DE1447024A1

DE1447024A1 - Lichtempfindliche Schicht fuer sensibilisierte Offsetdruckplatten und gedruckte Schaltbilder

Info

Publication number: DE1447024A1
Application number: DE1963N0023187
Authority: DE
Inventors: Facquet Louis Armand; Schuh Harry Andre Joseph; Lehmann Leon Rene; Coutaud Germain Yves
Original assignee: Nobel Bozel SA
Current assignee: Nobel Bozel SA
Priority date: 1962-12-14
Filing date: 1963-05-17
Publication date: 1968-10-24
Also published as: LU44760A1; NL301574A; DE1447024B2; ES293875A1; DE1447024C3; FR1352192A; US3288608A; BE639500A; GB1072685A; CH427502A

Description

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Lichtempfindliche Schicht für senaibilisierte Offsetdruekplatten und gedruckte Schaltbilder

Lichtempfindliche Schichten für sensibilisierte Qff setdruckplatten sind bekannt?die dabei erhaltenen Platten weisen ;}edooh im allgemeinen einen oder mehrere der folgenden ITachteile auf »begrenzte aaltbarkeitsdauer,geringe Stärke,sodaö beim Gebrauch ein zu schneller Verschleiß eintritt,zu langsamer Ablauf der .reproduktion. Mit Hilfe deo Verfahren« vorliegender !Srfindung gelingt es nun, nicht nur ,diese Nachteile zu vermeiden,sondern auch eine lichtempfindliche 3ohicht zu erhalten,die gleichzeitig für den Offsetdruck und gedruckte Schaltbilder verwendbar ist·

an Zum besseren Verständnis de 3 folgenden soll zunächst das Prinzip der Herstellung und Verwendung einer senaibiIivierten Platte Druekpositivkopien - erinnert werden.

liine Metallflliche,bestehnd aus einem Platten träger odor einem auf einem solchen aufgeklebten LIetallblatt,wird mit einer aog." empf indlichon¹'Schicht,deren Bestandteile sich unter der Einwirkung ultravioletter Strahlen zer8etzen,bestriehen.

Beim Offsetdruck verwendet man eine z.B.eine aus Aluminium bestehende Hetallunterlago,während man für gedruckte Schaltbilder eine auf eine Plattenunterlage,z.B.aus geschichtetem Papier,geklebte Metall-,z.B.Kupferfolie,benutzt.

Das zu vervielfältigende Schriftstück auf der Metallfläche selbst befindet sich auf einem lichtdurchlässigen Träger(FiIn),wahrend die zu vervielfältigenden Teile(Texte,Abbildungenjundurchsichtig sind und kein Licht durchlassen.Me3es Schriftstück befindet sich auf der empfindlichen Seite der Platte,Das zu reproduzierende Klischee kann auch ein Druoksohaltbild sein«

Hierauf wird belichtet und das zu vervielfältigende Schriftstück weggenommen.

Dann geht man zur Entwicklung der Platte über,unter Verwendung einer geeigneten FlüssigkeitEntwickler);dadurch sollen haup-fc-

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sächlich die Zersetzungsorodukte entfernt und das Metall an' Stellen,VJO die empfindliche Schicht bestrahlt worden ist,bloßgelegt -7/ird.

Die nicht bestrahlten Schichtstellen sollen hernach gut haften. Bei den sensibilisierten Platten für den Offsetdruck v/erden die nicht bestrahlten ^r':eile zu Druckstellen;sie müssen daher leicht Drucker schwärze aufnehmen.

i?ür die herstellung gedruckter Schaltbilder wird die Platte zunächst mit einem lösungsnittel für Kupfer behandelt,das die nicht bestrahlte Schicht nicht angreift? die se muß jedoch hez'nach von einem geeigneten Tjosungsnittol gelöst v/3rden,um das darunterbefindliche ,das DruckschaltDiId darstellende Kupfer bloßzulegen.

Die an die Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht zu stellenden Anforderungen sind daher beim Offsetdruck und bei der Herstellung von DruckSchaltbildern sehr verschieden;das erklärt,warum man sich bis je tat bei beiden verschiedener Methoden bedient hat. Das Verfahren zur Herstellung der lichtempfindlichen Schicht gemäß vorliegender Erfindung besteht darin,daß man

- Anhydride von Diazonaphtolsulfonsäuren,s«B.das Anhydrid der 1—Diaz 2-naphtol-4-dulfoiisäure

(D

das vorzugsweise mit mindestens"' einem seiner Isomeren,z.B.dem Anhydrid der 2-Diaso-l-naphtol-5-sulfonsäure gemischt angewandt wird,in alkoholischem liedium löst,

(II)

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andererseits in dem alkoholischen Medium ein p-Diazo-diphenylamin, z.B.das Sulfat des p-Diazo-diphenylamin3

C₆ H_x - Nk-ζ y-N= N-So« H _(III)

auf löst i derart, ü,ju, in der . 1'.:- Ine \.i ·. Λ±·δ: .on Verbindung (III] mit VerbindungI)und/oder einem 'xeil seinur Isomeren(II)eintritt; ferner in dem genannten Lledium Gin Phenolharz von niedrigem 1,1. G., vorzugsweise vom"lTovolack"~typ»in vereinfachter weise dargestellt durch die Formel

odor,noch einfacher durch

OH--C₆H₄ GH₂-... (IV)

löat a:id dadurch einen u.l.-.oholi*r.j5iGn,äie Reagentien enthaltenden, streichfähigen Lack erhält.

schließlich eine Metalloberfläche mit diesen alkoholischen Lack be streicht, mit .Värme behandelt, v/o durch das Phenolharz sich leicht oolykondenaiert und mit dem/den im Podium noch im freien Zustand vorliegenden Anhydriden der Diazo-naphtol-sulfonsäureCn)chemisch reagiert.

Vorzugsweise wird die Erfindung in der Weise ausgeübt,daß man im stöchiometrischen Verhältnis das Anhydrid der l-Diazo-2-naphtol-4-sulfonsäure(l)und das Sulfat des p-Diazo-diphenylamins(lIl) bei gewöhnlicher Temperatur unter Rühren in Alkohol a-r'löst, sodaß sich in der alkoholischen Lösung eine Verbindung(V)r;emäß folgender Reakti.on bildet:

VerbindungCV)

Falls ein Teil der gebildeten, schwerlöslichen VerbindungC V) ausfällt j filtriert man den ausgefällten Seil ab.

Übrigens löst man im alkoholischen Medium - vor oder naoh Bildung der VerbindungCV)»einerseits die VerbindungCII),nämlich das Anhydrid der 2-Diazo-l-naphtol-5-sulfonsäure,im Verhältnis(Molekül-ver liältnis)2tl zur VerbindungCI)!andererseits das niedrigmolekulare Phenolharz (IV)im Molverhältnis von ungefähr 3-6 pro Molekül von Produkt(II),

Der erhaltene alkoholische Lack wird auf die Metallfläche der Offsetdruckplatte oder des DruckSchaltbildes aufgetragen»dann einer Wärmebehandlung unterworfen,um,mit der Verdampfung dee Alkohols, eine leichte Polykondensation von Produkte IV) zu ProdukttlVOund die

ntstehung einer VerbindungCVI) gemäß Reaktion 1—0

+ ao-i

su erhalte ii.

Diese Verbindung(VI) übt auf die vorher gebildete physikalische Zwischenwirkung aus,derart,daß man schließlich eine »in verdünntem Alkali hinreichend unlösliche,sensibilisierte Schicht lervorragender Druckfähigkeit,großer mechanischer Widerstandsfühigceit-die sich im allgemeinen über Jahre erhält - und gleichzeitig für den Offsetdruck und den Druck von Schaltbildern sich eignet, sekommt.Die einzeln hergestellte VerbindungCVI) oder Verbindung(V) reist diese bemerkenswerten Eigenschaften überhaupt nicht auf;für 3ich allein sind sie als sensibilisierte Schichten nur für den Of .*-

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©AD

- r-

setdruck "brauchbar.

Bei Verwendung der so erhaltenen sensiDilisierten Platte belichtetman zunächst unter einem Positiviclischeeiuiiter dem BinflujJ des Lichtes zersetzen sich die VerbindxLngen(v)unu(Yl)za alkalilösuchen Produkten entsprechend den folgenden ite Aktionen:

C00/i

(YI

~^C6 'S

(7)

+ HO-

(VIII)

Hooc

(VI)

(IX)

- δ

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Die gebildeten Produkt·(VII,VIII,IX)werden durch Auswaschen der Platte (Entwicklung) mit verdünnter Alkalilöeung,z.B.Irinatriumphosphatlösung entfernt>soäaß an den belichte ten Stellen das Metall bloßgelegt wird·

Per niohtbelichtete feil der Schicht ist in Entwickler sehr wenig löslich und bleibt auf der Metalloberfläche gut haften;er vereinigt in sich alle für den Offsetdruck und für die Herstellung Ton Drucksehai' blldern notwendigen Eigenschaften·

Für den Offsetdruck wird die erhaltene Flatte(report ofieet)auf dem zylindrischen Plattenlager ler Druckmaschine befestigt und mit Hilfe von Waisen das zur Herstellung des Offsetdrucks an sieh bekannte Verfahren durchgeführt,z.B.

1) - Befeuchtung der Plattenoberflache,um im Verlauf des folgenden

Verfahrenabschnitts die Aufnahme von Druckerschwärze auf dem Metall zu verhindern;

2) - Auftragen der Drucker schwärze »die sich nur auf den Druckstellen

festsetzen soll;

3) - Abziehen der Druckerschwärze auf ein mit Kautschuk bedecktes

Suoh(^llblanohet^li),das über einen zylindrischen Träger(porte-blanchet)gespannt ist;

4) - Übertragung der Druckerschwärze auf das au bedruckende Papier,

das swi sehen dea Tuch und einem Druckzylinder hindurohgeführt wird·

Mit Hilfe der erfindungsgemäßen sensibilisierten Schicht sind alle diese Verfahrensabschnitte Ieioht durchführbarfman kann eine große Anzahl von Abzügen machen,ohne dal dabei die Platte abgenutzt oder beschädigt wird;die Urproduktion kann auch außerordentlich rasch erfolgen,ein Ifastand,der allein schon einen wichtigen technischen Fortschritt darstellen würde.

Zwecke eines Druckschaltbildes wird die entwickelte Platte - auf der das Kupfer an den belichteten Stellen bloßgelegt ist - zunächst mit einem Kupferlösungsmittel behandelt, a.B,mit einer Sisenperchlorat-Ib*sung oder Salpetersäure,wodurch das Kupfer gelöst wird und an die-* sen Stellen die Oberfläche des nichtleitenden TrägersC Schichtpapier) zum Vorschein kommt,ohne daß die nichtbelichteten Teile der Schicht

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würden »die das das Druoksehaltbild darstelle Kupfer schützen.

Hierauf löst man die nichtbeliohtete,das nicht angegriffene Kupfer bedeokend* Schicht in einem geeigneten Lösungsmittel,Z.B.Alkohol, um das Kupfer freizulegen,und erhält das gewünschte Drueksehaltblld. Trotz der Tielfalt der erforderlichen Eigenschaften kann man mit Hilf· der aenaibilisierten Schicht gemäß vorliegender Erfindung alle diese Verfahren leicht durchführen und überaus saubere Reproduktionen erhalten. ^ ^

Diese neue lichtempfindliche Schicht ist,um es noch einmal BUsammenzufaasen, sohweriesuch in verdünnten alkalischen Lösungen»: nach Belichtung jedoch ist sie darin löslich;auf metallischen Oberflächen ist sie sehr gut haftend,mechanisch sehr widerstandsfähig . . und kann sehr gut graviert werden;in den genannten Kupferlösungsmitteln 1st sie vollkommen unlöslich,in geeigneten organischen Lösungsmitteln jedoch löslich.All diese Bedingungen werden außerordentlich genau erfüllt »was bei Durchführung solch heikler Verfahren, wie es das Offsetdruckverfahren und die Herstellung von Druck Schaltbildern 1st» unerläßlich ist.

Das Anhydrid der zur Durchführung des Verfahrens notwendigen 1-Diaao-2-naphtol-4-eulfoneäure kann im chemisch oder technisch reinen Zustand verwendet werden; letzteres kann als Verunreinigung Salze ,wie Vatriumohlorid und Hatrlumsulfat enthalten;ebenso aber auch eine gewisse Menge Säure Im neutralisierten Zustand.

Sie Verbindungen(lI)(lBomere8 von I)und (III)(p-Diazo-dlphenylamin) können ebenfalls chemisch oder technisch rein verwendet werden,die im technischen Produkt vorhandenen Verunreinigungen sind im Prinzip" dieselben wie die des l-Diazo-2-naphtol-4--3ulfonsäureanhydrlds» Als Phenolharz wird man vorzugsweise eines der Hovolaokreihe mit eine: Molekulargewicht von 200-1300,Insbesondere von 600-700,nehmen. Der zur Auflösung der Verbindungen (I),(II),(IIl)und(IV)zu verwendende Alkohol kann beispielsweise Methyl-oder Äthylalkohol sein,vorzugsweise wird man Äthylalkohol verwenden.

Der Wassergehalt dieses Alkohols kann in gewissen Grenzen schwanken. Verwendet man Äthylalkohol,so wird man solchen mit einem GAY-LUSSAO-grad von 80-90 wählen.

• 8 -» 8098U5/ 1O#aaot

3ie im Alkohol aufzulösenden Mengen der Produkte (I),(Il),(III)und 'IV) können innerhall) weiter Grenzen schwanken »zweckmäßig wird man die >hen angegebenen Molkularmengen wählen, gegebenenfalls kann jedoch aue!

»in oder ander andere Bestandteil im Überschuß angewandt werden·.

»er Gehalt der alkoholischen Lösung an Trockensubstanz soll z.B. bei iO-300 g pro liter liegen»vorzugsweise bei 100-200 g pro Liter* >ie Auflösung der Diazo-naphtoi-sulfonsäuren (I und II)in Alkohol aol3 inter Riihren#vor allzu grellem Licht geschützt*erfolgen· Ie Produkte(I)und(II)können gleichzeitig oder nacheinander aur Auf~ ösung gebracht werden,etwa zuerst{l)und darauf(II)oder auoh umgekehri ach der Auflösung trennt man etwa nicht Gelostes durch Filtrieren ab«

In der alkoholischen Lösung der Produkte(l)und(ll)löst man ierauf in gleicher Weise das p-Diaao-diphenylaminCltl)jhernach, wird an vorteilhaft die Lösung,vor Lieht geschützt,20-30 Stdn«,z«B,24 tunden,ruhen lassen {während dieser Zeit wird die Reaktion von Produkt IIl)mit der entsprechenden stöohiometrischen Menge Diazo-naph toi-sulonsäure beendet·

In dem erhaltenen Reaktionsmedium löst man hierauf In der Leichen Weise,Jedoch ziemlich langsam,portionsweise das Harz(IV)auf» Der erhaltene Lack ist verwendungsfertig.

