenten Grundplatte herstellt, eine Schicht eines lichtempfindlichen Materials auf die gefärbte dünne Schicht aufbringt, ein latentes Bild auf dem'

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lichtempfindlichen Material herstellt, das latente Bild mit einen geeigneten Entwickler entwickelt, um ein Bild aus dem genannten lichtempfindlichen Material auf dar gefärbten dünnen Schicht herzustellen, den Teil der gefärbten dünnen Schicht, auf der kein Bild vorliegt, durch Ätzen mit einem it»mittel entfernt, um eine gefärbte, transparente Photcaaske alt einem Photolack herzustellen, und den Photolack von der gefärbten dünnen Schicht unter Verwendung herkömmlicher naßnahmen entfernt·
5» Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als transparente Grundplatte eine herkömmliche Glasplatte oder Kunststoffplatte verwendet wird.
6· Verfahren nach einem der Ansprüche 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet , daß zunächst auf die Glasplatte oder Kunststoffplatte eine Zwischenschicht durch Vakuuarerdampfen oder Aufstäuben aufgebracht wird, die aus einen Metall der Gruppe III A, IV A oder VI A des Periodensystems, aus einem Oxyd derselben oder Magnesiumfluorid besteht·
7· Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet , daß die gefärbte dünne Schicht durch Aufdampfen oder Aufstäuben von Chalcogenglas oder kristallinem Material hergestellt wird, welches Chalcogenelemente und As und/oder Ge oder eine gefärbte anorganische Verbindung enthält.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7* dadurch gekennzeichnet , daß die gefärbte dünne Schicht auf der Oberfläche der Glasplatte durch eine Metallfärbetech nik hergestellt wird.

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