DE1958331C3 - Verfahren zur Entfernung von Nahrungsmittelriickständen von Metallgeräten - Google Patents
Verfahren zur Entfernung von Nahrungsmittelriickständen von MetallgerätenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entfernung von Rückständen von Nahrungsmitteln von
Metallgeräten, die zu deren Zubereitung bei erhöhter
Temperatur verwendet werden, gemäß dem eine Reinigungslösung, die ein chloriertes organisches
Lösungsmittel, einen Aktivator dafür und Wasser enthält, auf die zu reinigende Oberfläche der Metallgeräte
aufgetragen und während einer Zeit und bei einer Temperatur damit in Berührung gehalten wird, die zur
Ablösung wenigstens eines Teils der Rückstände von der Oberfläche ausreicht
Bekanntlich werden Töpfe, Pfannen, Backbleche und ähnliche Kochgeräte normalerweise durch harte, zähe
Überzüge verkrustet, die nach Entnahme des Nahrungsmitteiprodukts
zurückbleiben. Dieses Verhalten zeigt sich noch ausgeprägter, wenn die Oberfläche des Geräts
Locher oder Kratzer bekommt, so daß Kerben entstehen, in denen sich das Nahrungsmittel mechanisch
verankern kann, wodurch die Haftung erhöht wird. Solche Oberzüge sind unerwünscht und müssen vor
erneuter Verwendung des Geräts entfernt werden. Die Reinigung ist ein zeitraubender Vorgang und stellt im
gewerblichen Betrieb infolge der vielen Geräte, die dabei gewöhnlich anfallen, und der Häufigkeit, mit der
sie gereinigt werden müssen, ein besonders ernsthaftes Problem dar. Ferner kommt es darauf an, daß das
Reinigungsverfahren sowohl in der Durchführung als auch in der Hinsicht sicher ist, daß schädliche
Rückstände oder Nebenprodukte vermieden werden, die nach beendeter Reinigung zurückbleiben können.
Verhältnismäßig häufig wird die Oberfläche solcher Geräte, die mit dem Nahrungsmittel in Berührung
kommt, mit Harzschichten oder -überzügen (zum Beispiel aus Siloxanpolymeren) versehen, um die
Ablösung des zubereiteten Produkts von der Oberfläche zu erleichtern. Die für solche Oberzüge zur Verfügung
in stehenden Werkstoffe sind zwar in vielen Fällen für eine
wiederholte Verwendung genügend dauerhaft, bei diesen Oberzügen besteht jedoch die Gefahr, daß sie
Kratzer oder Löcher bekommen oder abgescheuert werden, und dadurch das Problem eines mechanischen
ii und chemischen Verklebens mit dem Nahrungsmittel·'
auftritt Es kommt also ferner darauf an, daß ein Reinigungsverfahren die selektive Entfernung der
Nahrungsmittelrückstände ermöglicht, Harze wie die Siloxane jedoch praktisch intakt läßt
jo Aus der GB-PS 10 21 863 ist ein zu versprühendes
Aerosolreinigungsmittel für Backöfen bekannt, das ein als alkalisches Verseifungsmittel dienendes Atnin
enthält und dazu verwendet werden soll, die in dem Backofen enthaltenen Rückstände und insbesondere
>5 Fette durch Verseifen abzubauen und zu entfernen.
In der CH-PS 342 814 ist ein Verfahren zur Reinigung verschmutzter Metallteile und insbesondere
Verbrennungskraftmaschinen beschrieben, deren Oberflächen festhaftende Verschmutzungen, wie Ölkohle,
ίο aufweisen. Zur Reinigung der genannten Metallteile
wird nun ein Lösungsmittelgemisch eingesetzt, das einen Halogenwasserstoff und einen cyclischen Alkohol,
der keine phenolische Hydroxylgruppe aufweist, enthält
r> Die GB-PS 9 73 661 beschreibt die Beseitigung von
Fett und öl von verschiedenen Oberflächen mit Hilfe einer Mischung aus einem halogenierten Kohlenwasserstoff
und einem kationischen, oberflächenaktiven Mittel, in der Wasser in geringer Menge in suspendierter oder
4Ii vermischter Form vorliegt
In der US-PS 25 07 985 ist ein Mittel zum Abbeizen von Farben oder Lacken bekannt, das ein bestimmtes
chloriertes Lösungsmitsel, bestimmte organische Säuren als Aktivator dafür und eine kritische Menge Wasser
enthält Eine ähnliche Beizlösung ist in der US-PS 25 07 984 beschrieben.
Es ist festzustellen, daß in keiner der Entgegenhaltungen
ein Verfahren zur Entfernung von Nahrungsmittelrückständen von Kochgerätschaften, die insbesondere
mit Siloxanharzen beschichtet sind, angibt, bei dem weder für die Nahrungsmittelprodukte toxische Produkte
verwendet werden noch die Siloxanharzschicht der Kochgerätschaften angegriffen wird.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht
μ somit darin, ein Reinigungsverfahren für Kochgerätschaften
anzugeben, mit dem die hartnäckig anhaftenden, harten und zähen Nahrungsmittelrückstände von
der Oberfläche von Töpfen, Pfannen, Backblechen u. dgl. einfach, schnell, sauer und rückstandslos entfernt
ho werden können, ohne daß eine Schädigung der zu
reinigenden Oberfläche verursacht wird und ohne daß Produkte eingesetzt werden, die nach der Reinigung
schädliche Röckstände oder Nebenprodukte hinterlassen.
(<ί Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das
eingangs erwähnte Verfahren gelöst, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man eine Reinigungslösung
verwendet, die 0,1 bis 40,0 Gew.-% Ameisensäure,
Essigsäure, Trichloressigsäure, Adipinsäure, Benzoesäure,
Zitronensaure, Apfelsäure, Salicylsäure, Gerbsäure,
Weinsäure, Fumarsäure, Glukonsäure, Propionsäure,
Buttersäure, Zimtsäure oder Mischungen davon, Methylamin,
Monoäthanolamin, Cyclohexylamin, Propylendiamin oder Äthylendiamin als Aktivator und 99,9 bis
60,0 Gew.-% Methylenchlorid, Chloroform, Monochlorbenzol,
o-Dichlorbenzol oder ein Gemisch davon
enthält, und der Reinigungslösung Wasser in einer Menge zusetzt, die zur Bildung einer Zweiphasenmischung
mit einer das Verdampfen des Lösungsmitteis einschränkenden Wasserschicht mit einer Dicke von
mindestens etwa 13 mm über der Lösung ausreicht
Vorzugsweise verwendet man erfindungsgemäß eine Reinigungslösung, die 0,4 bis 7,0 Gew.-% des Säureoder
Amin-Aktivators enthält
Einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung zufolge wird eine Reinigungslösung verwendet,
die außerdem etwa 0,1 bis 5,0 Gew.-% eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels enthält
Vorzugsweise enthält die Reinigungslösung 70,0 bis 99,5 Gew.-% urt«5 noch bevorzugter 85,0 bis 96,5
Gew.-% Methylenchlorid, Chloroform, Monochlorbenzol,
o-Dichlorbenzol oder ein Gemisch davon. Die vorstehend genannten Lösungsmittel können in Mischung
miteinander verwendet werden, wobei vorzugsweise Methylenchlorid als einziges Lösungsmittel oder
wenigstens als überwiegender Anteil einer Mischung der genannten Lösungsmittel verwendet wird. So wurde
gefunden, daß durch Methylenchlorid die Flammpunkte leichter entflammbarer Lösungsmittel, die in Verbindung
damit verwendet werden können, sehr wirksam erhöht werden !rönnen. Im allgemeinen ist die
Reinigungswirkung der organischen Lösungsmittel für die erfindungsgeinäßen Zwecke Gern Chlorsubstitutionsgrad
und der Kettenlänge umgekehrt proportional. Aus verständlichen Gründen soll das organische
Lösungsmittel keinen toxischen Rückstand auf der Oberfläche des zu reinigenden Gerätes hinterlassen und
soll nicht brennbar sein oder wenigstens einen genügend hohen Flammpunkt haben, so daß die
Wahrscheinlichkeit von Explosionen auf ein Minimum beschränkt wird Methylenchlorid hat in dieser Hinsicht
vorteilhafte Eigenschaften.
Der als zweiter wesentlicher Bestandteil der erfindungsgemäßen
Reinigungslösung eingesetzte Säureoder Amin-Aktivator wird insbesondere in einer Menge
von 1,0 bis 2J5<¥o, bezogen auf das Gesamtgewicht der
Lösung, verwendet
Es wird angenommen, daß solche Aktivatoren das Vordringen des Lösungsmittels durch den unerwünschten
Rückstand erleichtern und dadurch seine Wirkung verstärken. Die wirksamsten Aktivatoren sind die
organischen Säuren, von denen Ameisensäure bevorzugt wird. Ein Nachteil, der bei Verwendung der Amine
auftreten kann, ist ihre Neigung zur Umsetzung mit Formaldehyd, der durch Hydrolyse von Methylenchlorid
entstehen kann. Es ist zu beachten, daß die organische Säure oder das Amin keinen toxischen
Rückstand hinterlassen und in Lösung beständig sein sollten. Von den erfindungsgemäß eingesetzten Aktivatoren
ist Ameisensäure bevorzugt
Die bevorzugten Reinigungslösungen enthalten außer den vorstehend genannten Bestandteilen verhältnismäßig
geringe Mengen eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels, die vorzugsweise 0,5 bis 1,5 Gew.-%,
bezogen auf das Gewicht der gesamten Lösung, beträgt Beispiele für solche oberflächenaktiven Mittel sind die
langkettigen polaren Verbindungen, wie Octylphenoxypolyäthoxyäthanol,
die Alkalimetallsalze von Alkylarylpolyäthersulfaten
und Triäthanolaminlaurylsulfat, Fluorkohlenstoffverbindungen, wie Fluoralkohole und
■> 9-Hydroperfluornonansäure, Silikone, wie Silikonfette
und -öle, und verschiedene andere bekannte, im Handel
erhältliche oberflächenaktive Mittel.
Zusätzlich zu dem chlorierten Lösungsmittel können zu 10,0% und vorzugsweise etwa 1,0 bis 5,0% eines
ι» polaren organischen Lösungsmittels, bezogen auf das
Gewicht der Lösung, verwendet werden. Geeignet sind Stoffe wie Methanol, Äthanol, Dimethylsulfoxid und
dergleichen, die als »Cosolventien« für die chlorierten organischen Lösungsmittel bekannt sind, es wird jedoch
π darauf hingewiesen, daß diese Verbindungen, wenn sie
in den bevorzugten Mengen vorhanden sind, offenbar mehr als Aktivatoren als als Cosolventien wirken.
Schließlich wird darauf hingewiesen, daß auch weitere Zusätze, zum Beispiel Verdickungsmittel,
dampfdrucksenkende Mittel, Wachse, wasserl&sliche
oberflächenaktive Mittel u.dgl. zur Abänderung der Eigenschaften oder der Wirkungsweise der Reinigungslösungen zugesetzt werden können.
In vielen Fällen, beispielsweise wenn Methylenchlorid als chloriertes organisches Lösungsmittel verwendet wird, haben die Lösungen einen hohen Dampfdruck und zeigen daher bei den Betriebstemperaturen eine starke Neigung zum Verdampfen. Daraus ergeben sich häufig ernsthafte Schwierigkeiten, besonders bei einem Lö-
In vielen Fällen, beispielsweise wenn Methylenchlorid als chloriertes organisches Lösungsmittel verwendet wird, haben die Lösungen einen hohen Dampfdruck und zeigen daher bei den Betriebstemperaturen eine starke Neigung zum Verdampfen. Daraus ergeben sich häufig ernsthafte Schwierigkeiten, besonders bei einem Lö-
!<> sungsmittel wie Methylenchlorid, das schädliche Dämpfe
bildet und zweckmäßig bei einer Temperatur angewandt wird, die in der Nähe seines Siedepunkts
liegt Zwar können durch Verdampfung bedingte Schwierigkeiten durch Zusatz von dampfdrcicksenken-
r. den Mitteln in den Lösungen gemindert werden, ein
solches Vorgehen ist jedoch aus wirtschaftlichen und technischen Gründen häufig unerwünscht Bei der
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es deshalb notwendig, in Kombination mit der organischen
4i) Lösung Wasser in einer Menge zu verwenden, die
größer als die in der Lösung lösliche Menge ist
Gemäß der beanspruchten Arbeitsweise wird der organischen Lösung Wasser in einer Menge zugesetzt,
die zur Bildung eines Zweiphasenbades mit einer
ii Wasserschicht über der Lösung, welche eine Dicke von
wenigstens 13 mm hat ausreicht Reinigungsbäder dieser Art sind nicht nur im Hinblick darauf günstig, daß
das erzeugte Volumen an schädlichen Dämpfen stark vermindert wird, sondern auch wegen des vorteilhaften
w Einflusses des gelösten Wassers auf die Reinigungswirkung.
Da in 100 g Methylenchlorid bei Raumtemperatur etwa 6 g Wasser löslich sind, sollen die wäßrigen
Zusammensetzungen mehr als etwa 10,0 Gew.-% Wasser enthalten, damit sich die gewünschte eigene
r. wäßrige Phase bildet Es ist zu beachten, daß zwar mit großen Mengen Wasser ein besserer Schutz gegen
Verdampfung erzielt wird, daß es aber ungünstig ist wenn sich zuviel Aktivator in der wäßrigen Phase löst
Aus diesem Grund und um ein allzu großes Flüssigkeits-
Mi volumen zu vermeiden, soll die Wassermenge verhältnismäßig
klein gehalten werden. Deshalb bilden etwa 50% und vorzugsweise etwa 30% eine praktische obere
Grenze für das Wasser zur Erzeugung des Bads, wobei in cüen Fällen die Wassermenge auf das Gewicht der
nichtwäßrigen Bestandteile der Lösungsmittellösung bezogen sind.
Wie bereits angegeben wurde, wird zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zunächst eine
Lösung der oben genannten Bestandteile hergestellt und dann auf die Oberfläche der Geräte aufgebracht, auf
denen sich der unerwünschte Rückstand befindet Der Auftrag der Reinigungszubereitung kann nach jeder
geeigneten Methode erfolgen, am zweckmäßigsten wird jedoch der zu reinigende Gegenstand in ein Zweiphasenbad
eingetaucht, das aus der Lösung und einer darauf befindlichen Wasserschicht besteht.
Die chlorierte organische Lösung wird zwar hierin als
»Lösungsmittel«-Lösung bezeichnet, dieser Begriff ist
jedoch nicht so zu verstehen, daß die Lösung vollkommen als Lösungsmittel für den Nahrungsmittelnlckstand
wirkt Es wird angenommen, daß der Rückstand gewöhnlich nicht vollständig gelöst wird,
sondern lediglich durch Auflösung nur eines Teils des Rückstandes von der Oberfläche des Geräts abgelöst
wird Es ist deshalb am zweckmäßigsten, das Verfahren mit einer Spülstufe abzuschließen. Am zweckmäßigsten
wird das Spülen so durchgeführt, daß ein Strom aus heißem oder warmem Wasser gegen die behandelte
Oberfläche gerichtet wird, um jedes noch vorhandene Material abzuwaschen. Dann wird das Gerät von selbst
trocknen gelassen oder zwangsgetroc'uiet, wodurch
eine saubere Oberfläche erhalten wird, auf der sich keine unerwünschten Rückstände oder Nebenprodukte
befinden.
Ein maximaler Wirkungsgrad wird erzielt, wenn zwischen dem zu reinigenden Gerät und der Reinigungslösung
eine relative Bewegung erzeugt wird. Eine solche Bewegung kann in jeder geeigneten Weise
hervorgerufen werden, beispielsweise durch Bewegung des Gegenstands oder durch Rühren der Flüssigkeit; es
ist am besten, so vorzugehen, daß die Phasengrenzfläche nicht übermäßig gestört wird. Besonders vorteilhaft ist
eine Betriebsweise, bei der die relative Bewegung durch Ultraschall erzeugt wird, da dadurch die Reinigungswirkung
bei minimaler Verteilung und Unterbrechung der Wasserschicht stark verbessert wird.
Die erforderliche Kontaktdauer hängt weitgehend von der Temperatur ab, bei der die Lösung benutzt wird.