Bezüglich Dauer und Intensität der Wärmebehandlung sind gas* 3stimmte Grenzen einzuhalten,Die Wärmebehandlung soll zwar die oben-· cwähnten chemischen und physikalischen Wirkungen auslösen;eine zu isgedehnte Erwärmung bewirkt jedoch eine zu weitgehende Polykondensaten des Harzes und/oder unerwünschte chemische Zersetzungsprozesee» »rteilhaft erwärmt man auf 80-95°»die Bauer der Erwärmung sollte zwiihen zwei und zwanzig Minuten liegen.

Haoh der Wärmebehandlung empfiehlt sich eine Reifung während .ndestens 20 Stdn.in der Kälte.

Zur Entwicklung,nach Belichtung,verwendet man eine verdünnte tsserige Alkalilösung, z.B.Trinatrium-oder Trikaliumphosphatlösung ode? ich Natriumboratlösung,Kalkwasser,Barium-oder Strontiumsulfat wasser} rzugsweise wird man z.B.eine wässerige Irinatriumphosphatlösung,enttltend 0»2«10^ kristallisiertes Produkt.

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Im Rahpen der Erfindung kann man zur Lösung der Verbindungen (I), (II),(lll)und(IV)statt Alkohol jedes geeignete andere Lösungsmittel verwenden«

Um die Erfindung besser verständlich zu machen, seien einige Ausführungsbeispiele gebracht.

Beispiel I . In 9 liter ithylalkohoK 9O⁰GAY-HfSSAC) löst man unter Rühren und untea Ausschluß von äktinischem Lieht,150 technisch reines 2-Biazo-l-

naphtol-5-3ttlJfons|LureanIiydriä mit einem Gehalt Ton SO^ aktiver Sub stan^.Baoh etwa 20 Minuten währendem Rühren trennt man ggf.ungelöst

Gebliebenes durch filtrieren ab. In der erhaltenen alkoholischen Lösung löst stan,wie oben beschrieben,

75 - g. 3L-piaj5O-2-naphtol"i-4-sulf Qnsäureanhyürid(techn,)isit einem (!ehalt

VQn §ÖJ£ aktiver Substanz und
70 g p-DiaKO-diphenylaminsulfatitechn. )ait einen Gehalt von 95$ akt*

Man 1^t,^4 Stunden xind mehr ruhen. . - ■ In dem erhaltenen Reaktionsgeiaisoh löst stau unter Rühren und unter

stock aktinisehen Lichtes,OT5 g Phenolharz vom " Hovo"-l^^ ^ißnolharz hat ein mittleres ISolekulargewioht -wan 640, reagiert neutral und enthält kein freies Jhenol;Schmelzpunkt liegt gf5|3eheji 75^ u3^ Jl^⁰C !Viskosität Ii 1 in Äthylalkohol ist 125 «#* Dap Ha^TB soll. <|em Lösungsaittel in kleinen üengen zugesetzt werden, |n|öaujag^ahjen foil mindestens 1 Stunde in Anspruch nehmen*

Man füllt mit Äthylalkohol von 9Q°GAl^r-Lü3Sa.C - zwecks besserer Homo-

unter Sühreii. *· auf 10 Liter auf · Der erhaltene alkoholische Lack ist verwendungsbereit.Br₁ kann in ^eorme tisQh verachlosaenen Behälter unter Lichtabschluß aufbe~

^ apll die Herstellung einer sensibilisierten Offset-»

olatte für_ garomanchixm mi-| Hilfe . dieses alkoholischen Lackes

Der Lack wird gleichmäßig auf die vorher gebürstete und mittels

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99 t4$iig. Aluminiumfolie von 15/lQQ nmrBieke oxydierten Pläohe auf ge*

Die bestrichene Platte wird einige HinutenC ungefähr 5 Minuten)auf 85~9O°ernitztj vor der Verwendung wird die Platte 24 Stunden oder noch länger gelagert.Die sensibilisierte Platte kann viele Monate,

sogar Jahre aufbewahrt werden· ,

Bei Verwendung wird die sensibilisierte Platte zunächst unter einem, kräftig gegen die sensibilisierte Seite gedrückten "ty ρ on posit if *" belichtet;die Belichtung soll mittels eines kräftige UV-Bestrahlung

erzeugenden Apparates erfolgen. ,_...-. .

Die belichtete Platte wird mit etwa 4^iger wässeriger Trinatriumphosphatlöeung entwickelt* - , ■.

Me erhaltene Platte ("report offset" )wird auf eine Maschine montieri und der Offset-druck in an sich bekannter Weise hergestellt· , -.

Man stellt nach Art des Beispiels 1 einen alkoholischen iaok her, Terwendet aber statt 875 g Phenolhare 1500g· . _; . , Ser Lack wird gleichmäßig auf der Supferf lache, auf ge tragen »die Kupferplatte war vorher mechanisch und ohemisoh aittels eines Spezialreinigangsmitteln behandelt worden,dessen Eerstellung_fwie folgt,vor eich gehtϊEine Kupferfolie,35,gegebenenfalls 70 u dick,wird auf die Oberfläche einer aus dielektrischem Material (Papier, Glasfasern, Kunst stoff ,Hare) be stehenden Platte auf geklebt; die se β Material ist insbesondere für die Herstellung, von Drucksohaltbildern bestiiamt· Die bestrichene Platte wird etwa 13 Minuten lang auf 85-90°erhitzt; dann wird die Platte mindestens 24 Stunden Tor Mcht gesohütsst^Bie sensibilisierte; Platte kann ohne Schaden viele Monate* ja Jahre; aufbewahrt werden. - ; * ■·.-. ν ;-_.-■; ,.■;".,-:- ■-,, :*»-.■- .t; j..^y .^l- ·■· :l^£tf?4\H^ Die belichtete Platte wird as.B.mit einer, etwa 2#ig.vrässerigen Trinatriumphosphatlöaung entwickelt. ^;^

Die erhaltene» Platte wird mit einem Kupferlösungsmittel .^behandelt** ü*B»bringt «br sie is eine Druoksiaschine ein»die bei Rauflitemperatur eine wässerige Eisenperohlor^lÖsung von 36⁰B^ enthält.Dadurch soll 'das Kupfer an den nicht durch die Schicht geeonützten Stellen aufgelöst und die Behandlung beendet werden, sobald das ganae sichtbare Kupfer gelöst ist· ·

• " -U-

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Die nicht belichtete,nicht angegriffenes Kupfer bedeckende Schicht wird schließlich in Äthylalkohol gelöst,um das Kupfer bloßzulegen. Damit ltt das Brucksohaltbild fertig»

Man kann auoh, dabei im Rahiaen der Erfindung bleibend ,die lichtempfir liehe Schient gemäß Erfindung zur Herstellung Ton e&gnalgefcenden Anordnungen(Beschriften von Bieenbleoh großer Ausmaße Ju.ähnl. Verwender

Claims

-Patentansprüche -

!.Lichtempfindliche Schicht für eenelbilialerte,für den Offsetdruck und Druokschaltbilder bestimmte Platten,dadurch gekannceiohnet, daß «Le durch Reaktion einea Biaso-naphtο1-sulfonsäureanhydride und mindestens einem Isomeren desselben, mit einem p-Diamino-diphenvlaain und einem niedrigaolekularen Phenolharz gebildet wird. II.Verfahren aur Herstellung dieser lichtempfindlichen Schicht,dadurc gekennzeichnet,daß sen a) ein Diaeo-naphtol-eulfonsäureanhydrid und mindestens ein Isomere desselben in Alkohol löeti

b)in diesem alkohol!eohen" Medium ein p-Diaao-diphenylaain löst und auf diese Weise in der Kälte eine Reaktion des p-Diaaodiphenylaaine Mit dem Anhydrid der Dlazo-naphtol-sulfonsäure und/oder tinea Teil seines Isomeren herbeifuhrt;

o)ln dem alkoholieohen Medium das erwähnte Phenolharz löet_fwodurch man einen« die Reaktionateilnehmer enthaltenden! streichfähigen alkoholischen Laok erhält;

d)eine ifetsllflache mit diesem alkoholiaohen Lack bestreicht, hierauf mit Wärme behandelt,sodaß das Phenolharz leicht polykondensiert, und es mit dem(n),noch frei im Medium befindlichen Anhydrld(en)der Diamo—naphtoi-sulf onsäure chemisch^reagieren

III. Verfahren nach Anspruch II,dadurch gekennseiohnet,dae die im

folgenden angeführten Merkmale jedes für sich allein oder In allen möglichen Kombinationen miteinander angewandt werden ι ft) die verwendeten Diaso-naphtol-aulfonsäureanhydride das Anhydrid

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der l-Diazo-2-naphtol-4-sulfonsäure(l)und dessen Isomeres,daa Anhydi der 2-Diazo-l-naphtol-5-sulfonsäure(lI)sind,die chemisch oder technisch rein verwendet werden können und wobei das letztere z.B*80$ aktive Substanz enthält;

b)das zn verwendende p-Diazo-diphenylamin das Sulfat von p-Diazo-diphe nyl(III),chemisch oder technisch rein,ist und z.B.95% aktive Substan enthält;

o)das zu verwendende niedrigmolekulare Phenolharz(IV) ein Mol.~Gew*von 200 - 1300,vorzugsweise von 600-700 hat und dem Novolaoktyp angehört

d)die Wärmebehandlung nach Auftragen der Schicht auf die Metalloberflä ehe bei 80-95⁰C erfolgt und zwei bis zwanzig Minuten andauert;

e)der für die Lösung der Verbindungen (I)_t(Il),(lII)und(lV)zu verwendende Alkohol Äthylalkohol mit einem GAr-LUSSAC-grad von 80-90 ist;

f)die Mengenverhältnisse der in Alkohol zu lösenden Produkte(I),(II), (III)und(lV)vorzugswelse molare sind,sodaß z.B.auf 1 MoI(I) 2MoI(II)₁ 1 Mol(lll)und 6-12 Mol(IV)treffen,wobei die Menge des letzteren auf dem mittleren Mol.-Gew.des Harzes beruht}

g)der Gehalt der alkoholischen Lösung an Trockensubstanz - nach Auflösung der Produkte(I),(II),(III) und(IV) - zwischen 30 und 300g/Liter insbesondere zwischen 100 und 200 ,liegt;

h)man die erhaltene alkoholische Lösung vor Weiterverarbeitung ruhen läßt.

CV.Verfahren nach Anspruch II und III,dadurch gekennzeichnet,daß u:i reitung der erhaltenen sensibilislerten Platten im Hinblick auf i Verwertua^· darin besteht,daß man

a)den Positiyfilm des zu reproduzierenden Dokumentes gegen die empfindliche Plattenseite anlegt,

b)mit ultravioletten Strahlen belichtet;

c)die Platte mittele verdünnter,wässeriger Alkalilösung,z.B.einer wässerigen Trinatriumphosphatlösung mit einem Gehalt von 0,2 - 10?ί krist Produktes,entwickelt.

V.Verwendung der nach Anspruch 2,3 und 4 hergestellten entwickelten Platte für den Offsetdruck.

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VI. Ve rwendung der nach den Verfahren der Ansprüche II, III und IV

hergestellten entwickelten Platte zur Herstellung von Druckschal' bildern,dadurch gekennzeichnet,daß man

a)die Platte mit einem Kupferlösungamittel,z.B.einer wässerigen SieenperohlorverbindungC36 Be),behandelt

b)die unbeliahtete,das nicht angegriffene Kupfer der Platte be~ deokende Schicht in einem geeigneten Lösungsmittel,z.!^Äthylalkohol löst.

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