DE1960964B2 - Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Nickel auf Kunststoffteilen - Google Patents
Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Nickel auf KunststoffteilenInfo
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- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Nickel auf Kunststoffteilen, wobei
diese zunächst geätzt, aktiviert und sodann in einem Bad mit einem Gehalt an einem wasserlöslichen
Nickelsalz, Hypophosphit als erstem Reduktionsmittel und organischen Verbindungen vernickelt
werden.
Um ein nichtleitendes, nichtmetallisches Basismaterial, beispielsweise ein Kunstharz, Glas, Keramik
od. dgl. galvanisch mit einer Metallschicht zu überziehen, ist es erforderlich, das Basismaterial zuerst
mit einem vorläufigen Metallüberzug zu versehen, um es für den darauffolgenden Elektroplattiervorgang
elektrisch leitend zu machen. Die Ausbildung einer derartigen vorläufigen Metallbeschichtung ist im
allgemeinen dadurch bewirkt worden, daß man entweder Nickel mit einem kleinen Gehalt an Phosphor
oder Kupfer auf die zu übei ziehende Fläche aufgebracht hat. Das Aufbringen von Nickel mit einem
geringfügigen Phosphorgehalt erfolgt im allgemeinen mittels einer chemischen Badlösung, die Nickel und
Hypophosphit-lonen enthält, wobei sich das Absetzen von Nickel durch die Reduktion der Nickel-Ionen
mit den Hypophosphit-lonen vollzieht. Für das Aufbringen von Kupfer wird eine chemische Badlösung
vom Kupfer-Formalin-Typ verwendet, wobei sich das Kupfer durch die Reduzierung der Kupfer-Ionen
mittels Formalin abscheidet.
Im einzelnen umfaßt ein typisches bekanntes Verfahren zur Ausbildung einer vorläufigen Metallbeschichtung
folgende Schritte:
1. Ätzen des Basismaterials, das vorher Entfettungsund sonstigen chemischen Behandlungen sowie
gegebenenfalls auch mechanischen Behandlungen, wie z. B. Flüssigkeitshonen u. dgl. unterzogen
worden ist. Diese Verfahren dienen dazu, die Oberfläche des Basismaterial entsprechend zu
konditionieren. Das Ätzen erfolgt durch Eintauchen des Basismaterials in eine Mischlösung
aus Chromsäuren und Schwefelsäure, wobei jedoch bei einer vorangegangenen mechanischen
Behandlung des Basismaterials das Ätzen wegfallen kann.
2. Sensibilisieren des geätzten Basismaterials durch dessen Eintauchen in eine Mischlösung aus Zinnchlorid
und Salzsäure.
3. Aktivieren des sensibilisierten Basismaterials durcli
Eintauchen desselben in eine Mischlösung aus Palladiumchlorid und Salzsäure und
4. Ausbildung eines vorläufigen Metallüberzuges auf dem aktivierten Basismaterial durch Eintauchen
desselben in eine chemische Badlösung, die Nickel- oder Kupfer-Ionen enthält, wobei sich
die Ablagerung von Metall auf dem Basismaterial aus der chemischen Badlösung auf
Grund der Reduktion der Metall-Ionen vollzieht. Der vorläufige Metallüberzug wird für den
darauffolgenden Galvanisiervorgang zur Schaffung einer elektrischen Leitfähigkeit auf dem
Basismaterial benötigt.
Jeweils zwischen den vorstehend geschilderten Verfahrensschritten wird ein Waschgang mit Wasser oder
warmem Wasser eingeschaltet.
Die bekannten chemischen Bäder, die zur Herstellung eines vorläufigen Nickelüberzuges auf dem
Basismaterial dienen, besitzen im allgemeinen die folgende Zusammensetzung:
Alkalische Bäder (g/l) Saure Bäder (g/l)
Nickelsulfat
Natriumhypophosphit
Glycin
Ammoniumsulfat
Bernsteinsäure
pH-Wert des Bades ..
Badtemperatur
Badtemperatur
20 bis 35 (vorzugsweise 23)
10 bis 25 (vorzugsweise 23)
5 bis 15 (vorzugsweise 7)
40 bis 70 (vorzugsweise 60)
7,5 bis 9,5 40 bis 500C 20 bis 25 (vorzugsweise 23)
10 bis 25 (vorzugsweise 23)
10 bis 25 (vorzugsweise 23)
8 bis 15 (vorzugsweise 10)
15 bis 25 (vorzugsweise 20)
4,5 bis 5,5 (vorzugsweise 5)
50 bis 700C
15 bis 25 (vorzugsweise 20)
4,5 bis 5,5 (vorzugsweise 5)
50 bis 700C
Das Nickelsulfat kann durch andere lösliche Nickel- 65 Weiterhin ist ein Verfahren zur Herstellung eines
salze, beispielsweise Nickelchlorid, in gleicher Menge Tauchbades für die stromlose Vernickelung von
wie das Sulfat, berechnet auf Nickelbasis, ersetzt metallischen und nichtmetallischen Werkstoffen bewerden.
kannt, bei dem das Tauchbad ein Nickelsalz, Natrium-
hypophosphit und ein Ammoniumsalz einer kurzkettigen Monocarbonsäure, besonders Ameisensäure,
enthält. Die kurzkettige Monocarbonsäure dient bei dem bekannten Verfahren zur Einstellung des pH-Wertes.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die bekannten Plattierverfahren zum Überziehen nichtmetallischer
Werkstücke mit Metallschichten zu vereinfachen und funktionssicher zu gestalten.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs beschriebenen Art dadurch gelöst, daß als
zweites Reduktionsmittel L-Ascorbinsäure und/oder Salze der L-Ascorbinsäure verwendet werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich dadurch aus, daß das Nickel-Hypophosphit-Bad ein
zweites spezielles Reduktionsmittel zusätzlich zu dem Hypophosphit als erstem Reduktionsmittel enthält,
wodurch der bisher erforderliche Sensibilisierungsschritt in Wegfall kommt und die vorstehend geschilderten
Nachteile, die die bekannten vorläufigen Metallüberzüge aufweisen, vermieden werden. Das
zweite Reduktionsmittel ist aus der Gruppe der l-Ascorbinsäure oder ihrer Salze gewählt, wobei diese
Substanzen in dem Bad L-Ascorbinsäure erzeugen.
Die im erfindungsgemäßen Verfahren verwendete neuartige chemische Plattierlösung wird dadurch
hergestellt, daß man einer wäßrigen Lösung, die im wesentlichen Nickel-Ionen, Hypophosphit-Ionen und
eine organische Säure oder deren Salze enthält, das zweite Reduktionsmittel hinzufügt. Ein nichtmetallisches
Basismaterial, das nur den eingangs geschilderten Ätzungs- und Aktivierungsschritten unterzogen worden
ist, wird in diese Badlösung eingetaucht, so daß sich darauf Nickel mit einem geringfügigen Gehalt an
Phosphor abscheidet.
Es wird vermutet, daß die Wirkungsweise der in dem erfindungsgemäßen Bad enthaltenen L-Ascorbinsäure
darauf beruht, daß sie eine selektive Reduktion der Palladium-Ionen mit sich vor dem Beginn der
Reduktion der Nickel-Ionen mit den Hypophosphit-Ionen bewirkt und dabei das Eindiffundieren der
Palladium-Ionen in die Plattierungslösung verhindert. Die L-Ascorbinsäure kann in der Badlösung in jeder
gewünschten Menge enthalten sein. Vorzugsweise werden jedoch Anteile an L-Ascorbinsäure von
3 bis 30 g/l, insbesondere 5 bis 20 g/I, gewählt. Die Säure kann auch durch ihre Salze oder auch durch
Substanzen ersetzt werden, die L-Ascorbinsäure erzeugen, wenn sie dem Bad als Bestandteil zugefügt
worden sind. Das Bad kann sauer oder alkalisch sein es erweist sich jedoch als stabil im sauren Zustand
und gibt besondere Vorteile bei einer Verwendung mit einem pH-Wert von 3 bis 6, vorzugsweise von
4 bis 5,5. Die Verwendung einer Badlösung mit einem pH-Wert von unter 3 gibt Anlaß zu einer niedrigeren
Ablagerungsgeschwindigkeit an Nickel.
Die Temperatur, bei der sich das Absetzen von Nickel auf dem Basismaterial aus der Badlösung mit
dem Gehalt an L-Ascorbinsäure oder deren Äquivalent als zweites Reduziermittel vollzieht, braucht
wegen des Vorhandenseins des zweiten Reduziermittels im Bad nicht verändert zu werden. Sie kann
vielmehr gleich gewählt werden, wie sie auch bei den bekannten Bädern üblich ist. Sie hängt folglich in der
Hauptsache von der Art des verwendeten Basismaterials ab und bewegt sich gewöhnlich in einem
Bereich von Zimmertemperatur bis etwa 60° C, vorzugsweise zwischen 40 und etwa 5O0C.
Nachfolgend wird die Erfindung an Hand durchgeführter Beispiele erläutert, in denen jeweils 10 Werkstücke
mit den Abmessungen 100 · 50 · 3 mm aus nichtmetallischem Basismaterial als zu plattierende
Teststücke verwendet wurden.
Die Probestücke bestanden aus ABS (plattierfähiger Zustand). Sie wurden folgenden Verfahrensschritten
nacheinander unterzogen:
1. Entfettung mit einem schwachen Alkali,
2. Waschen mit Wasser,
3. Eintauchen für eine Zeitdauer von 40 Minuten in eine Lösung, die auf folgende Weise hergestellt
worden war:
Hinzufügen von 30 g Chrom-Anhydrid zu je einem Liter einer aus Wasser und konzentrierter
Schwefelsäure in einem Verhältnis von 6:4 bestehenden Lösung und Erwärmen dieser Lösung
auf 6O0C.
4. Waschen mit Wasser,
5. zweiminütiges Eintauchen in eine Zimmertemperatur
aufweisende Lösung, die aus 0,1 g Palladiumchlorid und 0,1 cm3 konzentrierter Salzsäure
sowie 1,0 I Wasser hergestellt worden ist,
6. Waschen mit Wasser,
7. fünfminütiges Eintauchen in eine chemische Badlösung, die eine Temperatur von 4O0C besaß und
durch Zusammenmischen von 1,01 Wasser, 20 g Nickelsulfat (Heptahydrat), 15 g Natriumhypophosphit
(Undecahydrat), 10 g Adipinsäure und 10 g Natrium-L-Ascorbat hergestellt und auf
einen pH-Wert von 6 eingestellt worden war und
8. Waschen mit Wasser. Die Probestücke waren mit einer Nickelschicht überzogen, die Voraussetzung
für einen nachträglichen Galvanisiervorgang ist. Dieser Elektroplattier-Vorgang ist im allgemeinen
von der Art des bekannten Kupfer-Nickel-Chrom-Plattierens. Die Badzusammensetzung, die
verwendeten Temperaturen, die Stromdichten und ähnliche Parameter, die dabei von Bedeutung
sind, sind in der vorliegenden Beschreibung nicht erwähnt, da sie dem Fachmann geläufig sind.
Die vorstehend erwähnten Behandlungsschritte 1 bis 6 sind in den bekannten Plattierungsverfahren als
Teil enthalten. Allerdings können sich die Lösungen, die jeweils verwendet werden, hinsichtlich der Zusammensetzung
und der verwendeten Temperatur etwas unterscheiden.
In den nachfolgend beschriebenen Beispielen werde lediglich noch die Schritte erwähnt, in denen gegenüber
dem vorstehenden Beispiel unterschiedliche Betriebsbedingungen eingestellt worden waren.
Die bereits in Beispiel 1 geschilderten Verfahrensschritte wurden unter Verwendung von Probestücken
aus Polypropylen (plattierfähiger Zustand) durchgeführt. Es unterschieden sich die Schritte 5 und 7 von
dem Beispiel 1, und zwar in folgender Weise:
5. Dreiminütiges Eintauchen in eine Lösung mit einer Temperatur von 400C, die durch Auflösung
von 1 g Natrium-Palladiumchlorid in einem Liter Wasser erzeugt worden war und
7. dreiminütiges Eintauchen in einem Bad mit einer Temperatur von 30° C, das auf folgende Weise
hergestellt worden war:
Herstellung einer Lösung aus 16 g/l Nickelsulfat, 11 g/l Natriumhypophosphit, 6 g/l Zitronensäure,
2,5 g/l Borax und 3 g/l L-Ascorbinsäure und Einstellen der Lösung auf einen pH-Wert von 8 mittels
Natriumcarbonat.
B e i s ρ i e 1 3
Die Verfahrensscliritte des Beispiels 1 wurden erneut
durchgeführt, jedoch als Probestücke Glasplatten verwendet und die Verfahrensschritte 1 und 7 in folgender
Weise modifiziert:
1. Leichtes Anrauhen der Oberfläche der Probestücke
durch Flüssigkeitshonen ujd
7. dreiminütiges Eintauchen in ein Bad mit einer Temperatur von 60° C, das auf folgende Weise
hergestellt worden war:
Herstellung einer Lösung aus 20 g/l Nickelsulfai, 15 g/l Natriumhypophosphit, 15 g/l Natriumsuccinat
und 30 g/l L-Ascorbinsäure und Einstellen dieser Lösung auf einen pH-Wert von 4 mittels Natriumhydroxyd.
Es wurde der gleiche Verfahrensgang wie in Beispiel 1 unter Verwendung von Probestücken aus Epoxy-Kunstharz
durchgeführt und die Verfahrensschritte 1, und 7 folgendermaßen modifiziert:
1. Leichtes Anrauhen der Oberfläche der Probestücke durch Flüssigkeitshonen,
5. 40minütiges Eintauchen in eine Lösung mit einer Temperatur von 4O0C, bestehend aus 0,3 g/l
Palladiumchlorid und 0,2 cm3/l Salzsäure und
7. dreiminütiges Eintauchen in ein Bad mit einer Temperatur von 50° C, das folgendermaßen hergestellt
worden war:
Herstellung einer Lösung aus 15 g/l Nickelsulfat, 17 g/l Natriumhypophosphit und 5 g/l L-Ascorbinsäure
und Einstellen der Lösung auf einen pH-Wert von 5 mittels Natriumacetat.
Die Verfahrensschritte des Beispiels 1 wurden unter Verwendung von Probestücken aus Styrolkunstharz
durchgeführt, wobei die Verfahrensschritte 1, 5 und 7 folgendermaßen modifiziert wurden:
1. Fünfminütiges Ätzen in einer Lösung mit einer
Temperatur von 4O0C und einem pH-Wert von
5,0, die aus 600 g/l konzentrierter Schwefelsäure, 100 g/l Phosphorsäure, 300 g/l Wasser und 20 g/l
Kaliumdichromat.
5. Dreiminütiges Eintauchen in eine Aktivierungslösung von Zimmertemperatur aus 0,5 g/l Natrium-Palladiumchlorid
und 0,3 cm3/l Salzsäure und
7. zweiminütiges Eintauchen in eine chemische Badlösung mit einer Temperatur von 6O0C aus 30 g/l
Nickelchlorid (Hexahydrat), 10 g/l Natriumhypophosphit (Monohydrat), 3 cm3/! Milchsäure,
0,3cm3/l Propionsäure und 15 g/l L-Ascorbinsäure.
Die zehn mit Nickel überzogenen Probestücke, die in den vorstehend geschilderten Beispielen jeweils erhalten
wurden, erwiesen sich alle als voll zufriedenstellend hinsichtlich der Gleichförmigkeit des Überzuges
und des Glanzes. Sie zeigten keinerlei Oberflächenrauhigkeit.
Die nickelplattierten Probestücke aus ABS und aus Polypropylen, die durch die Versuche gemäß den Beispielen 1 und 2 erhalten wurden, wurden anschließend nickel- oder kupferplattiert. Der erzielte metallische Gesamtüberzug auf den Kunststoffprobestücken haftete fest und zeigte keinerlei Neigung zum Abschälen oder zum Auftreten von Blasen.
Die nickelplattierten Probestücke aus ABS und aus Polypropylen, die durch die Versuche gemäß den Beispielen 1 und 2 erhalten wurden, wurden anschließend nickel- oder kupferplattiert. Der erzielte metallische Gesamtüberzug auf den Kunststoffprobestücken haftete fest und zeigte keinerlei Neigung zum Abschälen oder zum Auftreten von Blasen.
Claims (4)
1. Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Nickel auf Kunststoffteilen, wobei diese zunächst
geätzt, aktiviert und sodann in einem Bad mit einem Gehalt an einem wasserlöslichen Nickelsalz,
Hypophosphit als erstem Reduktionsmittel und organischen Verbindungen vernickelt werden, dadurch
gekennzeichnet, daß als zweites Reduktionsmittel L-Ascorbinsäure und/oder Salze
der L-Ascorbinsäure verwendet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Bad das zweite Reduktionsmittel
in einer Menge von 3 bis 30 g/l, ermittelt auf der Basis der L-Ascorbinsäure, zugesetzt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad auf einen pH-Werl
von 3 bis 6 eingestellt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad auf einer
Temperatur zwischen Zimmertemperatur und 6O0C
gehalten wird.
25
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8935768 | 1968-12-06 | ||
JP8935768 | 1968-12-06 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1960964A1 DE1960964A1 (de) | 1970-07-16 |
DE1960964B2 true DE1960964B2 (de) | 1972-10-12 |
DE1960964C DE1960964C (de) | 1973-05-10 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1960964A1 (de) | 1970-07-16 |
US3664860A (en) | 1972-05-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |