DE19944487A1 - ESD-Schutzanordnung für Halbleitervorrichtung - Google Patents

ESD-Schutzanordnung für Halbleitervorrichtung

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine ESD-Schutzanordnung, bei der Pads (5) zu einer Bondinsel (4) gebondet sind und/oder sämtliche an einen ESD-Bus (17) angeschlossene Bauelemente durch einen Substrat-Schutzring (20) umgeben sind.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine ESD-Schutzanordnung (ESD = Electrostatic Discharge) für eine Halbleitervorrich­ tung, bei der Überspannungen auf an niedriger Versorgungs­ spannung (VSS) liegende Pads (Kontaktkissen) abführbar sind.
Bei ESD-Belastungen, die beispielsweise bei einer Berührung einer integrierten Schaltung (IC) mit der Hand auftreten kön­ nen, werden unter Umständen hohe Ströme erzeugt, die vom IC abgeleitet werden müssen. So wird beispielsweise beim soge­ nannten "human body model" ("menschliches Körpermodell") von Vorladespannungen bis zu 6 kV und Strömen bis zu 4 A ausge­ gangen.
Auf einem IC muß ein hoher Spannungsabfall durch die Spitzen­ ströme im Ampere-Bereich während einer ESD-Belastung vermie­ den werden. Hierzu ist es erforderlich, daß entsprechende ESD-Pulse niederohmig abgeführt werden können.
Sind die Widerstände der die ESD-Pulse ableitenden Busbahnen zu hoch, beispielsweise über 1 Ohm, so kann es selbst bei Verwendung von idealen ESD-Schutzdioden zu Schädigungen im Kernbereich des ICs kommen.
Ein Beispiel für eine solche ESD-Belastung ist in Fig. 5 ge­ zeigt. Einem Signalpad 12 ist eine Durchbruchdiode 13, bei­ spielsweise eine Zener-Diode nachgeschaltet, an welche ein ESD-Bus 15 mit einem Widerstand RESDBUS angeschlossen ist, der zu einem GND- bzw. Masse-Pad 5 führt. An diesem ESD-Bus 15 ist die Wanne eines sich im Kernbereich des ICs oder in der Ansteuerlogik von I/O-(Eingabe/Ausgabe-)Zellen des ICs be­ findlichen NMOS-Transistors 14 angeschlossen. Dieser Transi­ stor 14 führt den ESD-Puls, der über das Signalpad 12, bei­ spielsweise durch dessen Berührung, eingegeben ist, ab, so daß an ihm in diesem Fall eine erhöhte Spannung gegenüber dem GND-Potential des Pads 5 auftritt, welche an Gate des Transi­ stors 14 liegt. Überschreitet nun diese Spannung zwischen Ga­ te und Wanne des Transistors 14 bei ICs in gegenwärtigen CMOS-Technologien etwa 5 V bis 10 V, so wird das Gateoxid des Transistors 14 irreversibel geschädigt, was dazu führen kann, daß der IC nicht mehr verwendbar ist.
Um diese Schwierigkeiten zu vermeiden, werden in der Regel die Busse, die den ESD-Puls abführen sollen, entsprechend breit gestaltet bzw. in geeigneten Abständen mit Versorgungs­ pads versehen, die den ESD-Puls vom IC nach außen auf bei­ spielsweise auf niedrigem Versorgungspotential VSS liegende Pins bzw. Anschlüsse ableiten.
Breite Metallbahnen für derartige Busse sind aber mit einem zusätzlichen Flächenaufwand und damit auch mit einer Verteue­ rung des ICs verbunden. Auch kann ein enges Raster von Pins auf VSS-Potential oftmals nicht eingehalten werden, da entwe­ der die Pinzahl oder das Pinraster durch das Gehäuse bzw. die Anwendung des ICs vorgegeben sind. So gibt es Produkte, wie beispielsweise Chipkarten, in denen jeweils nur ein Versor­ gungspad für niedrige Versorgungsspannung VSS und hohe Ver­ sorgungsspannung VDD auf dem IC existiert und bei denen der Abstand zu Signalpads bis zu 10 mm betragen kann.
