<Desc/Clms Page number 1>
Strahlungsempfindliches Material
Die Erfindung bezieht sich auf ein strahlungsempfindliches Material, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass es auf einer vorzugsweise ebenen metallischen Schichte eine Beschichtung trägt, die unter Einwirkung elektromagnetischer Strahlen mit der metallischen Schichte photochemisch in
Form einer Ätzung zu reagieren vermag, deren Tiefe der Strahlungsmenge proportional ist, wobei gegebenenfalls die metallische Schichte und die Beschichtung auf einer Trägerschicht angeordnet sind.
Mit Hilfe des erfindungsgemässen strahlungsempfindlichen Materials ist es möglich, durch blosses
Belichten und ohne die bei bisher üblichen photographischen Verfahren unumgängliche Verwendung von teuren Entwicklungs- und Fixierchemikalien und ohne Ätzung durch Säure litographische
Halbtonklischees, Metallgravierungen aller Arten, gedruckte elektrische Schaltungen, photographische 2- oder 3-dimensionale Reproduktionen, Glasbilder, Masken, Gitter, Raster, Beugungs- und Interferenzblenden, Farbüderdeckungsmasken für Farbbildröhren, Pseudo-Filmdruck-Schablonen usw. herzustellen.
Aus der sowjetischen physikalischen Zeitschrift vom Feber 1966, Seite 451 ist bereits bekannt, dass auf Metallunterlagen wie Silber, Kupfer, Zink, Blei usw. aufgebrachte Filme einiger Metallsalze und Sulfide unter anderem Selenide und Telluride wie beispielsweise Arsenselenid und Zinktellurid unter Einwirkung starken Lichtes lichtempfindlich sind. Ein durch Belichtung dieses Materials herstellbares Bild wird während der Belichtung sichtbar und kann ohne zu verblassen lange Zeit aufbewahrt werden. Des öfteren ist jedoch zur Entwicklung des Bildes eine Erhitzung des lichtempfindlichen Materials erforderlich.
Das erfindungsgemässe strahlungsempfindliche Material stellt nun deshalb einen wesentlichen Fortschritt gegenüber diesem Stand der Technik dar, da durch die Verwendung entsprechender Kombinationen von Metallschicht und Beschichtung und die genau bestimmbare der Strahlungsmenge proportionale Tiefe der Ätzung aus diesem strahlungsempfindlichen Material die verschiedensten Endprodukte wie beispielsweise die oben genannten in einfachster und billigster Weise bloss durch Belichten und gegebenenfalls durch nachträgliches Entfernen der beim Ätzen entstehenden Stoffe und der nichtbelichteten Teile der Beschichtung hergestellt werden können.
Weitere Kennzeichen und Vorteile des erfindungsgemässen strahlungsempfindlichen Materials ergeben sich aus der Beschreibung von in den Zeichnungen schematisch dargestellten Ausführungsbeispielen dieses Materials. In den Zeichnungen zeigen : Fig. 1 im Schnitt den Aufbau eines strahlungsempfindlichen Materials. Fig. 2 eine Variante dieses Materials. Die Fig. 3 bis 5 verschiedene Stufen bei der Herstellung eines Endproduktes aus dem erfindungsgemässen Material. Fig. 6 eine Variante eines Endproduktes. Die Fig. 7 bis 12 verschiedene Stufen bei der Herstellung eines weiteren Endproduktes aus dem erfindungsgemässen Material. Fig. 13 eine Anordnung, bei der eine metallische Oberfläche durch Strahlung in Gegenwart einer flüssigen oder gasförmigen Beschichtung belichtet wird.
