DE1797308C3 - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch

Info

Publication number
DE1797308C3
DE1797308C3 DE1797308A DE1797308A DE1797308C3 DE 1797308 C3 DE1797308 C3 DE 1797308C3 DE 1797308 A DE1797308 A DE 1797308A DE 1797308 A DE1797308 A DE 1797308A DE 1797308 C3 DE1797308 C3 DE 1797308C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
solution
exposed
printing
alkyl
photosensitive mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1797308A
Other languages
English (en)
Other versions
DE1797308B2 (de
DE1797308A1 (de
Inventor
Roland Dr. 6200 Wiesbaden Dietrich
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DEK63857A priority Critical patent/DE1296975B/de
Priority to SE08639/68A priority patent/SE349406B/xx
Priority claimed from SE08877/68A external-priority patent/SE356610B/xx
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE1797308A priority patent/DE1797308C3/de
Priority to NL6815475A priority patent/NL6815475A/xx
Priority to BE723474D priority patent/BE723474A/xx
Priority to US773971A priority patent/US3615630A/en
Priority to AT1078568A priority patent/AT288858B/de
Priority to GB52975/68A priority patent/GB1208190A/en
Priority to FR1591359D priority patent/FR1591359A/fr
Publication of DE1797308A1 publication Critical patent/DE1797308A1/de
Publication of DE1797308B2 publication Critical patent/DE1797308B2/de
Publication of DE1797308C3 publication Critical patent/DE1797308C3/de
Application granted granted Critical
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F38/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more carbon-to-carbon triple bonds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/025—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