Dennoch wird bisher davon ausgegangen, daß die Breite der Busse grundsätzlich dem jeweiligen Raster der Pins auf VSS- Potential trotz des dadurch bedingten zusätzlichen Flächen­ aufwands angepaßt werden soll. Für aufwendige Gehäuse, wie beispielsweise für hochwertige Prozessoren, werden zudem ei­ gene Powerringe bereitgestellt, auf die von den Pads gebondet wird und die eine niederohmige Verbindung zum IC sicherstel­ len, damit eine niederohmige Ableitung der ESD-Pulse gewähr­ leistet ist. In dem obigen Beispiel einer Chipkarte mit Ab­ ständen zu den Signalpads bis zu 10 mm erfordert dieses Vor­ gehen für eine aktuelle Technologie mit einer Busbreite von 0,25 µm Powerringe bzw. ringförmige Busse mit einer Breite bis zu 0,5 mm.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine ESD- Schutzanordnung anzugeben, die auch bei wenigen zur Verfügung stehenden Pads und ohne Einsatz breiter Busbahnen eine zuver­ lässige Ableitung von ESD-Pulsen gewährleistet.
Diese Aufgabe wird bei einer ESD-Schutzanordnung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß gelöst durch eine Einrichtung zur Verringerung der Spannungsbelastung der Pads.
Diese Einrichtung zur Verringerung der Spannungsbelastung kann aus einer Bondinsel bestehen, auf die einzelne Pads ge­ bondet sind und die mit auf niedriger Versorgungsspannung liegenden externen Pins verbunden ist.
Hier werden also bei einer geringen Anzahl von zur Verfügung stehenden Pins auf niedriger Versorgungsspannung VSS die Pads für niedrige Versorgungsspannung VSS auf die Bondinsel bzw. Leiterrahmen des Gehäuses gebondet. Eine solche Bondinsel ist in den meisten Standardgehäusen vorhanden. Durch dieses Bon­ den auf die Bondinsel wird eine niederohmige Verbindung der entsprechenden Pads zu der Bondinsel gewährleistet. Von der Bondinsel werden sodann beispielsweise Doppelbonddrähte zu allen zur Verfügung stehenden Pins auf VSS-Spannung gezogen. Gegebenenfalls ist es sogar ausreichend, hierfür nur eine Doppelbondverbindung zu einem Pin auf Vss-Spannung herzustel­ len.
Bei einem anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorlie­ genden Erfindung besteht die Einrichtung zur Verringerung der Spannungsbelastung aus einem Substrat-Schutzring, der sämtli­ che an einen ESD-Bus angeschlossene Bauelemente umgibt und mit diesem ESD-Bus sowie einem auf niedrigerer Spannung lie­ genden Versorgungsbus verbunden ist, so daß über dem Sub­ strat-Schutzring ein Spannungsabfall auftritt. Der Substrat- Schutzring, der aus einer hochdotierten Zone des einen Lei­ tungstyps besteht, kann dabei eine Hochvolt-Wanne des anderen Leitungstyps umgeben. Dadurch ist es möglich, den Abstand zwischen dem Substrat-Schutzring und dem nächstgelegenen Sub­ stratkontakt, der an den ESD-Bus angeschlossen ist, zu ver­ ringern und einen höheren Schichtwiderstand im Substrat vor­ zusehen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein erstes Ausführungsbei­ spiel der erfindungsgemäßen ESD-Schutzanordnung,
Fig. 2 eine Draufsicht auf ein zweites Ausführungsbei­ spiel der erfindungsgemäßen Schutzanordnung,
Fig. 3 ein Ersatzschaltbild für das Ausführungsbeispiel von Fig. 2,
Fig. 4 eine schematische Schnittdarstellung zur Reali­ sierung des zweiten Ausführungsbeispiels und
Fig. 5 ein Ersatzschaltbild zur Erläuterung einer ESD- Belastung.
Die Fig. 5 ist bereits eingangs erläutert worden. In den Fig. 1 bis 4 werden für einander entsprechende Teile die gleichen Bezugszeichen verwendet wie in Fig. 5.
Fig. 1 zeigt einen IC 1 aus einem digitalen Block 2 und einem analogen Block 3. Der IC 1 ist an seinem Rand mit Pads 5 um­ geben, an denen Potentiale bzw. Spannungen VSSB (niedrige, ru­ hige Versorgungsspannung) und VSSP (niedrige, "unruhige" Ver­ sorgungsspannung) liegen. Zur Abführung von ESD-Pulsen, die in dem IC 1 auftreten können, sind die Pads 5 mit externen Pins 6 zu verbinden, wie dies beispielsweise durch Bonddräh­ te 9 gezeigt ist. Stehen nun zu wenig externe Pins 6 für ein derartiges Bonden zur Verfügung, so werden auf dem IC 1 die Abstände zwischen den Pads 5, die mit den Pins 6 verbunden sind, so groß, daß eine Niederohmigkeit von Bussen, die mit diesen Pads 5 verbunden sind, nicht gewährleistet ist. Um nun mehr Pads 5 niederohmig mit den wenigen, zur Verfügung ste­ henden Pins 6 verbinden zu können, werden Pads durch Bond­ drähte 8 mit einer Bondinsel 4 verbunden, auf der der IC 1 ohnehin angebracht ist. Von dieser Bondinsel 4 führen weitere Bonddrähte 10 (bedarfsweise 11) zu Pins 6 auf dem Potential VSS (VSSDigital für den Block 2 und VSSAnalog für den Block 3).