Fig. 14 ein Endprodukt, das mittels des in Fig. 13 dargestellten strahlungsempfindlichen Materials hergestellt wurde. Fig. 15 einen Teilschnitt der Anordnung nach Fig. 13 während der Einwirkung elektromagnetischer Strahlung. Fig. 16 im Schnitt eine metallische Schichte nach der Belichtung
<Desc/Clms Page number 2>
(Fig. 15). Fig. 17 das daraus entstandene Endprodukt. Fig. 18 ebenfalls einen Teilschnitt einer andern
Variante eines Endproduktes. Fig. 19 eine weitere Variante der Verwendung des erfindungsgemässen
Materials. Fig. 20 eine metallische Schichte nach der in Fig. 19 dargestellten Bestrahlung. Fig. 21 ein nach dem Verfahren nach Fig. 19 hergestelltes Endprodukt. Fig. 22 einen weiteren aus dem erfindungsgemässen Material hergestellten Gegenstand.
Fig. 23 im Schnitt ein weiteres Beispiel eines erfindungsgemässen strahlungsempfindlichen Materials. Die Fig. 24 bis 27 bzw. 28 bis 30 Schnitte, der aufeinanderfolgenden Stufen zweier weiterer Verfahren zur Herstellung verschiedener Produkte aus dem erfindungsgemässen Material. Fig. 31 einen Schnitt durch den strukturellen Aufbau einer
Ausführungsvariante eines erfindungsgemässen strahlungsempfindlichen Materials. Fig. 32 das Material der
Fig. 31 nach der Einwirkung der elektromagnetischen Strahlung auf Teile der Oberfläche. Fig. 33 das
Material nach der Fig. 32 jedoch nach Entfernung des oder der durch das Ätzen entstandenen Produkte.
Fig. 34 das auf diese Weise hergestellte Endprodukt. Fig. 35 eine alternative zusätzliche Massnahme für die Herstellung eines Endproduktes unter Verwendung eines strahlungsempfindlichen Materials nach
Fig. 38.
Fig. 36 eine Zwischenstufe dieses Verfahrens. Fig. 37 eine andere Form eines Endproduktes. Die
Fig. 38 bis 44, den Fig. 31 bis 37 analoge Darstellungen, die weitere Anwendungsmöglichkeiten verschiedener erfindungsgemässer Materialien darstellen.
Gemäss der Erfindung besteht das strahlungsempfindliche Material --10-- (Fig.1) aus einer die Beschichtung --14-- tragenden metallischen Schichte-12-. Unter Einwirkung elektro- magnetischer Strahlen vermag die Beschichtung-14-mit der metallischen Schicht -12-- an der
Grenzschichte --16-- photochemisch in Form einer Ätzung zu reagieren, deren Tiefe der
Strahlungsmenge proportional ist. Eine gewünschte Ätztiefe kann sowohl durch das lange Einwirken einer schwachen Strahlung als auch durch das entsprechend kurzzeitige Einwirken einer intensiven
Strahlung erreicht werden.
Wird z. B. das strahlungsempfindliche Material --10-- durch die im Bereich --24-- für die einfallende Strahlung --20-- undurchlässige, im Bereich-26 und 28-nur für einen Teil - 20'-der einfallenden Strahlung durchlässige und im Bereich --22-- für die einfallende
Strahlung vollkommen durchlässige Maske --18-- elektromagnetischer Strahlung ausgesetzt (Fig. 3) erfolgt eine durch die elektromagnetische Strahlung hervorgerufene photochemische Reaktion an der Berührungsfläche-16-zwischen der Beschichtung --14-- und der metallischen Schichte - 12--, so dass an den der Strahlung ausgesetzten Teilen des erfindungsgemässen Materials Reaktionsprodukte-30- (Fig.
4) entstehen. Die tiefste Ätzung (--32--) wird im, den voll strahlungsdurchlässigen Teilen der Maske --18-- entsprechenden Bereich des erfindungsgemässen Materials bei vorgegebener Bestrahlungszeit erreicht. Die Tiefe der Ätzung der metallischen Folie --12-- ist an den mit den teilweise durchlässigen der Maske --18-- korrespondierenden Flächen beträchtlich geringer (--34--) und ist in dem für Strahlen unterschiedlich durchlässigen Bereich entsprechenden Bereich der Maske --18-- unterschiedlich tief (--36--).
