DE19855455A1 - In-Situ-Meßtechniksystem und -verfahren - Google Patents
In-Situ-Meßtechniksystem und -verfahrenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf Oberflächenendbearbeitungs
maschinen, und besonders bezieht sie sich auf ein Verfahren und
einen Apparat für die Messung einer eindimensionalen Charakte
ristik eines Werkstücks an Ort und Stelle, während das Werkstück
auf einer Oberflächenendbearbeitungsmaschine positioniert ist,
und selbst dann, wenn es poliert oder anderweitig durch die Ober
flächenendbearbeitungsmaschine endbearbeitet wird. In einer
bestimmten, bevorzugten Ausführungsform werden Unterschiede der
optischen Dicke des Werkstücks durch ein Interferometer gemessen,
und diese Messungen werden dazu benutzt, den Endbearbeitungs
prozeß zu steuern, um eine gewünschte Abmessungscharakteristik
des Werkstücks zu erhalten.
Oberflächenendbearbeitungsmaschinen werden in zahlreichen
Anwendungen für das Polieren, Schleifen oder anderweitige Bear
beiten von einer oder mehrerer Oberflächen von Werkstücken
benutzt, die aus Glas, Silizium, Metallen, Keramiken, u.s.w.
gefertigt sind. Eine Oberflächenendbearbeitungsmaschine kann
eingerichtet werden, um ein Werkstück auf eine gewünschte Dicke,
auf die Qualität durchgelassener Wellenfronten, auf eine
gewünschte Ebenmäßigkeit und/oder auf ein gewünschtes Profil zu
bringen.
Ein Typ einer Oberflächenendbearbeitungsmaschine, auf welche
die Erfindung besonders (aber nicht ausschließlich) angewendet
werden kann, ist ein Ringpolierer. Ein Ringpolierer, manchmal
auch als ein Crane-Polierer, eine Läppmaschine, eine Planeten
poliermaschine oder eine kontinuierliche Poliermaschine bekannt,
wird durch einen großen, sich drehenden Drehteller, der eine
obere Werkoberfläche darstellt, oder ein Läppvlies charakteri
siert, das durch einen Kreisring aus Pech gebildet wird. Entweder
direkt auf dem oder etwas über dem Läppvlies sind eine Vielzahl
von Bearbeitungsringen angeordnet, die mittels Rollen zu Dreh
bewegungen angetrieben werden. Mindestens eine Bearbeitungs
station liegt im Inneren eines jeden Bearbeitungsrings für die
Aufnahme eines Werkstücks. Ein großes, flaches Abrichtwerkzeug
ist auf der Oberfläche des Läppvlieses angeordnet und kann
gedreht und radial verschoben werden, um die Ebenmäßigkeit des
Läppvlieses einzustellen.
Während der Benutzung wird ein Werkstück in einer zugeord
neten Bearbeitungsstation (d. h. innerhalb eines zugeordneten
Bearbeitungsrings) abgelegt, das Läppvlies wird mit einer Auf
schlämmung geflutet, die Polierkörper oder Endbearbeitungskörper
enthält, und der Drehteller wird in Drehbewegung versetzt,
wodurch die Bearbeitungsringe ebenfalls in eine Drehbewegung
gebracht werden. Das Werkstück bewegt sich mit den Bearbeitungs
ringen über das Läppvlies mit einer Winkelgeschwindigkeit, die
synchron mit der Geschwindigkeit des Läppvlieses ist, so daß die
über die Zeit gemittelte Relativgeschwindigkeit zwischen dem
Läppvlies und jeder Stelle auf der Bearbeitungsoberfläche des
Werkstücks konstant bleibt. Die relative Bewegung zwischen dem
Werkstück und dem Läppvlies poliert die vordere Oberfläche des
Werkstücks über einen chemo-mechanischen Abrieb durch die
Schleifkörper der Aufschlämmung.
Der Polierprozeß muß sorgfältig überwacht und gesteuert wer
den, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Wenn das Werk
stück z. B. ein Glaselement für die Verwendung als ein Element mit
optischer Qualität ist, muß die Topografie der vorderen oder
Bearbeitungsoberfläche auf eine bestimmte Ebenmäßigkeit und ein
bestimmtes Profil innerhalb einer Toleranz unterhalb eines Mikron
eingehalten werden. Um diesen Grad der Polierpräzision zu errei
chen, müssen die Wirkungen der Polieroperation auf die Bearbei
tungsoberfläche sorgfältig überwacht werden, und die Operation
des Ringpolierers oder einer anderen Oberflächenendbehandlungs
maschine muß angepaßt werden, wenn das Profil der Bearbeitungs
oberfläche vom gewünschten Profil abweicht.
Die Überwachungs- und Anpassungsoperationen sind arbeits
intensiv, iterativ und zeitraubend. Zuerst muß mindestens ein
Werkstück (im Folgenden ein Probewerkstück genannt) vom Ring
polierer zwecks Test entfernt werden. Dann muß der Maschinen
bediener zum Erreichen eines akkuraten Meßwertes des Profils des
Probewerkstücks im eingeschwungenen Zustand eine bestimmte Zeit
dauer nach dem Entfernen des Werkstücks vom Ringpolierer abwar
ten, damit das Werkstück dimensionale Ausgeglichenheit erreicht.
Diese Ausgleichszeitdauer hängt von dem Material und den Abmes
sungen des Elements ab, aber kann typisch zwischen 5 Minuten und
einer Stunde oder mehr schwanken. Diese Verzögerung ergibt sich
aus der Tatsache, daß ein Probewerkstück ursprünglich hinsicht
lich seiner isothermischen Form verzerrt ist, wenn es von Ring
polierer entfernt wird, wegen 1) einer thermischen Ausdehnung
aufgrund von Hitze, die durch die Reibung während des Polier
prozesses erzeugt wird, und 2) einer thermischen Verzerrung
aufgrund einer Flüssigkeitsverdunstung vom Probewerkstück. Falls
dann die Bearbeitungsfläche des Werkstücks konkaver oder konvexer
als gewünscht ist (wodurch angezeigt wird, daß das Läppvlies
konvexer oder konkaver als gewünscht ist), muß der Bediener die
radiale Position des Abrichtwerkzeugs relativ zum Läppvlies um
einen geschätzten Betrag zur Kompensation dieses Effektes ein
richten, das Probewerkstück zurück auf seine Bearbeitungsstation
bringen und darauf warten, daß das Werkstück eine Zeit lang
poliert wird, die ausreichend ist, daß die Wirkung der Bearbei
tungsprozeßeinrichtung sich auf der Bearbeitungsfläche des Werk
stücks niederschlägt. Diese Zeitdauer schwankt ebenfalls, aber
kann typisch bis zu zwei Stunden lang sein. Das Probewerkstück
muß dann vom Ringpolierer wiederum entfernt werden, es muß ihm
Zeit gegeben werden, den ausgeglichenen Zustand zu erreichen, und
es muß gemessen werden, um die Wirkung der vorherigen Einrichtung
des Endbearbeitungsprozesses sicherzustellen. Die Zeitspanne
zwischen dem Zeitpunkt des Entfernens des Werkstücks vom Ring
polierer für topografische Messungen und dem Zeitpunkt, an dem
der Bediener von den Wirkungen der sich aus den Messungen beim
Polierprozeß ergebenden Einrichtung Kenntnis erlangt, kann drei
Stunden oder mehr erreichen.
Selbst der geschickteste Bediener kann nicht mit Sicherheit
die Auswirkungen vieler typischer Einstellungen der Endbearbei
tungsmaschinenoperationen vorhersagen. Einstellungen gehen typi
scher Weise über den gewünschten Effekt hinaus oder bleiben
darunter, so daß z. B. ein Werkstück, das bei-n Anfangstest zu kon
vex war, nach der Einstellung und nachfolgendem Test zu konkav
geworden ist. Folglich müssen Messungen und Einstellungen abwech
selnd durchgeführt werden. Zehn bis zwanzig Iterationen werden
typischer Weise für das Polieren eines Präzisionsglaswerkstücks
zur Verwendung als optisches Qualitätselement benötigt. Da jede
Iteration drei Stunden oder mehr braucht, kann die Gesamtdauer
für den Polierprozeß dreißig bis sechzig Stunden und sogar noch
länger betragen. Da die meisten Zwischenbearbeitungsoperationen,
wie etwa Schleifen, in der Lage sind, einen Oberflächeneben
mäßigkeitsfehler in der Größenordnung einiger weniger Mikron zu
erreichen, und die Beseitigungsrate in der Endbearbeitung in der
Größenordnung von einem Mikron pro Stunde liegt, ist nur ein
kleiner Prozentsatz der Endbearbeitungszeit - typisch etwa zwei
bis drei Stunden - erforderlich, um die gewünschte Ebenmäßigkeit
zu erreichen. Deshalb würde ein Polierprozeß nicht mehr als zwei
bis drei Stunden benötigen, falls er niemals eine Anpassung ver
langt oder falls eine Anpassungsrückwirkung unmittelbar erreicht
wird, anstatt das Zehn- oder Zwanzigfache dieser Zeit oder mehr
einzunehmen.
Der oben beschriebene iterative Polierprozeß kann in einigen
Fällen durch Benutzung einer sogenannten Überwachungsprobe
("monitor plug") oder einer Zeugenprobe ("witness sample") für
Testzwecke beschleunigt werden. Eine Überwachungsprobe ist
typisch ein Werkstück, das sehr stabil und nicht so empfindlich
bezüglich Temperaturänderungen ist als das andere, wirkliche
Werkstück, das gleichzeitig in anderen Bearbeitungsstationen
poliert wird. Falls die Überwachungsprobe auf das gewünschte
Profil mit einigen Spezifikationen gehalten wird, kann der Bedie
ner durch periodisches Messen des Profils der Überwachungsprobe
eine gewisse Sicherheit erlangen, daß die wirklichen Werkstücke
in den anderen Bearbeitungsstationen im Wesentlichen dasselbe
Profil haben. Folglich gibt es nicht die Notwendigkeit, jedes
Werkstück jedesmal zu messen. Jedoch ist immer noch ein itera
tiver Meß- und Einstellungsprozeß erforderlich, und selbst die
Überwachungsprobe benötigt Zeit, um in jedem Meßzyklus den dimen
sionalen Ausgleichszustand zu erreichen, bevor sein Profil
gemessen werden kann.
Der oben beschriebene, iterative Polierprozeß könnte drama
tisch beschleunigt werden, falls Profilmessungen in situ (d. h.
während ein Werkstück gerade auf einem Ringpolierer oder einer
anderen Oberflächenendbearbeitungsmaschine bearbeitet wird)
erreicht werden, weil kein Bedarf für das Entfernen des Werk
stücks von der Oberflächenendbearbeitungsmaschine und für die
Wartezeit zum Erreichen des dimensionalen Ausgleichszustands vor
der Messung besteht.
Eine Technik für in-situ-Meßwesen ist offengelegt in "Exten
ding the Accuracy and Precision of In-Situ Ultrasonic Thickness
Measurements", Dunn and Cerino, American Society for Precision
Engineering, 1995 Proceedings, Band 12, (dem Dunn-und-Cerino-
Aufsatz). Der Dunn-und-Cerino-Aufsatz schlägt Ultraschall-Dicken-
Messungen vor, um ein Präzisionsmanagement der Materialabtragung
zu erreichen. Eine Vielzahl von Ultraschallköpfen werden auf der
hinteren Oberfläche oder der unbearbeiteten Oberfläche des zu
bearbeitenden Werkstücks angebracht. Jeder dieser Meßköpfe gibt
einen Schallimpuls aus, der durch die Dicke des Werkstücks und
zurück zum Meßkopf wandert. Messungen der Laufzeit werden dann
benutzt, um die Dicke des Werkstücks an den Stellen der Meßköpfe
zu messen.
Die Ultraschall-Dicken-Messungen in dem Dunn-und-Cerino-Auf
satz haben Nachteile, die ihr Auflösungsvermögen begrenzen und
sie für Anwendungen für optische Linsen und viele andere Anwen
dungen unpraktisch werden lassen, in denen eine außerordentlich
hohe Präzisionsoberflächenendbearbeitung erforderlich ist. Z. B.
kann eine Dickenmessung nur an den Stellen der Meßköpfe erreicht
werden, und es ist unpraktisch oder gar unmöglich, die gesamte
Oberfläche eines Werkstücks mit Meßköpfen abzudecken. Deshalb
kann die optische Dicke nur an den Stellen der Meßköpfe gemessen
werden und muß für andere Stellen geschätzt werden. Verunreini
gungen, Hohlräume u.s.w. können in Werkstücken vorliegen, die sie
inhomogen machen. Die Inhomogenitäten beeinflussen nachteilig die
aus den Laufzeitmessungen abgeleiteten Dickenmessungen. Diese und
andere Nachteile der in dem Dunn-und-Cerino-Aufsatz offengelegten
Ultraschall-Dicken-Messungen begrenzen das Auflösungsvermögen
dieser Technik auf etwa ein bis zwei Mikron. Dieses Auflösungs
vermögen ist für viele Anwendungen viel zu niedrig.
Eine andere Unzulänglichkeit konventioneller Ringpolierer und
anderer Oberflächenendbearbeitungsmaschinen ist ihre Unfähigkeit,
eine thermische Verformung eines Werkstücks zu verhindern. Wie
oben beschrieben, kann das Werkstück während der Endbearbeitung
aufgrund von Reibung mit dem Schleifkörpern oder anderen Bearbei
tungselementen oder -medien eine thermische Ausdehnung erleiden.
Außerordentliche thermische Ausdehnung ist unerwünscht, weil das
Gewicht des Werkstücks sich bei Verwerfung der vorderen Ober
fläche des Werkstücks aufgrund thermischer Ausdehnung nicht
gleichmäßig über die vordere Oberfläche verteilt. Diese ungleich
mäßige Gewichtsverteilung führt zu ungleichmäßigem Abtrag während
der Endbearbeitungsoperation.
Um die abträglichen Effekte der thermischen Ausdehnung auf
einen Polier- oder anderen Endbearbeitungsprozeß zu begrenzen,
ist es wünschenswert, Messungen einzubeziehen, um die Temperatur
differenz über ein Werkstück auf akzeptablen Niveau zu halten.
Z.B. könnte ein Ringpolierer eine Temperatursteuerung in sein
Aufschlämmungsversorgungssystem einbeziehen, die in der Lage ist,
die Temperatur der über das Läppvlies fließenden Aufschlämmung
als Reaktion auf Signale von auf dem Läppvlies angeordneten
Temperatursensoren anzupassen. Jedoch sind gegenwärtig erhält
liche thermische Sensoren nicht in der Lage, eine ausreichend
akkurate Anzeige des Temperaturdifferential über das Werkstück
abzugeben, um eine präzise Steuerung der Aufschlämmungstemperatur
zu ermöglichen.
Es ist deshalb ein grundsätzliches Ziel der Erfindung, in
situ-Messungen auf einem Werkstück in Bearbeitung auf einer Ober
flächenendbearbeitungsmaschine durchzuführen.
Ein anderes Ziel der Erfindung ist es, einen Prozeß vorzu
sehen, der das erste grundsätzliche Ziel erfüllt, der Schwankun
gen der optischen Dicke eines Werkstücks erkennt, und der diese
erkannten Schwankungen benutzt, um die Topografie der Bearbei
tungsoberfläche des Werkstücks zu bestimmen.
In Übereinstimmung mit einem ersten Aspekt der Erfindung
werden diese Ziele erreicht durch Vorsehen eines Verfahrens zur
Endbearbeitung eines Werkstücks, das einschließt: 1) Unterziehen
mindestens einer Oberfläche des Werkstücks einem Endbearbeitungs
prozeß in einer Endbearbeitungsmaschine und 2) Messen einer
dimensionalen Charakteristik des Werkstücks während des Bearbei
tungsprozesses. Der Meßschritt verwendet ein Interferometer und
wird ausgeführt, während das Werkstück in der Endbearbeitungs
maschine ist und vorzugsweise (aber nicht notwendigerweise)
während das Werkstück bearbeitet wird.
Ein anderes Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren vorzu
sehen, das mindestens das erste grundsätzliche Ziel der Erfindung
erreicht und das Meßergebnisse als Eingaben in ein Steuerungs
system benutzt, welches automatisch die Betriebsparameter einer
Oberflächenendbearbeitungsmaschine beibehält oder anpaßt, um so
eine gewünschte dimensionale Charakteristik des Werkstücks zu
erlangen. Diese Anpassung kann beinhalten, die Endbearbeitungs
operation nach der Bestimmung zu beenden, daß das Werkstück die
gewünschte dimensionale Charakteristik aufweist.
Falls z. B. die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer mit
einem Drehteller, einem auf dem Drehteller angeordneten Läppvlies
und einem rotierenden Abrichtwerkzeug ist, welches von dem Läpp
vlies getragen wird und welches radial bezüglich des Drehtellers
verschieblich ist, um ein Profil des Läppvlieses zu verändern,
kann der Anpassungsschritt die Veränderung der Position des
Abrichtwerkzeugs radial relativ zum Drehteller enthalten, um das
Profil des Läppvlieses zu verändern.
Ein noch anderes Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren
vorzusehen, das mindestens das erste Ziel der Erfindung erfüllt,
und das die Meßergebnisse dazu benutzt, eine Temperaturdifferenz
über das Werkstück zu berechnen.
In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt der Erfindung
wird dieses Ziel erreicht durch: 1) Messen der thermischen Ver
formung des Werkstücks unter Benutzung der Ergebnisse des Meß
schritts und 2) Bestimmen einer Temperaturdifferenz über das
Werkstück aus der gemessenen thermischen Verformung. Das Tempe
raturdifferential kann dann reduziert oder beseitigt werden, d. h.
durch Verändern der Temperatur einer Aufschlämmung, die durch die
Endbearbeitungsmaschine zirkuliert.
Ein zweites grundsätzliches Ziel der Erfindung ist es, ein
System vorzusehen, das eine Oberflächenendbearbeitungsmaschine
und ein zugeordnetes Interferometer enthält, das in der Lage ist,
in-situ-Messungen an Werkstücken zu machen, die gerade durch die
Oberflächenendbearbeitungsmaschine bearbeitet werden.
In Übereinstimmung mit einem noch anderen Aspekt der Erfin
dung wird dieses Ziel erreicht durch Vorsehen einen Systems, das
enthält: 1) eine Endbearbeitungsmaschine mit einer Bearbeitungs
station zur Aufnahme eines Werkstücks, das einer Endbearbeitungs
operation ausgesetzt wird, und 2) ein Interferometer, das bezüg
lich der Bearbeitungsstation positioniert ist, um so die in-situ-
Messungen an dem in der Bearbeitungsstation plazierten Werkstück
durchzuführen.
Eine Steuerung ist vorzugsweise vorgesehen, die mit dem
Interferometer verbunden ist, und die ein Ausgangssignal als
Reaktion auf den Betrieb des Interferometers erzeugt. Das Aus
gangssignal kann ein von Menschen unterscheidbares Signal sein,
das eine dimensionale Charakteristik wie etwa das Profil dar
bearbeiteten Oberfläche des Werkstücks anzeigt. Alternativ kann
das Ausgangssignal ein Steuerungssignal sein, das mindestens
einen Betriebsparameter der Endbearbeitungsmaschine steuert.
Falls die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer ist, kann die
Steuerung elektronisch mit dem Abrichtwerkzeug des Ringpolierers
gekoppelt sein und bewirken, daß die radiale Position des
Abrichtwerkzeugs relativ zum Drehteller aufgrund der vom Inter
ferometer empfangenen Signale automatisch verändert wird.
Die Steuerung kann auch unter Benutzung von Signalen des
Interferometers arbeiten, um eine Temperaturdifferenz über das
Werkstück zu bestimmen, und so automatisch dafür zu sorgen, daß
das Aufschlämmungsversorgungssystem des Ringpolierers die Tem
peratur der durch das Versorgungssystem zirkulierten Aufschläm
mung verändert, um die Temperaturdifferenz über das Werkstück zu
reduzieren oder zu beseitigen.
Diese und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung
werden den in der Technik Bewanderten aus der folgenden detail
lierten Beschreibung und den begleitenden Zeichnungen verständ
licher werden. Es ist jedoch zu verstehen, daß-die detaillierte
Beschreibung und spezifische Beispiele, die bevorzugte Ausfüh
rungsformen der vorliegenden Erfindung anzeigen, zwecks Veran
schaulichung und nicht zwecks Begrenzung angeführt werden. Viele
Veränderungen und Modifikationen können innerhalb des Umfangs der
vorliegenden Erfindung gemacht werden, ohne von ihrem Geist abzu
weichen, und die Erfindung schließt alle solche Modifikationen
ein.
Eine bevorzugte, beispielhafte Ausführungsform der Erfindung
wird in den begleitenden Zeichnungen veranschaulicht, in denen
gleiche Bezugszeichen gleiche Teile darstellen, und in denen:
Fig. 1 eine schematische Seitenansicht einer Oberflächen
endbearbeitungsmaschine und eines zugeordneten in-situ-Meßsystems
ist, das in Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung konstruiert ist;
Fig. 2 eine schematische Aufsicht einer Oberflächenendbear
beitungsmaschine und eines Abschnitts des in-situ-Meßsystems von
Fig. 1 ist;
Fig. 3 schematisch ein Steuerungssystem der Oberflächenend
bearbeitungsmaschine und des in-situ-Meßsystems von Fig. 1 und 2
darstellt;
Fig. 4 schematisch erste und zweite Oberflächenreflexionen
eines Werkstücks veranschaulicht, das unter Benutzung der Ober
flächenendbearbeitungsmaschine und des in-situ-Meßsystems von
Fig. 1 und 2 den in-situ-Messungen ausgesetzt ist;
Fig. 5A bis 5H schematische Darstellungen von Fizeau-Inter
ferogrammen sind, welche in situ während einer Oberflächenpolier
operation gewonnen wurden, die in Übereinstimmung mit einer
bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung durch
geführt wurde;
Fig. 6 ein Flußdiagramm eines Prozesses für die automatische
Anpassung einer Endbearbeitungsoperation über eine geschlossene
Schleife ist, welche die in-situ-Meßergebnisse als Steuerungs
signale für den Endbearbeitungsprozeß benutzt;
Fig. 7 schematisch die thermische Verformung eines flachen,
kreisförmigen Werkstücks veranschaulicht;
Fig. 8A, 8B, 9A, 9B und 10A, 10B die Entwicklung bei der Ver
formung eines Werkstücks veranschaulichen, während es unter der
Einwirkung eines axialen Temperaturdifferentials endbearbeitet
wird; und
Fig. 11 ein Flußdiagramm eines Prozesses für die automatische
Steuerung der Aufschlämmungstemperatur einer Endbearbeitungs
maschine ist, die in-situ-Meßergebnisse als Steuerungssignale für
den Temperatursteuerungsprozeß verwendet.
Gemäß der Erfindung wird mindestens eine dimensionale Charak
teristik eines Werkstücks in situ gemessen, während mindestens
eine Oberfläche des Werkstücks einer Endbearbeitungsoperation
unterzogen wird. Die Meßwerte werden unter Benutzung eines Inter
ferometers ermittelt, welches interferierende Wellenfronten
erzeugt, die von den vorderen und hinteren Oberflächen des
Werkstücks reflektiert werden. Schwankungen in der optischen
Dicke des Werkstücks können aus dem sich ergebenden Interfero
gramm bestimmt werden. Die sich ergebende optische Dicke kann
direkt oder in Kombination mit anderen zuvor erworbenen Daten
über das Werkstück benutzt werden, um Information über eine
gewünschte dimensionale Charakteristik des Werkstücks zu
ermitteln. Diese dimensionale Charakteristik kann optische
Dickengleichmäßigkeit, Ebenmäßigkeit der Bearbeitungsoberfläche
und/oder Bearbeitungsoberflächenprofil sein. Diese Meßwerte
können dann benutzt werden, um den Endbearbeitungsprozeß zu einem
optimalen Zeitpunkt zu beenden und/oder die Operation der Ober
flächenendbearbeitungsmaschine zu steuern. Die Differenz der
Temperatur zwischen der Arbeitsoberfläche eines Werkstücks und
der gegenüberliegenden Oberfläche kann auch aus den Meßergeb
nissen ermittelt werden, wenn im Zusammenspiel mit einer Zeugen
probe oder einer Überwachungsprobe gemessen wird, welche eine
unterschiedliche thermische Verformungscharakteristik aufgrund
einer unterschiedlichen Dicke oder aufgrund eines unterschied
lichen Koeffizienten der thermischen Ausdehnung aufweist. Vor
zugsweise sollte die Zeugenprobe oder die Überwachungsprobe aus
einem Material gefertigt werden, das im Vergleich zum Werkstück
relativ unempfindlich gegenüber Temperaturänderungen ist. Dieses
Temperaturdifferential kann dann benutzt werden, um die Tempera
tur eines Endbearbeitungsprozeßparameters wie etwa Temperatur der
Aufschlämmung zu steuern.
Das Herzstück der Erfindung ist der Einbezug eines Interfero
meters in ein Oberflächenendbearbeitungssystem, so daß das Inter
ferometer Meßwerte einer oder mehrerer dimensionalen Charakteri
stiken eines Werkstücks in situ gewinnen kann, d. h. wenn min
destens eine Oberfläche des Werkstücks poliert oder anderweitig
durch die Oberflächenendbearbeitungsmaschine bearbeitet wird. Die
Erfindung läßt sich anwenden auf jede beliebige Oberflächenend
bearbeitungsmaschine, die eine Bearbeitungsstation hat, in der
mindestens eine Oberfläche eines Werkstücks geschliffen, gefräst,
poliert oder anderweitig bearbeitet wird, und die zuläßt, daß
mindestens periodisch ein Strahl kohärenten Lichtes von einer
Lichtquelle des Interferometers einfällt. Oberflächenendbearbei
tungsmaschinen, auf welche die Erfindung anwendbar ist, schließen
beispielsweise Ringpoliermaschinen, Ionenpoliermaschinen, Ionen
fräsmaschinen, chemo-mechanische (CMP-) Poliermaschinen, CNC-
Poliermaschinen mit Polierwerkzeugen auf einer Computergesteuer
ten Spindel, Einzelpunktdiamantdrehbänke und Einzelspindelpolier
maschinen ein. Die Position eines Werkstücks hinsichtlich der
betrieblichen Komponenten einer zugeordneten Endbearbeitungs
maschine schwankt wesentlich von Anwendung zu Anwendung. In eini
gen Anwendungen wird das Werkstück auf einem Läppvlies oder einer
ähnlichen Struktur getragen. In anderen Anwendungen wird das
Werkstück durch eine Spindel oder einen Arm gehalten. Zur Verein
fachung der Beschreibung wird davon gesprochen, daß das Werkstück
"auf" der Endbearbeitungsmaschine ist, und es ist zu verstehen,
daß "auf" jede beliebige positionale Beziehung zwischen einem
Werkstück und einer Betriebskomponente einer Endbearbeitungs
maschine abdecken soll, in welcher die Betriebskomponente eine
Endbearbeitungsoperation auf dem Werkstück durchführen kann.
Durch Endbearbeitungsmaschinen endbearbeitete Werkstücke
schließen z. B. Siliziumscheiben, metallische optische Elemente
und keramische oder Glaswerkstücke wie etwa optische Spiegel,
Scheiben, Prismen oder Fenster ein. Diese Typen von Werkstücken
können als "wirkliche" Werkstücke betrachtet werden. Ein Werk
stück kann auch eine sogenannte "Überwachungsprobe" oder "Zeugen
probe" enthalten, die zusammen mit den wirklichen Werkstücken
bearbeitet werden, und die überwacht werden um korrespondierende
Veränderungen in den wirklichen Werkstücken zu erkennen. In-situ-
Meßtechnik an Überwachungsproben anstelle von oder zusätzlich zu
wirklichen Werkstücken mag in einigen Fällen bevorzugt werden.
Falls z. B. die präzise Kenntnis der gemessenen Charakteristik
eines jeden wirklichen Werkstücks nicht wesentlich ist kann die
Überwachung vereinfacht werden durch die Überwachung nur einer
einzigen Überwachungsprobe gegenüber der Überwachung von vielen
Werkstücken. Wenn ferner bei der Überwachung thermischer Verfor
mung aufgrund eines Temperaturdifferentials über das Werkstück
bevorzugt wird, daß eine Überwachungsprobe ausgewertet wird, die
im Vergleich zu wirklichen Werkstücken relativ thermisch unemp
findlich ist, dann können Deformationen aufgrund des Temperatur
differentials von denen aufgrund von Unebenheiten des Läppvlieses
unterschieden werden, wie weiter unten in Abschnitt 4 beschrieben
wird. Eine Überwachungsprobe kann auch für in-situ-Messungen in
Anwendungen benutzt werden, in denen die wirklichen Werkstücke
für die Strahlen transparent sind. Daher ist der Begriff "Werk
stück", so wie er hier verwendet wird, dahingehend zu verstehen,
daß er wirkliche Werkstücke, ein ausgewähltes von mehreren Werk
stücken und/oder eine Überwachungsprobe oder eine Zeugenprobe
einschließt. Als praktisches Beispiel wird die Erfindung haupt
sächlich in Verbindung mit einem in Fig. 1 bis 4 veranschaulich
ten Poliersystem 20 beschrieben. Dieses Poliersystem enthält 1)
einen Ringpolierer 22 und 2) ein in-situ-Meßsystem 24. Das in
situ-Meßsystem 24 enthält ein Interferometer 26 und ein Über
wachungs-/Steuerungssystem 28. Jede dieser Komponenten wird nun
im Detail beschrieben.
Der Ringpolierer 22 (manchmal eine Ringpoliermaschine, ein
Crane-Polierer, eine Läppmaschine, eine Planetenpoliermaschine
oder eine kontinuierliche Poliermaschine genannt) ist konventio
nell und bei den in der Technik Bewanderten wohlbekannt. Er ent
hält als hauptsächliche Komponenten einen Drehteller 30, einen
Ringaufbau 32, ein Abrichtwerkzeug 34 und ein Versorgungssystem
36 für die Aufschlämmung. Der Drehteller 30 hat eine kreisförmige
Struktur, die ziemlich groß ist - typisch mit einem Durchmesser
von typisch einem oder mehreren Fuß. Der Drehteller ist aus einem
überaus steifen Material wie etwa einem einzelnen Klotz aus
Granit oder einer Metallplatte hergestellt. Ein Vlies 38 ist auf
der oberen Oberfläche des Drehtellers 30 plaziert und dient als
die Endbearbeitungsoberfläche des Ringpolierers 22. Das Vlies 38
ist aus einer Schicht eines oben auf dem Drehteller abgelegten,
viskoelastischen Materials gebildet. Das typische Vliesmaterial
ist ausreichen flüssige um in eine gewünschte Form gebracht zu
werden, und ausreichend viskos, um diese Form über beachtliche
Zeitspannen während der Polieroperation beizubehalten. Es ist
auch ausreichend porös, um Schleifkörper aus der von dem Auf
schlämmungsversorgungssystem 36 zugeführten Aufschlämmung in
seine obere oder Polieroberfläche aufzunehmen. Optikpolierpech
wird häufig benutzt wie auch Polyurethanschaum.
Mit Bezug auf Fig. 1 und 2 ist der Ringaufbau 32 oben auf dem
Drehteller 30 montiert und befördert die Werkstücke W über die
Oberfläche des Vlieses 38. Der Ringaufbau 32 enthält eine Viel
zahl von Bearbeitungsringen 40, die auf dem Vlies 38 montiert
sind, und die über Rollen (nicht gezeigt) in Drehbewegung hin
sichtlich des Vlieses 38 versetzt werden. Eine Vielzahl (drei in
der veranschaulichten Ausführungsform) von diesen Bearbeitungs
ringen sind auf dem Umfang des Vlieses 38 mit einem beträcht
lichen, zwischen zweien der Bearbeitungsringe ausgebildeten
Abstand für die Aufnahme des Abrichtwerkzeugs 34 angeordnet.
Das Innere der Bearbeitungsringe 40 definiert die Bearbei
tungsstationen zur Aufnahme der Werkstücke W. Jede Bearbeitungs
station kann aus einem offenen Inneren eines korrespondierenden
Bearbeitungsringes 40, wie gezeigt, oder alternativ aus einem
Metall, Plastik oder Phenolseptum (nicht gezeigt) bestehen,
welches innerhalb des korrespondierenden Bearbeitungsringes 40
angeordnet ist und das ein korrespondierendes Werkstück hält. Die
Antriebsrollen für die Bearbeitungsringe 40 werden so gesteuert,
daß bei Drehen des Drehtellers 30 und bei Drehen der Bearbei
tungsringe 40 auf dem Vlies 38 die Werkstücke W mit einer syn
chronen Winkelgeschwindigkeit hinsichtlich des Vlieses 38 drehen.
Diese synchrone Drehung ist wichtig, weil es bei Synchronismus
möglich ist, eine gleichmäßige Abtragung über die gesamte Bear
beitungsoberfläche eines jeden Werkstücks W hinweg zu erreichen,
während bei einer auch nur geringfügigen Differenz der Winkel
geschwindigkeiten ein radialer Abriebgradient über die Bearbei
tungsoberfläche hinweg auftritt. Entwurfsbetrachtungen zum
Erreichen synchroner Drehung bilden für sich genommen keinen Teil
der vorliegenden Erfindung. Diejenigen, die am Erreichen einer
synchronen Drehung interessiert sind, können sich z. B. auf
Annular Lapping of Precision Optical Flatware, Cooke et al.,
Optical Engineering, Band 15, Nr. 5, September-Oktober 1976 (der
Cooke-et-al.-Aufsatz) beziehen.
Der Zweck des Abrichtwerkzeugs 34 (manchmal als Zwangsmittel
(persuader), Schleifschale (bruiser) oder Abrichtwerkzeug (truing
tool) in der Technik bekannt) ist es, die Ebenmäßigkeit des Vlie
ses 38 zu steuern, um so die Vliesoberfläche in ein gewünschtes
Profil zu bringen. Dieses Profil wird typischerweise, aber nicht
notwendigerweise, flach sein. Das dargestellte Abrichtwerkzeug 34
ist typisch für die in der Technik angetroffenen. Es enthält ein
großes, hartes, maßstabiles, kreisförmiges Element, das auf dem
Vlies 38 aufliegt. Das Abrichtwerkzeug 34 hat 1) einen Durch
messer, der näherungsweise gleich dem Radius des Drehtellers 30
ist, und ist 2) exzentrisch hinsichtlich des Drehtellers 30 posi
tioniert, so daß es über den Rand des Drehtellers 30 hinausragt,
wie in Fig. 2 gezeigt. Das Abrichtwerkzeug 34 wird durch einen
passenden Antriebsmechanismus (nicht gezeigt) in Drehbewegung
angetrieben und kann radial hinsichtlich des Drehtellers 30 in
bekannter Weise versetzt werden, wie durch Pfeile in Fig. 2 dar
gestellt. Radiale Verschiebung des Abrichtwerkzeugs 34 relativ
zum Vlies 38 verändert die Aushöhlung oder Ausbauchung der Vlies
oberfläche. Die Vliesaushöhlung nimmt zu, wenn das Abrichtwerk
zeug 34 radial nach innen wandert, und nimmt ab, wenn das
Abrichtwerkzeug 34 radial nach außen wandert.
Das Aufschlämmungsversorgungssystem 36 zirkuliert eine Auf
schlämmung über das Vlies 38 in einer geschlossenen Schleife. Die
Aufschlämmung enthält Wasser oder eine andere Flüssigkeit, die
Schleifkörper oder eine andere Schleifsubstanz enthalten. Ein
Teil der Schleifkörper ist in die Poren der oberen Oberfläche des
Vlieses 38 eingedrungen, während andere Schleifkörper sich rol
lend zwischen der oberen Oberfläche des Vlieses 38 und den Werk
stücken W bewegen, so daß die Werkstücke W sowohl durch die che
mische Wirkung der Flüssigkeit und/oder den Abrieb durch die
rollenden Schleifkörper und durch Abrieb durch die feststehenden
Schleifkörper poliert werden. Das Aufschlämmungsversorgungssystem
36 enthält einen Aufschlämmungstank 42 und einen Aufschlämmungs
erhitzer-/-abkühleraufbau 44. Der Aufschlämmungstank 42 hat einen
Einlaß, der mit dem Vlies 38 verbunden ist, und einen Auslaß, der
mit dem Aufschlämmungserhitzer-/-abkühleraufbau 44 verbunden ist.
Der Aufschlämmungserhitzer-/-abkühleraufbau 44 hat einen Einlaß,
der mit dem Auslaß des Aufschlämmungstanks 42 verbunden ist, und
einen Auslaß, der mit dem Vlies 38 verbunden ist. Zwischen und/
oder innerhalb des Aufschlämmungstanks 42 und dem Aufschlämmungs
erhitzer-/-abkühleraufbau 44 sind 1) eine Pumpe, welche die Auf
schlämmung durch das Aufschlämmungsversorgungssystem 36 zirku
liert, und 2) eine Aufschlämmungstemperatursteuerung, die einen
getrennten Erhitzer und Abkühler oder eine einzige Vorrichtung
mit der Fähigkeit zur Durchführung beider Funktionen enthält.
Das Interferometer 26 kann aus irgendeinem System bestehen,
das in der Lage ist, 1) einen parallel ausgerichteten Lichtstrahl
auf eine Bearbeitungsstation (d. h. das Innere eines Bearbeitungs
ringes 40) zu werfen, 2) die von dem Werkstück W kommenden
Wellenfronten zu rekombinieren, und 3) den rekombinierten Licht
strahl zu analysieren. Das Interferometer 26 der dargestellten
Ausführungsform enthält als Hauptkomponenten einen Hauptrahmen 50
und einen Umlenkspiegel 52. Jedoch kann das Werkstück W, wie
unten diskutiert, als Teil des Interferometers 26 angesehen
werden, weil es interferierende Wellenfronten erzeugt. Der Haupt
rahmen 50 ist auf einer Hauptrahmenplattform 54 montiert, die
über dem Drehteller 30 positioniert ist, aber die von ihm radial
abgesetzt ist. Die dargestellte Plattform 54 ist auf einem
mobilen Karren 56 montiert, der ebenfalls das Überwachungs-
/Steuerungssystem 28 beherbergt.
Der Hauptrahmen 50 kann irgendein passendes, kommerziell ver
fügbares Interferometer enthalten, wie etwa ein von der Zygo-
Corp. hergestelltes und vermarktetes GPI-Interferometer. Solch
ein typischer Hauptrahmen enthält eine Lichtquelle wie etwa einen
Laser, einen räumlichen Filterstrahlaufweiter, der den durch den
Laser erzeugten Laserstrahl in eine aufgeweitete, sphärische
Wellenfront ablenkt, einen Strahlaufteiler, der einen Teil der
aufgeweiteten, sphärischen Wellenfront vom Filterstrahl abtrennt,
und eine Kollimatorlinse, welche die aus dem Aufteiler heraus
kommende Wellenfront parallelisiert, um eine parallelisierte
Wellenfront kohärenten Lichts zu erzeugen, das zum Umlenkspiegel
52 transportiert wird. Auch ist in dem Hauptrahmen 50 eine
Abbildvorrichtung wie etwa eine Festkörperkamera enthalten,
welche die von dem Werkstück W empfangenen und durch den Strahl
aufteiler reflektierten Wellenfronten empfängt, und Bilder der
sich ergebenden Interferenzmuster erzeugt. Der Betrieb der
Abbildvorrichtung und der Lichtquelle wird durch einen internen
elektronischen Prozessor gesteuert, der elektronisch sowohl mit
der Abbildvorrichtung als auch der Lichtquelle verbunden ist. Ein
Interferometer mit allen der oben beschriebenen Komponenten des
Hauptrahmens 50 dieses Typs ist im U.S. Patent Nr. 4 594 003 von
Sommargren (dem Sommargren-Patent) offengelegt, dessen relevante
Abschnitte hier ausdrücklich durch Bezug eingebracht werden. Es
ist jedoch zu erkennen, daß das Element, das als ein "Interfero
meter vom Fizeau-Typ" beschrieben ist und durch das Bezugszeichen
25 in dem Sommargren-Patent bezeichnet wird, in der vorliegenden
Erfindung durch das Werkstück W ersetzt wird, indem das Werkstück
W wie bei dem im Sommargren-Patent offengelegten Interferometer
25 vom Fizeau-Typ eine Interferenzaushöhlung definiert, um so
eine ebene Wellenfront aufzunehmen und interferierende Wellen
fronten zurück zur Kollimatorlinse und dann zum Strahlenaufteiler
zu werfen.