Erfindungsgemäß ist also vorgesehen, daß bei einer zu gerin­ gen Anzahl von zur Verfügung stehenden externen Pins 6 die Pads 5 auf beispielsweise VSSB-Potential auf die Bondinsel 4 eines Gehäuses 7 gebondet werden. Dadurch ist eine nieder­ ohmige Verbindung der entsprechenden Pads 5 zu den zur Verfü­ gung stehenden Pins 6 sichergestellt. Diese Verbindung kann auch durch "Doppelbonds" zu allen Pins 7 auf VSS-Potential erfolgen, indem beispielsweise ein Bonddraht 9 von einem Pad 5 zu einem Pin 6 und ein Bonddraht 10 von der Bondinsel 4 zum gleichen Pin 6 gezogen wird.
Fig. 2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der erfindungs­ gemäßen ESD-Anordnung. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein Substrat-Schutzring 20 um sämtliche an einen ESD-Bus 17 ange­ schlossene Bauelemente, wie insbesondere einen Treiber 18 und ein ESD-Schutzelement 19 gelegt und über eine eigene Leitung 21 zu einem Pad 12 auf VSS-Potential geführt.
Außerdem ist der Substrat-Schutzring 20 an einen Substratbus 16 angeschlossen und wie der ESD-Bus 17 mit dem Potential VSS beaufschlagt.
Auf diese Weise entsteht an einem Knoten 25 zwischen dem Sub­ strat-Schutzring 20 (vgl. auch Fig. 3) und dem Substratbus 16 eine Spannungsteilung, wobei die Spannung an diesem Knoten 25 die Spannung im Substratbereich beispielsweise einer empfind­ lichen Logikschaltung im Außenbereich des Substrat-Schutzrin­ ges 20 von Fig. 2 bestimmt. Daher können an einem Knoten 26, der zwischen dem Substrat-Schutzring 20 und dem ESD-Bus 17 liegt, erheblich höhere Spannungen auftreten.
Es ist somit möglich, die erforderliche Breite des ESD-Busses 17 zu verringern, so daß beispielsweise sogar ein Fünftel der üblichen Busbreite für einen gleichwertigen ESD-Schutz aus­ reichend ist. In Fig. 3 symbolisiert der Widerstand 20' den Widerstand zwischen dem Substrat-Schutzring 20 und den an den ESD-Bus 17 angeschlossenen Substratkontakten im Inneren des Schutzringes 20.
Um den Abstand zwischen dem Substrat-Schutzring 20 und dem nächstgelegenen Substratkontakt, der an den ESD-Bus 17 ange­ schlossen ist, zu verringern, ist es zweckmäßig, die ESD- Schutzanordnung beispielsweise in der in Fig. 4 gezeigten Weise zu gestalten: hier besteht der Substrat-Schutzring aus p+-leitenden Bereichen 22 in einem p-leitenden Siliziumsub­ strat 24, wobei der Substrat-Schutzring aus den Bereichen 22 eine n-leitende Hochvolt-Wanne 27 mit einem n+-leitenden Kon­ taktgebiet 23 für die höhere Versorgungsspannung VDD umgibt. Bei einer derartigen Gestaltung ist ein höherer Schichtwider­ stand im Substrat 24 möglich.
Es sei noch angemerkt, daß im Kernbereich des ICs die Wannen von Logiktransistoren nicht an den ESD-Bus 17 angeschlossen sein dürfen.
Bezugszeichenliste
1
integrierte Schaltung (IC)
2
digitaler Block
3
analoger Block
4
Bondinsel
5
Pad
6
Pin
7
Gehäuse
8
Bonddraht
9
Bonddraht
10
Bonddraht
11
bedarfsweiser Bonddraht
12
Signalpad
13
Durchbruchdiode
14
NMOS-Transistor
15
Widerstand von ESD-Bus
16
Substratbus
17
ESD-Bus
18
Treiber
19
ESD-Schutzelement
20
Substrat-Schutzring
21
elektrische Leiterbahn
22
p+
-leitendes Gebiet
23
n+
-leitendes Kontaktgebiet
24
p-leitendes Substrat
25
Knoten
26
Knoten
27
n-leitende Hochvolt-Wanne