Im allgemeinen ist ein Betrieb bei jeder Temperatur zwischen Umgebungstemperaturen und einer etwas
unter dem Siedepunkt der Lösung liegenden Temperatur geeignet, und die Kontaktdauer liegt unter solchen
Bedingungen gewöhnlich in einem Bereich von etwa 1 — 15 Minuten. Wenn die Ablagerung besonders zäh ist,
kann fine Kontaktdauer von etwas mehr als 15 Minuten
erforderlich sein, während für geringe Ablagerungen oder wenn die Lösung verhältnismäßig heiß ist, Zeiten
von weniger als 1 Minute genügen können. Im optimalen Fall sind die Betriebsbedingungen so gewählt,
daß ein Gleichgewicht zwischen der für eine angemessene Reinigung erforderlichen Zeit und den Temperaturen,
bei denen der Betrieb am einfachsten und sichersten ist, erzielt wird.
Es ist ein besonders überraschender Vorteil der Erfindung, daß durch ihre Anwendung Geräte, die mit
Harztrennschichten versehen sind, gründlich gereinigt werden können, ohne daß das Überzugsmaterial
entfernt oder ernsthaft beschädigt v/ird. Dadurch kann von den Vorteilen der Trennüberzüge ohne die
Schwierigkeiten und den Aufwand Gebrauch gemacht werden, die mit wiederholtem Auftrag von frischem
Harz verbunden sind. Da der Überzug nicht gelöst wird, wird ferner die Gebrauchsdauer der Reinigungsmischung
verringert, da sie nicht durch das Überzugsharz verunreinigt wird. Die gebräuchlichsten Harze, die als
Trennüberzug oder -schicht auf Kochgeräte aufgebracht werden, sind die Siliconpolymeten oder genauer
die gehärteten Siloxanharze, aber auch andere Polymere,
zum Beispiel Tetrafluoräthylenharze werden für diesem Zweck verwendet
■\ Es wird darauf hingewiesen, daß der Begriff »Gerät«
oder »Kochgerät«, wie er hierin verwendet wird, Töpfe, Pfannen, Backbleche, Roste u.dgl. umfaßt Ferner
gehören dazu Produkte mit Schichtaufbau, zum Beispiel Kombinationen aus einer Metallfolie und einem
in (unlöslichen) Kunststoff und Geräte mit Keramiküberzügen.
Durch die folgenden Beispiele wird die Erfindung näher erläutert. Angaben über Teile und Prozentsätze
beziehen sich auf das Gewicht wenn nichts anderes
is angegeben ist
Eine Reihe von Zubereitungen wird unter Verwendung von etwa 180 Teilen Methylenchlorid, etwa 2,0
21) Teilen anionischem öllöslichem oberflächenaktivem
Triäthanolaminlaurylsulfat, verschiedenen Menger.,
nämlich 1,18; 2,18; 3,18; 5,0; i*5; 7,0; 8,0; 10,0; 20.0
Gewichtsteilen einer 85%igen wäßiigen Ameisensäurelösung
und jeweils einer solchen Menge Wasser
ι-, hergestellt daß diese zur Bildung einer wäßrigen
Schicht mit einer Dicke von etwa 13 mm über der organischen Phase nach Einstellung des Phasengleichgewichts
ausreicht Da Ameisensäure sowohl in Wasser als auch in Methylenchlorid löslich ist wird nur ein Teil
j» der zugesetzten Gesamtmenge in der organischen
Phase gelöst
Die so erhaltenen Zubereitungen werden bei Raumtemperatur als Reinigungsbad verwendet Backformen,
die mit einem handelsüblichen Siloxanüberzug
γ, beschichtet sind und auf ihrer Innenseite einen
Rückstand aufweisen, der von darin gebackenem Brot stammt werden in jede der verschiedenen Zubereitungen
eingetaucht und etwa 5 bis 15 Minuten lang darin bewegt bis offenbar äquivalente Reinigungsgrade
erreicht sind Dann werden sie aus den Bädem herausgenommen und mit einem Strom heißen Wassers
unter Druck gespült In jedem Fall wird der Rückstand vollständig entfernt und der Siloxanüberzug bleibt
unversehrt Nach dem Trocknen läßt sich kein Nebenproduktfilm oder anderer Rückstand nachweisen.
Der Reinigungsgrad steigt merklich au, wenn die Ameisensäuremenge in dem Bad auf etwa 433 Teile,
d. h. etwa 2,35%, zunimmt Bei höheren Konzentrationen wird keine wesentliche Zunahme mehr beobachtet
wiederholt, das Rühren wird jedoch dabei durch
«.ur Erzielung einer sauberen Pfanne erforderlich ist
wird beträchtlich vermindert
Außer den vorstehend beschriebenen Bädem werden
wi zahlreiche weitere Bäder unter Verwendung anderer chlorierter organischer Lösungsmittel, anderer Aktivatoren
und anderer oberflächenaktiver Mittel beeilet, die weitere Additive, besonders etwa 04% eines
Ozokeritwachses zur Verzögerung der Verdampfung hi und etwa 2,6% Methylalkohol als Cosolvens oder
Aktivator enthaUen.
Die chlorierten Lösungsmittel, mit denen die besten Ergebnisse erzielt werden, sind Chloroform, Mono-
chlorbenzol und o-Dichlorbenzol. Saure Aktivatoren,
die anstelle von Ameisensäure mit vergleichbaren oder
zumindest guten Ergebnissen verwendet werden können, sind Eisessig, Trichloressigsäure, Adipinsäure,
Benzoesäure, Zitronensäure, Äpfelsäure, Salicylsäure, Gerbsäure, Weinsäure, Fumarsäure und Gluconsäure.
Geeignete Amine, die stattdessen verwendet werden können, sind Methylamin, Monoäthanolamin, Cyclohexylamin,
Propylendiamin und Äthylendiamin.
Die wirksamsten oberflächenaktiven Mittel, die anstelle des in den vorstehenden Beispiel angegebenen
Sulfatderivats verwendet werden können, sind Octylphenoxypolyäthoxyäthanol.
Natriumsalze von Alkyla-
rylpolyäthersulfaten, Fluoralkohole und 9-Hydroperfluornonansäure.
Daraus ist zu ersehen, daß durch die Erfindung ein Verfahren zur einfachen und wirksamen Entfernung der
s Rückstände geschaffen wird, die auf Geräten, die zur Zubereitung von Nahrungsmitteln bei erhöhten Temperaturen
verwendet werden, entstehen. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht die selektive Entfernung
solcher Rückstände von Geräten mit einem Siloxanharzüberzug auf ihrer Oberfläche, ohne daß das
Überzugsmaterial merklich geschädigt wird, und ist sicher, da es keine toxischen Rückstände oder
Nebenprodukte hinterläßt.
Claims (3)
1. Verfahren zur Entfernung von Rückständen von Nahrungsmitteln von Metallgeräten, die zu deren
Zubereitung bei erhöhter Temperatur verwendet werden, gemäß dem eine Reinigungslösung, die ein
chloriertes organisches Lösungsmittel, einen Aktivator dafür und Wasser enthält, auf die zu reinigende
Oberfläche der Metallgeräte aufgetragen und während einer Zeit und bei einer Temperatur damit
in Berührung gehalten wird, die zur Ablösung wenigstens eines Teils der Rückstände von der
Oberfläche ausreicht, dadurch gekennzeichnet,
daß man eine Reinigungslösung verwendet, die 0,1 bis 40,0 Gew.-% Ameisensäure,
Essigsäure, Trichloressigsäure, Adipinsäure, Benzoesäure, Zitronensäure, Apfelsäure, Salicylsäure, Gerbsäure,
Weinsäure, Fumarsäure, Glukonsäure, Propionsäure, Buttersäure, Zimtsäure oder Mischungen
davon, Methylamin, Monoäthanolamin, Cyclohexylamin,
Propylendiamin oder Äthylendiamin als Aktivator und 993 bis 60,0 Gew.-% Methylenchlorid,
Chlorofonn, Monochlorbenzol, o-Dichlorbenzol
oder ein Gemisch davon enthält, und der Reinigungslösung Wasser in einer Menge zusetzt, die zur
Bildung einer Zweiphasenmischung mit einer das Verdampfen des Lösungsmittels einschränkenden
Wasserschicht mit einer Dicke von mindestens etwa 13 mm über der Lösung ausreicht
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß man eine Reinigungslösung verwendet, die 0,4 bis 7,0 Gew.-% des Säure- oder Amin-Aktivators
enthält
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Reinigungslösung
verwendet die außerdem etwa 0,1 bis 5,0 Gew.-% eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels enthält
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