DE1597606B - Photographisches Aufzeichnungsverfahren - Google Patents
Photographisches AufzeichnungsverfahrenInfo
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Description
3 4
gekennzeichnet, daß die Metallschicht mit einer Me- verwenden. Durch eine passende Kombination von
tallmenge zwischen 10~8 g und 10~5 g pro cm2 strahlungsempfindlicher Verbindung-Metall kann der
Schichtfläche als äußerste Schicht auf der strahlungs- Bereich der Spektralempfindlichkeit der obengenann-
empfindlichen Schicht aufgebracht ist. ten Photomaterialien erweitert werden.
Die erwähnte Aufzeichnungsschicht der erfindungs- 5 Die vorliegende Erfindung hat den Vorteil, den Ergemäß
verwendeten Aufzeichnung besteht aus einer satz der Silberhalogenide in der Herstellung photo-
oder mehreren lichtempfindlichen silberfreien, bei Be- graphischer Materialien mit ziemlich billigen anderen
lichtung zersetzbaren Substanzen oder aus stabilen lichtempfindlichen Substanzen zu ermöglichen.
Photoleitern, welche aus mindestens zwei Elementen Ein weiterer Vorteil der Erfindung ist die Möglichzusammengesetzt sind, nämlich aus einem strahlungs- io keit der Verwendung von verschiedenen lichtempfindempfindlichen Halogenid, Oxyd, Selenid, Sulfid oder liehen Verbindungen mit Eigenempfindlichkeit in ver-Tellurid des Pb, Tl, Cd, Cu, Zn oder aus GaAs, schiedenen Spektrumsbereichen, womit in verschiede-GaSb, CdTe, InSb, PbS mit einer Schichtdicke von nen Spektrumsbereichen empfindliche photographi-0,1 bis 10 Mikron und insbesondere von 0,3 bis 1 Mi- sehe Materalien verfügbar sind, ohne daß eine spekkron. 15 trale Sensibilisierung der photographischen Schichten
Photoleitern, welche aus mindestens zwei Elementen Ein weiterer Vorteil der Erfindung ist die Möglichzusammengesetzt sind, nämlich aus einem strahlungs- io keit der Verwendung von verschiedenen lichtempfindempfindlichen Halogenid, Oxyd, Selenid, Sulfid oder liehen Verbindungen mit Eigenempfindlichkeit in ver-Tellurid des Pb, Tl, Cd, Cu, Zn oder aus GaAs, schiedenen Spektrumsbereichen, womit in verschiede-GaSb, CdTe, InSb, PbS mit einer Schichtdicke von nen Spektrumsbereichen empfindliche photographi-0,1 bis 10 Mikron und insbesondere von 0,3 bis 1 Mi- sehe Materalien verfügbar sind, ohne daß eine spekkron. 15 trale Sensibilisierung der photographischen Schichten
Gemäß der Erfindung sollen die erwähnten zwei mit Farbstoffen erforderlich wäre. Beispielsweise sind
Schichten des Materials so ausgewählt werden, daß Schichten aus Halogeniden des Cd, Cu und Tl ernp-^
das auf der lichtempfindlichen Schicht aufgetragene findlich für den Ultraviolettbereich, aus Bleihalo-Metall
mit dem primären Lichtreaktionsprodukt, ent- geniden empfindlich für den Mittelbereich des sichtstanden
bei dem permanenten Einfangen der Defekt- 20 baren Spektrums, aus GaSb, InSb, PbS empfindlich
elektronen, die bei Belichtung in der erwähnten licht- für den weitliegenden Infrarotbereich. Bei entspreempfindlichen
Schicht erzeugt sind, chemisch reagie- chender Kombination von übereinander aufgetrageren
kann. nen Schichten oder Mischungen von entsprechenden
Entsprechend der Natur des für die Metallschicht Substanzen kann die Empfindlichkeit der photogra-
verwendeten Materials, z. B. Ag, Bi3 Cd, Cr, Cu, Fe, 25 phischen Materialien einen vorher ausgewählten
In, Pb, Se, Tl und insbesondere Ag, Bi, In und Pb Spektrumsbereich decken.