Claims (4)

1. ESD-Schutzanordnung für Halbleitervorrichtung, bei der Überspannungen auf an niedriger Versorgungsspannung (VSS) liegende Pads (5) abführbar sind, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (4; 20) zur Verringerung der Spannungs­ belastung des Pads (5).
2. ESD-Schutzanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Verringerung der Spannungsbelastung aus einer Bondinsel (4) besteht, auf die einzelne Pads (5) gebondet sind und die mit auf niedriger Versorgungs­ spannung (VSS) liegenden externen Pins (6) verbunden ist.
3. ESD-Schutzanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Verringerung der Spannungsbelastung aus einem Substrat-Schutzring (20) besteht, der sämtliche an einen ESD-Bus (17) angeschlossene Bauelemente umgibt und mit diesem ESD-Bus (17) sowie einem auf niedriger Spannung (VSS) liegenden Versorgungsbus (16) verbunden ist, so daß über dem Substrat-Schutzring (20) ein Span­ nungsabfall auftritt.
4. ESD-Schutzanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Substrat-Schutzring (20) des einen Leitungstyps eine Hochvolt-Wanne (27) des anderen Leitungstyps umgibt.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004007655A1 (de) * 2004-02-17 2005-09-08 Infineon Technologies Ag ESD-Schutzvorrichtung für eine Halbleiterschaltung mit einer mit einem Substrat- oder Guard-Ring-Kontakt kontaktierten ESD-Schaltung
DE102004031455A1 (de) * 2004-06-29 2006-01-19 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Erstellung eines ESD-Schutzes bei einem mikroelektronischen Baustein und entsprechend ausgebildeter mikroelektronischer Baustein
DE102005014176A1 (de) * 2005-03-29 2006-10-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erstellen einer Schutzanordnung zum Schutz eines Elektronikbausteins vor elektrostatischen Entladungen und entsprechend ausgebildeter Elektronikbaustein

