DE19924635A1 - Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung - Google Patents
Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine HerstellungInfo
- Publication number
- DE19924635A1 DE19924635A1 DE1999124635 DE19924635A DE19924635A1 DE 19924635 A1 DE19924635 A1 DE 19924635A1 DE 1999124635 DE1999124635 DE 1999124635 DE 19924635 A DE19924635 A DE 19924635A DE 19924635 A1 DE19924635 A1 DE 19924635A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- quartz glass
- insert
- layer
- grain
- crucible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/10—Crucibles or containers for supporting the melt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
- C03B19/095—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould by centrifuging, e.g. arc discharge in rotating mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B35/002—Crucibles or containers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
Es ist ein Quarzglas-Verbundtiegel bekannt, der eine Außenschicht aus opakem Quarzglas umfaßt, die mindestens teilweise mit einer Innenschicht aus blasenfreiem, transparentem Quarzglas versehen ist. Um hiervon ausgehend einen Verbundtiegel bereitzustellen, der eine ausreichend dicke und blasenfreie Innenschicht und somit hohe Standzeit aufweist, sowie ein einfaches und reproduzierbares Verfahren zur Herstellung solcher Tiegel anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Innenschicht als ein in einem separaten Verfahrensschritt geformtes, blasenfreies Quarzglas-Einsatzteil, mit einer Wandstärke von 2 mm oder mehr ausgebildet ist. Das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren umfaßt die Verfahrensschritte: a) Formen eines Einsatzteiles aus SiO¶2¶, das mindestens abschnittsweise eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist; b) Bereitstellen einer Außenform aus opakem Quarzglas oder aus SiO¶2¶-Körnung; c) Einrichten des Quarzglas-Einsatzteiles in der Außenform derart, daß mindestens ein Teil der Außenform mit Quarzglas-Einsatzteil in einer Dicke von 2 mm oder mehr bedeckt ist, und d) Verschmelzen von Quarzglas-Einsatzteil und Außenform durch Erhitzen des Quarzglas-Einsatzteiles von innen nach außen.
Description
Die Erfindung betrifft einen Quarzglas-Verbundtiegel, der eine Außenschicht aus opakem
Quarzglas umfaßt, die mindestens teilweise mit einer Innenschicht aus blasenfreiem, transpa
rentem Quarzglas versehen ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung
eines solchen Verbundtiegels.
Derartige Verbundtiegel werden beispielsweise zum Ziehen von Einkristallen aus der Schmel
ze nach dem Czochralski-Verfahren eingesetzt. Ein Verbundtiegel der angegebenen Gattung
und ein Verfahren zu seiner Herstellung ist aus der US-PS 5,174,801 bekannt. Der Verbund
tiegel besteht aus einer opaken Außenschicht, die aus natürlichem Quarzsand gesintert ist
und aus einer transparenten Innenschicht aus synthetisch hergestellter Quarzkörnung. Der be
kannte Verbundtiegel weist einen geschlossenen, leicht nach außen gewölbten Boden und ei
nen im wesentlichen zylinderförmigen Seitenbereich auf. Der Übergang zwischen dem gewölb
ten Boden und dem zylinderförmigen Seitenbereich wird im folgenden als Übergangsbereich
bezeichnet. Dieser Bereich ist im Verlauf des Kristall-Ziehverfahrens einem besonders starken
Angriff durch die Metallschmelze ausgesetzt.
Zur Herstellung des bekannten Verbundtiegels wird zunächst in eine Schmelzform natürlicher
Quarzsand eingefüllt und dieser unter Rotation der Schmelzform zu einer körnigen Außen
schicht geformt. Die Außenschicht wird anschließend mittels eines Lichtbogens erhitzt und auf
geschmolzen bzw. gesintert. Während des Aufschmelzens der Außenschicht wird in die
Schmelzform synthetische hergestellte Körnung zur Bildung der Innenschicht eingestreut, die
sich an der Innenoberfläche der Außenschicht absetzt und dabei unter Bildung einer transpa
renten, mit der Außenschicht fest verbundenen Innenschicht aufschmilzt. Inhomogenitäten der
Innenschicht können zur Keimbildung in der Metallschmelze führen und dadurch den zu
ziehenden Einkristall beschädigen. Solche Inhomogenitäten, beispielsweise Blasen und Ein
schlüsse, sind daher möglichst zu vermeiden. Im Verlauf des Kristallziehens wird die transpa
rente Innenschicht abgetragen. Die Qualität und Dicke der Innenschicht, insbesondere im
Übergangsbereich, ist maßgeblich für die Standzeit des Quarzglastiegels.
Bei dem bekannten Verfahren wird die Körnung für die Innenschicht mittels eines Lichtbogens
aufgeschmolzen. Der Lichtbogen brennt nur in einem engen Parameterfeld stabil und reagiert
empfindlich auf Änderungen der äußeren Bedingungen. Die Erzeugung und Aufrechterhaltung
eines homogenen Temperaturfeldes während des Einstreuens ist daher problematisch. Inho
mogenitäten des Temperaturfeldes können aber zu einem ungenügendem Aufschmelzen der
Körnung und zu Blasenbildung in der Innenschicht führen.