Der Umlenkspiegel 52 ist an einer passenden Aufhängung über
dem Drehteller 30 montiert und ist in einem solchen Winkel posi
tioniert, daß- der parallelisierte Strahl von der Kollimatorlinse
in einem Winkel von 90° abgelenkt und direkt nach unten, wie
durch die gestrichelten Linien in Fig. 1 dargestellt wird, und
auf einen Abschnitt des Vlieses 38 geworfen wird, welchen die
Bearbeitungsstationen während des Betriebs des Ringpolierers 22
durchwandern. Der Umlenkspiegel 52 empfängt auch die reflektier
ten Strahlen oder Wellenfronten von den gegenüberliegenden vor
derseitigen und rückseitigen Oberflächen S1 und S2 des Werkstücks
W und lenkt diese Strahlen zurück zu dem GPI-Hauptrahmen 50. Es
ist denkbar, daß der Umlenkspiegel 52 beseitigt wird durch Posi
tionieren des GPI-Hauptrahmens 50 direkt über dem. Drehteller 30.
Jedoch wird die dargestellte und beschriebene Anordnung vorge
zogen, weil ein Umlenkspiegel 52 über dem Drehteller 30 wesent
lich leichter montiert werden kann als ein GPI-Hauptrahmen über
dem Drehteller 30 montiert werden kann.
Das in Fig. 1 schematisch dargestellte Überwachungs-/Steu
erungssystem 28 wurde dazu entworfen, die (durch den Betrieb des
Interferometers 26 erlangten) in-situ-Meßergebnisse zu benutzen
und eine Anzeige des Zustands der Polieroperation vorzusehen
und/oder den Betrieb des Ringpolierers 22 zu steuern. Das Über
wachungs-/Steuerungssystem 28 enthält als Hauptkomponenten einen
Meßdatenprozessor 60, einen Steuerungskommandoprozessor 62, eine
Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64, eine Überwachungs- oder
Anzeigevorrichtung 66 und erste und zweite Eingabevorrichtungen
68 und 70.
Der Meßdatenprozessor 60 ist ein digitaler Allzweckmikro prozessor, der erste und zweite Eingänge und mindestens einen Ausgang hat. Die ersten und zweiten Eingänge nehmen erste und zweite Signale von dem GPI-Hauptrahmen 50 bzw. von der ersten Eingabevorrichtung 68 auf. Das erste Eingabesignal ist reprä sentativ für eine erkannte Veränderung der optischen Dicke des Werkstücks W, wie sie durch das Interferometer 26 gemessen wird. Das zweite Eingabesignal, das über die erste Eingabevorrichtung manuell oder anders eingegeben wird, übergibt Information bezüg lich der Anfangs- und/oder eingeschwungenen Dimensionsparameter des Werkstücks W. Diese Daten können Information vorsehen über 1) das Anfangsprofil der vorderen und/oder hinteren Oberflächen S1 und S2 des Werkstücks W, 2) den Koeffizienten der thermischen Ausdehnung des Werkstücks und/oder der Überwachungsprobe und 3) der Brechungsindexhomogenität des Werkstücks W, u.s.w. Der Meßdatenprozessor 60 kombiniert die ersten und zweiten Signale, um Signale zu erzeugen, die Information über eine oder mehrere dimensionale Charakteristiken des Werkstücks W wie etwa Ober flächentopografie, Dickengleichmäßigkeit, thermische Verformung und deren Schwankungen zu übergeben.
Der Meßdatenprozessor 60 ist ein digitaler Allzweckmikro prozessor, der erste und zweite Eingänge und mindestens einen Ausgang hat. Die ersten und zweiten Eingänge nehmen erste und zweite Signale von dem GPI-Hauptrahmen 50 bzw. von der ersten Eingabevorrichtung 68 auf. Das erste Eingabesignal ist reprä sentativ für eine erkannte Veränderung der optischen Dicke des Werkstücks W, wie sie durch das Interferometer 26 gemessen wird. Das zweite Eingabesignal, das über die erste Eingabevorrichtung manuell oder anders eingegeben wird, übergibt Information bezüg lich der Anfangs- und/oder eingeschwungenen Dimensionsparameter des Werkstücks W. Diese Daten können Information vorsehen über 1) das Anfangsprofil der vorderen und/oder hinteren Oberflächen S1 und S2 des Werkstücks W, 2) den Koeffizienten der thermischen Ausdehnung des Werkstücks und/oder der Überwachungsprobe und 3) der Brechungsindexhomogenität des Werkstücks W, u.s.w. Der Meßdatenprozessor 60 kombiniert die ersten und zweiten Signale, um Signale zu erzeugen, die Information über eine oder mehrere dimensionale Charakteristiken des Werkstücks W wie etwa Ober flächentopografie, Dickengleichmäßigkeit, thermische Verformung und deren Schwankungen zu übergeben.
Der Steuerungskommandoprozessor 62 kann irgendeinen passenden
programmierbaren Prozessor enthalten, der in der Lage ist, Sig
nale von dem Meßdatenprozessor 60 und von der zweiten Eingabevor
richtung 70 aufzunehmen, und diese Signale zu kombinieren, um
Kommandosignale für die Betriebssteuerung des Ringpolierers 22 zu
erzeugen. Die Signale der zweiten Eingabevorrichtung 70 bezeich
nen eine oder mehrere gewünschte dimensionale Charakteristiken
des Werkstücks, wie etwa eine gewünschte optische Dickengleich
mäßigkeit, eine gewünschte Ebenmäßigkeit der bearbeiteten oder
vorderen Oberfläche S1 des Werkstücks W und/oder ein gewünschtes
Profil der endbearbeiteten oder vorderen Oberfläche S1. Der Steu
erungskommandoprozessor 62 kombiniert diese Signale, um ein End
bearbeitungsmaschinenkommandosignal zu erzeugen, und überträgt
dieses Signal zur Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64. Diese
Signale können, falls gewünscht, auch zur Anzeige zur Überwachung
66 geleitet werden.
Die Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64 kann irgendeine
passende Steuerung enthalten, die in der Lage ist, Signale von
dem Steuerungskommandoprozessor 62 zu empfangen, und diese Sig
nale zu benutzen, um den Betrieb einer oder mehrerer Komponenten
des Ringpolierers 22 zu steuern, um die gewünschten dimensionalen
Charakteristiken des Werkstücks W zu erzeugen. Die Ausgabesignale
von der Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64 werden benutzt, die
radiale Position des Abrichtwerkzeugs 34 relativ zum Vlies 38
einzustellen und/oder den Betrieb des Aufschlämmungsversorgungs
systems 36 einzustellen, um die Temperatur oder Flußrate der
Aufschlämmung anzupassen.
Daher benutzt das Überwachungs-/Steuerungssystem 28 die Meß
werte von dem in-situ-Meßsystem 24, um ein oder mehrere dimensio
nale Charakteristiken des Werkstücks W zu messen, und um dann
diese Messungen dazu zu benutzen, den Betrieb des Ringpolierers
22 zu steuern, um eine oder mehrere gewünschte dimensionale Cha
rakteristiken des Werkstücks W zu erreichen. Die Weise, wie diese
Meßwerte ermittelt werden und Beispiele der sich ergebenden Steu
erung werden nun im Detail beschrieben.
Mit Bezug auf Fig. 4 wird während in-situ-Messung ein Strahl
kohärenten Lichts von einem Umlenkspiegel 52 auf das Vlies 38 des
Ringpolierers 22 als eine Vielzahl von Strahlen gerichtet, von
denen zwei schematisch als R1 bzw. R2 dargestellt sind. Wenn
immer die Bearbeitungsstationen in eine Position drehen, in der
ein Werkstück W im Weg des Strahls liegt, wie in Fig. 4 darge
stellt, wird jeder der Strahlen von der vorderer oder Bearbei
tungsoberfläche S1 und der hinteren Oberfläche S2 des zugeord
neten Werkstücks W als erste bzw. zweite Wellenfronten reflek
tiert. Der GPI-Hauptrahmen 50 kombiniert die ersten und zweiten
Wellenfronten, um Fizeau-Interferenzstreifen zu bilden, die eine
Anzeige der Differenz der optischen Wege vorsehen, von denen Δt
unterschieden werden kann. Die kombinierte Intensität der zwei
interferierenden Wellenfronten wird mathematisch durch Gleichung
wobei:
I1 und I2 die Intensitäten der von den Oberflächen S1 und S2 reflektierten Wellenfronten sind;
a1 und a2 die Einheitsvektoren zur Beschreibung der Polarisa tionsrichtung sind; und
Φ1 und Φ2 die Phasen der Wellenfronten sind.
I1 und I2 die Intensitäten der von den Oberflächen S1 und S2 reflektierten Wellenfronten sind;
a1 und a2 die Einheitsvektoren zur Beschreibung der Polarisa tionsrichtung sind; und
Φ1 und Φ2 die Phasen der Wellenfronten sind.
Es kann aus Gleichung 1 erkannt werden, daß die Intensität
der kombinierten Wellenfronten mit der Phasendifferenz
(δ = Φ1-Φ2) der individuellen Wellenfronten schwankt. Wenn die
Phasendifferenz gleich 2mπ ist (wobei m eine ganze Zahl ist),
dann ist die Intensität maximal. Wenn andererseits die Phasen
differenz gleich 2(m+½)π ist, dann ist die Intensität minimal.
Die Phasendifferenz δ kann deshalb als 1) ein zwischen den
Ausbreitungsrichtungen der zwei von den Oberflächen S1 und S2
reflektierten Wellenfronten gebildeter Winkel, 2) der Differenz
der von den zwei Wellenfronten zurückgelegten optischen Wege
(OPD) und 3) der Phasenänderung, die von jeder Wellenfront bei
Reflexion erfahren wird, ausgedrückt werden. Diese Beziehung
wird durch Gleichung 2 ausgedrückt:
wobei:
n der Brechungsindex des Werkstücks ist;
λdie Wellenlänge der interferierenden Wellenfronten ist;
t die geometrische Dicke des Werkstücks ist;
ϑ der zwischen den reflektierten Wellenfronten gebildete Phasenwinkel ist; und
±π der Phasensprung bei Reflexion ist.
n der Brechungsindex des Werkstücks ist;
λdie Wellenlänge der interferierenden Wellenfronten ist;
t die geometrische Dicke des Werkstücks ist;
ϑ der zwischen den reflektierten Wellenfronten gebildete Phasenwinkel ist; und
±π der Phasensprung bei Reflexion ist.
Daher wird eine Phasendifferenz δ der kombinierten Wellen
fronten beobachtet, wenn die optische Dicke des Werkstücks W um
ihren Oberflächenbereich herum schwankt, oder alternativ, wenn
der Winkel zwischen der vorderseitigen Oberfläche S1 und der
rückseitigen Oberfläche S2 des Werkstücks schwankt.
Das Kriterium für die Interferenzstreifen als Funktion des
Keilwinkels zwischen den Werkstückoberflächen S1 und S2 und als
eine Funktion der Schwankung der optischen Dicke des Werkstücks
über seinen Oberflächenbereich kann dann hergestellt werden durch
Einsetzen der Bedingungen der Intensitätsmaxima und -minima unter
Benutzung der folgenden Gleichungen 3 und 4:
wobei:
α der Keilwinkel im Werkstück ist; und
Xm der Abstand zwischen aufeinanderfolgenden Maxima erster Ordnung ist.
Xm der Abstand zwischen aufeinanderfolgenden Maxima erster Ordnung ist.
α = λ/2 ΔX Gleichung 4
wobei ΔX der Abstand ist, der aufeinanderfolgende Maxima (dunkle
Streifen) trennt.
Auf gleiche Weise wird durch Schreiben der Gleichung 2 als
Differenz der optischen Wege (OPD) und durch Einsetzen der
Bedingungen für gleiche Intensität für Maxima und Minima die
folgende Gleichung 5 abgeleitet:
wobei:
tm die Differenz der Werkstückdicke an verschiedenen Maxima ist.
tm die Differenz der Werkstückdicke an verschiedenen Maxima ist.
Deshalb tritt ein Streifen jedesmal auf, wenn die optische
Dicke (nt) des Werkstücks W um ein Vielfaches von λ/2 variiert.
Es gibt drei hauptsächlich beitragende Quellen zum OPD, näm
lich: 1) Höhendifferenzen (Δt1) der vorderen oder Bearbeitungs
oberfläche S1; 2) Höhendifferenzen (Δt2) entlang der hinteren
oder nicht-bearbeiteten Oberfläche S2 und 3) Differenzen in der
Gleichmäßigkeit des Produktbrechungsindex (Δn). Veränderungen der
Dicke (Δt1) des Werkstücks W können angesehen werden als kombi
nierte Veränderungen der Dicke Δt1 der vorderen Oberfläche S1 und
Veränderungen der Dicke Δt2 der hinteren Oberfläche S2. Verände
rungen beim Brechungsindex können als Δn beschrieben werden. Die
Doppelwegdifferenz des optischen Weges (OPD) der zwei Strahlen R1
und R2 von Fig. 4 kann deshalb durch Fizeau-Interferenz wie folgt
charakterisiert werden:
Fizeau-OPD = 2 (nΔt1 + nΔt2 + Δnt) Gleichung 6.
Die Fizeau-OPD kann manuell oder automatisch aus den Inter
ferometer-Meßwerten berechnet werden und ist daher ein bekannter
Faktor. Wenn irgendwelche zwei der drei Teile des Summations
abschnitts der Gleichung 6 bekannt sind, kann daher die Gleichung
6 umgeschrieben werden, um für den dritten Teil aufgelöst zu
sein, und dadurch wird die Messung einer dimensionalen Charak
teristik ermöglicht (angenommen, daß eine Messung außer der
Veränderung in der optischen Dicke gewünscht ist) und daß es
deshalb notwendig ist, die Gleichung 6 zu benutzen.
Z.B. im Fall einer typischen Polieroperation, in der die vor
dere Oberfläche S1 des Werkstücks W zu einer unbekannten Eben
mäßigkeit poliert oder anderweitig bearbeitet wird, kann der
Brechungsindex n, die Schwankung des Brechungsindexes Δn und die
Schwankung der Ebenmäßigkeit der hinteren Oberfläche S2 des Werk
stücks W im Voraus unter Benutzung eines separaten Interferome
ters ermittelt und in der ersten Eingabevorrichtung 68 des Steu
erungs-/Überwachungssystems 28 als Startbedingung für das Werk
stück W eingespeichert werden.
Die unbekannte Ebenmäßigkeit der vorderen Oberfläche S1 kann
nach Gleichung 7 bestimmt werden.
Δt1 = 2[(nΔt1 + nΔt2 + Δnt) - (nΔt2 + Δnt)]/2n Gleichung 7.
Gleichung 7 zeigt an, daß der Fizeau-OPD-Fehler minus der im
Voraus bestimmten Beiträge des Ebenmäßigkeitsfehlers der hinteren
Oberfläche und der Brechungsindexinhomogenität um den Faktor n
größer als der Ebenmäßigkeitsfehler der vorderen Oberfläche ist.
Da für die meisten Materialien n beträchtlich ist, erlaubt die
sich ergebende Fehlervergrößerung eine relativ hohe Auflösung.
Z.B. für ein aus Quarzglas konstruiertes Werkstückmaterial
entspricht 1/10 Welle des Fizeau-OPD-Fehlers einer 1/14,6 Welle
des Ebenmäßigkeitsfehlers.
Wie durch Gleichung 5 beschrieben, erscheinen klar definierte
Streifen nur dann, wenn eine Dickenschwankung von mindestens λ/2
auftritt. Wenn diese Dickenschwankung nur aufgrund eines globalen
Keilwinkels zwischen den zwei Oberflächen des Werkstücks auf
tritt, erscheint ein gerader Streifen für jedes Vielfache einer
λ/2-Dickenänderung. Wenn die Dickenschwankung sowohl aufgrund von
Keil- und Oberflächen- oder Brechungsindexschwankungen besteht,
erscheinen die Streifen gekrümmt oder anderweitig irregulär. Die
Geradlinigkeit der beobachteten Interferenzstreifen kann deshalb
als Anzeichen von Dickenschwankungen angesehen werden, und die
Anzahl der in einem bestimmten Bereich erscheinenden Streifen
kann zur Bestimmung der Größe des Keilwinkels herangezogen
werden. Eine Irregularität der Dickenschwankungen kann deshalb in
eine "Ebenmäßigkeits"-Messung gewandelt werden durch Lokalisieren
der Streifenmitten und Ablage von Datenpunkten auf den Streifen.
Die Datenpunkte können dann interpoliert werden, um eine Ober
flächenkarte zu konstruieren, die den Ebenmäßigkeitsfehler
anzeigt. Falls jedoch die vordere und die hintere Oberflächen
vollkommen parallel verlaufen, gibt es keinen Keilwinkel und
keine klar definierten Streifen. Statt dessen ist eine irreguläre
Intensitätsverteilung in den Bereichen sichtbar, in denen Dicken
veränderungen auftreten. Diese irreguläre Intensitätsverteilung
kann schwierig zu interpretieren sein. Selbst wenn ein Keilwinkel
existiert, hängt ferner die Zahl der Datenpunkte, die aufgetragen
werden können, und daher die Präzision der Oberflächeninterpola
tion von der Anzahl der Streifen und daher von der Größe des
Keilwinkels ab. Falls der Keilwinkel zu groß ist, wird der Strei
fenabstand zu klein und die Streifen sind nicht auflösbar. Die
Erfordernis eines Keilwinkels von einer bestimmten Größe zwischen
der vorderen und der hinteren Oberflächen S1 und S2 des Werk
stücks könnte sehr einschränkend für den Prozeß sein.
Deshalb und nach einer besonders bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung benutzt ein alternatives Verfahren für die Berech
nung der Fizeau-OPD eine Phasenmodulationsinterferometrie (PMI),
manchmal als Phasenverschiebungsinterferometrie bekannt (PSI). In
der PMI wird die Phasendifferenz zwischen Licht, das an zwei
Bildpunkten einer Abbildvorrichtung empfangen wird, dazu benutzt,
eine Höhendifferenz zwischen zwei Stellen auf der Testoberfläche
zu bestimmen, die den zwei Bildpunkten entsprechen. Phasenmodu
lation oder Phasenverschiebung wird gewöhnlich erreicht durch
Verändern des optischen Weges des Testlichtstrahls im Zwischen
raum zwischen den zwei Oberflächen, welche die Grenzen der Inter
ferenzaushöhlung während der Datenermittlung bilden. Jedoch ist
es im vorliegenden Fall unmöglich, die Abstände zwischen den
Grenzflächen der Interferenzaushöhlung zu verändern, weil die
Interferenzaushöhlung durch die gegenüberliegenden vorderen und
hinteren Oberflächen S1 und S2 des Werkstücks W definiert ist,
und weil die Oberflächen S1 und S2 relativ zu einander nicht
dynamisch bewegt werden können. Jedoch ist es auch möglich die
Phase durch Modulation der Wellenlänge der Lichtquelle zu modu
lieren, um einen gleichwertigen Effekt zu erzeugen. Phasenmodu
lation durch Lichtquellenwellenlängenmodulation ist in dem
Sommargren-Patent offengelegt, das, wie oben bereits diskutiert,
hier durch Bezug einbezogen wird.
Angenommen, daß 1) ein Ebenmäßigkeitsfehler in der hinteren
oder nicht-bearbeiteten Oberfläche S2 des Werkstücks W nicht
vorhanden ist oder bekannt ist und daher aus den analysierten
Interferenzmustern entfernt werden kann, und daß 2) Schwankungen
im Brechungsindex des Werkstücks nicht vorhanden oder bekannt
sind und daher aus den analysierten Interferenzmustern entfernt
werden können, können Interferometermessungen ein Abbild der
Bearbeitungsoberfläche in situ liefern, d. h. während es einem
Polier oder anderweitigem Endbearbeitungsprozeß unterworfen ist.
Es ist deshalb möglich, die Änderungen im Fizeau-OPD zu beobach
ten und zu berechnen und die korrespondierenden Änderungen im
Profil der vorderen Werkstückoberfläche S1 zu beobachten, während
es bearbeitet wird. Spezifisch werden die beobachteten Interfe
renzstreifen in einem geringfügig keilförmigen Werkstück paralle
ler beim Polieren der vorderen oder Bearbeitungsoberfläche S1,
und sie werden geradliniger während eine Konvexe oder Konkave
Bearbeitungsfläche S1 ebenmäßiger wird. Bei einem perfekt paral
lelen Werkstück mit weniger als λ/2 maximaler Schwankung der
Dicke, wird das Interferenzmuster einfach zu einer gleichmäßigen
Intensität. Interferogramme, die unter Benutzung dieser Technik
und während des Polierens eines Werkstücks W auf dem Ringpolierer
22 ermittelt wurden, sind schematisch in Fig. 5A bis 5H darge
stellt. Fig. 5A stellt dar, daß die beobachteten Interferenz
streifen FA zu Beginn des Prozesses ein extrem irreguläres Muster
abgeben, in dem sie stark gekrümmt und in hohem Maß nicht-paral
lel sind. Dieses Muster gibt eine irregulär gekrümmte Oberfläche
wieder. Die Interferogramme von Fig. 5B bis 5F (ermittelt jeweils
nach 10 Minuten, 30 Minuten, 60 Minuten, 90 Minuten und 100 Minu
ten im Polierprozeß) veranschaulichen, daß die vordere Oberfläche
S1 beim Polieren glatter und ebenmäßiger wird, und die beobach
teten Interferenzstreifen FB bis FF werden Paralleler und gerad
liniger. Fig. 5G, ungefähr nach 105 Minuten im Polierprozeß
ermittelt, veranschaulicht ein Interferenzmuster, bei dem die
beobachteten Interferenzstreifen FG nahezu perfekt parallel und
perfekt geradlinig sind, und daher anzeigen, daß die Bearbei
tungsoberfläche S1 des Werkstücks W sehr glatt und sehr ebenmäßig
ist. Fig. 5H stellt ein Interferogramm dar, das nach 110 Minuten
im Endbearbeitungsprozeß ermittelt wurde, nur fünf Minuten nach
dem das Interferogramm von 5G ermittelt wurde. Die gekrümmten
Interferenzstreifen FH dieser Zeichnung veranschaulichen eine
Situation, bei der eine Aushöhlung oder Ausbauchung des Vlieses
38 des Ringpolierers 22 verursacht hat, daß die vordere oder
Bearbeitungsoberfläche S1 des Werkstücks W über das gewünschte
ebene Profil hinausgeschossen ist und ein Konkaves oder konvexes
Profil angenommen hat. Ein Betriebsparameter des Ringpolierers 22
(wie etwa die Position des Abrichtwerkzeugs 34) ist nun anzu
passen, um den Fehler zu korrigieren.
Ein Vergleich des Interferogramms von Fig. 5G mit dem Inter
ferogramm von Fig. 5H veranschaulicht, daß die Zeitspanne, wäh
rend der ein Werkstück W ein gewünschtes Profil zeigt, sehr kurz
sein kann. Diese Zeitspanne hängt von der Stabilität der Endbear
beitungsumgebung ab. Dies ist ein Grund dafür, daß eine große
Anzahl von Messungs- und Einstellungsiterationen im konventionel
len Polierprozeß verlangt werden. Spezifisch für den konventio
nellen Prozeß ist, daß zum Zeitpunkt, zu dem ein Bediener ein
Werkstück mit einem geringfügig konkaven Profil zum Testen ent
fernt, darauf wartet, daß das Werkstück dimensionalen Ausgleichs
zustand erreicht und eine Profilmessung durchführt, die Profile
der Bearbeitungsflächen der verbleibenden Werkstücke überkorri
giert worden sind, so daß sie nun Konvex sind. Der Bediener, der
sich dieser Profiländerung nicht bewußt ist, würde die Position
des Abrichtwerkzeugs 34 anpassen, um die Ausbauchung der Bear
beitungsoberfläche S1 der Werkstücke zu erhöhen, und dadurch wird
das Problem verschärft. Dieser Fehler würde nicht erkannt werden,
bevor die nächste Messung bis zu drei Stunden später durchgeführt
wird. Zusätzliche Iterationen oder Nachlaufen würde daher erfor
derlich sein, um das Problem zu korrigieren. Dieses Nachlaufen
wird durch die vorliegende Erfindung vermieden oder mindestens
wesentlich verringert, weil der Bediener eine sofortige Anzeige
des vorherrschenden Profils des Werkstücks W während des Polie
rens erhält, so daß er das Werkstück vom Ringpolierer 22 zu
richtigen Zeit abnehmen kann.
In-situ-Meßtechnik wurde bisher hauptsächlich in Verbindung
mit Test auf Ebenmäßigkeit diskutiert. Jedoch ist es häufig wün
schenswert, andere Messungen von dem Fizeau-OPD-Daten abzuleiten.
Eine solcher Messungen ist Fehler der übertragenen Wellenfront
(TWE, transmitted wavefront error). TWE-Auswertung ist in einigen
Fällen wünschenswert, weil die Beziehung zwischen Fizeau-OPD und
TWE eine größere Empfindlichkeit aufweist als die Beziehung zwi
schen Fizeau-OPD und Ebenmäßigkeitsfehler. Falls Schwankungen im
Brechungsindex eines Werkstücks vernachlässigbar oder bekannt
sind und elektronisch aus den OPD-Daten herausgerechnet werden
können, dann kann TWE zu Fizeau-OPD wie folgt in Beziehung
gesetzt werden:
Ersetzen von OPD durch ihre Bestandteile, wie oben in Verbin
dung mit Gleichung 6 diskutiert, und Ergänzen der Wirkung der
Brechungsindexinhomogenität ergibt die folgende Gleichung:
TWE = 2((n-1)Δt1 + Δnt + (n-1) Δt2) Gleichung 9.
Nachdem die Bearbeitungsoberflächenebenmäßigkeitsdaten (Glei
chung 7) oder TWE-Daten (Gleichung 9) durch den Meßdatenprozessor 60
ermittelt worden sind, können die Daten auf der Überwachungs
anzeige 66 angezeigt werden und/oder an den Steuerungskommando
prozessor 62 übertragen werden, um zu bewirken, daß die Endbear
beitungsmaschinensteuerung 64 den Betrieb des Ringpolierers 22 in
einer geschlossenen Schleife beibehält oder anpaßt, um eine
gewünschte Endbearbeitung der vorderen Oberfläche S1 des Werk
stücks W zu erreichen. Ein bevorzugter Prozeß für diese Technik
wird nun in Verbindung mit dem Prozeß 100 vom Flußdiagramm von
Fig. 6 beschrieben.
Der Prozeß 100 verzweigt von Start in Schritt 102 zu Schritt
104, in dem der Bediener anfängliche Werkstückcharakteristiken
unter Benutzung der ersten Eingabevorrichtung 68 von Fig. 3
eingibt. Diese Charakteristiken können z. B. Informationen ent
halten über das Profil der hinteren oder nicht-bearbeiteten Ober
fläche S2 des Werkstücks W und/oder den Brechungsindex des Werk
stücks W. Dann gibt der Bediener in Schritt 106 eine gewünschte
dimensionale Charakteristik des Werkstücks W unter Benutzung der
zweiten Eingabevorrichtung 70 ein. Diese Charakteristik könnte
die maximal zulässige Fizeau-OPD sein, oder könnte im Fall einer
Oberflächenpolieroperation ein gewünschtes poliertes Oberflächen
profil und/oder eine polierte Oberflächenebenmäßigkeit sein.
Dann werden in Schritt 108 OPD-Daten unter Benutzung des
Interferometers 26 ermittelt, und in Schritt 110 wird die Größe
der interessierenden dimensionalen Charakteristik(en) durch den
Meßdatenprozessor 60 bestimmt. Die dimensionale Charakteris
tik(en) können z. B. die Werkstückdickengleichmäßigkeit oder das
Oberflächenprofil der Bearbeitungsoberfläche S1 sein. Diese
Information und/oder daraus abgeleitete Information kann auf
Wunsch an der Überwachungsanzeige 66 dargestellt werden. Als
nächstes vergleicht der Steuerungskommandoprozessor 62 in Schritt 112
die gemessenen Werte der interessierenden Oberflächencharak
teristik(en) mit einem gewünschten oder optimalen Wert der
Charakteristik(en) und bestimmt, ob Anpassungen erforderlich sind
oder nicht. Die Ergebnisse dieser Bestimmung können auf der Über
wachungsanzeige 66 angezeigt werden und/oder in Schritt 114 zur
Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64 als ein Kommandosignal zur
Steuerung des Ringpoliererbetriebs übertragen werden. Bei Abwe
senheit einer Aufschlämmungstemperatursteuerung (im Detail in
Abschnitt 4 unten dargestellt) ist die Maschinensteuerung gewöhn
lich auf die Veränderung der radialen Position des Abrichtwerk
zeugs 34 relativ zum Vlies 38 des Ringpolierers 22 begrenzt.
Daher wird der Steuerungskommandoprozessor 62 in Schritt 114 die
Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64 steuern, um das Abrichtwerk
zeug 34 ein- oder auszufahren, um die Aushöhlung des Vlieses 38
zu vergrößern oder zu verringern. Der Prozeß kehrt dann zu
Schritt 108 zurück, und die Schritte 108, 110, 112 und 114 werden
in einer geschlossenen Schleife wiederholt, bis der Steuerungs
kommandoprozessor 62 in Schritt 112 bestimmt, daß die aktuellen
Charakteristik(en) (z. B. Bearbeitungsoberflächenprofil) gleich
den gewünschten Charakteristik(en) ist, und an diesem Punkt wird
in Schritt 116 ein Signal an die Überwachungsanzeige 66 abge
geben, um ein passendes Audio- oder Videosignal zur Bezeichnung
des Abschlusses des Endbearbeitungsprozesses zu erzeugen. Der
Prozeß verzweigt dann zu Ende in Schritt 118.
In situ ermittelte OPD-Daten können auch dazu benutzt werden,
um Anzeigen über andere Charakteristiken des Werkstücks in End
bearbeitung zu erlangen. Eine solche Charakteristik, das Tempera
turdifferential, wird nun diskutiert.
Bis zu diesem Punkt betraf die Diskussion der Ringpolierer
steuerung die Steuerung des Abrichtwerkzeugs 34. Jedoch ist es
auch wünschenswert, den Betrieb des Ringpolierers 22 anzupassen,
um so die thermische Verwerfung des Werkstücks während des
Polierprozesses zu beseitigen (oder mindestens zu kompensieren)
Die beim schleifenden Kontakt mit der mit Schleifkörpern belad
enen Aufschlämmung während des Polierprozesses erzeugte Reibung
erhitzt das Werkstück W, so daß es eine Temperaturdifferenz zwi
schen seiner vorderen oder Bearbeitungsoberfläche S1 und seiner
hinteren Oberfläche S2. Der sich daraus ergebende Temperatur
gradient über die Dicke des Werkstücks bewirkt eine Verwerfung,
so daß beide Oberflächen S1 und S2 sich sphärisch verformen, wie
in Fig. 7 veranschaulicht. Die Größe δ1 oder δ2 dieser Verformung
ist gleich an beiden Oberflächen S1 und S2 (und kann daher als
ein einziger Wert &T betrachtet werden) und hängt direkt von der
Größe des Temperaturgradienten ab. Es wäre vorteilhaft, das Tem
peraturdifferential ΔT zwischen den vorderen und hinteren Ober
flächen S1 und S2 so genau wie möglich zu messen (vorzugsweise
bis auf ein Hundertstel eines Grades oder noch genauer), um ihn
während des Polierprozesses zu beseitigen oder mindestens zu
kompensieren. Es wurde entdeckt, daß dieses Temperaturdifferen
tial mit einem hohen Grad an Präzision unter Benutzung der oben
beschriebenen OPD-Messungen ermittelt werden kann.
Angenommen z. B., die Oberflächen S1 und S2 des Werkstücks W
haben eine ebene, kreisförmige Gestalt, dann ist die-thermische
Verformung jeder Oberfläche sphärisch, so daß die h heißere vordere
Oberfläche S1 mit zunehmender Temperatur zunehmend konvexer wird,
und die kältere hintere Oberfläche S2 zunehmend konkaver wird. In
Abwesenheit externer Kräfte, welche die thermische Verformung in
Grenzen halten würde, kann die Ausbuchtung der Verformung durch
die folgende Gleichung beschrieben werden:
wobei:
δT die maximale Größe der Verformung des Werkstücks oder der Ausbuchtung über eine unendliche Ebene der Dicke t und über den Durchmesser L ist;
α der thermische Ausdehnungskoeffizient ist; und
ΔT das axiale thermische Differential zwischen den vorderen und hinteren Oberflächen des Werkstücks ist.
δT die maximale Größe der Verformung des Werkstücks oder der Ausbuchtung über eine unendliche Ebene der Dicke t und über den Durchmesser L ist;
α der thermische Ausdehnungskoeffizient ist; und
ΔT das axiale thermische Differential zwischen den vorderen und hinteren Oberflächen des Werkstücks ist.
Das Werkstück wird sich gleichmäßig über seine Dicke t ver
formen, wenn die Wärmeübertragung über seinen Oberflächenbereich
gleichmäßig ist. So wird, wie in Fig. A zu sehen ist, ein an
irgendeiner Menge von Punkten auf das Werkstück einfallender
Lichtstrahl keine Differenz der optischen Wegelänge erfahren. Das
beobachtete Fizeau-OPD bleibt deshalb unverändert, während sich
das Werkstück W wegen eine Temperaturdifferentials über seine
Dicke verformt.
Während jedoch die vordere Oberfläche S1 des Werkstücks W
wegen der thermischen Verformung konvexer wird, konzentriert die
konvexe Oberfläche S1 die Kraft seiner Masse auf den Scheitel
punkt A, wie in Fig. 8B zu sehen ist. Prestons Gleichung sagt
aus, daß die Rate der Materialabtragung von irgendeinem Punkt der
Oberfläche des Werkstücks direkt proportional zu der an diesem
Punkt wirkenden Kraft (Druck) P und Geschwindigkeit V ist:
wobei:
dh/dt die Rate der Materialabtragung an einen bestimmten Punkt pro Zeiteinheit ist;
C die Proportionalitätskonstante des Werkstücks ist;
P der lokale Druck ist; und
V die Geschwindigkeit der Werkstückbewegung bezüglich des Vlieses ist.
dh/dt die Rate der Materialabtragung an einen bestimmten Punkt pro Zeiteinheit ist;
C die Proportionalitätskonstante des Werkstücks ist;
P der lokale Druck ist; und
V die Geschwindigkeit der Werkstückbewegung bezüglich des Vlieses ist.
Deshalb wird sich die Ebenmäßigkeit der polierten Oberfläche
S1 des Werkstücks W infolge des Polierens in einem deformierten
Zustand zu verändern beginnen. Diese Veränderung wird veranschau
licht durch ein Abflachen des zentralen Abschnitts der Werkstück
oberfläche S1 und kann als eine Veränderung in der OPD beobachtet
werden, wie sie durch das in-situ-Meßsystem gemessen wird (ver
gleiche Fig. 9A mit Fig. 8A).
Während die konvexe Bearbeitungsoberfläche S1 des Werkstücks
W fortgesetzt poliert wird, wird die Ausbauchung der Oberfläche
S1 weggetragen werden bis die Oberfläche S1 wieder ebenmäßig
bezüglich des Poliervlieses ist, wie in Fig. 10B veranschaulicht,
zu welchem Zeitpunkt die Rate der Materialabtragung wieder
gleichmäßig über die gesamte Oberfläche S1 wird. Eine erkennbare
OPD liegt nun vor, wie durch Fig. 10A gezeigt wird. Zu diesem
Zeitpunkt bilden die Fizeau-OPD-Messungen, die eine Differenz der
Dicke zwischen der nun flachen vorderen Oberfläche S1 des Werk
stücks W und der immer noch konkaven hinteren Oberfläche S2
repräsentieren, ein direktes Maß für die Ausbuchtung ΔT.
Gewöhnlich ist es notwendig zu bestimmen, ob die beobachtete
Differenz der Dicke lediglich durch das Temperaturdifferential
zwischen den vorderen und hinteren Oberflächen S1 und S2 herbei
geführt wird, oder ob ein Teil der Dickenveränderung von einem
nicht ebenen Vlies herrührt. Diese Bestimmung kann getroffen
werden durch Vergleich der gemessenen Ebenmäßigkeit einer
getrennten Überwachungsprobe, die vorzugsweise zusammen mit dem
wirklichen Werkstück bearbeitet wird und daher dieselbe, von
einem nicht-ebenen Vlies stammende Dickenveränderung wie das
wirkliche Werkstück aufweist. Angenommen, die Überwachungsprobe
wurde aus einem thermisch unempfindlichen Material hergestellt
und weist deshalb die gegenwärtig vom Vlies produzierte Ober
flächenebenmäßigkeit aus, kann man jede Differenz δT in Ober
flächenebenmäßigkeit des wirklichen Werkstücks und der Über
wachungsprobe auf die thermische Verformung des wirklichen Werk
stücks schieben. Die Kenntnis kann dann dazu benutzt werden,
entweder ΔT zu berechnen und die Aufschlämmungstemperatur anzu
passen, um ΔT zu beseitigen oder ΔT mindestens auf einen akzep
tablen Wert abzusenken, oder einfach die Aufschlämmungstemperatur
auf einen gewissen Wert einzustellen und das Polieren fortzuset
zen, bis die gewünschte dimensionale Charakteristik des wirk
lichen Werkstücks erreicht ist.
Sobald δT bekannt ist, kann das Temperaturdifferential ΔT
durch Auflösen der Gleichung 10 für die folgende Gleichung 12
bestimmt werden:
Sobald die Temperaturdifferenz bekannt ist, können Messungen
unternommen werden, um den Polierbetrieb anzupassen, um so die
Temperaturdifferenz zu beseitigen oder sie mindestens zu kompen
sieren. In dem dargestellten Beispiel, in dem die Polieroperation
durch den Ringpolierer 22 mit einem Aufschlämmungsversorgungs
system 36 mit einer Aufschlämmungstemperatursteuerung durch
geführt wird, können die OPD-Messungen benutzt werden in einer
Steuerung mit geschlossener Schleife des Erhitzers/Kühlers 44 des
Aufschlämmungsversorgungssystems 36.
Mit Bezug auf das Flußdiagramm von Fig. 11, verzweigt ein
bevorzugter Prozeß 150 zum Erreichen dieser Ergebnisse von Start
in Schritt 152 zu Schritt 154, in dem OPD-Daten ermittelt werden.
Die Temperaturdifferenz ΔT zwischen der vorderen oder Bearbei
tungsoberfläche S1 und der hinteren Oberfläche S2 wird dann durch
den Meßdatenprozessor 60 unter Benutzung der oben beschriebenen
Technik ermittelt. Die Größe von ΔT kann nach Wunsch auf der
Datenanzeige 66 dargestellt werden. Dann bestimmt der Steu
erungskommandoprozessor 62 in Schritt 158, ob die Größe von ΔT
ausreichen groß ist, daß eine Anpassung der Aufschlämmungstem
peratur entweder nach oben oder nach unten angezeigt ist oder
nicht. Falls eine Anpassung angezeigt ist, verzweigt der Prozeß
zu Schnitt 160, in dem der Steuerungskommandoprozessor 62
bewirkt, daß die Endbearbeitungsmaschinensteuerung 64 ein Aus
gabesignal an das Aufschlämmungsversorgungssystem 36 ausgibt, um
so die Temperatur der über das Vlies 38 zirkulierenden Aufschläm
mung zu erhöhen oder zu verringern. Der Prozeß 150 kehrt dann zu
Schritt 154 zurück, in dem zusätzliche OPD-Messungen durchgeführt
werden.
Der Prozeß 150 durchläuft dann die Schritte 154, 156 und 158
in einer iterativen Art, bis ΔT beseitigt oder mindestens auf
Werte innerhalb akzeptabler Bereiche gebracht ist, zu welchem
Zeitpunkt der Prozeß zu Schritt 162 verzweigt, in dem der Steu
erungskommandoprozessor 62 die Endbearbeitungsmaschinensteuerung
64 veranlaßt, das Aufschlämmungsversorgungssystem 36 dazu zu
bringen, die Aufschlämmung auf ihrer gegenwärtigen Temperatur zu
halten. Der Prozeß 150 kehrt dann zu Start (in Schritt 152)
zurück und wird wiederholt solange wie der Polierbetrieb
andauert.
Viele Veränderungen und Modifikationen können an der Erfin
dung gemacht werden ohne von ihrem Geist abzuweichen. Z.B. ist
die Erfindung, wie oben ausgesagt, auf eine Vielzahl von Ober
flächenendbearbeitungsoperationen zusätzlich zu den oben
beschriebenen Polieroperationen angewendet werden. Verschiedene
Überwachungs- und Steuerungsschemata können auch zusätzlich zu
oder an Stelle von den oben beschriebenen benutzt werden. Obwohl
in-situ-Meßtechnik beschrieben wurde, daß sie stattfindet ohne
den Endbearbeitungsprozeß zu unterbrechen, kann beispielsweise
die Drehung des Drehtellers während der Interferogrammerstellung
unterbrochen werden, (aber es besteht immer noch nicht die Not
wendigkeit, das Werkstück W vom Vlies 38 zu entfernen). Der
Umfang dieser Veränderungen wird aus den angehängten Ansprüchen
erkenntlich werden.
Claims (34)
1. Verfahren zur Endbearbeitung eines Werkstücks, das enthält:
- (A) Aussetzen mindestens einer Bearbeitungsoberfläche des Werkstücks einem Endbearbeitungsprozeß in einer Endbearbeitungs maschine; und
- (B) Messen einer dimensionalen Charakteristik während des Ablaufs des Endbearbeitungsprozesses, wobei der Meßschritt ein Interferometer benutzt und durchgeführt wird, während das Werk stück sich auf der Endbearbeitungsmaschine befindet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner enthält: Anpassen min
destens eines Parameters des Endbearbeitungsprozesses in Reaktion
auf den Meßschritt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, das ferner in Reaktion auf den Meß
schritt enthält: Bestimmen, daß das Werkstück eine gewünschte
dimensionale Charakteristik aufweist, und wobei
der Anpassungsschritt das Beenden der Endbearbeitungsopera
tion enthält, nachdem bestimmt wurde, daß das Werkstück die
gewünschte Charakteristik aufweist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die gewünschte Charakteristik
ein gewünschtes, endbearbeitetes Oberflächenprofil ist.
5. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die gewünschte Charakteristik
eine gewünschte Gleichmäßigkeit der Dicke ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Meßschritt enthält:
Messen der Schwankungen der optischen Dicke des Werkstücks.
7. Verfahren nach Anspruch 6, das ferner enthält: Ermitteln eines
Anzeichens des Profils der Bearbeitungsoberfläche aus der
Messung.
8. Verfahren nach Anspruch 2, wobei der Anpassungsschritt ent
hält: eine Einrichtungsoperation der Endbearbeitungsmaschine, um
zu bewirken, daß eine aktuelle dimensionale Charakteristik des
Werkstücks sich einer gewünschten dimensionalen Charakteristik
annähert.
9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei die gewünschte dimensionalen
Charakteristik ein gewünschtes Oberflächenprofil ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8, wobei
die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer ist, und der Ringpolierer einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, und ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug enthält, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern, und wobei
der Anpassungsschritt enthält: Verändern der Position des Abrichtwerkzeugs in radialer Richtung relativ zu dem Drehteller, um das Profil des Vlieses zu verändern.
die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer ist, und der Ringpolierer einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, und ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug enthält, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern, und wobei
der Anpassungsschritt enthält: Verändern der Position des Abrichtwerkzeugs in radialer Richtung relativ zu dem Drehteller, um das Profil des Vlieses zu verändern.
11. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner enthält: (1) Ermitteln
eines Anzeichens von thermischer Verformung des Werkstücks unter
Benutzung der Ergebnisse des Meßschritts und (2) Bestimmen einer
Temperaturdifferenz über das Werkstück.
12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der Schritt des Ermittelns
eines Anzeichens von thermischer Verformung enthält:
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke, des Werkstücks,
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke einer thermisch unempfindlichen Überwachungsprobe, die durch die Endbearbeitungsmaschine endbearbeitet wird, und
Zuordnen einer erkannten Differenz der Dicken zwischen dem Werkstück und der Überwachungsprobe zur thermischen Verformung des Werkstücks.
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke, des Werkstücks,
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke einer thermisch unempfindlichen Überwachungsprobe, die durch die Endbearbeitungsmaschine endbearbeitet wird, und
Zuordnen einer erkannten Differenz der Dicken zwischen dem Werkstück und der Überwachungsprobe zur thermischen Verformung des Werkstücks.
13. Verfahren nach Anspruch 11, das ferner enthält: Verändern der
Temperatur einer durch die Endbearbeitungsmaschine zirkulierenden
Aufschlämmung, falls ein Temperaturdifferential als Ergebnis des
Bestimmungsschritts erkannt wurde.
14. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Meßschritt durchgeführt
wird, während die Bearbeitungsoberfläche des Werkstücks gerade
durch die Endbearbeitungsmaschine endbearbeitet wird.
15. Verfahren zur Endbearbeitung eines Werkstücks, das enthält:
- (A) Aussetzen mindestens einer Oberfläche des Werkstücks einem Endbearbeitungsprozeß in einer Endbearbeitungsmaschine; und
- (B) während des Endbearbeitungsprozesses:
- (1) Messen einer optischen Dicke des Werkstücks unter Benutzung eines Interferometers, wobei der Meßschritt durch geführt wird, während das Werkstück sich auf der Endbearbei tungsmaschine befindet,
- (2) Ermitteln eines Anzeichens einer gewünschten dimen sionalen Charakteristik aus den Messungen,
- (3) Bestimmen, ob der aktuelle Wert der bezeichneten Charakteristik sich von einem gewünschten Wert der bezeich neten Charakteristik unterscheidet,
- (4) Anpassen mindestens eines Parameters des Endbearbei tungsprozesses, um zu bewirken, daß der aktuelle Wert der bezeichneten Charakteristik sich dem gewünschten Wert annähert, und
- (5) Wiederholen der Schritte (1) bis (4) nacheinander, bis der aktuelle Wert der bezeichneten Charakteristik min destens im Wesentlichen gleich dem gewünschten Wert ist.
16. Verfahren zur Endbearbeitung eines Werkstücks, das enthält:
- (A) Polieren einer ersten Oberfläche des Werkstücks in einem Ringpolierer mit einem rotierenden Drehteller, einem auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, und einem-rotierenden, von dem Vlies getragenen Abrichtwerkzeug, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern; und
- (B) während das Werkstück poliert wird:
- (1) Aussenden eines Strahls kohärenter Strahlung in das Werkstück, um so erste und zweite reflektierte Strahlen von der ersten Oberfläche des Werkstücks und einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche des Werk stücks zu erzeugen,
- (2) Kombinieren der ersten und zweiten, reflektierten Strahlen, um ein Interferenzmuster zu bilden, das als ein Meßwert einer optischen Dicke des Werkstücks dient,
- (3) Bestimmen eines Anzeichens des aktuellen Profils der ersten Oberfläche des Werkstücks aus den Messungen,
- (4) Bestimmen, ob das aktuelle Profil sich von einem gewünschten Profil unterscheidet,
- (5) Anpassen der radialen Position des Abrichtwerkzeugs relativ zu dem Drehteller, um das Profil des Vlieses anzu passen, damit bewirkt wird, daß das aktuelle Profil der ersten Oberfläche sich dem gewünschten Profil annähert, und
- (6) Wiederholen der Schritte (1) bis (5) nacheinander, bis das aktuelle Profil der ersten Oberfläche im Wesentlichen gleich dem gewünschten Profil ist.
17. Verfahren nach Anspruch 15, wobei der Anpassungsschritt auto
matisch durchgeführt wird.
18. Verfahren nach Anspruch 16, das ferner enthält: 1) Ermitteln
eines Anzeichens von thermischer Verformung des Werkstücks auf
grund der Ergebnisse des Kombinationsschritts und 2) Bestimmen
einer Temperaturdifferenz zwischen den ersten und zweiten Ober
flächen des Werkstücks, und wobei der Anpassungsschritt enthält:
Anpassen der Temperatur einer Aufschlämmung, die durch den Ring
polierer zirkuliert.
19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei der Schritt zum Ermitteln
eines Anzeichens von thermischer Verformung des Werkstücks
enthält:
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke des Werkstücks,
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke des Werkstücks,
Ermitteln eines Anzeichens einer Gesamtdifferenz der Dicke
einer thermisch unempfindlichen Überwachungsprobe, die durch die
Endbearbeitungsmaschine endbearbeitet wird, und
Zuordnen einer erkannten Differenz der Dicken zwischen dem
Werkstück und der Überwachungsprobe zur thermischen Verformung
des Werkstücks.
20. System, das enthält:
- (A) eine Endbearbeitungsmaschine mit einer Bearbeitungssta tion für die Aufnahme eines Werkstücks, das einer Endbearbei tungsoperation ausgesetzt werden soll; und
- (B) ein Interferometer, das bezüglich der Bearbeitungsstation so positioniert ist, daß eine in-situ-Meßtechnik an dem Werkstück durchgeführt werden kann, welches sich in der Bearbeitungsstation befindet.
21. System nach Anspruch 20, das ferner enthält: eine Steuerung,
die mit dem Interferometer automatisch gekoppelt ist, und die ein
Ausgabesignal als Reaktion auf den Betrieb des Interferometers
erzeugt.
22. System nach Anspruch 21, wobei das Ausgabesignal ein von
Menschen unterscheidbares Signal ist, das bezeichnend für eine
dimensionale Charakteristik des Werkstücks ist.
23. System nach Anspruch 21, wobei das Ausgabesignal ein Steu
erungssignal ist, das mindestens einen Betriebsparameter der
Endbearbeitungsmaschine steuert.
24. System nach Anspruch 23, wobei
die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer ist, und der Ringpolierer einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, und ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug enthält, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern, und wobei
die Steuerung elektronisch mit dem Abrichtwerkzeug verbunden ist, und die radiale Position des Abrichtwerkzeugs relativ zu dem Drehteller aufgrund der von dem Interferometer empfangenen Sig nale automatisch verändert.
die Endbearbeitungsmaschine ein Ringpolierer ist, und der Ringpolierer einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, und ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug enthält, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern, und wobei
die Steuerung elektronisch mit dem Abrichtwerkzeug verbunden ist, und die radiale Position des Abrichtwerkzeugs relativ zu dem Drehteller aufgrund der von dem Interferometer empfangenen Sig nale automatisch verändert.
25. System nach Anspruch 23, wobei
der Ringpolierer ferner enthält: ein Aufschlämmungsversor gungssystem, das Aufschlämmung über das Vlies zirkuliert, und das die Temperatur der Aufschlämmung steuert, wobei
die Steuerung unter Benutzung der Signale von dem Interfero meter arbeitet, um eine Temperaturdifferenz über das Werkstück zu bestimmen, und wobei
die Steuerung mit dem Aufschlämmungsversorgungssystem gekop pelt ist und aufgrund der bestimmten Temperaturdifferenz über das Werkstück arbeitet, um automatisch zu bewirken, daß das Auf schlämmungsversorgungssystem die Temperatur der Aufschlämmung verändert.
der Ringpolierer ferner enthält: ein Aufschlämmungsversor gungssystem, das Aufschlämmung über das Vlies zirkuliert, und das die Temperatur der Aufschlämmung steuert, wobei
die Steuerung unter Benutzung der Signale von dem Interfero meter arbeitet, um eine Temperaturdifferenz über das Werkstück zu bestimmen, und wobei
die Steuerung mit dem Aufschlämmungsversorgungssystem gekop pelt ist und aufgrund der bestimmten Temperaturdifferenz über das Werkstück arbeitet, um automatisch zu bewirken, daß das Auf schlämmungsversorgungssystem die Temperatur der Aufschlämmung verändert.
26. System nach Anspruch 20, wobei das Interferometer ein Phasen
verschiebungsinterferometer ist.
27. System, das enthält:
- (A) einen Ringpolierer, und der Ringpolierer enthält: einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, einen Ringaufbau, der ein zu polierendes Werkstück über das Vlies bewegt, und ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug, welches radial bezüglich des Drehtellers verschieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern;
- (B) ein Interferometer, das bezüglich des Vlieses positio niert ist, um in-situ-Meßtechnik an dem gerade auf dem Vlies polierten Werkstück durchzuführen; und
- (C) eine Steuerung, die betrieblich mit dem Interferometer gekoppelt ist, und die ein Ausgabesignal in Reaktion auf den Betrieb des Interferometers erzeugt.
28. System nach Anspruch 27, wobei das Ausgabesignal ein von
Menschen unterscheidbares Signal ist, das bezeichnend für eine
dimensionale Charakteristik des Werkstücks ist.
29. System nach Anspruch 27, wobei die Steuerung elektronisch mit
dem Abrichtwerkzeug gekoppelt ist, und wobei das Ausgabesignal
ein Steuerungssignal ist, welches das Abrichtwerkzeug radial
bezüglich des Drehtellers und automatisch neu positioniert, um so
das Profil des Vlieses zu verändern.
30. System nach Anspruch 27, wobei
der Ringpolierer ferner enthält: ein Aufschlämmungsversor gungssystem, das Aufschlämmung über das Vlies zirkuliert, und das die Temperatur der Aufschlämmung anpaßt, wobei
die Steuerung unter Benutzung der Signale von dem Interfero meter arbeitet, um eine Temperaturdifferenz über das Werkstück zu bestimmen, und wobei
die Steuerung mit dem Aufschlämmungsversorgungssystem gekop pelt ist und aufgrund der bestimmten Temperaturdifferenz über das Werkstück arbeitet, um automatisch zu bewirken, daß das Auf schlämmungsversorgungssystem die Temperatur der Aufschlämmung verändert.
der Ringpolierer ferner enthält: ein Aufschlämmungsversor gungssystem, das Aufschlämmung über das Vlies zirkuliert, und das die Temperatur der Aufschlämmung anpaßt, wobei
die Steuerung unter Benutzung der Signale von dem Interfero meter arbeitet, um eine Temperaturdifferenz über das Werkstück zu bestimmen, und wobei
die Steuerung mit dem Aufschlämmungsversorgungssystem gekop pelt ist und aufgrund der bestimmten Temperaturdifferenz über das Werkstück arbeitet, um automatisch zu bewirken, daß das Auf schlämmungsversorgungssystem die Temperatur der Aufschlämmung verändert.
31. System nach Anspruch 27, wobei das Interferometer ein Phasen
verschiebungsinterferometer ist.
32. System, das enthält:
- (A) einen Ringpolierer, und der Ringpolierer enthält: einen rotierenden Drehteller, ein auf dem Drehteller angeordnetes Vlies, einen Ringaufbau, der ein zu polierendes Werkstück über das Vlies bewegt, ein rotierendes, von dem Vlies getragenes Abrichtwerkzeug, welches radial bezüglich des Drehtellers ver schieblich ist, um ein Profil des Vlieses zu verändern und ein Aufschlämmungsversorgungssystem, das Aufschlämmung über das Vlies zirkuliert, und das die Temperatur der Aufschlämmung anpaßt;
- (B) ein Phasenverschiebungsinterferometer, das mindestens zu einem Teil über dem Vlieses positioniert ist, und das in der Lage ist, in-situ-Meßtechnik an dem gerade auf dem Vlies polierten Werkstück durchzuführen; und
- (C) eine Steuerung, die betrieblich mit dem Interferometer
und dem Ringpolierer gekoppelt ist, wobei die Steuerung aufgrund
von Signalen, die sie von dem Interferometers empfängt, automa
tisch arbeitet, um
- (1) die radiale Position des Abrichtwerkzeugs relativ zu dem Drehteller zu verändern, um so ein Profil des Vlieses zu verändern, und
- (2) zu bewirken, daß das Aufschlämmungsversorgungssystem die Temperatur der Aufschlämmung ändert.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/982,236 US6301009B1 (en) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | In-situ metrology system and method |
US982236 | 2001-10-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19855455A1 true DE19855455A1 (de) | 1999-06-02 |
DE19855455B4 DE19855455B4 (de) | 2013-06-06 |
Family
ID=25528970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19855455A Expired - Lifetime DE19855455B4 (de) | 1997-12-01 | 1998-12-01 | In-Situ-Meßtechniksystem und -verfahren |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6301009B1 (de) |
JP (1) | JP4393608B2 (de) |
DE (1) | DE19855455B4 (de) |
FR (1) | FR2771666B1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1018943C2 (nl) * | 2001-09-13 | 2003-03-14 | Tno | Werkwijze en inrichting voor het polijsten van een werkstukoppervlak. |
WO2008153923A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Caterpillar Inc. | Process for determining whether used friction elements may be returned to service |
DE102008049972A1 (de) * | 2008-10-01 | 2010-04-22 | Peter Wolters Gmbh | Verfahren zum Messen der Dicke von in einer Bearbeitungsmaschine bearbeiteten scheibenförmigen Werkstücken |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2001266673A1 (en) * | 2000-06-02 | 2001-12-17 | Gsi Lumonics Corporation | System of fabricating plane parallel substrates with uniform optical paths |
US6609946B1 (en) * | 2000-07-14 | 2003-08-26 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for polishing a semiconductor wafer |
DE10059886A1 (de) * | 2000-12-01 | 2002-06-20 | Basf Coatings Ag | Verwendung von wässrigen, physikalisch härtbaren Beschichtungsstoffen auf Polyurethanbasis als Haftgrundierung von Lackierungen |
GB2373466B (en) * | 2001-03-22 | 2004-05-19 | Unova Uk Ltd | Method of reducing thermal distortion in grinding machines |
JP2002346899A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-12-04 | Ricoh Co Ltd | 曲面加工法及び加工装置 |
NL1022293C2 (nl) * | 2002-12-31 | 2004-07-15 | Tno | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen of bewerken van optische elementen en/of optische vormelementen, alsmede dergelijke elementen. |
US6770494B1 (en) | 2003-01-15 | 2004-08-03 | Fairchild Semiconductor Corporation | Process of compensating for layer thickness by determining device parameters on different surface areas of a substrate |
US7009714B2 (en) * | 2003-02-26 | 2006-03-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of dry etching a sample and dry etching system |
NL1026526C2 (nl) * | 2004-06-30 | 2005-05-31 | Tno | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen of bewerken van optische elementen en/of optische vormelementen, alsmede dergelijke elementen. |
EP1643209B1 (de) * | 2004-09-30 | 2020-11-04 | Ansaldo Energia IP UK Limited | Messverfahren zum Messen einer Dicke einer Beschichtung |
DE102006001496B4 (de) * | 2006-01-11 | 2019-02-21 | Siemens Aktiengesellschaft | System und Verfahren zur Bestimmung geometrischer Veränderungen eines Werkstücks |
JP5122854B2 (ja) * | 2007-04-13 | 2013-01-16 | 株式会社ディスコ | デバイスの研削方法 |
CN102089121B (zh) | 2008-07-31 | 2015-04-08 | 信越半导体股份有限公司 | 芯片的研磨方法及双面研磨装置 |
JP4955624B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2012-06-20 | 信越半導体株式会社 | 両面研磨装置 |
EP2199021A1 (de) | 2008-12-22 | 2010-06-23 | Essilor International (Compagnie Générale D'Optique) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer optischen Linse |
DE102009010019B4 (de) * | 2009-02-21 | 2012-05-31 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Verfahren zum berührungslosen Messen der Topographie |
US9760020B2 (en) | 2012-11-21 | 2017-09-12 | Kla-Tencor Corporation | In-situ metrology |
US9494485B2 (en) | 2014-03-07 | 2016-11-15 | Google Inc. | Measuring parallelism in lightguide surfaces |
EP3221897A1 (de) | 2014-09-08 | 2017-09-27 | The Research Foundation Of State University Of New York | Metallgitter und messverfahren dafür |
US10332781B2 (en) * | 2014-12-19 | 2019-06-25 | Globalwafers Co., Ltd. | Systems and methods for performing epitaxial smoothing processes on semiconductor structures |
JP6765887B2 (ja) * | 2016-07-21 | 2020-10-07 | スピードファム株式会社 | 研磨装置 |
US11415409B1 (en) * | 2019-08-22 | 2022-08-16 | Charles S. Powers | Apparatuses and methods for measuring parameters of an object |
CN114623786B (zh) * | 2022-05-16 | 2022-07-15 | 成都市鸿侠科技有限责任公司 | 一种飞行器大型弧形构件表面光洁度检测装置 |
CN114986325B (zh) * | 2022-06-10 | 2023-09-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 光学元件全口径抛光局部区域恒温加工装置及抛光机 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4417816A (en) * | 1980-08-11 | 1983-11-29 | Colt Industries Operating Corp. | Laser measuring system and method for turning machine |
JPS5840247A (ja) * | 1981-09-02 | 1983-03-09 | Hitachi Ltd | 精密位置決め装置 |
JPS5810441A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-21 | Toshiba Mach Co Ltd | 精密切削加工システム |
US4594003A (en) | 1983-07-20 | 1986-06-10 | Zygo Corporation | Interferometric wavefront measurement |
JPS6090656A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-21 | Citizen Watch Co Ltd | 工作機械におけるスピンドル位置決め補正装置 |
DE3931213A1 (de) * | 1989-09-19 | 1991-04-04 | Wacker Chemitronic | Verfahren und vorrichtung zur interferometrischen messung der ebenheit von beidseitig oberflaechen geringer rauhigkeit aufweisenden halbleiter-, insbesondere siliciumscheiben |
US5081796A (en) * | 1990-08-06 | 1992-01-21 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for mechanical planarization and endpoint detection of a semiconductor wafer |
GB2256606A (en) * | 1991-05-09 | 1992-12-16 | Cranfield Precision Engineerin | High-precision positional control. |
US5633711A (en) | 1991-07-08 | 1997-05-27 | Massachusettes Institute Of Technology | Measurement of material properties with optically induced phonons |
JPH05318287A (ja) * | 1992-05-21 | 1993-12-03 | Okuma Mach Works Ltd | 超精密加工機 |
US5433650A (en) * | 1993-05-03 | 1995-07-18 | Motorola, Inc. | Method for polishing a substrate |
JPH06338485A (ja) * | 1993-05-28 | 1994-12-06 | Kawasaki Steel Corp | ウェーハの表面性状評価方法およびその研磨方法 |
JP3326443B2 (ja) * | 1993-08-10 | 2002-09-24 | 株式会社ニコン | ウエハ研磨方法及びその装置 |
US5488477A (en) * | 1993-11-15 | 1996-01-30 | Zygo Corporation | Methods and apparatus for profiling surfaces of transparent objects |
JPH07198319A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Agency Of Ind Science & Technol | リアルタイム位相シフト干渉計 |
US5664987A (en) * | 1994-01-31 | 1997-09-09 | National Semiconductor Corporation | Methods and apparatus for control of polishing pad conditioning for wafer planarization |
JPH07328916A (ja) * | 1994-06-06 | 1995-12-19 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | ラップ・ポリッシュ盤 |
US5478435A (en) * | 1994-12-16 | 1995-12-26 | National Semiconductor Corp. | Point of use slurry dispensing system |
JPH08174411A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-09 | Ebara Corp | ポリッシング装置 |
JPH08240413A (ja) * | 1995-01-06 | 1996-09-17 | Toshiba Corp | 膜厚測定装置及びポリシング装置 |
US5649849A (en) * | 1995-03-24 | 1997-07-22 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for realtime monitoring and feedback control of the shape of a continuous planetary polishing surface |
DE69618698T2 (de) * | 1995-03-28 | 2002-08-14 | Applied Materials Inc | Verfahren und Vorrichtung zur In-Situ-Kontroll und Bestimmung des Endes von chemisch-mechanischen Planiervorgänge |
US5893796A (en) * | 1995-03-28 | 1999-04-13 | Applied Materials, Inc. | Forming a transparent window in a polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus |
JPH08330259A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-13 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 半導体ウェハの研磨方法 |
JP3689175B2 (ja) * | 1995-06-08 | 2005-08-31 | オリンパス株式会社 | 圧電素子の位置決め方法及び位置決め精度確認方法 |
JPH09123057A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-13 | Sony Corp | 基板研磨装置 |
JPH09131660A (ja) * | 1995-11-06 | 1997-05-20 | Toshiba Corp | 半導体製造装置及び方法 |
JP2833549B2 (ja) * | 1995-11-07 | 1998-12-09 | 日本電気株式会社 | 研磨布の表面調整方法及び機構 |
JPH09252100A (ja) * | 1996-03-18 | 1997-09-22 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 結合ウェーハの製造方法及びこの方法により製造される結合ウェーハ |
JPH09298176A (ja) * | 1996-05-09 | 1997-11-18 | Canon Inc | 研磨方法及びそれを用いた研磨装置 |
JPH10214804A (ja) * | 1997-01-28 | 1998-08-11 | Olympus Optical Co Ltd | 機械化学研磨装置用の平坦化過程モニター装置 |
-
1997
- 1997-12-01 US US08/982,236 patent/US6301009B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-12-01 JP JP35545898A patent/JP4393608B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-01 DE DE19855455A patent/DE19855455B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-01 FR FR9815143A patent/FR2771666B1/fr not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1018943C2 (nl) * | 2001-09-13 | 2003-03-14 | Tno | Werkwijze en inrichting voor het polijsten van een werkstukoppervlak. |
WO2003026846A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-04-03 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast- Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Method and apparatus for polishing a workpiece surface |
US7121922B2 (en) | 2001-09-13 | 2006-10-17 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Method and apparatus for polishing a workpiece surface |
WO2008153923A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Caterpillar Inc. | Process for determining whether used friction elements may be returned to service |
US7795555B2 (en) | 2007-06-08 | 2010-09-14 | Caterpillar Inc | Process for determining whether used friction elements may be returned to service |
DE102008049972A1 (de) * | 2008-10-01 | 2010-04-22 | Peter Wolters Gmbh | Verfahren zum Messen der Dicke von in einer Bearbeitungsmaschine bearbeiteten scheibenförmigen Werkstücken |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2771666B1 (fr) | 2004-08-06 |
DE19855455B4 (de) | 2013-06-06 |
FR2771666A1 (fr) | 1999-06-04 |
US6301009B1 (en) | 2001-10-09 |
JP4393608B2 (ja) | 2010-01-06 |
JPH11262858A (ja) | 1999-09-28 |
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