DE1772947C2 - Vorsensibilisierte Flachdruckplatte - Google Patents
Vorsensibilisierte FlachdruckplatteInfo
- Publication number
- DE1772947C2 DE1772947C2 DE1772947A DE1772947A DE1772947C2 DE 1772947 C2 DE1772947 C2 DE 1772947C2 DE 1772947 A DE1772947 A DE 1772947A DE 1772947 A DE1772947 A DE 1772947A DE 1772947 C2 DE1772947 C2 DE 1772947C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- printing plate
- layer
- planographic printing
- photosensitive
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
a) sie ist lagerungsstabil, so daß die Platte vor ihrer Verwendung über beträchtliche Zeiträume gelagert
werden kann,
b) nach dem Belichten sind die vom Licht getroffenen Flächen beständig gegenüber den Ätzmitteln und
dienen folglich als ausreichende Schutzschicht während des Ätzens, und
c) die dur„h die vom Licht getroffenen Flächen gebildete Schutzschicht kann nach dem Ätzen und
Lackieren ohne Beeinträchtigung der die Druckflächen darstellenden Lackflächen und ohne Beeinträchtigung
der Wasseraufnahmefähigkeit der darunter liegenden Schichtträgeroberfläche entfernt
werden.
Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte für die Erzeugung von lithographischen
Druckplatten im Tiefätzverfahren, die aus einem metallischen Schichtträger mit einer lichtempfindlichen
Schicht besteht, welche ein wasserlösliches Harz und eine lichtempfindliche, beim Belichten das Harz
härtende und wasserunlöslich machende Substanz enthält.
Zum Herstellen lithographischer Druckplatten im Tiefätzverfahren ist es bekannt, eine lichtempfindliche
Platte durch Auftragen eines lichtempfindlichen Materials auf einen geeigneten metallischen Schichtträger
herzustellen, die lichtempfindliche Schicht bildmäßig zu belichten, die bildmäßig belichtete Schicht zu entwikkeln,
wobei die nicht vom Licht getroffenen Flächen der Schicht selektiv entfernt und die darunter liegenden
Flächen des Trägers freigelegt werden. Die freigelegten Flächen des Trägers werden dann geätzt, wonach ein
farbstoffaufnehmender Lack (z. B. auf der Basis eines Vinylchlorid- Vinylacetat-Kopolymerisats) auf die geätzte
Oberfläche des Schichtträgers aufgetragen wird und die vom Licht getroffenen Flächen der Schicht von dem
Schichtträger entfernt werden.
Hierfür ist es notwendig, daß die Druckflächen farbstoffaufnahmefähig und wasserabstoßend sind,
während die nichtdrückenden Flächen wasseraufnahmefähig und farbstoffabstoßend sein müssen. Außerdem
sollte die lichtempfindliche Schicht so geartet sein, daß nach dem bildmäßigen Belichten die vom Licht
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt mit einer vorsensibilisierten Flachdruckplatte gemäß dem vorstehenden
Anspruch 1.
Die Problematik dabei ist, daß die Eigenschaften der Flachdruckplatte in gewissem Maße zueinander im
Widerspruch stehen. Damit beispielsweise eine Platte lagerungsstabil ist, muß das lichtempfindliche Material
derart sein, daß es beim Lagern keine feste Bindung mit der Schichtträgeroberfläche eingeht, weil sie sich sonst
nach dem Entwickeln schlecht entfernen ließe. Damit auf der anderen Seite eine während der Ätzstufe
angemessene Schutzschicht ausgebildet wird, müssen die vom Licht getroffenen Flächen angemessen fest an
dem Schichtträger haften. Wenn wiederum andererseits die vom Licht getroffenen Flächen zu fest an dem
Schichtträger haften, ist es nicht mehr möglich, die vom Licht getroffenen Flächen nach dem Ätzen und
Lackieren ohne nachteilige Beeinflussung des Lacks oder der Wasseraufnahmefähigkeit der darunter liegenden
Schichtträgeroberflächen zu entfernen.
Mit einer lichtempfindlichen Schicht, wie sie im Anspruch 1 genannt ist, wird man diesen Forderungen
gerecht.
Bei einer solchen lichtempfindlichen Schicht ist erfindungsgemäß die lichtempfindliche Substanz, die
eine Diazoverbindung oder eine Azidoverbindung sein kann, in der Lage, das speziell eingesetzte Harz zu
härten, damit es unlöslich wird und dadurch die selektive Entfernung der nicht vom Licht getroffenen Materialien
beim Entwickeln gestattet Auf diese Weise ist es möglich, vorsensibilisierte Flachdruckplatten zur Verfügung
zu stellen, die die vorstehend genannten erforderlichen Eigenschaften aufweisen und über
Monate lagerfähig und bearbeitbar sind.
Die erfindungsgemäß als härtbare Harze eingesetzten !Copolymerisate aus Acrylamid und bis zu 30
Gew.-% anderen Monomeren quellen während des Entwickeins nicht auf, so daß die Herstellung von
gerasterten Druckplatten möglich wird. Das Molekular- ]0
gewicht des Acrylamidkopolymerisates sollte so ausgewählt sein, daß seine wäßrigen Lösungen mit einem
Feststoffgehalt von 4 bis 10% eine Viskosität vor. 10 bis
15 Centistoke aufweisen.
Geeignete Sensibilisierungsmittel, die löslich sind und
deren Lichtzersetzungsprodukte zum Härten der Harze in der Lage sind, haben im allgemeinen ein ziemlich
großes Molekül. Beispiele für solche Sensibilisierungsmittel sind 4-Diazodiphenylaminsulfat, das Kondensationsprodukt
von 4-Diazodiphenylaminsulfat und Paraformaldehyd in Schwefelsäure, das Zinkchloridsalz des
Kondensationsproduktes von 4-Diazoaminodiphenylamin und Paraformaldehyd und 4,4-Diazidostilben-2,2-disulfonsäure.
Die Zersetzung des Sensibilisierungsmittels und die Umwandlung des Harzes in eine unlösliche Form
verlaufen häufig zu rasch, was zu Belichtungszeiten führen würde, die in der Praxis nicht akzeptabel sind, da
sie dem Plattenhersteller wenig Spielraum lassen, sich auch mit Positiven schlechter Qualität zu befassen, wie
sie normalerweise oft zu finden sind. Deshalb empfiehlt es sich, daß die lichtempfindliche Schicht zusätzlich eine
Substanz mit einem starken Absorptionsspektrum im Bereich von 2700 bis 40000 Ä enthält. Für diesen Zweck
eignen sich verschiedene Stoffe, einschließlich Chrom- und Kupferverbindungen, Benzophenon und viele
Derivate von Benzophenon und Salicylsäure, die bekannte Absorptionseigenschaften für ultraviolettes
Licht besitzen. Das wirksamste Material, das gefunden wurde, ist der gelbe Farbstoff Auramin. Auch Chrysoidin
und Tartrazin wirken ebenfalls in der gewünschten Weise.
Vorzugsweise werden Druckplatten erfindungsgemäß dadurch hergestellt, daß man eine Platte aus
Aluminium oder Aluminiumlegierung elektronisch oder mechanisch anrauht und dann anodisiert. Besonders
gute Resultate werden erhalten, wenn das Aluminium oder die Aluminiumlegierung mit Hilfe von Phosphorsäure
anodisiert wird. Eine Lösung von erhärtendem Harz, die mit einem Sensibilisiermittel, das das Harz,
nachdem es der aktinischen Strahlung ausgesetzt ist, erhärten kann, sensibilisiert ist, wird gleichmäßig in
einer Schleuder über die Plattenoberfläche verteilt und dann mit warmer Luft bei einer Temperatur von ca.
350C getrocknet. Die Platte ist dann lager- oder versandfertig.
Wenn die Platte zur Verwendung benötigt wird, braucht der Drucker sie nicht vorzubereiten, sondern
setzt sie unter einem Positiv einer an ultraviolettem Licht reichen Quelle aus, wie einer Kohlenbogenlampe t>o
oder einer pulsierenden Xenon-Lampe. Das weitere Verfahren zur Herstellung eines Druckbildes auf der
Platte erfolgt durch Tiefätzen, wobei die unbelichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht mit einem Entwickler
von der Platte entfernt werden; der Entwickler kann in seiner Beschaffenheit variieren von reinem Wasser
bis zu einer konzentrierten Lösung an gemischten Chloriden des Calciums und Zinks, je nach der
Festigkeit des erhärteten Harzes. Nach der Entwicklung werden die freigelegten Teile des Schichtträgers geätzt,
wobei die Oberfläche der Platte leicht abgetragen und für den Bildlack, der nachher aufgetragen wird,
aufnahmefähiger gemacht wird. Die Ätzmittel können Calcium, Eisen, Magnesium und/oder Zink-Chlorid
zusammen mit freier Salzsäure, Flußsäure, Siliciumfluorsäure und/oder Bor-Fluor-Säure enthalten. Die Platte
wird dann mit trockenem Alkohol oder Wasser gewaschen, um das Ätzmittel zu entfernen, wobei die
Auswahl des Reinigungsmittels von der Widerstandsfähigkeit des erhärteten Harzes gegenüber Wasser
abhängt Dann wird der Bild-Lack aufgetragen. Der Bild-Lack kann z. B. ein Mischpolymerisat von Polyvinylchlorid
sein, das in einem Lösungsmittel aufgelöst angewendet wird. Nachdem der Bild-Lack getrocknet
ist, kann eine farbige Flüssigkeit über die Platte gerieben werden, um das Bild sichtbarer zu machen, und
schließlich wird das erhärtete Harz in Wasser aufgeweicht und abgebürstet Es ist oft nützlich, 5%ige
(Gew./Vol.) Zitronensäure oder 1- bis 2%ige (V0I./V0I.)
Schwefelsäure bei Entfernung der Schicht zu verwenden.
Typische, für das Tiefätzen geeignete Rezepte werden im Anhang zu »Offset platemaking Deep-Etch
Procisses«, Lithographie Technical Foundation Publication No. 504, 213 und folgende und in »Lithographie
Technical Foundation Formulary« 37 bis 40, beschrieben.
In den Beispielen sind alle Prozentangaben, wenn es nicht anders angegeben ist, Gewichts-Prozentsätze.
Eine gekörnte, anodisierte Aluminiumplatte wurde mit einer 10% modifiziertes Kopolymerisat von
Acrylsäure und ihrem Amid mit relativ niedrigem Molekulargewicht und 1 % des wasserlöslichen Kondensationsproduktes
von Paraformaldehyd und 4-Diazoaminodiphenyiamin enthaltenden wäßrigen Lösung
beschichtet. Nach Belichtung unter einem photographischen Positiv wurden die nicht gehärteten Teile des
Bildes durch Abwischen mit Wasser von der Platte entfernt. Dann wurde das zur Herstellung einer
Tiefätzplatte übliche Verfahren angewendet, und schließlich wurde die gehärtete Schutzschicht unter
Verwendung von 1 %iger (Vol.) Schwefelsäure entfernt.
Während in dem vorhergehenden Beispiel die gekörnte Aluminiumplatte unter Verwendung von
Schwefelsäure anodisiert worden war, wurde in diesem Beispiel eine gereinigte und elektrolytisch gekörnte
Aluminiumplatte in einem 25%igen (Gew./Vol.) Phosphqrsäurebad anodisiert und dann mit Hilfe einer
Schleuder mit einer lichtempfindlichen wäßrigen Lösung von 0,54% Auramin-O-Pulver, 5,8% Acrylamid/
Acrylnitril-Kopolymerisat, 4% technischem Alkohol und 0,36% wasserlöslichem Kondensationsprodukt von
p-Diazodiphenylaminsulfat und Formaldehyd, wie in Beispiel 1 verwendet, beschichtet. Das Molekulargewicht
des Acrylamid/Acrylnitril-Kopolymerisates war so gewählt worden, daß die Viskosität einer 4- bis
10%igen wäßrigen Feststofflösung 50 bis 100 Centistokes betrug. Der Überzug wurde dann getrocknet und
unter einem Positiv mit einer 50-A-Kohlebogerilampe in
einer Entfernung von ca. 90 cm vier Minuten lang belichtet. Die unbelichteten Teile der Beschichtung
wurden durch Abwischen mit einer 2%igen Essigsäure-
lösung von der Platte entfernt, dann wurde die Platte
mit Wasser gewaschen. Alternativ kann man die unbelichteten Teile des Überzugs auch durch Besprühen
mit Wasser entfernen. Dann wurde das übliche Verfahren zur Herstellung einer Tiefäizplatte angewendet,
und schließlich wurde das gehärtete Harz durch Bürsten mit 2%iger (Vol.) Schwefelsäure entfernt
Claims (4)
1. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte, bestehend aus einem metallischen Schichtträger mit einer
lichtempfindlichen Schicht, die ein wasserlösliches Harz und eine lichtempfindliche, beim Belichten das
Harz härtende und wasserunlöslich machende Substanz enthält, dadurch gekennzeichnet,
daß das härtbare Harz ein Kopolymerisat aus Acrylamid und einem oder mehreren anderen
folgenden Monomeren, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylsäureestern von Alkoholen mit bis zu 4
Kohlenstoffatomen, Methacrylsäureestern von Alkoholen mit bis zu 4 Kohlenstoffatomen, Methacrylsäureestern,
von Alkoholen mit bis zu 4 Kohlenstoffatomen, Acrylnitril, Methacrylnitril, N-substituiertem
Acrylamid, N-substituiertem Methacrylamid oder Vinylpyrrolidon, ist, und die Struktureinheiten
des oder der anderen Monomeren bis zu 30 Gew.-% des Kopolymerisates ausmachen.
2. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Molekulargewicht des
Acrylamidkopolymerisates so ausgewählt ist, daß seine wäßrigen Lösungen mit einem Feststoffgehalt
von 4 bis 10% eine Viskosität von 10 bis 15 Centistoke aufweisen.
3. Flachdruckplatte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche
Schicht zusätzlich eine Substanz mit einem starken Absorptionsspektrum im Bereich von 2700 bis
4000 Ä enthält.
4. Flachdruckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die zusätzliche Substanz
Auramin, Chrysoidin oder Tartrazin ist.
getroffenen Flächen der Schicht beständig gegenüber dem zum Ätzen der freigelegten Schichtträgeroberfläche
verwendeten Ätzmittel sind. Außerdem müssen die vom Licht getroffenen Flächen der Schicht, die während
der Ätzstufe als Schutzschicht dienen, derart sein, daß sie anschließend von dem Schichtträger entfernt
werden können 1) ohne nachteilige Beeinflussung der Wasseraufnahmefähigkeit der Flächen der Trägeroberfläche,
die unter der Schutzschicht liegen, da diese
ίο darunter liegenden Flächen die nichtdruckenden Flächen
der fertigen Druckplatte darstellen, und 2) ohne nachteilige Beeinflussung des auf die geätzten Flächen
aufgetragenen Lacks, die die druckenden Flächen der fertigen Druckplatte darstellen.
Bislang bestanden die lichtempfindlichen Schichten bei solchen Platten im allgemeinen aus Bichromatkolloiden.
Solche Beschichtungen sind jedoch nicht lagerungsstabil und bedingen die alsbaldige Verwendung der
damit versehenen Druckplatten.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte anzugeben, die
eine lichtempfindliche Schicht mit folgenden Eigenschaften aufweist:
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB37135/66A GB1235281A (en) | 1967-02-18 | 1967-02-18 | Improvements in or relating to lithographic printing plates |
BE718055D BE718055A (de) | 1967-02-18 | 1968-07-12 | |
NL6810074A NL6810074A (de) | 1967-02-18 | 1968-07-17 | |
FR160290A FR1574534A (de) | 1967-02-18 | 1968-07-23 | |
DE1772947A DE1772947C2 (de) | 1967-02-18 | 1968-07-25 | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB37135/66A GB1235281A (en) | 1967-02-18 | 1967-02-18 | Improvements in or relating to lithographic printing plates |
BE718055 | 1968-07-12 | ||
NL6810074A NL6810074A (de) | 1967-02-18 | 1968-07-17 | |
FR160290 | 1968-07-23 | ||
DE1772947A DE1772947C2 (de) | 1967-02-18 | 1968-07-25 | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1772947A1 DE1772947A1 (de) | 1971-07-08 |
DE1772947C2 true DE1772947C2 (de) | 1982-03-25 |
Family
ID=27507697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1772947A Expired DE1772947C2 (de) | 1967-02-18 | 1968-07-25 | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE718055A (de) |
DE (1) | DE1772947C2 (de) |
FR (1) | FR1574534A (de) |
GB (1) | GB1235281A (de) |
NL (1) | NL6810074A (de) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2551372A1 (de) * | 1975-08-14 | 1977-02-24 | Alusuisse | Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen masse |
DE2652304C2 (de) * | 1976-11-17 | 1987-04-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Negativ arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und damit hergestellte lichtempfindliche Flachdruckplatte |
FR2382709A1 (fr) | 1977-03-04 | 1978-09-29 | Thomson Csf | Famille de composes comportant un cycle thiirane, reticulables par irradiation photonique |
JPS5964396A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用版面保護剤 |
DE3504658A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JPH01128064A (ja) * | 1987-11-12 | 1989-05-19 | Chisso Corp | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
US20090081592A1 (en) | 2007-09-26 | 2009-03-26 | Fujifilm Corporation | Fountain solution composition for lithographic printing and heat-set offset rotary printing process |
EP2042339B1 (de) | 2007-09-26 | 2013-05-22 | FUJIFILM Corporation | Feuchtwasserzusammensetzung für Lithographiedruck und Offset-Druckverfahren für wärmehärtende Tinte |
JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
JP2009234247A (ja) | 2008-03-07 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷用湿し水組成物及びヒートセットオフ輪印刷方法 |
JP5288268B2 (ja) | 2009-03-25 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷用湿し水組成物及びヒートセットオフ輪印刷方法 |
JP5281130B2 (ja) | 2011-07-05 | 2013-09-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷用湿し水組成物 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL70798C (de) * | 1948-10-15 | |||
BE563723A (de) * | 1957-01-04 |
-
1967
- 1967-02-18 GB GB37135/66A patent/GB1235281A/en not_active Expired
-
1968
- 1968-07-12 BE BE718055D patent/BE718055A/xx not_active IP Right Cessation
- 1968-07-17 NL NL6810074A patent/NL6810074A/xx not_active Application Discontinuation
- 1968-07-23 FR FR160290A patent/FR1574534A/fr not_active Expired
- 1968-07-25 DE DE1772947A patent/DE1772947C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1235281A (en) | 1971-06-09 |
NL6810074A (de) | 1970-01-20 |
DE1772947A1 (de) | 1971-07-08 |
FR1574534A (de) | 1969-07-11 |
BE718055A (de) | 1969-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1772947C2 (de) | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte | |
EP0222297B1 (de) | Einbrenngummierung für Offsetdruckplatten | |
DE2540561C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine Druckplatte | |
DE2147947A1 (de) | Lichtempfindliche kopiermasse | |
DE1140080B (de) | Platte zur Erzeugung von Reliefdruckformen durch Photopolymerisation | |
EP0155620A2 (de) | Einbrenngummierung für Offsetdruckplatten und Verfahren zur Herstellung einer Offsetdruckform | |
EP0285013A2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
DE1447916A1 (de) | Feuchtigkeitsfeste Flachdruckplatten | |
DE1546786A1 (de) | Verfahren und Material zur Herstellung von Fachdruckplatten | |
EP0034324B1 (de) | Verfahren zum Konservieren von druckfertig entwickelten Flachdruckformen | |
EP0453950A2 (de) | Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien | |
DE1797308C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
EP0064733B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefkopien | |
DE2211814A1 (de) | Lichtempfindliche Masse für vorsensibilisierte Druckplatten | |
EP0053708A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefkopien | |
EP0429955B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform | |
DE69520578T2 (de) | Druckpressentwicklung von lithographischen Diazodruckplatten | |
DE3507193A1 (de) | Lichtempfindliches gemisch | |
DE2207731A1 (de) | Vorsensibilisierte lichtempfindliche Platte für die Erzeugung einer lithographischen Druckplatte | |
AT284164B (de) | Vorsensibilisierte lithographische Druckplatte | |
DE1572067C3 (de) | Lichtempfindliches Kopiermaterial | |
US5081003A (en) | Developer compositions for newspaper plates | |
DE68908361T2 (de) | Behandlungsverfahren für Lichtempfindliche Elemente. | |
DE69713565T2 (de) | Thermisch bebilderbares Material | |
AT275570B (de) | Verfahren zur Herstellung einer präsensibilisierten lithographischen Druckplatte |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
D2 | Grant after examination | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |