DE19850526C2 - Substrat mit metallischer Beschichtung und seine Verwendung - Google Patents
Substrat mit metallischer Beschichtung und seine VerwendungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Substrat mit metallischer Beschichtung und die Verwendung eines
solchen Substrats.
In der Löttechnik werden im allgemeinen Blei enthaltende Lote bzw. mit Blei versehene Löt
schichten von Substraten verwendet. Nachteilig bei der Verwendung von Blei ist dessen relativ
hohe Toxizität.
Weiterhin ist aus dem Stand der Technik bekannt, daß bei galvanisch abgeschiedenen reinen
Zinnschichten eine anschließende Whisker-Bildung mit den entsprechend aus dem Stand der
Technik bekannten Nachteilen möglich ist, beispielsweise das kristallähnliche Herauswachsen
aus der Oberfläche, das bei dicht aneinander liegenden Lötkontakten unter Umständen zu
Kurzschlüssen in elektrischen Schaltungen führen kann.
DE 43 11 872 A1 offenbart u. a. oberflächig mit Palladium plattierte Leiterrahmen, die zwischen
dem beispielsweise aus Kupfer bestehenden Grundkörper eine Nickel-Phosphor- oder eine
Kupfer-Zinn-Schicht aufweisen. Diese sind zwar gut lötbar, weisen jedoch relativ hohe Benet
zungszeiten sowohl vor als auch nach Auslagerung auf.
EP 0 132 596 A2 offenbart u. a. ein Substrat aus einer Nickel-Eisen-Legierung, das mit einer
Beschichtung versehen ist, die aus einer Nickelschicht und einer darüberliegenden als äußere
Oberfläche fungierende Schicht aus Gold, Silber oder Platin oder einer Legierung davon be
steht. Nachteilig hierbei ist, daß für manche spezifische Anwendungen die Benetzungsge
schwindigkeit zum Löten unter Umständen zu gering ausfallen kann.
Aus dem vorgenannten ergibt sich das Problem, mit Hilfe eines neuartigen Substrats und einer
neuartigen Verwendung die oben genannten Nachteile zumindest teilweise zu beseitigen.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß durch ein Substrat nach Anspruch 1 und eine Verwen
dung nach Anspruch 20 gelöst.
Mit dem erfindungsgemäßen bleifreien Substrat ist es möglich, mit einer relativ hohen Benet
zungsgeschwindigkeit nach dem erfindungsgemäßen Verfahren eine erfindungsgemäße Vor
richtung herzustellen, wobei die Benetzungsgeschwindigkeit beim erfindungsgemäßen Substrat
überraschenderweise annähernd so hoch wie bei den konventionellen Zinn-Blei-
Beschichtungen ist.
Zur Bestimmung der einzelnen Benetzungsgeschwindigkeiten werden die einzelnen Proben mit
einer Lötwaage gemessen. Die Lötwaage ist mit einer ausreichend empfindlichen Kraftmeßein
richtung ausgestattet, um die Grenzflächenkräfte zwischen dem geschmolzenen Lot und dem
zu verlötenden Prüfling zu messen. Entscheidend für einen Lötvorgang sind die Qualität und die
Geschwindigkeit, mit der ein zu verlötender Festkörper von einer flüssigen Lotlegierung unter
gegebenen Bedingungen benetzt wird. Dazu wird ein Festkörper teilweise in eine Flüssigkeit
eingetaucht und die Kräfte, die auf diesen Körper aufgrund der Reaktion mit der Flüssigkeit
einwirken, werden gemessen.
Die resultierende Kraft aus den Vertikalkräften von Auftrieb und Benetzungskraft, die auf die
eingetauchte Probe über eine bestimmte Zeit einwirkt, wird über einen Meßwandler gemessen
und aufgezeichnet. Für die Auswertung relevant ist jeweils der Zeitpunkt, an dem die Benet
zungskraft gleich groß der entgegengerichteten Auftriebskraft ist; daraus resultiert, daß die auf
die Probe einwirkende resultierende Kraft gleich null ist. Dieser Zeitpunkt stellt ein direktes Maß
für die Benetzungsgeschwindigkeit der jeweiligen Probe dar.
Erfindungswesentlich ist die Tatsache, daß überraschenderweise durch die Anwesenheit einer
sich unter einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht befindenden, Gold enthaltenden Schicht
oder unter einer äußeren, Gold enhaltenden Schicht befindenden, Silber enthaltenden Schicht
ein synergistischer Effekt dahingehend einstellt, daß die Benetzungsgeschwindigkeit im Ver
gleich zu einer konventionellen auf einer Nickelzwischenschicht aufgebrachten Silber- oder
Goldschicht spürbar ansteigt.
Weiterhin erfindungswesentlich ist die Tatsache, daß überraschenderweise durch die Anwe
senheit einer zusätzlichen, sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungsschicht und der Gold
bzw. Silber enthaltenden Schicht angeordneten Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht
inbesondere bei äußeren Gold-Schichtdicken ab ca. 0,3 µm, insbesondere bei 0,5 µm, ein sy
nergistischer Effekt dahingehend einstellt, daß die Benetzungsgeschwindigkeit im Vergleich zu
entsprechenden palladiumschichtfreien Beschichtungen spürbar ansteigt.
Besonders vorteilhaft hat es sich bewährt, wenn die Silber enthaltende Schicht eine Dicke von
0,01 bis 10,0 µm, insbesondere von 0,05 bis 5,0 µm, die Gold enthaltende Schicht und/oder die
Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,01 bis 5,0 µm, insbesondere von 0,02 bis 2,0 µm,
und die Nickel- oder Nickellegierungsschicht eine Dicke von 0,01 bis 10,0 µm, insbesonde
re von 0,5 bis 5,0 µm, aufweist.
Weiterhin sind die folgenden Ausgestaltungen vorteilhaft, da sich diese in der Praxis bewährt
haben.
Die Gold enthaltende Schicht besteht aus Gold. Die Silber enthaltende Schicht besteht aus Sil
ber. Die Gold enthaltende Schicht ist eine Gold-Kobalt-, eine Gold-Nickel- oder eine Gold-
Silber-Legierungsschicht. Die Gold-Kobalt-Legierungsschicht weist 0,01 bis 5,0 Gewichts-%
Kobalt, die Gold-Nickel-Legierungsschicht 0,01 bis 5,0 Gewichts-% Nickel und die Gold-Silber-
Legierungsschicht 5,0 bis 95,0 Gewichts-% Silber auf.
Schließlich ist es von Vorteil, wenn die äußere, Silber enthaltende Schicht mit einer Silber-
Anlaufschutzschicht überzogen ist, um so ein Anlaufen, d. h. Oxidieren des Silbers, zu verhin
dern.
Insbesondere ist die Silbersulfidbildung unerwünscht und wird beispielsweise durch Thiole wirk
sam verhindert.
Bilden die Schichten die lötfähige Beschichtung eines Leiterrahmens, so besteht das Substrat
vorzugsweise aus Kupfer, Kupfer-Legierungen, wie Cu-Fe und Cu-Be, Nickel oder Nickel-
Legierungen, Eisen- oder Eisen-Legierungen, wie Ni-Fe.
Für den Einsatz des beschichteten Substrats als Leiterplatte mit lötfähiger Oberfläche werden
für das Substrat Metall/Kunststoff-Verbundwerkstoffe verwendet, besonders mit Kupfer-
Metallisierung versehene Polyimide und insbesondere glasfaserverstärkte Epoxydharze.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Erfindung.
Lot: Sn/Pb 60/40, Lotbad
Temperatur: 240°C
Eintauchgeschwindigkeit: 5 mm/s
Eintauchtiefe: 5 mm
Flußmittel: FSW-31 (600 g Rein-Kolophonium in 1 l Isopropylalkohol) nicht aktivierend
Meßdauer: 5 Sekunden
Temperatur: 240°C
Eintauchgeschwindigkeit: 5 mm/s
Eintauchtiefe: 5 mm
Flußmittel: FSW-31 (600 g Rein-Kolophonium in 1 l Isopropylalkohol) nicht aktivierend
Meßdauer: 5 Sekunden
Aus Tabelle 1 ist zu erkennen, daß die üblicherweise verwendeten Zinn-Blei-Beschichtungen
eine relativ hohe Benetzungsgeschwindigkeit, also eine relativ geringe Benetzungszeit, aufwei
sen.
Konventionelle Nickel-Silber- und Nickel-Gold-Beschichtungen weisen eine im Vergleich hierzu
erheblich geringere Benetzungsgeschwindigkeit sowohl vor als auch nach 16-stündiger Ausla
gerung bei einer Temperatur von T = +155°C auf.
Überraschenderweise weisen die erfindungsgemäßen Nickel-Gold-Silber- bzw. Nickel-Silber-
Gold-Beschichtungen im Vergleich zu den konventionellen Beschichtungen erheblich geringere
Benetzungszeiten und somit erheblich höhere Benetzungsgeschwindigkeiten auf. Dies gilt im
ersten Fall sowohl vor als auch nach Auslagerung und im zweiten Fall lediglich nach Auslage
rung.
Bei äußeren Gold-Schichten mit einer Schichtdicke von mindestens 0,3 µm, insbesondere von
0,5 µm, weisen die erfindungsgemäßen, die Palladium-Schicht enthaltenden Beschichtungen
geringere Benetzungszeiten zumindest vor Auslagerung als entsprechende palladiumschicht
freie Beschichtungen auf.
Claims (20)
1. Substrat mit metallischer Beschichtung, die mindestens eine Nickel enthaltende Schicht
und eine die Oberfläche der Beschichtung bildende, Silber oder Gold enthaltende Schicht
umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß
die Beschichtung von außen nach innen besteht aus:
einer Silber enthaltenden Schicht;
einer Gold enthaltenden Schicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Silber enthaltenden Schicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Silber enthaltenden Schicht,
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Silber enthaltenden Schicht,
einer Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht.
die Beschichtung von außen nach innen besteht aus:
einer Silber enthaltenden Schicht;
einer Gold enthaltenden Schicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Silber enthaltenden Schicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Silber enthaltenden Schicht,
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht oder
einer Gold enthaltenden Schicht,
einer Silber enthaltenden Schicht,
einer Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht und
einer Nickel- oder Nickellegierungsschicht.
2. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende Schicht
eine Dicke von 0,01 bis 10,0 µm aufweist.
3. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende Schicht
eine Dicke von 0,05-5,0 µm aufweist.
4. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht und/oder die Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht eine Dicke von
0,01-5,0 µm aufweist.
5. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht und/oder die Palladium- oder Palladiumlegierungsschicht eine Dicke
von 0,02-2,0 µm aufweist.
6. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungsschicht eine Dicke von 0,01-10 µm aufweist.
7. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungsschicht eine Dicke von 0,5-5,0 µm aufweist.
8. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Kobalt-Legierungsschicht ist.
9. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Nickel-Legierungsschicht ist.
10. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Silber-Legierungsschicht ist.
11. Substrat nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Kobalt-
Legierungsschicht 0,01-5,0 Gewichts-% Kobalt aufweist.
12. Substrat nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Nickel-
Legierungsschicht 0,01-5,0 Gewichts-% Nickel aufweist.
13. Substrat nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Silber-
Legierungsschicht 5,0-95,0 Gewichts-% Silber aufweist.
14. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht aus Gold besteht.
15. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber
enthaltende Schicht aus Silber besteht.
16. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die äußere,
Silber enthaltende Schicht mit einer Silber-Anlaufschutzschicht überzogen ist.
17. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
aus Kupfer, Nickel, Eisen oder einer Legierung dieser Metalle besteht.
18. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
aus einem Metall/Kunststoff-Verbundwerkstoff besteht.
19. Substrat nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus mit einer
Kupfer-Metallisierung versehenem Polyimid oder glasfaserverstärktem Epoxydharz be
steht.
20. Verwendung eines Substrats nach einem der Ansprüche 1 bis 19 zum Auf-Löten von lötfähi
gen Materialien.
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DE4414729A1 (de) * | 1993-04-28 | 1994-11-03 | Mitsubishi Shindo Kk | Werkstoff für einen Leitungsrahmen und Leitungsrahmen für Halbleiterbauelemente |
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DE4414729A1 (de) * | 1993-04-28 | 1994-11-03 | Mitsubishi Shindo Kk | Werkstoff für einen Leitungsrahmen und Leitungsrahmen für Halbleiterbauelemente |
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