DE1815457A1 - Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten

Info

Publication number
DE1815457A1
DE1815457A1 DE19681815457 DE1815457A DE1815457A1 DE 1815457 A1 DE1815457 A1 DE 1815457A1 DE 19681815457 DE19681815457 DE 19681815457 DE 1815457 A DE1815457 A DE 1815457A DE 1815457 A1 DE1815457 A1 DE 1815457A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
allyl
layer
polymer
printing
diallyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19681815457
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Burnett Leo Seth
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FMC Corp
Original Assignee
FMC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FMC Corp filed Critical FMC Corp
Publication of DE1815457A1 publication Critical patent/DE1815457A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
DE19681815457 1967-12-18 1968-12-18 Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten Pending DE1815457A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US69116467A 1967-12-18 1967-12-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1815457A1 true DE1815457A1 (de) 1969-07-24

Family

ID=24775414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681815457 Pending DE1815457A1 (de) 1967-12-18 1968-12-18 Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten

Country Status (9)

Country Link
AT (1) AT294136B (es)
BE (1) BE725171A (es)
CH (1) CH500514A (es)
DE (1) DE1815457A1 (es)
ES (1) ES361574A1 (es)
FR (1) FR1599162A (es)
GB (1) GB1217756A (es)
IL (1) IL31102A (es)
NL (1) NL6818139A (es)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2446098A1 (de) * 1973-10-10 1975-04-17 Hercules Inc Verfahren zur herstellung von druckplatten und nach dem verfahren hergestellte druckplatten
DE2725461A1 (de) * 1977-04-18 1978-10-19 Norris Eldon Cott Vorrichtung zum aufbau einer pruefstation zum ueberwachen unterirdisch verlegter pruefdraehte

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4568734A (en) * 1983-02-15 1986-02-04 Eastman Kodak Company Electron-beam and X-ray sensitive polymers and resists
DE102004004865B4 (de) * 2004-01-30 2008-01-10 Qimonda Ag Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2446098A1 (de) * 1973-10-10 1975-04-17 Hercules Inc Verfahren zur herstellung von druckplatten und nach dem verfahren hergestellte druckplatten
DE2725461A1 (de) * 1977-04-18 1978-10-19 Norris Eldon Cott Vorrichtung zum aufbau einer pruefstation zum ueberwachen unterirdisch verlegter pruefdraehte

Also Published As

Publication number Publication date
GB1217756A (en) 1970-12-31
NL6818139A (es) 1969-06-20
CH500514A (de) 1970-12-15
ES361574A1 (es) 1970-11-01
BE725171A (es) 1969-05-16
IL31102A0 (en) 1969-01-29
IL31102A (en) 1972-05-30
AT294136B (de) 1971-11-10
FR1599162A (es) 1970-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0027612B1 (de) Fotopolymerisierbare Gemische und daraus hergestellte lichthärtbare Elemente
DE2039861C3 (de) Photopolymensierbare Kopier masse
DE954127C (de) Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten
DE1140080B (de) Platte zur Erzeugung von Reliefdruckformen durch Photopolymerisation
DE1031130B (de) Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen
DE3710210C2 (de) Lichtempfindliches bilderzeugendes Material
DE2215090B2 (de) Fotopolymerisierbares Aufzeich nungsmatenal
DE2064080A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2347784B2 (de) Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE2856282C2 (de) Reliefdruckform aus fotogehärtetem Harz
DE2617124C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
DE2714218C3 (de) Lichthärtbare Masse
DE2449172C3 (de) Vorsensibiiisierte Flachdruckplatte
DE2362005A1 (de) Verfahren zum wasserfestmachen von photopolymeren druckplatten
DE2615055B2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE69129171T2 (de) Verfahren zur dimensionellen Stabilisierung von Photopolymer-Flexodruckplatten
DE2902276A1 (de) Strahlungsempfindliches laminat mit abbildbarem relief
DE1905012C3 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs
DE3382630T2 (de) Lichtempfindliche elastomere kunststoffzusammensetzung fuer flexographische druckplatten.
EP0318780A2 (de) Lichtempfindliche Druckplatte für den Flexodruck
DE1815457A1 (de) Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten
DE2631837C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch, dessen Verwendung zur Herstellung von Flexodruckformen und eine Flexodruckplatte
EP0467135B1 (de) Photopolymersierbare Druckplatte für den Flexodruck
EP0467136B1 (de) Photopolymerisierbare Druckplatte für Flexodruck
DE2061287A1 (de) Verfahren zur Herstellung von tiefenvariablen Tiefdruckformen