liegt die Metallmenge zwischen 10~8 und 10~5 g/cm2; Die strahlungsempfindliche Schicht, die keine
sie liegt vorzugsweise bei 10~7 g/cm2 und wird so be- Silberhalogenide enthält, zersetzt sich nicht merkbar
stimmt, daß sie die physikalische Entwicklung effektiv beim Belichten, wenn keine zusätzliche Metallschicht
initiieren und die gewünschte maximale Schwärzungs- 3° darüber aufgetragen ist. Demzufolge haben die neuen
dichte und den Kontrast des nach Belichtung und photographischen Materialien auch den Vorteil, daß
Entwicklung erhaltenen Bildes sichern kann. die Herstellung der erwähnten im fertigen Aufzeich-
Es wurde festgestellt, daß im Verlauf der erwähn- nungsmaterial strahlungsempfindlichen Grundschichten
Reaktion die bei Belichtung angeregten Defekt- ten aus lichtempfindlichen Substanzen sowie ihre
elektronen sich mit dem Metall irreversibel verbinden 35 Dotierung mit sensibilisierenden Zusätzen bei diffu-
und ihre Rekombination mit den Photoelektronen sem Tageslicht durchgeführt werden kann. Erst nach
verhindert ist. Das Gleichgewicht ist gestört und eine der letzten Bearbeitung, der Auftragung der dünnen
Photozersetzung sogar solcher Verbindungen, die Metallschicht, wird die Behandlung und die Lagenormalerweise
stabile Photoleiter sind, kann im fest- rung der erwähnten Schichten im Dunkeln notwendig,
stellbaren Umfang stattfinden. Andererseits wird in- 40 Manchmal kann diese Bearbeitung unmittelbar vor
folge dieser Reaktion der auf der strahlungsempfind- dem Gebrauch des Aufzeichnungsmaterials ausgeliehen
Schicht aufgetragene Metallfilm in den belich- führt werden.
teten Stellen verbraucht und es ergibt sich direkt ein Es wurde festgestellt, daß nach der Entwicklung
positives Bild der Kopiervorlage. die Lichtempfindlichkeit des neuen Aufzeichnungs-
Durch die Erfindung werden die Nachteile vieler 45 materials unbedeutend wird. Deshalb ist eine Fixiebekannter
negativ arbeitender Photoverfahren mittels rung nicht mehr notwendig, was als Vorteil dieses
eines prinzipiell neuen Verfahrens vermieden. Gemäß Materials betrachtet werden kann. Falls die ursprüngder
Erfindung entstehen die Metallkeime nicht erst liehe lichtempfindliche Schicht dünn und genügend
bei der Belichtung, sondern diese werden vorläufig durchsichtig im sichtbaren Licht ist, wie es üblich ist,
auf die strahlungsempfindliche Schicht als eine super- 50 kann das nach der Entwicklung erhaltene Bild direkt
dünne Metallschicht aufgetragen. Die bei Belichtung betrachtet oder projiziert werden,
aktivierte Substanz der strahlungsempfindlichen Da gemäß vorliegender Erfindung lichtempfmd-Schicht reagiert mit den so angetragenen Metall- liehe silberfreie Substanzen verwendet werden, ist es keimen, wobei diese in den belichteten Stellen zer- nicht zu erwarten, daß die konventionellen chemistört werden. Infolgedessen entsteht im Gegenteil zu 55 sehen Entwickler für die Verarbeitung dieser Mateden obengenannten bekannten Verfahren ein direkt rialien verwendbar sind. Übliche physikalische Entpositives Bild, das man leicht durch Entwicklung ver- wickler aber, einige davon sind in den folgenden Beistärken kann. spielen angeführt, sind zur Verstärkung des bei Be-
aktivierte Substanz der strahlungsempfindlichen Da gemäß vorliegender Erfindung lichtempfmd-Schicht reagiert mit den so angetragenen Metall- liehe silberfreie Substanzen verwendet werden, ist es keimen, wobei diese in den belichteten Stellen zer- nicht zu erwarten, daß die konventionellen chemistört werden. Infolgedessen entsteht im Gegenteil zu 55 sehen Entwickler für die Verarbeitung dieser Mateden obengenannten bekannten Verfahren ein direkt rialien verwendbar sind. Übliche physikalische Entpositives Bild, das man leicht durch Entwicklung ver- wickler aber, einige davon sind in den folgenden Beistärken kann. spielen angeführt, sind zur Verstärkung des bei Be-
Die Erfindung ermöglicht die Verwendung photo- lichtung gebildeten unsichtbaren latenten Bildes mit
graphischer Aufzeichnungsmaterialien auf Grundlage 60 Erfolg anwendbar. Nach dieser erfindungsgemäßen
einer großen Anzahl von bekannten lichtempfind- Bedingung also, soll das Metall, das für die erwähnte
liehen Verbindungen, deren eigene Lichtempfindlich- Oberschicht verwendet wird, so ausgewählt werden,
keit verschiedene Spektrumsbereiche von Ultraviolett daß es das Abscheiden des Silbers aus einem physi-
bis zum weitliegenden Infrarot umfaßt. kaiischen Entwickler auf der lichtempfindlichen
Die Erfindung gibt die Möglichkeit, eine ganze 65 Schicht katalysieren kann. In diesem Fall führt die
Reihe von strahlungsempfindlichen Verbindungen zur Behandlung mit einem konventionellen physikali-
Herstellung von billigen und relativ hochempfind- sehen Entwickler zur Schwärzung des Materials ohne
liehen photographischen Aufzeichnungsmaterialien zu vorläufige aktinische Bestrahlung.
Auf eine Glasunterlage wird eine 0,1 bis 1 Mikron dicke Schicht aus PbS aufgetragen. Durch Erwär-'mung
bis zu 500° C in Luft wird diese Schicht sensibilisiert,
womit eine erhöhte Photoleitfähigkeit in dem Infrarotspektrumsbereich erreicht wird. In diesem
Zustand bleibt die Schicht trotz der Sensibilisierung bei diffuser Tagesbeleuchtung stabil und kann im
Licht gehandhabt und aufbewahrt werden. Auf dieser sensibilisierten Schicht wird eine Schicht von etwa
10~7 g/cm2 Pb oder Ag aufgetragen. So erhält man
ein photographisches Aufzeichnungsmaterial, welches ein positives latentes Bild sogar bei Infrarotbelichtung
mit Wellenlänge bis zu 3 Mikron bildet. Zur Entwicklung des latenten Bildes wird ein üblicher
physikalischer Entwickler verwendet, z. B. mit folgender Zusammensetzung:
Lösung A
Metol 8,3 g
Zitronensäure 8,3 g
Essigsäure 42,0 g
Gelatine 6,7 g
Wasser bis 11;
Lösung B
Silbernitrat 30 g
Wasser 45 ml.
Vor dem Gebrauch werden 50 ml der Lösung A mit 1 ml der Lösung B gemischt.
Eine bis zu 1 Mikron dicke lichtempfindliche Schicht aus InSb ist bei diffuser Tagesbeleuchtung
stabil. Mit der Auftragung einer Schicht von etwa 10~7 g/cm2 In auf die erwähnte InSb-Schicht erhält
man ein photographisches Aufzeichnungsmaterial, das zur Infrarotbelichtung mit Licht eines Wellenlängenbereiches
bis zu 7 Mikron empfindlich ist. Das bei der Belichtung gebildete positive latente Bild
kann mit dem'in BeispieTl^gegebenen physikalischen
Entwickler, entwickelt werden- ■.''..
35 Eine im sichtbaren Spektrumsbereich empfindliche Schicht kann folgenderweise hergestellt werden; auf
eine Glasunterlage wird eine 0,1 bis 1 Mikron dicke Schicht aus PbJ2 oder TlJ aufgetragen. Diese Schichten
sind bei diffuser Tagesbeleuchtung ganz stabil. Auf diese Schichten wird gleich oder vor dem Gebrauch
eine Schicht aus 10~7 g/cm2 Ag aufgetragen.
In den so erhaltenen Aufzeichnungsmaterialien tritt bei Belichtung eine irreversible Veränderung ein, wobei
ein entwickelbares positives Bild entsteht. Für die Entwicklung der TIJ-Schichten kann man den in Beispiel
1 gegebenen physikalischen Entwickler verwenden. Bei den PbJ2-Schichten erhält man bessere Ergebnisse
mit dem folgenden Entwickler:
Lösung A
Natriumsulfit, krist 180 g
Silbernitrat lOVoige Lösung ... 75 ml
Wasser bis 11;
Lösung B
Natriumsulfit, krist 20 g
p-Phenylendiamin 20 g
Gelatine 4 g
Wasser bis 11.
Vor dem Gebrauch werden 35 ml der Lösung A mit 10 ml der Lösung B gemischt.
Claims (2)
1. Photographisches Aufzeichnungsverfahren, Telluriden des Pb, Tl, Cd, Cu, Zn oder aus interbei
dem ein strahlungsempfindliches Aufzeich- 5 metallischen Verbindungen von Elementen der III.
nungsmaterial, bestehend aus: und V. Gruppe des PSE aufweisen, sind bekannt aus
a) einem Schichtträger, fr Veröffentlichung von M. T. Ko sty shin et al in
' B Soviet Physics Journal, Februar 1966, S. 451 und 452.
b) einer Aufzeichnungsschicht aus einem strah- In letzter Zeit wurden einige Verfahren zur Herlungsempfindlichen
Halogenid, Oxyd, Sulfid, 10 stellung von photographischen Bildern auf der Grund-Selenid,
oder Tellurid des Pb, Tl, Cu, Cd, iage von silberfreien lichtempfindlichen Verbindun-Zn
oder aus GaAs, GaSb oder InSb, gen bekannt. Das dabei verwendete TiO2, ZnO und
c) einer dünnen Metallschicht eine ganze Reihe anderer Verbindungen, z. B. wie die
unter Ausbildung eines Reaktionsproduktes aus in der deutschen Offenlegungsschrift 1497 160 gedem
Material der strahlungsempfindlichen Schicht *5 nannten, besitzen eine ziemlich geringe Fähigkeit bei
und dem Metall der Metallschicht belichtet und Belichtung katalytisch aktive Metallkeime zu bilden,
entwickelt wird, dadurch gekennzeich- Infolgedessen haben die damit erhaltenen photonet,
daß ein Aufzeichnungsmaterial verwendet graphischen Materialien eine niedrige Empfindlichwird,
bei dem die Metallschicht mit einer Metall- keiit» so daß ihre Anwendbarkeit in vielen Fällen bemenge
zwischen 10~8 g und 10~5 g pro cm2 20 schränkt ist. Diese Verfahren unterscheiden sich in-Schichtfläche
als äußerste Schicht auf der strah- soweit nicht von den konventionellen photographilungsempfindlichen
Schicht aufgebracht ist und sehen Methoden mit Silberhalogeniden, als auch bei
dadurch, daß die Aufzeichnungen in der belich- den obengenannten Verfahren ein negatives Bild aus
teten Schicht durch Behandeln mit einem Metall- bei Belichtung entstandenen Metallkeimen gebildet
ionen enthaltenden physikalischen Entwickler 2S wird. In der Veröffentlichung im Soviet Physics Jourentwickelt
oder verstärkt werden. nal, S. 8, Nr. 2/451 (1966), folgt Kostyshin dem-
2. Photographisches Aufzeichnungsmaterial zur selben Prinzip. Er erhält ein negatives Bild mit VerDurchführung
des Verfahrens nach Anspruch 1, bindungen, die ähnlich den Verbindungen sind, die
bestehend aus: beim vorliegenden Verfahren angewendet werden.
a) einem Schichtträger 3° Bei dem bekannten Verfahren werden sichtbare Me-
tallkeime gebildet, die sich nicht durch Entwicklung
b) einer Aufzeichnungsschicht aus einem strah- verstärken lassen.
lungsempfindlichen Halogenid, Oxyd, Sulfid, In der deutschen Offenlegungsschrift 1 597 664 ist
Selenid oder Tellurid des Pb, Tl, Cu, Cd, Zn ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur
oder aus GaAs, GaSb oder InSb, 35 Herstellung von sichtbaren Bildern vorgeschlagen
c) einer dünnen Metallschicht, worden, bei dem ein Bild belichteter Metallschichten
dadurch gekennzeichnet, daß die Metallschicht erhalten wird.
mit einer Metallmenge zwischen 10~8g und 10~5g Aufgabe der Erfindung war es, ein ohne Verwen-
pro cm2 Schichtfläche als äußerste Schicht auf der dung von Halogensilber arbeitendes photographistrahlungsempfmdlichen
Schicht aufgebracht ist. 4o sches Aufzeichnungsverfahren zu entwickeln, das bei
Belichtung positive Bilder liefert, die sich durch eine
physikalische Entwicklung verstärken lassen.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einem photographischen Aufzeichnungsverfahren aus, bei
Die Erfindung betrifft ein photographisches Auf- 45 dem ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmatezeichnungsverfahren,
bei dem ein strahlungsempfind- rial, bestehend aus:
liches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus: a) einem Schichtträgej.;
liches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus: a) einem Schichtträgej.;
a) einem Schichtträger, b) einer Aufzeichnungsschicht aus einem strahlungs-
b) einer Aufzeichnungsschicht aus einem strahlungs- empfindlichen Halogenid, Oxyd, Sulfid, Selenid
empfindlichen Halogenid, Oxyd, Sulfid, Selenid 5° oder Tellurid des Pb, Tl, Cu, Cd, Zn oder aus
oder Tellurid des Pb, Tl, Cu, Cd, Zn oder aus GaAs, GaSb oder InSb,
GaAs, GaSb oder InSb, c) einer dünnen Metallschicht
c) einer dünnen Metallschicht A , .,, . _ , .
·..... .. unter Ausbildung eines Reaktionsproduktes aus dem
unter Ausbildung eines Reaktionsproduktes aus dem 55 Material der strahlungsempfindlichen Schicht und
Material der strahlungsempfindlichen Schicht und dem Metall der Metallschicht belichtet und entwickelt
dem Metall der Metallschicht belichtet und entwickelt wird, und ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufwird,
zeichnungsmaterial verwendet wird, bei dem die Die Erfindung betrifft weiter ein zur Durchführung Metallschicht mit einer Metallmenge zwischen 10 ~s g
des Verfahrens nach Anspruch 1 verwendetes photo- 6° und 10~5 g pro cm2 Schichtfläche als äußerste Schicht
graphisches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus: auf der strahlungsempfindlichen Schicht aufgebracht
ist und dadurch, daß die Aufzeichnungen in der be-
a) einem Schichtträger, lichteten Schicht durch Behandeln mit einem Metall-
b) einer Aufzeichnungsschicht aus einem strahlungs- ionen enthaltenden physikalischen Entwickler entempfindlichen
Halogenid, Oxyd, Sulfid, Selenid 65 wickelt oder verstärkt werden.
oder Tellurid des Pb, Tl, Cu, Cd, Zn oder aus Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist das bei
GaAs, GaSb oder InSb, dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete strah-
c) einer dünnen Metallschicht. lungsempfindliche Aufzeichnungsmaterial, dadurch
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ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2600178A1 (de) * | 1976-01-05 | 1977-07-14 | Inst Poluprovodnikov | Gegen elektromagnetische und korpuskularstrahlung empfindliches material und sein herstellungsverfahren |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2600178A1 (de) * | 1976-01-05 | 1977-07-14 | Inst Poluprovodnikov | Gegen elektromagnetische und korpuskularstrahlung empfindliches material und sein herstellungsverfahren |
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