DE19900976A1 - Zyklisches Dion-Polymer - Google Patents
Zyklisches Dion-PolymerInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung stellt ein zyklisches Dion-Polymer bereit, welches ein Homopolymer oder ein Copolymer eines zyklischen Dion-Monomers ist, ausgewählt aus jenen, die durch die Formeln (I) und (II) verkörpert werden: DOLLAR F1 worin DOLLAR A A und B gleich oder unterschiedlich sein können und jeweils unabhängig voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Halogen, Wasserstoff, C¶3-20¶ zyklisches oder perizyklisches Alkyl, C¶1-20¶ lineares oder verzweigtes Alkyl, C¶6-20¶ Aryl, C¶7-20¶ Arylalkyl, C¶7-20¶ Alkylaryl, Silyl, Alkylsilyl, Germyl, Alkylgermyl, Alkoxycarbonyl, Acyl und einer heterozyklischen Gruppe; oder A und B miteinander verbunden sind, um eine C¶3-20¶ gesättigte oder ungesättigte zyklische Kohlenwasserstoffgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte heterozyklische Gruppe bilden; DOLLAR A C ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoff, Schwefel DOLLAR F2 -CH¶2¶- und -SiH¶2¶-, DOLLAR A worin jedes R·1· unabhängig voneinander ausgewählt ist aus C¶1-20¶ Alkyl und Phenyl.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues zyklisches Dion-Polymer und im
besonderen betrifft sie ein neues zyklisches Dion-Polymer, das für die Verwen
dung in der Dünnfilm-Beschichtungstechnologie und der Fotolacktechnologie
geeignet ist.
Heutzutage spielt die Dünnfilm-Beschichtungstechnik und Fotolacktechnik eine
sehr wichtige Rolle in der chemischen Technik. Ein Harz, das für die Dünnfilm-
Beschichtung geeignet ist, sollte die Anforderungen erfüllen, daß es nicht nur
gute Filmeigenschaften und eine gute Anhaftung an dem Substrat hat, es sollte
ebenso eine gute Stabilität über eine lange Lagerzeit und eine geringe Feuchtig
keitsabsorptionsfähigkeit haben. Folglich sollte ein geeignetes Harz nicht zu viele
funktionelle Gruppen mit hoher Feuchtigkeitsabsorptionsfähigkeit aufweisen.
Bei der Verwendung in Fotolacken für integrierte Schaltkreise (IC) ist in Be
tracht zu ziehen, daß ein geeignetes Harz weiterhin andere Eigenschaften, wie
eine hohe Ätz- und Hitzewiderstandsfähigkeit, aufweisen soll, wobei dies Eigen
schaften sind, welche häufig mittels Molekulardesign erreicht werden.
Gegenwärtig ist das am häufigsten verwendete Harz für Dünnfilmbeschichtun
gen das Copolymer von einem Maleinsäureanhydridderivat und Norbornen, wel
ches in der US-P-3 928 497 offenbart ist. Ein solches Harz ist für die Verwen
dung in IC-Fotolacken geeignet, weil es ein großes Verarbeitungsfenster und ein
lineares Verhältnis hat. Jedoch hat es eine geringe Lagerfähigkeit, weil Malein
säureanhydrid leicht Feuchtigkeit von den Säuremolekülen absorbiert. Weiter
hin, wenn die Luftfeuchtigkeit stark variiert, sind Eo (Fotogeschwindigkeit) und γ
(Kontrast) schwierig zu kontrollieren; deshalb kann eine stabile Linienbeite an
guten Eigenschaften nicht erhalten werden. Da der Nachteil der hohen Absorp
tionsfähigkeit des Harzes auf deren chemischen Struktur zurückzuführen ist, ist
die Aufnahme eines Weichmachers mit geringer Feuchtigkeitsaufnahmefähigkeit
derzeit der einzige Weg, die Absorptionsfähigkeit des Maleinsäureanhydridderi
vat/Norbornen-Copolymers zu verringern. Weiterhin hat das Copolymer noch
andere Nachteile: Die Glasübergangstemperatur ist zu hoch, die Filmeigenschaf
ten sind minderwertig und der Film kann leicht brechen.