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19743240C1 (de) * 1997-09-30 1999-04-01 Siemens Ag Integrierte Halbleiterschaltung mit Schutzstruktur zum Schutz vor elektrostatischer Entladung
DE19743344C2 (de) * 1997-09-30 1999-08-05 Siemens Ag Verfahren zur Montage integrierter Schaltkreise mit Schutz der Schaltkreise vor elektrostatischer Entladung und entsprechende Anordnung von integrierten Schaltkreisen mit Schutz vor elektrostatischer Entladung

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4408245A (en) * 1981-12-28 1983-10-04 Rca Corporation Protection and anti-floating network for insulated-gate field-effect circuitry
KR960002094B1 (ko) * 1990-11-30 1996-02-10 가부시키가이샤 도시바 입력보호회로를 갖춘 반도체장치
US5446302A (en) * 1993-12-14 1995-08-29 Analog Devices, Incorporated Integrated circuit with diode-connected transistor for reducing ESD damage
US5477078A (en) * 1994-02-18 1995-12-19 Analog Devices, Incorporated Integrated circuit (IC) with a two-terminal diode device to protect metal-oxide-metal capacitors from ESD damage
US5940258A (en) * 1996-02-29 1999-08-17 Texas Instruments Incorporated Semiconductor ESD protection circuit
JP3450297B2 (ja) * 1997-09-30 2003-09-22 インフィネオン テクノロジース アクチエンゲゼルシャフト 静電放電に対して保護するための保護構造体を備えた集積半導体回路
DE19743230C1 (de) * 1997-09-30 1999-04-15 Siemens Ag Integrierte Halbleiterschaltung mit Schutzstruktur zum Schutz vor elektrostatischer Entladung

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19743240C1 (de) * 1997-09-30 1999-04-01 Siemens Ag Integrierte Halbleiterschaltung mit Schutzstruktur zum Schutz vor elektrostatischer Entladung
DE19743344C2 (de) * 1997-09-30 1999-08-05 Siemens Ag Verfahren zur Montage integrierter Schaltkreise mit Schutz der Schaltkreise vor elektrostatischer Entladung und entsprechende Anordnung von integrierten Schaltkreisen mit Schutz vor elektrostatischer Entladung

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004007655A1 (de) * 2004-02-17 2005-09-08 Infineon Technologies Ag ESD-Schutzvorrichtung für eine Halbleiterschaltung mit einer mit einem Substrat- oder Guard-Ring-Kontakt kontaktierten ESD-Schaltung
DE102004007655B4 (de) * 2004-02-17 2013-03-28 Infineon Technologies Ag Halbleiterschaltungen mit ESD-Schutzvorrichtung mit einer mit einem Substrat- oder Guard-Ring-Kontakt kontaktierten ESD-Schutzschaltung
DE102004007655B8 (de) * 2004-02-17 2013-10-10 Infineon Technologies Ag Halbleiterschaltungen mit ESD-Schutzvorrichtung mit einer mit einem Substrat- oder Guard-Ring-Kontakt kontaktierten ESD-Schutzschaltung
DE102004031455A1 (de) * 2004-06-29 2006-01-19 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Erstellung eines ESD-Schutzes bei einem mikroelektronischen Baustein und entsprechend ausgebildeter mikroelektronischer Baustein
DE102004031455B4 (de) * 2004-06-29 2014-10-30 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Erstellung eines ESD-Schutzes bei einem mikroelektronischen Baustein und entsprechend ausgebildeter mikroelektronischer Baustein
DE102005014176A1 (de) * 2005-03-29 2006-10-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erstellen einer Schutzanordnung zum Schutz eines Elektronikbausteins vor elektrostatischen Entladungen und entsprechend ausgebildeter Elektronikbaustein
US7542254B2 (en) 2005-03-29 2009-06-02 Infineon Technologies Ag Method for producing a protective assembly for protecting an electronic component from electrostatic discharge, and correspondingly configured electronic component
DE102005014176B4 (de) * 2005-03-29 2009-08-20 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erstellen einer Schutzanordnung zum Schutz eines Elektronikbausteins vor elektrostatischen Entladungen und entsprechend ausgebildeter Elektronikbaustein

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