RO C=C- ϊ
enthält, worin R = H. Alkyl. Aryl oder Acyl. R'= H, Alkyl, Aryl oder
OR5
mit R5 = Alkyl, Ri, R2, Rj, Rt = gleich oder verschieden sind und Alkyl, Aryl oder jeweils Ri, R2 und Rj, R» Glieder eines ankondensierten aromatischen Ringes bedeuten, die durch NH2, NO2, OH, OR mit R = Alkyl, oder Cl substituiert sein können, gemäß deutschem Patent 12 96 975, dadurch gekennzeichnet, daß es außer den Äthinylchinolen an sich bekannte, äthylenisch ungesättigte, photopolymerisierbare Verbindungen enthält.
2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,1—75 Gew.-°/o Äthinylchinole, 0,1—99 Gew.-% äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindungen und 0-90Gew.-% Bindemittel enthält.
3. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es 1-20 Gew.-% Äthinylchinole, 0,1-99 Gew.-% äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindungen und 0-70 Gew.-% Bindemittel enthält.
Der Gegenstand des Hauptpatentes 12 96 975 ist ein lichtempfindliches Gemisch aus einer photopolymerisierbaren Verbindung und einem Bindemittel, sowie durch Beschichtung von Trägern daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und ist dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch als photopolymerisierbare Verbindung eine oder mehrere — gegebenenfalls substituierte - Äthinylgruppen enthaltende Chinole der Formel
KO
K,
ir
R,
κ,
-CH=C
OR,
enthüll, worm K II. Alkyl. Aryl mli-r /VyI. R II.
mit Rs = Alkyl, Ri, R2, R3, R* = gleich oder verschieden sind und Alkyl, Aryl oder jeweils Ri, R2 und Rj, R4 Glieder eines ankondensierten aromatischen Ringes bedeuten, die durch NH2, NO3, OH, OR mit R = Alkyl, oder Cl substituiert sein können.
Das lichtempfindliche Gemisch gemäß Hauptpatent aus einer photopolymerisierbaren Verbindung und einem Bindemittel zeigt unter der Wirkung von Strahlung geeigneter Wellenlänge eine Veränderung seiner Löslichkeit sowie eine Farbreaktion, se daß die nicht vom Licht getroffenen Stellen löslich bleiben. Das damit hergestellte lichtempfindliche Material kann zur Herstellung von Kopien oder nach einer entsprechenden Nachbehandlung zur Herstellung von Druckformen verwendet werden.
Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines lichtempfindlichen Gemisches mit den Vorteilen des im Hauptpatent angegebenen Gemisches, das jedoch chemisch einfacher aufgebaute und daher billigere Bestandteile als das Gemisch des Hauptpatents enthält. Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen jo Gemisch gemäß dem Hauptpatent und ist dadurch gekennzeichnet, daß es außer den Äthinylchinolen an sich bekannte, äthylenisch ungesättigte, photopolymerisierbare Verbindungen enthält
Wie gefunden wurde, kann der Anteil der einzelnen Γι Komponenten in weiten Grenzen variiert werden. So kann die Menge der äthylenisch ungesättigten photopolymerisierbaren Verbindung, bezogen auf das Gesamtgewicht, 0,1 bis 99 Gew.-%,die der Äthinylchinole 0,1 bis 75, vorzugsweise I bis 20%, und die des Bindemittels 0 bis 90, vorzugsweise 0 bis 70%, neben den geringen Zusätzen von an sich bekannten Sensibilisatoren, Polymerisationsinhibitoren u. dgl. in den üblichen Mengen von 0,001 bis 5% betragen.
Als äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare 4Ί Verbindungen sind die für diese Zwecke an sich bekannten Substanzen verwendbar, wie insbesondere Acrylamide, ζ. Β.
N-tert.-Buylacrylamid,
Diacetonacrylamid,
-,0 Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid,
Ν,Ν-Hexamethylen-bis-acrylamid;
Methacrylamide, ζ. Β.
N-n-Butylmelhacrylamid,
Isobutyliden-bis-methacrylamid,
v> Ν,Ν'-Äthylen-bis-methacrylamid,
N.N'-Hexamethylen-bis-methancrylamid;
Acrylsäureester, ζ. Β.
Butylacrylat, Glycidylacrylat,
Octylacrylat, Äthylenglycoldiacrylat,
ho Polyäthylenglycoldiacrylat,
Tfirnethylölpröpantriaerylat sowie
Neopentylglycoldimethacrylat und
Trimethylolpropantrimethacrylat.
Ferner Vinyliither, Vinylester, Allylvcrbimliingen. ·>■■ Vinylhalogenide wie beispielsweise Vinylchlorid.
Eine besonders bevorzugte Gruppe von polymerisierbaren Monomeren, welche den Schichten einverleibt werden können, sind die Ester und Amide von
Acrylsäuren, welche die ungesättigte Gruppierung mindestens zweimal enthalten.
Die Äthinylchinole haben gleichzeitig die Punktion einftr photopolymerisierbaren Verbindung als auch die eines Photoinitiators. Gegenüber anderen an sich bekannten Verbindungen dieser Art haben sie den Vorteil, daß sie in organischen Solventien leicht löslich sind, nicht zur Kristallisation neigen, in mehreren Fällen sogar filmbildende Eigenscharten aufweisen, so daß sie auch in größeren Mengen in den Schichten verwendet werden können. Wie aus den folgenden Beispielen zu entnehmen ist, ist ihre polymerisationsauslösende Wirkung ausgezeichnet, so daß ein flüssiges Monomeres in wenigen Sekunden völlig durchpolymerisiert ist Da die Verbindungen Photoinitiatoren und Monomeres in einem Molekül darstellen, vermögen sie sich selbst zur Polymerisation anzuregen, was zur Folge hat, daß die entstehenden Polymeren nicht Homopolymere sondern Copolymere sind. Dadurch ergibt sich der Vorteil, daß diese Verbindungen puch ohne weitere Initiatoren oder Sensibilisatoren verwendet werden können. Da das gebildete Copolymere ferner, wie bereits erwähnt, farbig ist, werden deutlich sichtbare Bilder erhalten, wodurch die weitere Verarbeitung wesentlich erleichtertwird. 2i
Als Bindemittel können in Übereinstimmung mit dem Hauptpatent alle in der einschlägigen Technik an sich bekannten Substanzen verwendet werden. Zweckmäßig erscheint es, ein solches Bindemittel zu verwenden, das saure Gruppen enthält, so daß es in alkalischen jo Entwicklern löslich ist. So können Copolymerisate aus Styrol und Maleinsäureanhydrid odercarboxylgruppenhaltige Polyvinylacetat^ ferner HyiLogenphthalate oder modifizierte Cellulosederivate und andere Verwendungfinden. Γ>
Es können aber auch neutrale Bindemittel eingesetzt werden, z. B. Polyamide oder Polyacrylate, die dann eine Tauchentwicklung mit geeignetem Lösungsmittel benötigen.
Zur Herabminderung der polymerisationshemmen- -10 den Wirkung des molekularen Sauerstoffs der Luft kann die Diffusion desselben in die Schichten durch einen dünnen Überstrich von Polyvinylalkoholen beschränkt werden. Die Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials wird nach an sich in der r> Reproduktionstechnik üblichen Verfahren vorgenommen. Außer zur Herstellung von Kopiermaterial und Flachdruckformen können die erfindungsgemäßen Verbindungen verwendet werden zur Herstellung von Ätzschichten, Hochdruckformen und gedruckten Schal- >o tungen. Insbesondere für die letztgenannten Anwendungsformen kann es vorteilhaft sein, wenn das lichtempfindliche Gemisch als solches in fester Form oder gelöst in geeigneten Solventien wie Äthylglykol, Butylacetat, Methyläthylketon u. a. vorliegt und erst >> unmittelbar vor der Verwendung auf den gewünschten Träger aufgebracht wird.
Die folgenden Beispiele sollen als Ausführungsform die Erfindung erläutern.
Beispiel 1
In einem Quarzkölbehen werden 30 mg 9-Phenäthinyl-anthrachinol-9 in 2 ml Triäthylenglykoldiacrylat gelöst und durch Einleiten von Stickstoff die Lösung von Sauerstoff befreit. Unter Kühlung mit etwas Eiswasser hi wird die Probe unter einer Kohlenbogenlampe (150 Volt, 18 Ampere, Abstand KölbchenLampenrond 55cm) belichtet. Nach 3-5 see Belichtungszeit ist der Kölbcheninhalt durchpolymerisiert und erstarrt. Ganz ähnlich kann der Versuch durchgeführt werden unter Verwendung von O-MethyI-9-buteninyl-2-Methoxyanthrachinol-(9) oder von O-Acetyl-9-buteninylanthrachinol(9) und ebenso mit 2-Phenyl-l-buteninylnaphthochinol(l).
Beispiel 2
Auf einen Träger aus einer dünnen AIuminiumfo!:e, die oberflächlich mechanisch aufgerauht ist, wird eine Lösung von 400 mg eines handelsüblichen Maleinsäure-Styrolcopolymerisates, 200 mg eines Copolymerisates aus ct-Methylstyrol und Vinyltoluol 35 mg Polyvinylbutyral, 40 mg 9-Phenäthinyl-an?hrachinoI-9 und 500 mg Triäthylenglykoldiacrylat sowie 3 mg Hydrochinonmonomethyläther in 9 ml Methyläthylketon mittels einer in der Reproduktionstechnik üblichen Plattenschleuder gleichmäßig aufgebracht und getrocknet. Darauf wird ein dünner Überstrich von Polyvinylalkohol aufgebracht
Diese so beschichtete Folie wird nun mit einer Xenonlampe (380 V, 25 Ampere) 5 min belichtet. Durch kurzes Überwischen mit einem schwach alkalischen Entwickler (l%ige Lösung von Trinatriumphosphat in Wasser) werden die Nichtbildstellen der Schicht entfernt und der Träger freigelegt. Um die Wasserführung des Trägers zu verbessern, kann noch mit einem Hydrophilierungsmittel überwischt und dann mit Druckfarbe eingefärbt werden. Von der erhaltenen Offset-Druckform werden einwandfrei Drucke in hoher Auflage erhalten.
Beispiel 3
60 mg g-Phenäthinyl^-chloranthrachinol-g, 450 mg eines carboxylgruppenhaltigen Polyvinylacetats, 30 mg Polyvinylacetat, 20 mg Celluloseacetobutyrat, 500 mg Trimethylolpropantriacrylat und 3 mg Hydrochinonmonomethyläther, gelöst in 9 ml Methyläthylketon werden in üblicher Weise auf eine Trägerfoiie aus elektrolytisch aufgerauhtem Aluminium aufgeschichtet und getrocknet.
Nach Aufbringen eines die Diffusion des Sauerstoffs hemmenden dünnen Überstriches von Polyvinylalkohol belichtet man 5 min unter einer Rastervorlage mit einer Xenonlampe wie vorstehend beschrieben und entwikkelt die Druckplatte durch Überwischen mit einer 3%igen Lösung von Dinatriumphosphat. Nach Hydrophilierung und Einfärben in üblicher Weise kann die erhaltene Druckform zum Druck verwendet werden. Die Wiedergabe auch feinster Rasterpunkte ist ausgezeichnet und infolge der Zähigkeit und hervorragenden Haftung der Schicht werden hohe Auflagezahlen erreicht. Gleiche Ergebnisse werden erhalten bei Verwendung von 9-äthinyl-l-Nitroanthrachinol(9) oder 9-Buteninyl-l-Nitro-4-amino-anthrachinol-(9).
Beispiel 4und5