Folglich ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die oben genannten Pro
bleme zu lösen und ein neues Harz bereitzustellen, welches eine geringere
Feuchtigkeitsabsorptionsfähigkeit und Übergangstemperatur hat, eine gute An
haftung und Lagerstabilität hat und welches in Dünnfilm-Beschichtungen und
der Fotolacktechnik verwendet werden kann.
Um die obige Aufgabe zu lösen, verwendet die vorliegende Erfindung spezifische
Monomere, um Harze herzustellen, um so die Eigenschaften der Harze zu ver
bessern. Die vorliegende Erfindung verwendet ein zyklisches Dion-Monomer, um
die konventionellen Maleinsäureanhydridderivate zu ersetzen und sie stellt wei
terhin ein Harzsystem bereit, das aus einem solchen zyklischen Dion-Monomer
hergestellt ist. Da ein solches zyklisches Dion-Monomer eine geringe Feuchtig
keitsabsorptionsfähigkeit hat, hat das aus dem Monomer hergestellte Harz ver
besserte Feuchtigkeitsabsorptionseigenschaften.
Das erfindungsgemäße neue Harzsystem ist ein zyklisches Dion-Polymer, wel
ches ein Homopolymer oder ein Copolymer eines zyklischen Dion-Monomeres ist,
ausgewählt aus denen, die durch die Formeln (I) und (II) verkörpert sind:
wobei A und B unterschiedlich oder gleich sein können und jeweils unabhängig
voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Halogen, Wasser
stoff, C3-20 zyklisches oder perizyklisches Alkyl, C1-20 lineares oder verzweigtes
Alkyl, C6-20 Aryl, C7-20 Arylalkyl, C7-20 Alkylaryl, Silyl, Alkylsilyl, Germyl, Alkyl
germyl, Alkoxycarbonyl, Acyl und einer heterozyklischen Gruppe; oder wobei A
und B miteinander verbunden sind, um eine C2-20 gesättigte oder ungesättigte
zyklische Kohlenwasserstoffgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte
heterozylische Gruppe zu bilden;
C ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoff, Schwefel,
C ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoff, Schwefel,
-CH2-, und -SiH2-, worin jedes R1 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus
C1-20 Alkyl und Phenyl.
Repräsentative Beispiele der zyklischen Dion-Monomere der Formel (I) beinhal
ten:
Repräsentative Beispiele für die zyklischen Dion-Monomere der Formel (II) be
inhalten:
Das erfindungsgemäße zyklische Dion-Polymer kann ebenso ein Copolymer, ein
schließlich eines zyklischen olefinischen Copolymeres, sein. Das heißt, das zykli
sche Dion-Polymer gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein Copolymer aus
wenigstens einem zyklischen Dion-Polymer der Formeln (I) oder (II) und wenig
stens einem Comonomer eines zyklischen Olefins sein.
Das zyklische Olefin, das für die Anwendung geeignet ist, kann Norbornen oder
ein Norbornenderivat sein.
Das Norbornenderivat kann sein:
Das Norbornenderivat kann ebenso eine Verbindung mit der folgenden Formel
sein:
worin m ein Integer (eine ganze Zahl) von I bis 3; oder eine Verbindung mit der
folgenden Formel sein kann:
worin q ein Integer von 1 bis 3 und X ausgewählt ist aus N, O oder S.
Ein "chemisch verstärkter Lack" (chemically amplified resist) ist eine Art eines
Fotolackes, bei welchem die Auflösungsrate in einem Entwickler mittels einer
Säure verändert werden kann, welche durch Fotobelichtung erzeugt wird. Solch
eine Fotolacklösung beinhaltet ein geschütztes Harz, einen Fotosäuregenerator
und ein Lösungsmittel. Das sogenannte geschützte Harz ist ein Harz, das durch
eine säurelabile Schutzgruppe geschützt ist. Das Harz wird in eine Alkali-lösliche
Form umgewandelt, wenn die säurelabile Schutzgruppe abgespalten wird. Wenn
das chemisch verstärkte Harz, das auf einem Substrat aufgebracht ist, dem Licht
ausgesetzt wird, generiert der Fotosäuregenerator Säure und die Säure spaltet
die säurelabile Schutzgruppe in dem Harz ab, folglich macht es das Harz für
einen Alkalientwickler löslich.
Wenn das erfindungsgemäße zyklische Dion-Polymer für einen chemisch ver
stärkten Lack verwendet wird, hat das zyklische Dion-Polymer vorzugsweise eine
säurelabile Schutzgruppe, welche in der Anwesenheit von einer Säure abgespal
ten wird, so daß das zyklische Dion-Polymer in ein Alkali-lösliches Polymer um
gewandet wird.
Solch eine säurelabile Schutzgruppe kann anwesend sein in Formel (I), Formel
(II), einem zyklischen Olefincomonomer, das mit Formeln (I) oder (II) copoly
merisiert sein kann oder es kann anwesend sein in jedem Monomer, das mit den
Formeln (I) oder (II) copolymerisiert werden kann.
Zum Beispiel kann ein zyklisches Olefincomonomer, das mit Formeln (I) oder (II)
copolymerisiert werden kann, Norbornen oder ein Norbornenderivat sein. Ein
solches Norbornenderivat kann eine säurelabile Schutzgruppe D haben. Somit,
wenn das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung sich in der Anwe
senheit einer Säure befindet, wird die Schutzgruppe D abgespalten, so daß das
zyklische Dion-Polymer in ein Alkali-lösliches Polymer umgewandelt wird. Solche
Norbornenderivate beinhalten:
worin
D eine säurelabile Schutzgruppe ist, welche sich in der Anwesenheit einer Säure abspaltet, um so das zyklische Dion-Polymer Alkali-löslich zu machen und
jedes R3 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 lineares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und peri zyklisches Alkyl.
D eine säurelabile Schutzgruppe ist, welche sich in der Anwesenheit einer Säure abspaltet, um so das zyklische Dion-Polymer Alkali-löslich zu machen und
jedes R3 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 lineares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und peri zyklisches Alkyl.
Repräsentative Beispiele von D beinhalten:
worin R4 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 lineares
und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und perizyklisches Alkyl.
Wie zuvor beschrieben, kann das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Er
findung ein Copolymer aus wenigstens einem zyklischen Dion-Monomer der
Formeln (I) oder (II) und wenigstens einem Comonomer eines zyklischen Olefins
sein. Zum Beispiel kann Formel (I) mit jedem zuvor genannten Norbornenderi
vat, enthaltend eine säurelabile Schutzgruppe, mittels freier Radikalpolymerisa
tion reagieren. Ebenso kann Formel (II) mit jedem oben genannten Norbornen
derivat, enthaltend eine säurelabile Schutzgruppe, mittels freier Radikalpolyme
risation, reagieren. Das erhaltene zyklische Dion-Polymer kann durch die Formel
(III) verkörpert werden:
worin
A, B, C, D und R3 wie oben definiert sind,
q, p, x, y und z die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + q + x + y + z = 1,
p, q, x, y und z in dem Bereich von 0 bis 0,5 sind,
p + q größer als 0 ist und
x + y + z in dem Bereich von 0 bis 0,8 ist.
A, B, C, D und R3 wie oben definiert sind,
q, p, x, y und z die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + q + x + y + z = 1,
p, q, x, y und z in dem Bereich von 0 bis 0,5 sind,
p + q größer als 0 ist und
x + y + z in dem Bereich von 0 bis 0,8 ist.
Insbesondere kann das erhaltene zyklische Dion-Polymer durch die Formel (IV)
verkörpert sein:
worin
A, B, C, D und R3 wie oben definiert sind,
p und y die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + y = 1, und
p + y in dem Bereich von 0,1 bis 0,9 sind.
A, B, C, D und R3 wie oben definiert sind,
p und y die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + y = 1, und
p + y in dem Bereich von 0,1 bis 0,9 sind.
Das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung ist nicht beschränkt auf
jene, die mittels Radikalpolymerisation erhalten werden. Alle Homopolymere
und Copolymere, die unter Verwendung des zyklischen Dion-Monomers der
Formeln (I) oder (II) als Monomer erhalten werden, liegen im Umfang der vor
liegenden Erfindung, unabhängig wie die Polymerisation durchgeführt ist. Die
Polymerisation kann eine Radikalpolymerisation, schrittweise Polymerisation,
anionische Polymerisation oder kationische Polymerisation sein.
Um das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung geeignet für die
Dünnfilm-Beschichtung zu machen, ist das erhaltene zyklische Dion-Polymer
vorzugsweise in einem organischen Lösungsmittel löslich. Ein bevorzugtes zykli
sches Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung hat eine Glasübergangstempera
tur von 130°C bis 300°C, ein durchschnittliches Molekulargewicht von 1.000 bis
50.000 und eine Zersetzungstemperatur (Td) von mehr als 130°C. Zyklische
Dion-Polymere, die diesen Anforderungen genügen, sind sehr geeignet für die
Verwendung als Harz für das Dünnfilmbeschichten. Die Dünnfilmbeschichtung
kann für die Beschichtung mit fotosensitiven Tinten, Drucktinten, Fotolacken
und oberflächenbeschichtenden Materialien angewendet werden.
Wenn das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung in einem Fotolack
(fotosensitive Zusammensetzung) verwendet wird, ist ein Wellenlängenbereich
von 150 nm bis 600 nm bevorzugt, besonders bevorzugt mit einer Wellenlänge
von 193 nm oder 248 nm. Wenn das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden
Erfindung eine säurelabile Schutzgruppe enthält, ist es besonders geeignet für
die Verwendung in chemisch verstärkten Fotolacken.
Das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung kann mit jedem anderen
Polymer verschnitten bzw. gemischt werden, um einen Polymerverschnitt zu bil
den. Dabei können dem Polymerverschnitt Eigenschaften verliehen werden, die
das urprüngliche zyklische Dion-Polymer nicht hat und somit verschiedene Be
dürfnisse erfüllen.
Die Vorteile der vorliegenden Erfindung können wie folgt zusammengefaßt wer
den:
- 1. Die vorliegende Erfindung verwendet ein zyklisches Dion-Monomer, um das Maleinsäureanhydridderivat als Monomer zu ersetzen, so daß die Eigen schaften des erhaltenen Harzes durch das verbesserte Monomer verbessert wer den können. Da das zyklische Dion-Monomer eine geringe Feuchtigkeitsabsorp tionsfähigkeit hat, hat das erhaltene neue Harz, enthaltend solch ein zyklisches Dion, eine geringe Feuchtigkeitsabsorptionsfähigkeit, wodurch bewirkt wird, daß das Harz stabiler ist und eine lange Lagerfähigkeit aufweist.
- 2. Dem Harz können gute Anhaftungseigenschaften auf dem Substrat durch die Ketongruppen, enthaltend in dem zyklischen Dion-Monomer, verliehen wer den.
- 3. Durch die geeigneten Alkylgruppen, verbunden mit dem zyklischen Dion- Monomer, kann die Freiheit des Harzes erhöht werden, wodurch die Glasüber gangstemperatur (Tg) des Harzes auf ungefähr 130°C bis 300°C verringert wird. Darüber hinaus hat das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung ein durchschnittliches Molekulargewicht von ungefähr 1.000 bis 50.000; somit hat es gute Filmeigenschaften und bricht nicht.
- 4. Wenn das zyklische Dion-Polymer der vorliegenden Erfindung eine säu relabile Schutzgruppe enthält, kann es in chemisch verstärkten Fotolacken ver wendet werden. Da die Belichtung bewirken kann, daß das zyklische Dion-Poly mer der vorliegenden Erfindung einem unterscheidungskräftigen Wechsel in der Löslichkeit unterliegt, sind Eo (Fotogeschwindigkeit) und γ (Kontrast) hervorra gend für diese Anwendungen.
Die folgenden Beispiele dienen dazu, das Verfahren und die Vorteile der vorlie
genden Erfindung im Weiteren zu zeigen, ohne dessen Umfang zu beschränken,
da verschiedene Abwandlungen und Modifikationen dem Fachmann offensicht
lich sind.
15,4 g Dimethyl-Diethyl-2H-Pyran-3,6-Dion, 9,81 g t-Butyl-2-Carboxylat-5-
[2,2,11.4] Hepten (ein Norbornenderivat) und 0,81 g 2,2'-Azobisisobutyronitril
(AIBN) werden in 25 g Tetrahydrofuran (THF) gelöst und für acht Stunden auf
70°C erhitzt. Die Reaktionslösung wurde in eine vorgemischte Lösung aus 100
ml Isopropanol und 100 ml n-Hexan getropft, um 6,28 g des Harzes (zyklisches
Dion-Polymer) als einen weißen Feststoff zu erhalten. Das Harz hat einen Td
von 192°C (analysiert mittels TGA), einen Tg (analysiert mittels DSC), der grö
ßer als Td ist, ein durchschnittliches Molekulargewicht von 3604 (analysiert mit
tels GPC) und ein Harzsynthese-Umsetzungsverhältnis von 25,1%.
1,5 g des Harzes, das aus Beispiel 1 erhalten wurde, wurde in 8,5 g PGMEA
(Propylenglycol-Monomethyl-Etheracetat) gelöst und für acht Stunden gerührt.
Das Gemisch wurde durch einen 0,2 µm-Filter filtriert. 2 ml des Filtrates wurden
auf einen 4 Inch-Wafer mittels Spincoating bei 3.000 upm appliziert und vorsich
tig bei 130°C gebacken. Die Filmdicke wurde an sechzehn Punkten mittels
Nanospec gemessen und betrug 5728±32 A, was anzeigt, daß die Filmeigenschaf
ten gut sind.
2,5 g des Harzes, das aus Beispiel 1 erhalten wurde, wurde in THF gelöst
und für acht Stunden gerührt, um eine 25%ige THF-Lösung des Harzes zu er
halten. Die Harzlösung wurde bei Raumtemperatur für drei Tage ruhen gelassen.
4 bis 5 g der Harzlösung wurde mit Hydraual-Zusammensetzung 5 als Standard
lösung unter Verwendung eines Karl-Fischer-Apparates titriert. Die Ergebnisse
zeigten, daß das Harz einen Wassergehalt von 0,589% hat.
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde mit der Aus
nahme angewendet, daß Dimethyl-Diethyl-2H-Pyran-3,6-Dion durch Malein
säureanhydrid ersetzt wurde, wodurch ein Copolymer von Maleinsäureanhydrid
erhalten wurde. Dann wurde eine 25%ige Maleinsäureanhydrid-Copolymerlö
sung nach dem Verfahren, wie es in Beispiel 3 beschrieben ist, hergestellt. Der
gemessene Wassergehalt des Harzes (Maleinsäureanhydrid-Copolymer) betrug
als 0,886%.
Die Ergebnisse zeigen, daß das Harz (zyklisches Dion-Polymer) der vorliegenden
Erfindung eine geringere Feuchtigkeitsabsorptionsfähigkeit als die konventionel
len Maleinsäureanhydrid-Copolymerharze hat; folglich hat es eine bessere Stabi
lität und eine längere Lagerzeit.
Claims (24)
1. Ein zyklisches Dion-Polymer, welches ein Homopolymer oder Copolymer
eines zyklischen Dion-Monomeres ist, das ausgewählt ist aus denen, die
durch die Formeln (I) und (II) verkörpert sind:
worin A und B gleich oder unterschiedlich sein können und unabhängig voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Halogen, Was serstoff, C3-20 zyklisches oder perizyklisches Alkyl, C1-20 lineares oder ver zweigtes Alkyl, C6-20 Aryl, C7-20 Arylalkyl, C7-20 Alkylaryl, Silyl, Alkylsilyl, Germyl, Alkylgermyl, Alkoxycarbonyl, Acyl und einer heterozyklischen Gruppe; oder A und B zusammen verbunden sind, um eine C3-20 gesättigte oder ungesättigte zyklische Kohlenwasserstoffgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte heterozyklische Gruppe zu bilden;
C ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoff, Schwefel,
-CH2- und -SiH2-,
worin jedes R1 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus C1-20 Alkyl und Phenyl.
worin A und B gleich oder unterschiedlich sein können und unabhängig voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Halogen, Was serstoff, C3-20 zyklisches oder perizyklisches Alkyl, C1-20 lineares oder ver zweigtes Alkyl, C6-20 Aryl, C7-20 Arylalkyl, C7-20 Alkylaryl, Silyl, Alkylsilyl, Germyl, Alkylgermyl, Alkoxycarbonyl, Acyl und einer heterozyklischen Gruppe; oder A und B zusammen verbunden sind, um eine C3-20 gesättigte oder ungesättigte zyklische Kohlenwasserstoffgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte heterozyklische Gruppe zu bilden;
C ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoff, Schwefel,
-CH2- und -SiH2-,
worin jedes R1 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus C1-20 Alkyl und Phenyl.
2. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, worin das zyklische Dion-
Monomer der Formel (I) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus:
3. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, worin das zyklische Dion-
Monomer der Formeln (II) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus:
4. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches ein Copolymer aus
wenigstens einem zyklischen Dion-Monomer der Formeln (I) oder (II) und we
nigstens einem Comonomer eines zyklischen Olefins ist.
5. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 4, worin das zyklische Olefin
Norbornen oder ein Norbornenderivat ist.
6. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 5, worin das Norbornenderivat
ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus:
7. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 5, worin das Norbornenderivat
ist und worin m ein Integer von 1 bis 3 ist.
ist und worin m ein Integer von 1 bis 3 ist.
8. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 5, worin das Norbornenderivat
ist und worin q ein Integer von 1 bis 3 ist und X ausgewählt ist aus N, O oder S.
ist und worin q ein Integer von 1 bis 3 ist und X ausgewählt ist aus N, O oder S.
9. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 5, worin das Norbornenderivat
ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus:
worin D eine säurelabile Schutzgruppe ist, welche in der Anwesenheit von einer Säure abgespalten wird, um somit das zyklische Dion-Polymer Alkali-löslich zu machen und worin jedes R3 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 lineares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und perizyklisches Alkyl.
worin D eine säurelabile Schutzgruppe ist, welche in der Anwesenheit von einer Säure abgespalten wird, um somit das zyklische Dion-Polymer Alkali-löslich zu machen und worin jedes R3 unabhängig voneinander ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 lineares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und perizyklisches Alkyl.
10. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 9, worin D ausgewählt ist aus
der Gruppe, bestehend aus:
worin R4 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 linares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und perizyklisches Alkyl.
worin R4 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, C1-20 linares und verzweigtes Alkyl, C3-20 zyklisches und perizyklisches Alkyl.
11. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 5, worin das zyklische Dion-
Monomer
ist und das Norbornenderivat
ist.
ist und das Norbornenderivat
ist.
12. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches
ist, worin
A, B, C, D und R3 wie in den obigen Ansprüchen definiert sind,
p, q, x, y und z die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + q + x + y + z = 1,
p, q, x, y und z in dem Bereich von 0 bis 0,5 sind,
p + q größer als 0 ist und
x + y + z in dem Bereich von 0 bis 0,8
ist.
ist, worin
A, B, C, D und R3 wie in den obigen Ansprüchen definiert sind,
p, q, x, y und z die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + q + x + y + z = 1,
p, q, x, y und z in dem Bereich von 0 bis 0,5 sind,
p + q größer als 0 ist und
x + y + z in dem Bereich von 0 bis 0,8
ist.
13. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches
ist, worin
A, B, C, D und R3 wie in, den obigen Ansprüchen definiert sind,
p und y die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + y = 1 und
p und y in dem Bereich von 0,1 bis 0,9
sind.
ist, worin
A, B, C, D und R3 wie in, den obigen Ansprüchen definiert sind,
p und y die molaren Verhältnisse der korrespondierenden Monomere sind,
p + y = 1 und
p und y in dem Bereich von 0,1 bis 0,9
sind.
14. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches in einem organi
schen Lösungsmittel löslich ist.
15. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches eine Glasüber
gangstemperatur von 130°C bis 300°C hat.
16. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches ein durchschnittli
ches Molekulargewicht von 1.000 bis 50.000 hat.
17. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches eine Zer
setzungstemperatur (Td) von mehr als 130°C hat.
18. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, welches mittels freier Radi
kalpolymerisation erhalten ist.
19. Zyklisches Dion-Polymer nach Anspruch 1, worin das zyklische Dion-
Polymer eine säurelabile Schutzgruppe hat, welche in der Anwesenheit von einer
Säure abgespalten wird, um so das zyklische Dion-Poymer Alkali-löslich zu
machen.
20. Eine Dünnfilm-Beschichtungszusammensetzung, umfassend das zykli
sche Dion-Polymer nach Anspruch 1.
21. Eine fotosensitive Zusammensetzung, umfassend das zyklische Dion-
Polymer nach Anspruch 1.
22. Fotosensitive Zusammensetzung nach Anspruch 21, welche bei einer
Wellenlänge von 150 nm bis 600 nm fotosensitiv ist.
23. Fotosensitive Zusammensetzung nach Anspruch 21, welche bei einer
Wellenlänge von 193 nm oder 248 nm fotosensitiv ist.
24. Ein Polymergemisch, umfassend das zyklische Dion-Polymer nach An
spruch 1 und ein Polymer, das ein anderes als das zyklische Dion-Polymer ist.
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