DE1765221B2 - Vorrichtung fuer das metallurgische verbinden von wenigstens zwei ueberlappt angeordneten werkstuecken - Google Patents

Vorrichtung fuer das metallurgische verbinden von wenigstens zwei ueberlappt angeordneten werkstuecken

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DE1765221B2 DE19681765221 DE1765221A DE1765221B2 DE 1765221 B2 DE1765221 B2 DE 1765221B2 DE 19681765221 DE19681765221 DE 19681765221 DE 1765221 A DE1765221 A DE 1765221A DE 1765221 B2 DE1765221 B2 DE 1765221B2
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Description

Halter zu pressen, daß man eine Folie darüberlegt
35 und den Raum unter der Folie durch die durchlässige Auflageplatte des Halters evakuiert (deutsche
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für das Auslegeschrift 1 237 942). Auch gehören Vorrich-
metallurgische Verbinden von wenigstens zwei über- tungen zum Halten und Ausrichten von Werkstücken
läppt angeordneten Werkstücken durch strahlende nach der optischen Achse eines Lichtstrahles zum
Energie mit einer Halterung für das Ausrichten 40 Stande der Technik (USA.-Patentschrift 3 267 249),
relativ zur optischen Achse des Energiestrahls, auf wie auch allgemein beim Löten und Schweißen Teile
der die Werkstücke in der für das Verbinden vorge- nach Bedarf überlappt angeordnet werden. _
sehenen Lage festlegbar sind. Als eine zweckmäßige Weiterbildung schlägt die
Das Beil-System verwendet für integrierte Schalt- Erfindung vor. daß die Folie an der den Werkstücken
kreise eine Lösung mit zwei Materialien (siehe z. B. 45 zugewandten Seite mit einer haftenden Stelle ver-
die Okt./Nov.-1966-Ausgabe des Bell Laboratories sehen ist, durch die das damit in Berührung kom-
Record). Auf einer Siliciumscheibe werden aktive mende Werkstück in seiner Lage relativ zum anderen
Bauteile, wie Transistoren und Dioden, wie auch verschiebbar ist.
deren Verbindungen untereinander, dadurch gebildet, Eine Weiterbildung besteht darin, daß die haftende
daß die Siliciumtransistor-Herstelltechnik verwendet 5" Stelle durch einen über einer ausgestanzten öffnung
wird, während Präzisionswiderstände und Kondensa- in der lichtdurchlässigen Folie angebrachten haften-
toren auf Glas oder Aluminiumunterlagen gebildet den Flecken gebildet ist.
werden, in dem die Tantaldünnfilm-Technik benutzt Die Erfindung soll nachfolgend an Hand eines wird. Die Lösung mit zwei Materialien erlaubt die Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf die Massenherstellung von aktiven Bauteilen, wie Tran- 55 Zeichnungen näher beschrieben werden Es zeigt
sistoren und Dioden und präzisen passiven Bauteilen, F i g. 1 eine teilweise aufgeschnittene perspektiwie Kondensatoren und Widerstände, welche die zur vische Ansicht einer Zweikammer-Vakuumspann-Verwendung in Nachrichtenübertragungssystemen vorrichtung, die sich zur Durchführung des Vernotwendige hohe Qualität aufweisen. fahrens der Erfindung eignet und
Es ist offensichtlich notwendig, daß die integrierten 60 Fig. 2 eine vergrößerte Ansicht von Fig. 1, die
Siliciumschaltkreise, wie Strahlleitereinrichtungen einen Teil der beiden Schaltkreise zeigt, die zur
und die Tantalschaltkreise, zuverlässig und billig Durchführung der Erfindung geeignet sind,
miteinander verbunden werden. Das Anlegen von Die Zweikammer - Vakuumspannvorrichtung 11
strahlender Energie an die Zuführungsleiter des weist eine obere Vakuumkammer 12 mit einer Vieleinen Schaltkreises, um die Leiter mit den Kontakt- 65 zahl von Löchern 13 in der oberen Oberfläche 14 auf,
flächen eines anderen Schaltkreises zu verbinden, hat wobei die Kammer 12 an eine untere Vakuumkammer
sich als geeignet erwiesen, um Verbindungen mit der 16 angeschweißt ist, die eine Vielzahl von Löchern 13
gewünschten Qualität herzustellen, doch ergibt sich in ihrer unteren Oberfläche 17 aufweist. In den
Kammern 12 und 16 kann ein Vakuum erzeugt werden, indem die Kammern mit einer geeigneten (nicht dargestellten) Vakuumqualle, z.B. einer Vakuumpumpe, durch geeignete Rohrleitung 18, z. B. Gummischläuchen, verbunden werden. Durch eine herkömmliche (nicht dargestellte) Rohranordnung kann ein Vakuum selektiv in einer oder in beiden Kammern 12 und 16 hergestellt werden.
Eine flexible lichtdurchlässige Abdeckung 21 (Fig. 1), z.B. ein Blatt aus Polytetrafluoräthylen wird verwendet, um die Schaltkreise 22 und 23 zu bedecken. Wie in F i g. 2 dargestellt, wo der Schaltkreis 22 ein Dünnfilmschaltkreis mit einer Vielzahl von Kontaktflächen 24-24 ist, und die Schaltkreise 23 integrierte Siliziumschaltkreise, wie Strahlleiterschaltkreise, mit einer Vielzahl von Zuführungsleitern 27 sind, werden die Schaltkreise 22 und 23 zueinander ausgerichtet gehalten, wobei jeder Zuführungsleiter 27 zu seiner zugehörigen Kontaktfläche 24 ausgerichtet ist, so daß beim Anlegen von strahlender Energie die Leiter mit den Kontaktflächen verbunden werden. Durch Erzeugen eines Vakuums in der Vakuumkammer 12 der Vakuumspannvorrichtung 11 wird die Abdeckung 21 auf oder um die Schaltkreise gezogen, um die Schaltkreise zueinander ausgerichtet zu halten.
Der Schaltkreis 23 wird mit dem Schaltkreis 22 ausgerichtet, in dem über eine Öffnung 31 der licht- ^-^^WASASffl
SÄ'tatateÄi Flecken» S» «Jto ScWt-
kreis 23 kann erreicht werden, daß dieser ander Abdeckung 21 haftet. Der Schaltkreis 23 kann dann d^SvSSohhSa der Abdeckung so zum Schaltkreis 22 angeordnet werden, daß jederZufülirun^s-
S er 27 dadurch zu der ψ^^Ά^ ίο 24 richtig ausgerichtet wird. Nachdem die bcnaltkrei e22 und 23 miteinander verbunden sind, kann der haftende Flecken 32 leicht mit der Entfernung 3er Abdectung21 vom Schaltkreis 23 abgezogen
ts ^lichtdurchlässige flexible Abdeckung,21 soll ausreichend flexibel sein, um sich den Schaltkreisen
^ZznZ;^*™™ V.kuum hergest
w rd, um die Schaltkreise fest zusammenzuhalten
Die Vorrichtung findet Anwendung, ohne Rucksieht darauf, wie die strahlende> Energie an die Werk
SlUCKC UUgClOgU VTXiu. _-. r _ _
Energie von einer Energiequelle, z. B. „.„
Ultraviolettlampe an die gesamte Werkstückfläche angelegt werden, oder kann an ein ausgewähltes Gebiet des Werkstückes angelegt werden, in dem die Energie einer Energiequelle, z.B. eines Lasers, einer Infrarot- oder Ultraviolettlampe, auf ein ausgewähltes Gebiet fokussiert wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

1 2 die Schwierigkeit, die Schaltkreise in richtiger Aus-Patentansprüche: richtung zueinander zu halten, ohne das Anlegen der strahlenden Energie an die Schaltkreise zu stören.
1. Vorrichtung für das metallurgische VerWn- Wenn ferner eine Vielzahl von Zuführungsleitern den von wenigstens zwei überlappt angeordneten 5 oder Strahlleitereinrichtungen in einem Tantal-Werkstücken durch strahlende Energie mit einer schaltkreis verbunden werden sollen, ergibt sich die Halterung für das Ausrichten relativ zur opti' Schwierigkeit, die Zuführungsleiter oder Strahlleiterschen Achse des Energiestrahls, auf der die einrichtungen mit der optischen Achse der Strahlen-Werkstücke in der für das Verbinden vorgesehe- den Energiequelle auszurichten, ohne die Ausrichnen Lage festlegbar sind, dadurch gekenn- io tung der Schaltkreise zueinander zu stören. Wenn zeichnet, daß als Halterung eine an sich beim ferner eine Schmelzschweißung verwendet wird, um Festlegen von Werkstücken aus Halbleitermate- die Zuführungsleiter mit den zugehörigen Kontaktrial bekannte Anordnung einer Folie (21) über flächen zu verbinden, entsteht die Schwierigkeit, die einer luftdurchlässigen Platte (14) Verwendung Zufübrungsleiter in inniger Berührung mit den Konfindet, welche durch Anlegen eines Vakuums die 15 taktflächen zu halten, um eine ausreichende Verbindazwischen befindlichen Werkstücke (22,213) auf dung sicherzustellen, ohne das Anlegen der strahlendie Platte preßt, wobei die Folie (21) lichtdurch- den Energie zu stören.
lässig ausgebildet ist. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- eine Vorrichtung verfügbar zu machen, die in einkennzeichnet, daß die Folie (21) an der den eo fächer kostengünstiger Weise das zuverlässige metall-Werkstücken zugewandten Seite mit einer haften- urgische Verbinden von wenigstens zwei überlappt den Stelle versehen ist, durch die das damit in angeordneten Werkstücken ermöglicht, wobei höch-Berührung kommende Werkstück in seiner Lage sten Anforderungen an die Qualität der Verbindunrelativ zum anderen verschiebbar ist. gen entsprochen wird.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge- 35 Die erfindungsgemäße Lösung besteht darin, daß kennzeichnet, daß die haftende Stelle durch einen als Halterung eine an sich beim Festlegen von über einer ausgestanzten öffnung in der licht- Werkstücken aus Halbleitermaterial bekannte Andurchlässigen Folie angebrachten haftenden Ordnung einer Folie über einer luftdurchlässigen Flecken gebildet ist. Platte Verwendung findet, welche durch Anlegen
30 eines Vakuums die dazwischen befindlichen Werkstücke auf die Platte preßt, wobei die Folie lichtdurchlässig ausgebildet ist.
An sich ist es bekannt, Teile dadurch auf einen
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