Weiterhin ist zu beachten, daß die in den Verbundtiegel einzubringende Schmelzenergie mit
der Temperatur und mit der Menge der eingestreuten und aufzuschmelzenden Körnung zu
nimmt. Werden aufgrund hoher Temperaturen oder großer Einstreumengen hohe Schmelzlei
stungen in den Tiegel eingebracht, führt dies zu einem übermäßigen Sintern der Körnung und
zu in einer großen Wandstärke der Außenschicht. Dickwandige Tiegel sind aber häufig uner
wünscht. Daher ist das bekannte Verfahren auch hinsichtlich der Höhe der Temperatur und
der Einstreumenge limitiert, so daß es problematisch ist, blasenarme und gleichzeitig relativ
dicke Innenschichten zu erzeugen.
Auch die Auswahl geeigneter Partikelgrößen für die einzustreuende Körnung ist bei dem be
kannten Verfahren eingeschränkt. Denn bei gröberer Körnung besteht die Gefahr, daß diese
aufgrund des inhomogenen Temperaturfeldes im Lichtbogen nicht ausreichend aufschmilzt,
während feinere Körnung im Lichtbogen verdampft oder weggeblasen werden kann.
Die Einhaltung des engen Parameterfeldes bei der Herstellung von blasenfreien Innenschich
ten erschwert die reproduzierbare Herstellung der bekannten Verbundtiegel.
Aus der US-A 3,652,245 ist ein Verfahren zur Herstellung von dickwandigen Quarzglasrohren
bekannt. Hierzu wird das Quarzglasrohr zentrisch innerhalb eines Ofens gehalten, und der
Spalt zwischen der Ofeninnenwandung und dem Quarzglasrohr wird mit Quarzglaskörnung
aufgefüllt. Innerhalb des Rohres ist ein elektrisches Heizelement angeordnet, mittels dem die
Quarzglaskörnung anschließend aufgeschmolzen wird.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Verbundtiegel anzugeben, der
eine hohe Standzeit aufweist, und ein einfaches und reproduzierbares Verfahren zur Herstel
lung eines solchen Tiegels bereitzustellen.
Hinsichtlich des Verbundtiegels wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Innenschicht mindestens im Übergangsbereich als ein in einem separaten Verfahrensschritt
geformtes, blasenfreies Quarzglas-Einsatzteil, mit einer Wandstärke von 2 mm oder mehr aus
gebildet ist.
Mindestens ein Teilbereich der Außenschicht, vorzugsweise die beim bestimmungsgemäßen
Einsatz am stärksten beanspruchten Bereiche, ist mit der Innenschicht in Form eines vorab ge
formten, blasenfreien und transparenten Quarzglas-Einsatzteils bedeckt. Das Formen solcher
Quarzglas-Einsatzteile kann in einem üblichen Schmelz- bzw. Sinterprozeß erfolgen. Durch die
separate Herstellung des Quarzglases für das Einsatzteil können Einschlüsse und Störstellen
mittels der bekannten Homogenisierungsverfahren entfernt werden. Das so hergestellte
Quarzglas ist blasenfrei und transparent. Das Formen eines geeigneten, blasenfreien homoge
nen Quarzglas-Einsatzteiles aus derartigem transparenten Quarzglas stellt für den Fachmann
keine Schwierigkeit dar.
Nur ein in bezug auf seine Homogenität und Wandstärke geeignetes Einsatzteil wird in einem
weiteren separaten Verfahrensschritt mit der Außenschicht aus opakem Quarzglas verbunden.
Ungeeignete Einsatzteile können gegebenenfalls vorab aussortiert werden.
Als "blasenfrei" im Sinne der Erfindung wird ein Quarzglas-Einsatzteil bezeichnet, das der Bla
senklasse 7 oder einer kleineren Blasenklasse gemäß DIN 58 927 (Februar 1970) zuzuordnen
ist.
Beim bekannten Verbundtiegel ist die Herstellung der Innenschicht mit der Bildung der Außen
schicht gekoppelt. Demgegenüber ist bei dem erfindungsgemäßen Verbundtiegel das Quarz
glas-Einsatzteil mit beliebiger Wandstärke versehen, und zwar ohne Einfluß auf die Transpa
renz oder die Dicke der Außenschicht. Hohe Standzeiten des Verbundtiegels werden erreicht,
wenn die Wandstärke des Quarzglas-Einsatzteils im Bereich mindestens 2 mm beträgt. Eine
konstante Wandstärke des Einsatzteiles ist nicht erforderlich.
Bei der Verwendung der Verbundtiegel zum Ziehen von Einkristallen unterliegt in erster Linie
der Übergangsbereich zwischen Boden und Seitenbereich des Tiegels einem mechanischen
oder chemischen Angriff der Schmelze.
Das Quarzglas-Einsatzteil ist im wesentlichen in Form eines Flächenelementes ausgebildet,
das in mindestens einem Abschnitt eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist und das
insbesondere im Übergangsbereich die gesamte opake Außenschicht oder den größten Teil
davon abdeckt. Je größer die durch das Quarzglas-Einsatzteil abgedeckte Fläche ist, um so
höher ist die Standzeit des Tiegels. Denn durch die Belegung mit dem Einsatzteil wird die
Wahrscheinlichkeit für eine Bildung von Keimen durch Störstellen in der opaken Außenschicht
verringert. Das Quarzglas-Einsatzteil kann einstückig ausgebildet sein. Es kann aber auch aus
mehreren Einzelformteilen zusammengesetzt sein oder es können mehrerer Einsatzteile vor
gesehen sein, wobei es nicht erforderlich ist, daß die Einzelbauteile eine geschlossene Fläche
bilden oder miteinander fest verbunden sind.