Anstelle des in Beispiel 2 verwendeten Aktivators wird 9=Hexinyl=2.chloranthrachinol^9 oder auch 9-Hexinylanthrachinol-(9) eingesetzt, sonst gleichartig verfahren. Anstelle des in Beispiel 3 benutzten Aktivators kanu ebenso das 9-(w-Methoxybuteninyl)-2-chloranthraehi· nol Anwendung finden, die Bildelemente sind in diesem Falle nach der Belichtung mit besonders tiefer Farbe erkennbar, wodurch die Verfolgung des F.ntwicklungs Vorganges erleichtert wird.
Beispiel 6
Eine Trägerfolie aus elektrolytisch aufgerauhtem Aluminium wird mit einer 0,5%igen Lösung von Polyvinylphosphonsäure in Methylglykol/Wasser (90 :10) vorbeschichtet. Nach dem Trocknen wird eine Lösung von 200 mg ii-Hexinyl^-chloranthrachinol-i), 2,5 g Polymethylmethacrylat, 2,5 g Trimathylolpropantriacrylat und 200 mg niedermolekularem Polyglykol sowie 3 mg des obengenannten Inhibitors in 20 ml Methyläthylketon aufgebracht Nach Trocknen und Oberschichten mit Polyvinylalkohol wird I1/2 min mit einer Xenonlampe unier einem lOstufigen Graukeil belichtet Die Nichtbildsteilen werden durch Tauchen während einer Minute in eine Lösung von 5%igen Na3PO4 · 12 H2O in stark verdünntem Isopropanol weggeiöst und anschließend getrocknet, hydrophiliert und eingefärbt mit Druckfarbe. Der Stufenkei! wird dabei bis zur 4. Volltonstufe geschwärzt.
Beispiel 7
500 mg Polyamid werden durch längeres Rühren bei Raumtemperatur in einem Gemisch von 4 ml Methanol und 1 ml Wasser in Lösung gebracht. Hinzu wird eine Lösung aus 200 mg Äthylenbisacrylamid und 40 mg 9-Hexinyl-2-chloranthrachinol in 4 ml Methylglykol gefügt und damit eine Trägerfolie aus elektrolytisch aufgerauhtem Aluminium beschichtet. Überstrich mit Polyvinylalkohol und Belichtung erfolgen wie in Beispiel 9. Um die Nichtbiidbereiche zu entfernen, wird die Druckplatte mit Wasser abgespült und vorsichtig durch ein Bad mit verdünntem Methanol (85%) geführt. Die bildmäßig entwickelte Schicht ist beim Verlassen des Bades sehr weich und verletzlich, wird aber durch Trocknen rasch hart und ergibt nach der Hydrophilierung des freigelegten Trägers mit sehr verdünnter Phosphorsäure ein außerordentlich widerstandsfähiges oleophiles Relief,das ausgezeichnete Abdrücke liefert.
Beispiel 8
700 mg eines präpolymerisierten in organischen Solventien noch löslichen Diallylisophthalatharzes werden in 8 ml technischem Xylol gelöst und mit einer Lösung von 40 mg 9-Hexinyl-2-chloranthrachinol-9 in 2 ml Mf thylätherketon versetzt. Mit dieser wird eine Trägerfolie aus mechanisch aufgerauhtem Aluminium beschichtet und nach Trocknen unter einer Strichvorlage mit einem Röhrenbelichtungsgerät 6 min belichtet. Anschließend erfolgt rlie Tauchentwicklung in technischem Xylol. Der freigelegte Träger kann nach dem Trocknen der Platte mit einer wäßrigen Lösung aus 7% Gummi Arabicum und 0,3% Borfluorwasserstoffsäure hydrophiliert werden. Nach der Einfärbung mit Druckfarbe ist die erhaltene Druckform druckfertig.
Beispiel 9
Eine Lösung aus 350 mg eines Styrol-Maleinsäurecopolymerisates, 200 mg eines Copolymerisates aus «-Methylstyrol und Vinyltoluol, 35 mg Polyvinylbutyral,
ίο 500 mg Trimethylolpropantriacrylat, 3 mg Hydrochinonmonomethyläther und 40 mg 9-Phenäthinylanthrachinol-9 in 7 ml Methyläthylketon wird gleichmäßig auf eine gereinigte Einstufenätzzinkplatte aufgebracht und die beschichtete Zinkplatte unter einer Rastervorlage, wie in Beispiel 8 beschrieben, belichtet und weiterbehandelt Die fertig entwickelte Platte kann noch einem Erhitzungsschritt (1—2 Min. 100 C) unterworfen werden, um die Schicht weiter zu verfestigen, notwendig ist dies jedoch nicht. Die Zinkplatte wird nun in einer
jn Einstufenätzmaschine mit Salpetei säure, die ein Flankenschutzmittel enthält, tiefgelegt. Die erhaltene Hochdruckform bzw. das Klischee zeigt eine ausgezeichnete Schichthaftung, auch in den Feinpartien des Rarfers und kann nötigenfalls nach Behandlung mit einem Lösungs-
r, mittei zur Entfernung restlicher Schichtanteile für den Druck hoher Auflagen Verwendung finden.
Beispiel 10
Die gleiche Beschichtungslösung wie in Beispiel 9, nur
Mi anstelle des g-Phenäthinylanthrachinols-g mit 200 mg 9-(w-Methoxybuteninyl-)2-chloranthrachinol, wird auf einem geeigneten flachen Träger aus elektrisch isolierendem Material, der oberflächlich mit einer dünnen Haut aus metallischem Kupfer überzogen ist, in einem abgedunkelten Raum mittels einer mit ca. 120 U/min rotierenden Plattenschleuder aufgeschichtet. Der so beschichtete, getrocknete und mit einem dünnen Überzug von Polyvinylalkohol versehene Träger wird anschließend unter einer Negativvorlage eines entsprechenden elektrischen Schaltbildes belichtet, z. B. 5 min an einer Xenonlampe und anschließend die Nichtbildbereiche, wie beschrieben, mit einem schwach alkalischen Entwickler, z. B. 1 % Natriumphosphatlösung, durch kurzes Überwischen weggelöst. Nach Abspülen und
v-, Trocknen wird an den Nichtbildbereichen die nun frei liegende Kupferschicht durch Baden in einer 35% Eisen(III)-chloridlösung weggeätzt Man erhält so nötigenfalls nach nochmaligem Abspülen mit einem Lösungsmittel eine saubere und originalgetreue metalli-
)0 sehe Leiterbahn auf dem Träger,' die als kopierte Schaltung Verwendung finden kann.