Die Reaktionsprodukte --30-- und wenn gewünscht auch die nicht der Strahlung ausgesetzten Teile der Auflage --14-- können mit einer schwach alkalischen Lösung wie z. B. 0, 5-Natriumhydroxydlösung oder auch mit einer vorzugsweise bei 200C gesättigten wässerigen Lösung von Natriumsulfid entfernt werden. Die nicht bestrahlten Teile der Beschichtung --14-- und das Rcaktionsprodukt --30-- können von der metallischen Schichte--12--auch mit einem Lappen abgestreift oder besser mit einer aus flexiblem Material bestehenden auf einer Seite mit einem druckempfindlichen Haftmittel beschichteten Folie, welche man an die Oberfläche der Auflage --14-- drückt, abgehoben werden.
Das Reaktionsprodukt--30--und die nicht bestrahlten Teile der Beschichtung können jedoch auch durch Verdampfen entfernt werden.
Das Endprodukt (Fig. 5) besteht jedoch ganz unabhängig von der Methode mit der die Rückstände entfernt wurden aus der verschieden tief geätzten (32,34, 36) metallischen Schichte--12--. Bei Verwendung einer etwa 25,u bis zirka 1/10 mm starken metallischen Schichte--12--ist es durch entsprechend lange dauernde Bestrahlung oder Verwendung einer Strahlung mit hoher Intensität möglich, die metallische Schichte --12-- durchzuätzen, so dass das Endprodukt (--6--) Perforationen--38--aufweist. Gegebenenfalls kann das in Fig. 6 dargestellte Endprodukt noch zusätzlich mittels einer Trägerschicht versteift werden.
Besonders geeignete Materialien für die metallische Schichte --12-- sind Silber, Kupfer, Nickel, Chrom, Niob, Eisen, Aluminium, Zink, Blei u. dgl. sowie Mischungen dieser Metalle. Die Dicke dieser metallischen Schichte kann dem auszuführenden Verfahren und der beabsichtigten Verwendung des Endproduktes entsprechend angepasst werden. Wählt man eine sehr dünne metallische Schichte mit guter Strahlungsdurchlässigkeit so kann das strahlungsempfindliche Material von beiden Seiten bestrahlt
<Desc/Clms Page number 3>
werden. Die Stärke der Beschichtung --14-- liegt in der Grössenordnung von 25 jut bis zirka 1/10 mm.
Das erfindungsgemässe strahlungsempfindliche Material ist dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung ein Halogen, oder Schwefel, Arsen, Selen, Tellur, Thallium, ein Metallhalogenid, ein Metallsulfid, ein Metalljodid, ein Metallarsenid, ein Metallselenid oder ein Metalltellurid bzw. eine Mischung davon enthält. Als besonders geeignet hat sich eine aus 40 Grew.-% Arsen, 50 Gew.-% Schwefel und 10 Gew.-% Jod bestehende glasartige Substanz erwiesen. Der Jodanteil dieser Beschichtung kann jedoch 1 bis 30 Gew.-% betragen. Weitere geeignete Beispiele solcher aus drei Komponenten bestehender Materialien sind in der USa-Patentschrift Nr.3,034,119 beschrieben.
Gemäss einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemässen Materials besteht dieses aus einer eine glasartige Beschichtung aus Arsentrisulfid (As2 S3) tragenden Kupfer- Aluminium- oder Silberschichte. Diese Arsentrisulfidbeschichtung besitzt eine bemerkenswerte Durchlässigkeit für elektromagnetische Strahlung vom Infrarot bis zum Ultraviolettbereich.
Besteht das strahlungsempfindliche Material aus einer eine Arsentrisulfidschicht tragende Silberschicht, so ist im Vergleich zum Auflösungsvermögen gewöhnlicher Photoemulsionen ein bemerkenswert hohes Auflösungsvermögen (50 bis 100 Angström) erreichbar, was
EMI3.1
ähnl.Beispiel l : Eine Silberfolie wurde für zirka 4 sec in eine verdünnte Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gespült, wodurch die Oberfläche dieser Silberfolie weisslich matt wurde. Anschliessend wurde diese Folie für einige Sekunden in ein flüssiges Arsen-Schwefel-Jodgemisch getaucht und der überfluss dieses Gemisches abfliessen gelassen.
Das so erhaltene erfindungsgemässe strahlungsempfindliche Material wurde mittels einer Maske und unter Verwendung der Lampe eines Mikroskoptisches als Lichtquelle belichtet. Nach zirka 1 min Belichtung erschien auf dem strahlungsempfindlichen Material ein dauerhaftes Bild. Die Rückstände der Arsen-Schwefel-Jodbeschichtung und die bei der Ätzung entstandenen Reaktionsprodukte wurden mit einer verdünnten Natriumhydroxydlösung entfernt.
Beispiel 2 : Durch Aufdampfen von Arsentrisulfid auf eine Silberschichte wurde ein erfindungsgemässes strahlungsempfindliches Material hergestellt, welches rund 30 min auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 belichtet wurde. Die nichtbelichteten Teile der Beschichtung und die bei Atzung entstandenen Produkte konnten leicht durch 0, 5 n Natriumhydroxylösung entfernt werden.
Beispiel 3 : Durch Aufdampfen von Arsentrisulfid auf eine Kupferschichte wurde ein erfindungsgemässes strahlungsempfindliches Material hergestellt, welches nach einer rund 10 min dauernden, wie in Beispiel l durchgeführten Belichtung ein Bild zeigte. Die Rückstände der photochemischen Reaktion und die nichtbelichteten Teile der Beschichtung konnten ebenfalls wie in den vorangegangenen Beispielen mit 0, 5 n Natriumhydroxydlösung entfernt werden.
Fig. 2 zeigt schematisch einen Querschnitt eines erfindungsgemässen strahlungsempfindlichen
EMI3.2
einer Beschichtung --14-- besteht.
Die Fig. 3 bis 7 zeigen ein Verfahren zur Belichtung des erfindungsgemässen Materials-11- durch die Maske --18-- mit vollkommen strahlendurchlässigen Teilen --22-- und undurchlässigen Teilen-24-. Um ein scharfes Bild auf der Oberfläche des erfindungsgemässen Materials --11-- zu erhalten, kann die Maske --18-- direkt auf die Beschichtung --14-- aufgelegt werden (Fig. 9) oder ein nicht dargestelltes Linsensystem, mit Hilfe dessen auch Vergrösserungen oder Verkleinerungen erzielt werden können, verwendet werden.
Der von der einfallenden Strahlung --20-- durch die durchlässigen Teile --22-- der Maske durchgehende Teil der Strahlung --20'-- bewirkt eine Atzung der metallischen Schichte-12-, die bis zur Trägerschichte --40-- (Grenzfläche - -16--) reicht. Da in diesem Falle die Haftung der Beschichtung --14-- an der metallischen Schichte --12-- geringer ist als jene der metallischen Schichte --12-- an der Trägerschichte - 40-können die nicht belichteten Teile der Beschichtung und die bei der Atzung entstandenen Reaktionsprodukte auf einfache Weise mechanisch oder auch mittels einer schwach alkalischen Lösung entfernt werden.
In den Fig. 8 und 12 sind beispielsweise aus dem erfindungsgemässen Material herstellbare Endprodukte dargestellt. Besteht die Trägerschichte --40-- des erfindungsgemässen Materials --11-- aus einem nicht leitenden Material wie Glas, Hartplatten oder einem Kunstharz, so können die Endprodukte ohne weitere Behandlung als gedruckte elektrische Schaltungen verwendet werden, wodurch ein wesentlicher Vorteil gegenüber den bisher bekannten Verfahren zur Herstellung von gedruckten elektrischen Schaltungen wie beispielsweise Druck-, Präge-, oder Matrizenverfahren, Gitterverdrahtungsmethoden usw. gegeben.
<Desc/Clms Page number 4>
Des öfteren ist es bei der Herstellung von gedruckten elektrischen Schaltungen aus dem erfindungsgemässen Material nicht erwünscht, das bei der Atzung entstehende Produkt und die nicht belichteten Teile der Beschichtung zu entfernen da sie gute elektrische Isolationseigenschaften zeigen.
Die so hergestellten gedruckten elektrischen Schaltungen werden dann einfach in lichtundurchlässigem Material verkapselt. In den Fig. 13 bis 23 ist eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemässen Materials und die Anwendung dieses Materials dargestellt. Dabei wird die metallische Schichte --110-- mit einer flüssigen oder gasförmigen Beschichtung--112--in Berührung gebracht, mittels
EMI4.1
--116-- angeordneten,- 110-projeziert (Fig. 13 und 15).
Werden die bei der Ätzung entstandenen Reaktionsprodukte --122-- (Fig. 16) entfernt, so erhält man die in den Fig. 14 und 17 dargestellten Endprodukte, die an der aus den Stellen --126-- geätzten und an den Stellen --124-- unversehrt gebliebenen metallischen Schichte --110-- bestehen. Auf diese Weise kann die metallische Schichte --110-- in einer Tiefe von wenigen Atomschichten bis zu einigen Tausend Ängström oder aber auch bei entsprechend langer Belichtung vollkommen durchgeätzt werden, so dass Endprodukte mit Öffnungen - 128-- und nicht geätzten Teilen--130--entstehen (Fig. 18).
Verwendet man an Stelle der Maske --114-- eine im Bereich --118-- für Strahlen --116-- durchlässige im Bereich-132- für Strahlen unterschiedlich durchlässige und im Bereich --134-- teilweise durch eine Maske - -114'-- (Fig. 19) so entsteht nach Entfernung der bei der Ätzung entstandenen Produkte-122- ein Endprodukt (Fig. 21) mit Ätzungen deren Tiefe der aufgetroffenen Strahlungsmenge proportional ist (--136, 138, 140--).
Bei Verwendung eines erfmdungsgemässen Materials mit einer Trägerschichte-142-und bei entsprechend langer Belichtung können auf diese Weise Endprodukte mit im Bereich --144-- nicht geätzten Flächen erhalten werden (Fig. 22). Die Metallschichte--110--kann aus einem der oben genannten Metalle, einer Legierung, einer intermetallischen Verbindung und einem Gemenge dieser Metalle bestehen.
Als für die Beschichtung --112-- besonders geeignet haben sich die aus drei Komonenten bestehenden Mischungen von Arsen, Schwefel, Jod, aber auch von Arsen, Schwefel, Brom, Metallsalze wie Halogenide, Sufide, Jodide, Arsenide, Selenide oder Telluride, Arsentrisulfid, Arsenpentasulfid, Bleijodid, ein Schwefel-Selengemenge, oder aber auch allein Arsen, Schwefel, Jod, Selen, Tellur oder Thallium erwiesen.
Beispielsweise werden aus dem erfindungsgemässen Material der oben beschriebenen Art bei Belichtung einer Arsentrisulfid Dampf von 2500C ausgesetzten metallischen Schichte gute Ergebnisse erzielt. Bei dieser besonders günstigen Ausführungsform des erfindungsgemässen Materials entfällt sogar das Entfernen der Reaktionsprodukte, da sie sofort nach der Ätzung verdampfen. Nach Entfernung der gasförmigen Arsentrisulfidschichte ist somit ein Endprodukt entstanden.
Arbeitet man jedoch bei geringerer Temperatur so muss die Oberfläche der metallischen Schichte mit Arsentrisulfid oder einer ähnlichen reaktionsfähigen flüssigen Beschichtung bespült oder in ein aus Arsentrisulfid od. dgl. bestehendes Schmelzbad gelegt werden. Bei angemessener Bewegung bzw. Zirkulation des Bades werden die bei der Ätzung entstehenden Produkte von der flüssigen Beschichtung gelöst oder als Schwebestoffe aufgenommen. Nach Entfernen der flüssigen Beschichtung können Reste dieser mechanisch oder mittels einer schwach alkalischen Lösung, z. B. einer wässerigen Natriumsulfid-, Kaliumhydroxyd- oder Ammoniaklösung abgelöst werden.
Bei Verwendung der Endprodukte für Nassdruck- oder elektrostatische Druckverfahren oder für elektronische Zwecke ist es des öfteren vorteilhaft, die bei der Ätzung entstandenen Produkte auf der metallischen Schichte zu belassen, um beispielsweise eine variable Benetzbarkeit bzw.
Feuchtigkeitsbeständigkeit der Oberfläche zu erreichen.
Die Fig. 23 bis 30 zeigen ein erfindungsgemässes Material, welches aus der Trägerschicht - -212--, der metallischen Schicht --214-- und der Beschichtung --216-- besteht. Die Trägerschichte --212-- kann aus Metall oder aber auch aus Glas, Kunststoffpappe, Papier u. dgl. bestehen. Als Beschichtung zeigte sich beispielsweise eine glasartige Arsen-Schwefel-Jodverbindung aber auch glasartiges Arsentrisulfid als geeignet. Das strahlungsempfindliche Material--210--mit der aus nicht leitendem Metall wie Kunststoff oder Glas bestehenden und dem Endprodukt eine genügende Festigkeit verleihenden Trägerschicht --212-- zeigte sich besonders zur Herstellung von gedruckten elektrischen Schaltungen als geeignet.
Wird jedoch das erfindungsgemässe Material durch Aufdampfen von Arsentrisulfid im Vakuum auf eine an der Trägerschichte --212-- befestigten einige Mikron bis einige 0, 001 mm starken
<Desc/Clms Page number 5>
EMI5.1
Gemäss Fig. 24 wird das erfmdungsgemässe Material durch eine Maske --224-- die im Bereich --226-- strahlendurchlässig und im Bereich-228-völlig undurchlässig ist elektromagnetischer Strahlung --222-- ausgesetzt, wodurch die metallische Schichte --214-- in den Bereichen - -230-- geätzt wird.
Durch die in den Bereichen --230-- der metallischen Schicht ablaufende photochemische Reaktion wird die Haftung der Beschichtung --216-- an der metallischen Schichte --214-- durch die entstandenen Produkte der Ätzung gelockert, so dass beim Abheben der Beschichtung (Pfeile --240--) welches vorzugsweise mittels einer mit Haftmittel-238-versehenen Folie-236- durchgeführt wird, Teile --242-- der metallischen Schichte mit der Beschichtung-216-- abgehoben werden, während Teile --244-- der metallischen Schichte fest mit der Trägerschichte --212-- verbunden bleiben (Fig. 25, 26,27).
Das derart erhaltene Endprodukt--211-- (Fig. 28) kann bei Verwendung einer für elektromagnetische Strahlung völlig durchlässigen Trägerschichte --212-- und bei Strahlenundurchlässigkeit der Teile --244-- als Maske (Fig. 28) bei der Bestrahlung des erfindungsgemässen Materials --210-- verwendet werden.
Nach entsprechender Bestrahlung und Abheben der Beschichtung wie im vorangegangenen Beispiel erhält man eine negative Reproduktion-211'-des im vorangegangenen Beispieles hergestellten Endproduktes (Fig. 28, 29 und 30).
Fig. 31 zeigt ein strahlungsempfindliches Material --310--, welches aus einer aus nichtmetallischen Stoffen wie Kunststoff od. ähnl. oder auch aus einem Metall, Aluminium oder
EMI5.2
--318--,-- besteht. Die Stärke der metallischen Schicht --312-- und der Trägerschichte --318-kann dem Verwendungszweck des Endproduktes angepasst werden und liegt in der Grössenordnung von einigen Mikron bis etwa ein Zehntel mm. Besteht die Trägerschicht --318-- aus Metall, wie beispielsweise Aluminium oder Magnesium, so soll dieses vorzugsweise im Gegensatz zur ebenfalls metallischen Schicht --312-- in Säure oder auch in alkalischen Lösungen wie z. B.
Natriumhydroxydlösung od. dgl. löslich sein. Das Material der Trägerschichte --318-- soll jedoch weder mit der metallischen Schicht --312-- noch mit den bei der Ätzung entstehenden Produkten reagieren.
Beispielsweise kann ein derart aufgebautes erfindungsgemässes Material aus der Trägerschichte
EMI5.3
-318-- aus Aluminium,--314-- aus Arsentrisulfid bestehen.
Wird ein derart aufgebautes strahlungsempfindliches Material --310-- elcktromagnetischer Strahlung --320-- ausgesetzt, so reagiert die Beschichtung mit der metallischen Schicht-312- an der Grenzfläche --316-- photochemisch in Form einer Ätzung, welche bis zur Grenzfläche -- 324-- zwischen der metallischen Schichte --312-- und der Trägerschichte --318-- erreicht (Fig. 32). Nach Entfernung der bei der Atzung entstandenen Produkte --322-- welches wie früher beschrieben durchgeführt werden kann, erhält man das in Fig. 33 hergestellte Endprodukt mit Öffnungen-326-, welches beispielsweise als metallische Schablone verwendet werden kann (Fig. 33).
Bei dem derart hergestellten Endprodukt kann die Trägerschichte --318-- mittels einer sauren oder alkalischen Lösung (z.B. Natriumhydroxydlösung) weiter oder durchgeätzt werden (--328-Fig. 34). Besteht die Trägerschichte --318-- aus Kunststoff od. dgl. so wird als Ätzmittel ein geeignetes Lösungsmittel verwendet.
Auf diese Weise hergestellte Endprodukte (--1-Fig. 34) können in der Praxis beispielsweise zur Verbindung ganzer Schaltkreise oder zur Herstellung von gedruckten Hochfrequenzschaltkreisen od. dgl. verwendet werden.
Die Reste der Beschichtung --312-- können mechanisch oder chemisch wie früher beschrieben
EMI5.4
schon vorher beschrieben mittels eines mit einem Haftmittel versehenen Material abgehoben werden.
(Fig. 36). Das derart hergestellte Endprodukt (Fig. 37) besteht aus der geätzten metallischen Schichte --312-- und der ebenfalls geätzten aus Metall oder einem andern Material bestehenden Schichte --318--. In Fig. 38 wird schematisch ein ähnlich dem erfindungsgemässen Material--310-- (Fig. 31)
<Desc/Clms Page number 6>
aufgebautes erfmdungsgemässes Material --311-- dargestellt, welches sich vom strahlungsempfindlichen Material -310-- durch eine zusätzliche, beispielsweise aus Glas, Keramik, Metall usw. bestehende Trägerschichte -334-- unterscheidet.
Diese Schichte --334-- muss jedoch gegen das zur Ätzung der Schichte --318-- verwendete Ätzmittel oder Lösungsmittel widerstandsfähig sein. Die Fig. 38 bis 44 entsprechen den Fig. 31 bis 37 und das in Fig. 44 dargestellte Endprodukt kann wie das in Fig. 37 dargestellte für die verschiedensten Verwendungszwecke dienen.
PATENTANSPRÜCHE :
EMI6.1
vorzugsweise ebenen metallischen Schichte eine Beschichtung trägt, die unter Einwirkung elektromagnetischer Strahlen mit der metallischen Schichte photochemisch in Form einer Ätzung zu reagieren vermag, deren Tiefe der Strahlungsmenge proportional ist, wobei gegebenenfalls die metallische Schichte und die Beschichtung auf einer Trägerschicht angeordnet sind.
EMI6.2