Besonders hohe Standzeiten weisen Verbundtiegel auf, bei denen mindestens der Über
gangsbereich und ein Teil des Bodenbereiches mit einem Quarzglas-Einsatzteil versehen ist.
Der Bodenbereich ist mit der Schmelze in ständiger Berührung. Daher ist dieser Bereich neben
dem Übergangsbereich hinsichtlich einer möglichen Fehlstellenerzeugung im Einkristall beson
ders kritisch. Durch die Belegung im Übergangs- und Bodenbereich wird die Wahrscheinlich
keit für eine Bildung von Keimen durch Störstellen in der opaken Außenschicht verringert. Eine
vollständige Belegung des Bodenbereiches mit einem Quarzglas-Einsatzteil, die insbesondere
bei Tiegeln mit großen Innendurchmessern aufwendig sein kann, ist aber nicht unbedingt
erforderlich.
Vorteilhafterweise ist das Quarzglas-Einsatzteil in Form einer Schale oder eines Tiegels aus
gebildet, wobei es mindestens teilweise eine Wandstärke im Bereich zwischen 2 mm und 7
mm aufweist. Ein derartiger Verbundtiegel mit schalen- oder tiegelförmigem Einsatzteil zeich
net sich durch eine einfache Herstellung und durch eine besonders hohe Standzeit aus.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des Verbundtiegels besteht das Quarzglas-
Einsatzteil aus synthetischem Quarzglas. Unter einem synthetischen Quarzglas wird dabei ein
Glas verstanden, das aus Silicium-haltigen synthetischen Verbindungen nach bekannten Ver
fahren, wie Flammenhydrolyse oder mittels Sol-Gel-Verfahren hergestellt worden ist. Ein der
artiger Verbundtiegel genügt hohen Anforderungen hinsichtlich der Reinheit und Rekristallisati
on der Innenschicht.
Besonders bewährt hat sich ein Verbundtiegel, bei dem das Quarzglas-Einsatzteil segmentar
tig aus mehreren Quarzglas-Formteilen zusammengesetzt ist. Ein derartiger Quarzglas-Einsatz
ist besonders einfach herstellbar; insbesondere für Verbundtiegel mit großem Innendurchmes
ser. Die Quarzglas-Formteile können aus geeigneten Rohr-Segmenten hergestellt sein.
Beispielsweise sind für die Abdeckung des Seitenbereiches Rohr-Segmente in Form von Halb
schalen geeignet und für die Abdeckung im Übergangsbereich Rohr-Segmente in Form ge
wölbter Dreiecke. Die Formteile können dabei unter Bildung eines flächigen Einsatzteiles mit
geschlossener Oberfläche miteinander verschmolzen sein.
Hinsichtlich des Verfahrens wird die oben genannte Aufgabe erfindungsgemäß durch folgende
Verfahrensschritte gelöst:
- a) Formen eines Einsatzteiles aus SiO2, das mindestens abschnittsweise eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist,
- b) Bereitstellen einer Außenform aus opakem Quarzglas oder aus SiO2-Körnung,
- c) Einrichten des SiO2-Einsatzteiles in der Außenform derart, daß es in mindestens einem Teil der Außenform eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist, und
- d) Verschmelzen von SiO2-Einsatzteil und Außenform durch Erhitzen des Einsatzteiles von innen nach außen.
Das Formen eines geeigneten SiO2-Einsatzteiles und das Verschmelzen des Einsatzteiles mit
der Außenform kann in separaten Verfahrensschritten erfolgen. Dadurch ist es möglich, durch
einen Schmelz- bzw. Sinterprozess bei einem üblichen Glasherstellungsverfahren ein blasen
freies, transparentes Quarzglas-Einsatzteil einfach und reproduzierbar herzustellen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht insoweit die gezielte Auswahl blasenfreier Ein
satzteile aus Quarzglas vor dem Verschmelzen mit der Außenform, so daß der bei dem ein
gangs beschriebenen Verfahren einhergehende Ausschuß aufgrund ungenügender Qualität
der Innenschichten vermieden sowie die Reproduzierbarkeit der Tiegelherstellung verbessert
werden kann.
Hinsichtlich eines geeigneten Herstellungsverfahrens für derartiges Einsatzteil, seiner physika
lischen Eigenschaften sowie hinsichtlich der Definition des Ausdrucks "blasenfrei" wird auf die
obenstehenden Erläuterungen zum erfindungsgemäßen Verbundtiegel verwiesen.
Das Quarzglas-Einsatzteil ist im wesentlichen in Form eines Flächenelementes ausgebildet,
das in mindestens einem Abschnitt eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist. In Bezug
auf die opake Außenform wird das Quarzglas-Einsatzteil so angeordnet, daß es deren opake
Außenschicht mindestens teilweise überdeckt, und zwar vorzugsweise in den beim bestim
mungsgemäßen Einsatz des Tiegels am meisten beanspruchten Bereichen, wie dem
Übergangsbereich zwischen Boden- und Seitenbereich des Tiegels. Es können auch mehrere
Einsatzteile schichtweise übereinander angeordnet werden. Durch die Wandstärke von minde
stens 2 mm in den besonders beanspruchten Bereichen wird eine ausreichend hohe Standzeit
des Verbundtiegels gewährleistet. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sind ohne besonde
re technische Probleme auch Quarzglas-Einsatzteile mit größeren Wandstärken herstellbar.
Die Außenform kann aus mehreren Schichten bestehen, wobei jedoch mindestens eine opake
Schicht vorzusehen ist. Die Außenschicht kann beispielsweise mittels der eingangs erläuterten
Einstreutechnik hergestellt werden. Bei einer Außenform aus opakem Quarzglas kann das Ein
richten des Quarzglas-Einsatzteiles durch einfaches Einsetzen in die Außenform erfolgen, wo
bei sicherzustellen ist, daß die gewünschte Anordnung des Quarzglas-Einsatzteil beim nach
folgenden Verfahrensschritt, dem Verschmelzen, erhalten bleibt. Beim Verschmelzen legt sich
das erweichende Quarzglas-Einsatzteil an die Innenwandung der Außenform an.
Es ist auch möglich, eine Außenform in Form einer Schicht aus SiO2-Körnung vorzusehen. In
Fall loser Körnung kann ein Teil davon bereits vor dem Einrichten des Quarzglas-Einsatzteil in
einer Form eingefüllt werden. Üblicherweise handelt es sich bei einer solchen Form um die so
genannte Schmelzform oder um einen Quarzglas-Außentiegel, der nach dem Verschmelzen
Teil des Verbundtiegels wird. Das Quarzglas-Einsatzteil kann gegebenenfalls unmittelbar mit
tels der losen Körnung gehalten und ausgerichtet werden. Andernfalls erfolgt das Einrichten
des Quarzglas-Einsatzteil innerhalb der Form zunächst durch geeignete Haltemittel, wobei an
schließend die SiO2-Körnung außen um das Quarzglas-Einsatzteil aufgeschüttet werden kann.
Das Verschmelzen von Quarzglas-Einsatzteil und Außenform erfolgt von innen nach außen.
Das bedeutet, die zum Verschmelzen benötigte Energie wird im Innern des herzustellenden
Verbundtiegels bereitgestellt.
In einer bevorzugten Verfahrensweise unter Einsatz einer Außenform aus loser SiO2-Körnung
umfaßt das Einrichten des Quarzglas-Einsatzteiles folgende Verfahrensschritte:
- 1. Einsetzen des Quarzglas-Einsatzteiles in eine Schmelzform, unter Beibehaltung eines Spaltes zwischen dem Quarzglas-Einsatzteil und der Innenwandung der Schmelzform,
- 2. Einbringen von SiO2-Körnung in den Spalt, unter Ausbildung einer Körnungsschicht mit einer etwa der Spaltweite entsprechenden Schichtdicke,
wobei beim Verschmelzen nach Verfahrensschritt c) gleichzeitig die Körnungsschicht minde
stens teilweise zu einer Außenschicht aus opakem Quarzglas gesintert wird.
Wie bereits oben erläutert, kann ein Teil der Körnung bereits vor dem Einsetzen des Quarz
glas-Einsatzteils in die Schmelzform eingefüllt werden, die dann zum Halten und Ausrichten
des Quarzglas-Einsatzteils dienen kann. Das Einbringen von SiO2-Körnung in den Spalt wird
bei einer Rotation der Schmelzform um ihre Längsache erleichtert.
Die maximale Dicke der opaken Außenschicht wird durch die Spaltweite vorgegeben. Beim
Sintern von innen nach außen wandert die Schmelzfront in Richtung auf die Innenwandung
der Schmelzform. Ein vollständiges Durchsintern der Körnungsschicht von innen nach außen
ist aber nicht erforderlich. Um eine gleichmäßige Beheizung der Körnungsschicht zu erreichen,
kann die Schmelzform während des Sinterns um ihre Mittelachse rotiert werden.
Das Verschmelzen des Quarzglas-Einsatzteil und das Sintern der Körnungsschicht erfolgt bei
dieser Verfahrensweise in einem einzigen Verfahrensschritt. Das Verfahren ist daher beson
ders einfach und ökonomisch.
Die eingangs erwähnte Einschränkung hinsichtlich der Verwendbarkeit feinteiliger SiO2-Partikel
zur Herstellung der Außenschicht mittels Einstreutechnik besteht nicht bei einer Ausführungs
form des erfindungsgemäßen Verfahren, bei der das Quarzglas-Einsatzteil in Form einer
Schale oder eines Innentiegels ausgebildet wird. Denn ein derartiges Einsatzteil schirmt die
SiO2-Körnung von den Strömungseffekten des Lichtbogens ab. Darüberhinaus wird bei dem
erfindungsgemäßen Verfahren in einem ersten Verfahrensschritt die Körnungsschicht erzeugt
(durch Aufschütten der SiO2-Körnung) und diese in einem zweiten Verfahrensschritt erst zu der
Außenschicht gesintert. Auch die eingangs genannte Einschränkung hinsichtlich der Verwend
barkeit grobkörniger SiO2-Körnung zur Bildung der Außenschicht besteht daher bei dem erfin
dungsgemäßen Verfahren nicht. Die geeignete Körnung zur Ausbildung der Körnungsschicht
kann daher auch nach anderen Kriterien als den durch den Einsatz des Lichtbogens vorgege
benen ausgewählt werden.
Daher ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren auch bei einem Einsatz eines Lichtbogens
zum Sintern der Körnungsschicht, wie er im Hinblick auf eine möglichst geringe Verunreini
gung der Innenschicht bevorzugt wird, ein relativ weiter Korngrößenbereich der SiO2-Körnung
für die Außenschicht geeignet, der zwischen 10 µm und 1000 µm liegt. Besonders bevorzugt
wird der Einsatz von SiO2-Körnung im feinkörnigen Bereich zwischen 10 µm und 30 µm - auf
grund der geringen Korngröße ist eine derartige Körnungsschicht besonders leicht zu sintern -
und im grobkörnigen Bereich zwischen 300 µm und 1000 µm.
Als besonders vorteilhaft hat sich die Herstellung eines Quarzglas-Einsatzteiles aus einem
Quarzglasrohr erwiesen. Das Quarzglasrohr kann eine Wandstärke von 2 mm und mehr auf
weisen. Die Einsatzteile können durch Umformen des Quarzglasrohres, beispielsweise zu ei
nem becherförmigen Einsatzteil, hergestellt werden. Es können aber auch geeignete Segmen
te aus dem Quarzglasrohr herausgeschnitten werden, beispielsweise Segmente in Form von
Halbschalen. Derartige Halbschalen sind insbesondere bei Vebundtiegeln mit großem Außen
durchmesser als Einsatzteil für den Seitenteil des Tiegels geeignet. So können beispielsweise
mehrere Halbschalen parallel zueinander angeordnet und die Mittelachse des herzustellenden
Verbundtiegels konzentrisch umgebend, das Quarzglas-Einsatzteil bilden. Der Innenradius der
Halbschalen kann durch Aufbiegen leicht vergrößert werden, indem das Quarzglas erweicht
und die freien Enden der Halbschalen nach außen umgebogen werden. So können auf einfa
che Art und Weise aus Quarzglasrohren mit kleinem Innendurchmesser Quarzglas-Einsatzteile
für große Tiegel-Innendurchmesser hergestellt werden.
In einer anderen gleichermaßen vorteilhaften Verfahrensvariante wird das Quarzglas-Einsatz
teil aus einer Quarzglasscheibe oder aus einer Quarzglasschale hergestellt. Diese Bauteile
sind insbesondere zur Herstellung von Quarzglas-Einsatzteilen für den Boden und den Über
gangsbereich besonders geeignet.
Es hat sich auch bewährt, ein Quarzglas-Einsatzteil aus einem Quarzglasrohr, das einseitig mit
einer Quarzglasscheibe oder mit einer Quarzglasschale verschlossen wird, herzustellen. Mit
tels dieser Verfahrensvariante sind insbesondere becherförmige Quarzglas-Einsatzteile ein
fach herstellbar.
Besonders vorteilhaft gestaltet sich das erfindungsgemäße Verfahren bei einem Einsatz einer
Außenform mit einem Innendurchmesser von etwa 650 mm oder mehr.
Ausführungsformen der Erfindung sind in der Patentzeichnung dargestellt und werden nachfol
gend näher erläutert. In der Zeichnung zeigen im einzelnen anhand schematischer
Darstellungen:
Fig. 1 bis 5 Verfahrensschritte zur Herstellung eines Verbundtiegels nach dem
erfindungsgemäßen Verfahren,
Fig. 6 eine Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verbundtiegels,
Fig. 7a und 7b Ausführungsformen von Quarzglasrohr-Segmenten für die Herstellung
von Quarzglas-Einsatzteilen, in einer räumlichen Darstellung, und
Fig. 8 eine räumliche Anordnung mehrerer der in Fig. 7a dargestellten Segmente
in einem Außentiegel.
Fig. 1 zeigt im Schnitt ein Quarzglasrohr 1 aus transparentem, blasenfreiem, synthetischem
Quarzglas. Das Quarzglasrohr 1 weist beispielsweise eine Länge von 30 cm, einen Außen
durchmesser von 50 cm und eine Wandstärke von 4 mm auf. Hinsichtlich des Blasengehaltes
ist das Quarzglasrohr der Blasenklasse 7 gemäß DIN 58 927 zuzuordnen.
Eine Quarzglasscheibe 2 besteht ebenfalls aus synthetischem, blasenfreiem Quarzglas. Sie
weist einen Außendurchmesser, der etwa 5 cm kleiner als der Innendurchmesser des
Quarzglasrohres 1 ist, und eine Dicke von 4 mm auf. Auch die Quarzglasscheibe 2 ist hinsicht
lich ihres Blasengehaltes der Blasenklasse 7 gemäß DIN 58 927 zuzuordnen.
Zur Herstellung eines in Fig. 2 dargestellten Innentiegels 3 wird das untere Ende des
Quarzglasrohres 1 umgebördelt und mit der Quarzglasscheibe 2 verschmolzen. Der so ge
formte becherförmige Innentiegel 3 weist einen leicht nach außen gewölbten Boden 4 und ei
ne hohlzylindrische Seitenwand 5 auf. Im Übergangsbereich 6 sind Boden 4 und Seitenwand 5
miteinander verbunden. Von der Innenseite des Innentiegels 3 her gesehen weist der Über
gangsbereich 6 eine konkave Krümmung auf. Im Ausführungsbeispiel erstreckt sich der Über
gangsbereich 6 zwischen denjenigen Flächennormalen 7; 8 der Krümmung, die mit der
Mittelachse 9 des Innentiegels 3 einen Enkel α1 von 21° bzw. einen Winkel α2 von 90° ein
schließen. Die Wandstärke des Innentiegels 3 im Übergangsbereich 6 und im Bereich des Bo
dens 4 beträgt 4 mm, ansonsten ca. 3 mm. Anstelle einer Quarzglasscheibe 2 kann auch eine
Quarzglasschale mit dem Quarzglasrohr 1 verschmolzen werden; ein Umbördeln des
Quarzglasrohres 2 entfällt dann weitgehend.
Wie in Fig. 3 dargestellt, wird der Innentiegel 3 in eine rotierbare Schmelzform 10 eingesetzt,
in die vorab Quarzsand 11 aufgeschüttet worden ist. Der Quarzsand 11 hat eine mittlere Korn
größe von 300 µm. Der Innentiegel 3 wird auf dem Quarzsand 11 so ausgerichtet, daß seine
Mittelachse 9 mit der Mittelachse der Schmelzform 10 zusammenfällt. Zwischen der Außen
wand des Innentiegels 3 und der Innenwand der Schmelzform 10 bleibt dabei ein Spalt 12 mit
einer Weite von ca. 2 cm bestehen.
In Fig. 4 ist gezeigt, wie der Spalt 12 mittels einer Schütteinrichtung 13 bei rotierender
Schmelzform 10 mit weiterem Quarzsand 11 aufgefüllt wird, wodurch eine den Innentiegel 3
umgebende Quarzsand-Schicht 19 entsteht. Dabei wird unter Ausbildung einer Verlängerung
14 des Innentiegels 3 auch dessen freier Rand mit Quarzsand 11 überschichtet. Durch die Ro
tation der Schmelzform 10 in Richtung des Pfeils 15 wird eine ausreichende Formstabilität der
Quarzsand-Schicht 19 erreicht.
Wie in Fig. 5 dargestellt, wird anschließend ein Elektrodenpaar 16 in die weiterhin rotierende
Schmelzform 10 eingefahren. Zwischen dem Elektrodenpaar 16 wird im Innern der Schmelz
form 10 ein Lichtbogen gezündet. Dadurch wird die Quarzsand-Schicht 19 unter Bildung einer
glasigen, opaken Außenschicht 17 von innen nach außen gesintert und gleichzeitig mit dem
Innentiegel 3 verschmolzen. Die Energie des Lichtbogens ist dabei auf den Sinter- bzw. Ver
schmelzungsprozeß optimiert. Sobald die Außenschicht 17 eine Dicke von etwa 8 mm auf
weist, wird der Lichtbogen ausgeschaltet.
Nach Schneiden des oberen Randes und Glättung der Außenseite der gesinterten Außen
schicht 17 wird der in Fig. 6 dargestellte Verbundtiegel 18 erhalten. Ein Ausführungsbeispiel
des Verbundtiegels hat einen Innendurchmesser von ca. 50 cm, einen Außendurchmesser von
ca. 52 cm und eine Höhe von ca. 35 cm. Bis auf geringfügige Verformungen infolge des Ver
schmelzungsprozesses, weist der Innentiegel 3 die oben anhand Fig. 2 erläuterten Abmes
sungen auf. Er bildet die Innenfläche im gesamten Boden- und Übergangsbereich des Ver
bundtiegels 18, erstreckt sich aber nur über einen Teil von dessen Höhe. Die Innenfläche im
oberen Bereich 20 des Verbundtiegels 18 wird im Ausführungsbeispiel von der opaken Außen
schicht 17 gebildet.
Anstelle der genannten opaken Außenschicht wird in einer anderen Ausführungsform des er
findungsgemäßen Verbundtiegels die Innenfläche auch im oberen Bereich des Tiegels von ei
ner transparenten Innenschicht gebildet. Das Verfahren zur Herstellung eines derartigen Ver
bundtiegels unterscheidet sich von dem oben erläuterten Verfahren darin, daß im Verlauf des
Sinter- und Verschmelzungsprozesses, wie in Fig. 5 dargestellt, mittels der bekannten Ein
streutechnik ein feinkörniges SiO2-Pulver eingestreut und im oberen Bereich des Verbundtie
gels zu einer transparenten Innenschicht mit einer Dicke von 3 mm geschmolzen wird.
Eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verbundtiegels unterscheidet sich von
der eingangs beschriebenen bevorzugten Ausführungsform lediglich darin, daß der Innentiegel
mit einer Höhe von 35 cm ausgebildet ist und sich über die gesamte Höhe des Verbundtiegels
erstreckt.
Anhand der in den Fig. 7a) und b) und 8 dargestellten Quarzglassegmente und ihrer räum
lichen Anordnung wird der erfindungsgemäße Verbundtiegel und das erfindungsgemäße Ver
fahren zu seiner Herstellung im folgenden weiter erläutert:
Die Fig. 7a) und b) zeigen räumliche Darstellungen von flächigen Formteilen, die aus Quarz glasrohren hergestellt wurden. In Fig. 7a) ist ein Formteil 30 als ein gewölbtes, in Aufsicht kreissektorförmiges Rohrsegment, und in Fig. 7b) ein Formteil 31 als ein halbschalenförmiges Rohrsegment dargestellt. Die Formteile 30, 31 bestehen jeweils aus transparentem, blasenfrei em Quarzglas, das aus natürlichem Quarzsand erschmolzen worden ist. Hinsichtlich des Bla sengehaltes sind die Segmente jeweils der Blasenklasse 7 gemäß DIN 58 927 zuzuordnen. Entsprechend der Rohr-Wandstärke liegt die Dicke der Formteile 30, 31 im Bereich von 2 bis 5 mm, insbesondere bei 3 mm.
Die Fig. 7a) und b) zeigen räumliche Darstellungen von flächigen Formteilen, die aus Quarz glasrohren hergestellt wurden. In Fig. 7a) ist ein Formteil 30 als ein gewölbtes, in Aufsicht kreissektorförmiges Rohrsegment, und in Fig. 7b) ein Formteil 31 als ein halbschalenförmiges Rohrsegment dargestellt. Die Formteile 30, 31 bestehen jeweils aus transparentem, blasenfrei em Quarzglas, das aus natürlichem Quarzsand erschmolzen worden ist. Hinsichtlich des Bla sengehaltes sind die Segmente jeweils der Blasenklasse 7 gemäß DIN 58 927 zuzuordnen. Entsprechend der Rohr-Wandstärke liegt die Dicke der Formteile 30, 31 im Bereich von 2 bis 5 mm, insbesondere bei 3 mm.
Das Formteil 30 dient zur Ausbildung eines Quarzglas-Einsatzteiles 33 in einer Anordnung, wie
sie schematisch in der räumlichen Ansicht gemäß Fig. 8 dargestellt ist. In einem Außentiegel
34 aus opakem Quarzglas sind sechs Formteile 30 axialsymmetrisch zur Mittelachse 35 des
Außentiegels 34 angeordnet, die in der Darstellung von Fig. 8 senkrecht zur Ebene des
Zeichnungsblattes steht. Der Außentiegel 34 weist einen Innendurchmesser von 75 cm und ei
ne Wandstärke von 6 mm auf. Er ist nach dem bekannten Einstreuverfahren hergestellt
worden.
Die Formteile 30 werden anschließend in eine Körnungsschicht 36 aus Quarzsand eingebettet,
die im Bodenbereich des Außentiegels 34 aufgeschüttet wird. Die Formteile 30 insgesamt bil
den dabei auf der Körnungsschicht 36 eine nach oben offene, becherförmige Anordnung, die
den größten Teil des Bodenbereiches des opaken Außentiegels 34 und der
Körnungsschicht 36 überdeckt. Nach dem Sintern der Körnungsschicht 36 und ihrem Ver
schmelzen mit der becherförmigen Anordnung ergibt sich der Bodenteil Übergangsbereich ei
nes Quarzglas-Einsatzteils 32 im Sinne der vorliegenden Erfindung. Der maximale Innen
durchmesser des so hergestellten Quarzglas-Einsatzteils beträgt 75 cm.
Das Formteil 31 dient zur Ausbildung eines zylinderförmigen Seitenteiles eines Quarzglas-Ein
satzteiles. Hierzu wird der Innenradius mehrerer Formteile 31 durch Aufbiegen auf einen Wert
von 37,5 cm eingestellt. Anschließend werden die Formteile 31 an der Innenwandung einer
Außenform mit einem Innendurchmesser von etwas mehr als 75 cm, parallel zueinander und
mit ihren Längsseiten aneinanderliegend angeordnet, so daß sie insgesamt eine geschlossene
Zylindermantelfläche bilden, die die Mittelachse des Außentiegels koaxial umgibt. Nach dem
Verschmelzen mit dem Außentiegel bildet die so hergestellte Zylindermantelfläche den Seiten
teil eines Quarzglas-Einsatzteiles im Sinne der Erfindung.
Claims (13)
1. Quarzglas-Verbundtiegel, der eine Außenschicht aus opakem Quarzglas umfaßt, die
mindestens teilweise mit einer Innenschicht aus blasenfreiem, transparentem Quarzglas
versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenschicht (6) als ein in einem separa
ten Verfahrensschritt geformtes, blasenfreies Quarzglas-Einsatzteil (3; 33), mit einer
Wandstärke von 2 mm oder mehr ausgebildet ist.
2. Verbundtiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas-Einsatzteil
(3) in Form einer Schale oder eines Bechertiegels ausgebildet ist, das mindestens teil
weise eine Wandstärke im Bereich zwischen 2 mm und 7 mm aufweisen.
3. Verbundtiegel nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Quarzglas-Einsatzteil (3) aus synthetisch hergestelltem Quarzglas besteht.
4. Verbundtiegel nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das Quarzglas-Einsatzteil (33) segmentartig aus mehreren Quarzglas-Formteilen
(30) zusammengesetzt ist.
5. Verbundtiegel nach Anspuch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas-Einsatzteil
aus halbschalenförmigen, mit ihren Längsachsen aneinanderliegenden Quarzglas-Form
teilen zusammengesetzt ist.
6. Verfahren zur Herstellung eines Verbundtiegels nach einem vorhergehenden Ansprüche,
das folgende Verfahrensschritte umfaßt:
- a) Formen eines Einsatzteiles (3; 33) aus SiO2, das mindestens abschnittsweise eine Wandstärke von 2 mm oder mehr aufweist,
- b) Bereitstellen einer Außenform (19; 34) aus opakem Quarzglas oder aus SiO2-Körnung (11),
- c) Einrichten des Quarzglas-Einsatzteiles (3; 33) in der Außenform (19; 34) derart, daß mindestens ein Teil der Außenform (19; 34) mit dem Quarzglas-Einsatzteil (3; 33) in einer Dicke von 2 mm oder mehr bedeckt ist, und
- d) Verschmelzen von Quarzglas-Einsatzteil (3; 33) und Außenform (19; 34) durch Er hitzen des Quarzglas-Einsatzteiles (3; 33) von innen nach außen.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gegenzeichnet, daß bei Einsatz einer Außenform
(19) aus SiO2-Körnung (11), das Einrichten des Quarzglas-Einsatzteiles (3) zusätzlich fol
gende Verfahrensschritte umfaßt:
- 1. Einsetzen des Quarzglas-Einsatzteiles (3) in eine Schmelzform (10), unter Beibe haltung eines Spaltes (12) zwischen dem Quarzglas-Einsatzteil (3) und der Innen wandung der Schmelzform (10),
- 2. Einbringen von SiO2-Körnung (11) in den Spalt (12), unter Ausbildung der Außen form in Form einer Körnungsschicht (19) mit einer etwa der Spaltweite entspre chenden Schichtdicke,
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Körnungsschicht (19) mit
tels eines Lichtbogens (16) gesintert wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß für die Herstellung der
Körnungsschicht (19) Quarzglaskörnung (11) mit einem mittleren Korndurchmesser im Be
reich von 10 µm bis 1000 µm eingesetzt wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Quarz
glas-Einsatzteil (3; 33) aus einem Quarzglasrohr (1) hergestellt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Quarz
glas-Einsatzteil (3) aus einer Quarzglasscheibe (2) oder aus einer Quarzglasschale her
gestellt wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Quarz
glas-Einsatzteil (3) aus einem Quarzglasrohr (1), das einseitig mit einer Quarzglasschei
be (2) oder mit einer Quarzglasschale verschlossen wird, hergestellt wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Außenform (19; 34) mit einem Innendurchmesser von mindestens 650 mm eingesetzt
wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999124635 DE19924635A1 (de) | 1999-05-29 | 1999-05-29 | Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999124635 DE19924635A1 (de) | 1999-05-29 | 1999-05-29 | Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19924635A1 true DE19924635A1 (de) | 2000-11-30 |
Family
ID=7909576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999124635 Ceased DE19924635A1 (de) | 1999-05-29 | 1999-05-29 | Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19924635A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202013002524U1 (de) | 2013-03-14 | 2013-05-07 | Sven- Erik Muskulus | Feuerschale |
CN105378157A (zh) * | 2013-06-29 | 2016-03-02 | 胜高股份有限公司 | 单晶硅提拉方法 |
-
1999
- 1999-05-29 DE DE1999124635 patent/DE19924635A1/de not_active Ceased
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202013002524U1 (de) | 2013-03-14 | 2013-05-07 | Sven- Erik Muskulus | Feuerschale |
CN105378157A (zh) * | 2013-06-29 | 2016-03-02 | 胜高股份有限公司 | 单晶硅提拉方法 |
CN105378157B (zh) * | 2013-06-29 | 2018-02-06 | 胜高股份有限公司 | 氧化硅玻璃坩埚的基座装填方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10231865B4 (de) | Quarzglastiegel und Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglastiegels | |
DE60316812T2 (de) | Quarzglastiegel zur ziehung von siliciumeinkristallen und verfahren zu seiner herstellung | |
DE69912668T2 (de) | Kokille und Verfahren zur Herstellung von Siliziumstäben | |
DE19962449C2 (de) | Quarzglastiegel und Verfahren für seine Herstellung | |
DE60211289T2 (de) | Quarzglastiegel mit innerer Kristallisierungsschicht und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69112505T2 (de) | Herstellung eines Glastiegels aus Quarz zur Verwendung in der Herstellung von Einkristall-Silizium. | |
DE2803589C2 (de) | Vorrichtung zum Herstellen optischer Glasfasern und hierfür geeigneter Spinnofen | |
DE19710672C2 (de) | Quarzglas-Tiegel zum Ziehen von Einkristall und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69201292T2 (de) | Vorrichtung zur Einkristallziehung. | |
EP2141131B1 (de) | Verfahren zur herstellung eines quarzglastiegels | |
DE4204406C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines homogenen, schlierenfreien Körpers aus Quarzglas oder aus einem hochkieselsäurehaltigen Glas durch Umformen eines stabförmigen Ausgangskörpers | |
DE2515558B2 (de) | Verfahren zum Herstellen von optischen Linsen | |
EP0564707A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Verbundkörpers aus Glas | |
DE112004002325T5 (de) | Quarztiegel mit reduziertem Blasengehalt und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1596556C3 (de) | Leichter glaskeramischer Gegenstand mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten | |
DE102010024010A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von polykristallinen Siliziumblöcken | |
DE69628876T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Formen von geschmolzenem glasartigen Material in Stäben | |
DE112013007710T5 (de) | Verfahren zum Formen von Komponenten aus opakem Quarzglas | |
DE69723475T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von optischen fasern aus kern- und mantelglaskörper | |
EP0729918A1 (de) | Polygonaler Quarzglasstab und Verfahren für seine Herstellung | |
DE112018007179T5 (de) | Quarzglastiegel | |
DE2827303C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstandes und dessen Anwendung | |
DE102004023726A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Temperaturkontrolle bei der Glasherstellung | |
DE102012109181B4 (de) | Ziehen eines Halbleiter-Einkristalls nach dem Czochralski-Verfahren und dafür geeigneter Quarzglastiegel | |
DE19924635A1 (de) | Verbundtiegel aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |