DE19850526A1 - Substrat mit metallischer Beschichtung II - Google Patents
Substrat mit metallischer Beschichtung IIInfo
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Abstract
Es wird unter anderem ein Substrat mit metallischer Beschichtung bereitgestellt, die mindestens eine Nickel enthaltende Schicht und eine die Oberfläche der Beschichtung bildende, Silber oder Gold enthaltende Schicht umfaßt, wobei das Substrat dadurch gekennzeichnet ist, daß DOLLAR A - die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der Silber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder DOLLAR A - die Beschichtung bei einer äußeren, Gold enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Silber enthaltenden Schicht und der Gold enthaltenden Schicht ist und die Silber enthaltende Schicht zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Gold enthaltenden Schicht angeordnet ist oder DOLLAR A - die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der Silber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, die sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Gold enthaltenden Schicht befindet, und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder DOLLAR A - die Beschichtung ...
Description
Die Erfindung betrifft ein Substrat mit metallischer Beschichtung, die Verwendung eines sol
chen Substrats, ein Verfahren zur Herstellung einer gelöteten Vorrichtung und die Vorrichtung
als solche.
In der Löttechnik werden im allgemeinen Blei enthaltende Lote bzw. mit Blei versehene Löt
schichten von Substraten verwendet. Nachteilig bei der Verwendung von Blei ist dessen relativ
hohe Toxizität.
Weiterhin ist aus dem Stand der Technik bekannt, daß bei galvanisch abgeschiedenen reinen
Zinnschichten eine anschließende Whisker-Bildung mit den entsprechend aus dem Stand der
Technik bekannten Nachteilen möglich ist, beispielsweise das kristallähnliche Herauswachsen
aus der Oberfläche, das bei dicht aneinander liegenden Lötkontakten unter Umständen zu
Kurzschlüssen in elektrischen Schaltungen führen kann.
DE 43 11 872 A1 offenbart u. a. oberflächig mit Palladium plattierte Leiterrahmen, die zwischen
dem beispielsweise aus Kupfer bestehenden Grundkörper eine Nickel-Phosphor- oder eine
Kupfer-Zinn-Schicht aufweisen. Diese sind zwar gut lötbar, weisen jedoch relativ hohe Benet
zungszeiten sowohl vor als auch nach Auslagerung auf.
EP 0 132 596 A2 offenbart u. a. ein Substrat aus einer Nickel-Eisen-Legierung, das mit einer
Beschichtung versehen ist, die aus einer Nickelschicht und einer darüberliegenden als äußere
Oberfläche fungierende Schicht aus Gold, Silber oder Platin oder einer Legierung davon be
steht. Nachteilig hierbei ist, daß für manche spezifische Anwendungen die Benetzungsge
schwindigkeit zum Löten unter Umständen zu gering ausfallen kann.
Aus dem vorgenannten ergibt sich das Problem, mit Hilfe eines neuartigen Substrats, einer
neuartigen Verwendung, eines neuartigen Verfahrens zur Herstellung einer gelöteten Vorrich
tung und der Vorrichtung als solche die oben genannten Nachteile zumindest teilweise zu
beseitigen.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß durch ein Substrat nach Anspruch 1, eine Verwendung
nach Anspruch 20, ein Verfahren nach Anspruch 21 und eine Vorrichtung nach Anspruch 40
gelöst.
Mit dem erfindungsgemäßen bleifreien Substrat ist es möglich, mit einer relativ hohen Benet
zungsgeschwindigkeit nach dem erfindungsgemäßen Verfahren eine erfindungsgemäße Vor
richtung herzustellen, wobei die Benetzungsgeschwindigkeit beim erfindungsgemäßen Substrat
überraschenderweise annähernd so hoch wie bei den konventionellen Zinn-Blei-Beschichtun
gen ist.
Zur Bestimmung der einzelnen Benetzungsgeschwindigkeiten werden die einzelnen Proben mit
einer Lötwaage gemessen. Die Lötwaage ist mit einer ausreichend empfindlichen Kraftmeßein
richtung ausgestattet, um die Grenzflächenkräfte zwischen dem geschmolzenen Lot und dem
zu verlötenden Prüfling zu messen. Entscheidend für einen Lötvorgang sind die Qualität und
die Geschwindigkeit, mit der ein zu verlötender Festkörper von einer flüssigen Lotlegierung un
ter gegebenen Bedingungen benetzt wird. Dazu wird ein Festkörper teilweise in eine Flüssigkeit
eingetaucht und die Kräfte, die auf diesen Körper aufgrund der Reaktion mit der Flüssigkeit ein
wirken, werden gemessen.
Die resultierende Kraft aus den Vertikalkräften von Auftrieb und Benetzungskraft, die auf die
eingetauchte Probe über eine bestimmte Zeit einwirkt, wird über einen Meßwandler gemessen
und aufgezeichnet. Für die Auswertung relevant ist jeweils der Zeitpunkt, an dem die Benet
zungskraft gleich groß der entgegengerichteten Auftriebskraft ist; daraus resultiert, daß die auf
die Probe einwirkende resultierende Kraft gleich null ist. Dieser Zeitpunkt stellt ein direktes Maß
für die Benetzungsgeschwindigkeit der jeweiligen Probe dar.
Erfindungswesentlich ist die Tatsache, daß überraschenderweise durch die Anwesenheit einer
sich unter einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht befindenden, Gold enthaltenden Schicht
oder unter einer äußeren, Gold enhaltenden Schicht befindenden, Silber enthaltenden Schicht
ein synergistischer Effekt dahingehend einstellt, daß die Benetzungsgeschwindigkeit im
Vergleich zu einer konventionellen auf einer Nickelzwischenschicht aufgebrachten Silber- oder
Goldschicht spürbar ansteigt.
Weiterhin erfindungswesentlich ist die Tatsache, daß überraschenderweise durch die Anwesen
heit einer zusätzlichen, sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Gold
bzw. Silber enthaltenden Schicht angeordneten Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht
bei äußeren Gold-Schichtdicken ab ca. 0,3 µm, insbesondere bei 0,5 µm, ein synergistischer
Effekt dahingehend einstellt, daß die Benetzungsgeschwindigkeit im Vergleich zu entsprechen
den palladiumschichtfreien Beschichtungen spürbar ansteigt.
Besonders vorteilhaft hat es sich bewährt, wenn die Silber enthaltende Schicht eine Dicke von
0,01 bis 10,0 µm, insbesondere von 0,05 bis 5,0 µm, die Gold enthaltende Schicht und/oder die
Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,01 bis 5,0 µm, insbesondere von 0,02 bis 2,0 µm,
und die Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht eine Dicke von 0,01 bis 10,0 µm, insbeson
dere von 0,5 bis 5,0 µm, aufweist.
Weiterhin sind die folgenden Ausgestaltungen vorteilhaft, da sich diese in der Praxis bewährt
haben.
Die Gold enthaltende Schicht besteht aus Gold. Die Silber enthaltende Schicht besteht aus Sil
ber. Die Gold enthaltende Schicht ist eine Gold-Kobalt-, eine Gold-Nickel- oder eine Gold-Sil
ber-Legierungsschicht. Die Gold-Kobalt-Legierungsschicht weist 0,01 bis 5,0 Gewichts-% Ko
balt, die Gold-Nickel-Legierungsschicht 0,01 bis 5,0 Gewichts-% Nickel und die Gold-Silber-Le
gierungsschicht 5,0 bis 95,0 Gewichts-% Silber auf.
Schließlich ist es von Vorteil, wenn die äußere, Silber enthaltende Schicht mit einer Silber-An
laufschutzschicht überzogen ist, um so ein Anlaufen, d. h. Oxidieren des Silbers, zu verhindern.
Insbesondere ist die Silbersulfidbildung unerwünscht und wird beispielsweise durch Thiole wirk
sam verhindert.
Bilden die Schichten die lötfähige Beschichtung eines Leiterrahmens, so besteht das Substrat
vorzugsweise aus Kupfer, Kupfer-Legierungen, wie Cu-Fe und Cu-Be, Nickel oder Nickel-Legie
rungen, Eisen- oder Eisen-Legierungen, wie Ni-Fe.
Für den Einsatz des beschichteten Substrats als Leiterplatte mit lötfähiger Oberfläche werden
für das Substrat Metall/Kunststoff-Verbundwerkstoffe verwendet, besonders mit Kupfer-Metalli
sierung versehene Polyimide und insbesondere glasfaserverstärkte Epoxydharze.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Vorrichtungen weisen die oben an
gegebenen überraschenden und vorteilhaften Eigenschaften ebenso auf.
Entsprechendes gilt auch für die Verwendung eines erfindungskontext-bezogenen Substrats.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Erfindung.
Lötwaagenparameter:
Lot: Sn/Pb 60/40, Lotbad
Temperatur: 240°C
Eintauchgeschwindigkeit: 5 mm/s
Eintauchtiefe: 5 mm
Flußmittel: FSW-31 (600 g Rein-Kolophonium in 1 l Isopropylalkohol) nicht aktivierend
Meßdauer: 5 Sekunden
Lot: Sn/Pb 60/40, Lotbad
Temperatur: 240°C
Eintauchgeschwindigkeit: 5 mm/s
Eintauchtiefe: 5 mm
Flußmittel: FSW-31 (600 g Rein-Kolophonium in 1 l Isopropylalkohol) nicht aktivierend
Meßdauer: 5 Sekunden
Aus Tabelle 1 ist zu erkennen, daß die üblicherweise verwendeten Zinn-Blei-Beschichtungen
eine relativ hohe Benetzungsgeschwindigkeit, also eine relativ geringe Benetzungszeit,
aufweisen.
Konventionelle Nickel-Silber- und Nickel-Gold-Beschichtungen weisen eine im Vergleich hierzu
erheblich geringere Benetzungsgeschwindigkeit sowohl vor als auch nach 16stündiger Ausla
gerung bei einer Temperatur von T = +155°C auf.
Überraschenderweise weisen die erfindungsgemäßen Nickel-Gold-Silber- bzw. Nickel-Silber-
Gold-Beschichtungen im Vergleich zu den konventionellen Beschichtungen erheblich geringere
Benetzungszeiten und somit erheblich höhere Benetzungsgeschwindigkeiten auf. Dies gilt im
ersten Fall sowohl vor als auch nach Auslagerung und im zweiten Fall lediglich nach
Auslagerung.
Bei äußeren Gold-Schichten mit einer Schichtdicke von mindestens 0,3 µm, insbesondere von
0,5 µm, weisen die erfindungsgemäßen, die Palladium-Schicht enthaltenden Beschichtungen
geringere Benetzungszeiten zumindest vor Auslagerung als entsprechende palladiumschicht
freie Beschichtungen auf.
Claims (40)
1. Substrat mit metallischer Beschichtung, die mindestens eine Nickel enthaltende Schicht
und eine die Oberfläche der Beschichtung bildende, Silber oder Gold enthaltende Schicht
umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß
- 1. die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der Sil ber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
- 2. die Beschichtung bei einer äußeren, Gold enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Silber enthaltenden Schicht und der Gold enthaltenden Schicht ist und die Silber enthaltende Schicht zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Gold enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
- 3. die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Palladium- oder Palladiumlegierungs- Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der Silber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, die sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungsschicht und der Gold enthaltenden Schicht befindet, und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
- 4. die Beschichtung bei einer äußeren, Gold enthaltenden Schicht eine Kombination aus einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Palladium- oder Palladiumlegierungs- Schicht, einer Silber enthaltenden Schicht und der Gold enthaltenden Schicht ist und die Silber enthaltende Schicht zwischen der Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, die sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungsschicht und der Silber enthaltenden Schicht befindet, und der Gold enthaltenden Schicht angeordnet ist.
2. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende Schicht
eine Dicke von 0,01 bis 10,0 µm aufweist.
3. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende Schicht
eine Dicke von 0,05-5,0 µm aufweist.
4. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht und/oder die Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,01-5,0 µm
aufweist.
5. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht und/oder die Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,02-2,0 µm
aufweist.
6. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungs-Schicht eine Dicke von 0,01-10 µm aufweist.
7. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungs-Schicht eine Dicke von 0,5-5,0 µm aufweist.
8. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Kobalt-Legierungsschicht ist.
9. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Nickel-Legierungsschicht ist.
10. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht eine Gold-Silber-Legierungsschicht ist.
11. Substrat nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Kobalt-Legierungs
schicht 0,01-5,0 Gewichts-% Kobalt aufweist.
12. Substrat nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Nickel-Legierungs
schicht 0,01-5,0 Gewichts-% Nickel aufweist.
13. Substrat nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Silber-Legierungs
schicht 5,0-95,0 Gewichts-% Silber aufweist.
14. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold ent
haltende Schicht aus Gold besteht.
15. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber
enthaltende Schicht aus Silber besteht.
16. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die äußere,
Silber enthaltende Schicht mit einer Silber-Anlaufschutzschicht überzogen ist.
17. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
aus Kupfer, Nickel, Eisen oder einer Legierung dieser Metalle besteht.
18. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
aus einem Metall/Kunststoff-Verbundwerkstoff besteht.
19. Substrat nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus mit einer
Kupfer-Metallisierung versehenem Polyimid oder glasfaserverstärktem Epoxydharz
besteht.
20. Verwendung eines Substrats nach einem der Ansprüche 1 bis 19 zum Löten von lötfähi
gen Materialien.
21. Verfahren zur Herstellung einer gelöteten Vorrichtung, wobei ein lötfähiges Material auf
ein Substrat gelötet wird und das Substrat eine metallische Beschichtung aufweist, die ei
ne Nickel enthaltende Schicht und eine die Oberfläche der Beschichtung bildende, Silber
oder Gold enthaltende Schicht umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß
- 1. die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus
einer Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der
Silber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Nickel-
oder Nickellegierungs-Schicht und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
die Beschichtung bei einer äußeren, Gold enthaltenden Schicht eine Kombination aus ei ner Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Silber enthaltenden Schicht und der Gold enthaltenden Schicht ist und die Silber enthaltende Schicht zwischen der Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht und der Gold enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
die Beschichtung bei einer äußeren, Silber enthaltenden Schicht eine Kombination aus ei ner Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Palladium- oder Palladiumlegierungs- Schicht, einer Gold enthaltenden Schicht und der Silber enthaltenden Schicht ist und die Gold enthaltende Schicht zwischen der Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, die sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungsschicht und der Gold enthaltenden Schicht befindet, und der Silber enthaltenden Schicht angeordnet ist oder
die Beschichtung bei einer äußeren Gold enthaltenden Schicht eine Kombination aus ei ner Nickel- oder Nickellegierungs-Schicht, einer Palladium- oder Palladiumlegierungs- Schicht, einer Silber enthaltenden Schicht und der Gold enthaltenden Schicht ist und die Silber enthaltende Schicht zwischen der Palladium- oder Palladiumlegierungs-Schicht, die sich zwischen der Nickel- oder Nickellegierungsschicht und der Silber enthaltenden Schicht befindet, und der Gold enthaltenden Schicht angeordnet ist.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende
Schicht eine Dicke von 0,01-10,0 µm aufweist.
23. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber enthaltende
Schicht eine Dicke von 0,05-5,0 µm aufweist.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht und/oder die Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,01-5,0 µm
aufweist.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht und/oder die Palladium enthaltende Schicht eine Dicke von 0,02-2,0 µm
aufweist.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungs-Schicht eine Dicke von 0,01-10,0 µm aufweist.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickel-
oder Nickellegierungs-Schicht eine Dicke von 0,5 bis 5,0 µm aufweist.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht eine Gold-Kobalt-Legierungsschicht ist.
29. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht eine Gold-Nickel-Legierungsschicht ist.
30. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht eine Gold-Silber-Legierungsschicht ist.
31. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Kobalt-Legierungs
schicht 0,01-5,0 Gewichts-% Kobalt aufweist.
32. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß Gold-Nickel-Legierungs
schicht 0,01-5,0 Gewichts-% Nickel aufweist.
33. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold-Silber-Legierungs
schicht 5,0-95,0 Gewichts-% Silber aufweist.
34. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Gold
enthaltende Schicht aus Gold besteht.
35. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 34, dadurch gekennzeichnet, daß die Silber
enthaltende Schicht aus Silber besteht.
36. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die äuße
re, Silber enthaltende Schicht mit einer Silber-Anlaufschutzschicht überzogen ist.
37. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 36, dadurch gekennzeichnet, daß das
Substrat aus Kupfer, Nickel, Eisen oder einer Legierung dieser Metalle besteht.
38. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 36, dadurch gekennzeichnet, daß das
Substrat aus einem Metall/Kunststoff-Verbundwerkstoff besteht.
39. Verfahren nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus mit einer
Kupfer-Metallisierung versehenem Polyimid oder glasfaserverstärktem Epoxydharz
besteht.
40. Vorrichtung, hergestellt nach einem Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 39.
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DE1998150526 DE19850526C2 (de) | 1998-11-03 | 1998-11-03 | Substrat mit metallischer Beschichtung und seine Verwendung |
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JP2000553245A JP3730120B2 (ja) | 1998-06-10 | 1999-06-07 | 無鉛基板の製法 |
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PT99927895T PT1047523E (pt) | 1998-06-10 | 1999-06-07 | Metodo para a producao de um substrato isento de chumbo |
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- 1998-11-03 DE DE1998150526 patent/DE19850526C2/de not_active Expired - Fee Related
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