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Lichtempfindliches Gemisch aus einer photopolymerisierbaren Verbindung und einem Bindemittel, das als photopolymerisierbare Verbindung ein oder mehrere — gegebenenfalls substituierte — Äthinylgruppen enthaltende Chinole der Formel
Alkyl, Aryl oder
DE1797308A 1967-11-09 1968-09-11 Lichtempfindliches Gemisch Expired DE1797308C3 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK63857A DE1296975B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch
SE08639/68A SE349406B (de) 1967-11-09 1968-06-26
DE1797308A DE1797308C3 (de) 1967-11-09 1968-09-11 Lichtempfindliches Gemisch
NL6815475A NL6815475A (de) 1967-11-09 1968-10-30
AT1078568A AT288858B (de) 1967-11-09 1968-11-06 Lichtempfindliches Gemisch zur Herstellung von lichtempfindlichem Aufzeichnungsmaterial
US773971A US3615630A (en) 1967-11-09 1968-11-06 Light-sensitive coating and recording material containing photopolymerizable compounds
BE723474D BE723474A (de) 1967-11-09 1968-11-06
GB52975/68A GB1208190A (en) 1967-11-09 1968-11-08 Improvements in and relating to light-sensitive mixtures and recording materials produced therefrom
FR1591359D FR1591359A (de) 1967-11-09 1968-11-08

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK63857A DE1296975B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch
SE08877/68A SE356610B (de) 1968-06-28 1968-06-28
DE1797308A DE1797308C3 (de) 1967-11-09 1968-09-11 Lichtempfindliches Gemisch

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1797308A1 DE1797308A1 (de) 1971-04-29
DE1797308B2 DE1797308B2 (de) 1977-11-10
DE1797308C3 true DE1797308C3 (de) 1978-07-13

Family

ID=41416068

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK63857A Pending DE1296975B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch
DE1797308A Expired DE1797308C3 (de) 1967-11-09 1968-09-11 Lichtempfindliches Gemisch

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK63857A Pending DE1296975B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3615630A (de)
AT (1) AT288858B (de)
BE (1) BE723474A (de)
DE (2) DE1296975B (de)
FR (1) FR1591359A (de)
GB (1) GB1208190A (de)
NL (1) NL6815475A (de)
SE (1) SE349406B (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3772011A (en) * 1971-11-04 1973-11-13 Eastman Kodak Co Print-out elements and methods using photoconductors and polygnes
CA1056189A (en) * 1974-04-23 1979-06-12 Ernst Leberzammer Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
DE2720560A1 (de) 1977-05-07 1978-11-09 Basf Ag Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4708962A (en) * 1984-12-17 1987-11-24 Harbor Branch Oceanographic Institution, Inc. Antiviral and antitumor cyclohexadienone compositions
DE3930086A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3930087A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4006190A1 (de) * 1990-02-28 1991-08-29 Hoechst Ag Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2002341558A (ja) * 2001-05-11 2002-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の印刷処理方法及び平版印刷版
ES2319117T3 (es) * 2002-10-24 2009-05-04 Toray Industries, Inc. Original para plancha de impresion con resina fotosensible, proceso para producir la misma y proceso para producir con esta una plancha de impresion en relieve con resina.
KR101222947B1 (ko) * 2005-06-30 2013-01-17 엘지디스플레이 주식회사 인쇄용 용제, 및 그를 이용한 인쇄용 패턴 조성물 및 패턴 형성방법
JP5299838B2 (ja) * 2008-03-18 2013-09-25 川崎化成工業株式会社 １０−ヒドロキシ−１０−ナフチルメチルアントラセン−９（１０ｈ）−オン化合物及びその光ラジカル重合開始剤としての用途。

Also Published As

Publication number Publication date
GB1208190A (en) 1970-10-07
DE1797308B2 (de) 1977-11-10
US3615630A (en) 1971-10-26
FR1591359A (de) 1970-04-27
NL6815475A (de) 1969-05-13
DE1296975B (de) 1969-06-04
SE349406B (de) 1972-09-25
AT288858B (de) 1971-03-25
DE1797308A1 (de) 1971-04-29
BE723474A (de) 1969-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH504022A (de) Lichtempfindliches Material
DE2540561C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine Druckplatte
EP0374705B1 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0028749B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE1797308C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE1195166B (de) Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
DE2912060A1 (de) Traeger zur herstellung einer lithographischen platte
DE2347784B2 (de) Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE2856675A1 (de) Lichthaertbare masse
DE2318855B2 (de) Photolack
EP0115021A2 (de) Positiv arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Relief- und Druckformen
DE2620961A1 (de) Metallbild-erzeugendes material
DE1522458A1 (de) Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE1597614B2 (de) Lichtempfindliche kopiermasse
DE1772947C2 (de) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte
EP0064733B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Reliefkopien
DE2203732C2 (de) Mischpolymerisate und diese enthaltende lichtempfindliche Kopiermassen
DE1572068C3 (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
EP0053708B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Reliefkopien
DE2515032A1 (de) Verfahren zur herstellung eines traegers fuer eine druckplatte
DE3938788A1 (de) Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform
DE1572060A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE2324506A1 (de) Lichtempfindliche planographische druckplatte
EP0384366B1 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungselement
DE2060576C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8340 Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent