DE1521252B2 - Vorrichtung zum Verdampfen von hochschmelzenden Materialien wie Quarz od. dgl., insbesondere zum Aufdampfen von Schichten - Google Patents
Vorrichtung zum Verdampfen von hochschmelzenden Materialien wie Quarz od. dgl., insbesondere zum Aufdampfen von SchichtenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Verdampfen von hochschmelzenden Materialien
wie Quarz od. dgl., insbesondere zum Aufdampfen von Schichten, bestehend aus einer Elektronenstrahls
quelle mit magnetischer Fokussierung der Strahlen durch einen Hufeisenpermanentmagneten.
Derartige Vorrichtungen finden Anwendung zum Aufdampfen von Quarz oder Metallen auf Oberflächen,
wie beispielsweise Linsen, Spiegelgläser oder Kunststoffkörper. Man hat bisher bei Vorrichtungen
mit hoher Leistung zur Fokussierung der Elektronenstrahlen Hufeisenmagneten ; verwendet, ; die als-Elektromagneten
ausgebildet waren. Dabei wurde die Einstellung des Fokus durch Regelung des Magnetfeldes
auf elektrischer Basis vorgenommen. Elektromagneten haben den Nachteil, daß sie viel Raum
beanspruchen und zum anderen die Wicklung durch die Wärmestrahlung und Wärmeleitung während der
Verdampfung hohen Temperaturen ausgesetzt ist und zum Gasen neigt. Die Gase verursachen Überschläge
und damit gleichzeitig ein Abschalten der Hochspannung, wodurch der Verdampfungsvorgang unterbrochen
wird, der Verdampferkörper immer erneut zünden muß und daher keine gleichbleibende Verdampfungsrate,
die für die gleichmäßige Aufdampfung Voraussetzung ist, gewährleistet wird.
Ein weiterer Nachteil ist die Vermischung dieser Gase mit den Materialdämpfen, wodurch die Haftfähigkeit
beeinträchtigt werden kann. Bei Vorrichtungen mit geringerer Leistung, denen nur eine kleine
Verdampfungsrate abverlangt wird, hat man bereits Permanentmagneten an Stelle von Elektromagneten
verwendet, da in diesem Falle die Fokussierung noch über die Kathodenheizung bzw. Kathodentemperatur
geregelt werden, kann. Bei Vorrichtungen mit hoher Leistung, z. B. über 3 kW, ist diese Regelung nicht
durchführbar, denn dann läßt sich die Verdampfungsrate nicht mehr auf gleichbleibendem Niveau
halten.
Diese Nachteile werden behoben, wenn der Permanentmagnet
erfindungsgemäß an seinem Steg durch einen Spalt unterbrochen ist, dessen.Breite
mittels einer 'Regelzunge" "einstellbar" ist. Durch die
Regelzunge ist das magnetische Feld, mit welchem der Fokus eingestellt wird, beeinflußbar. Der Raumbedarf
ist also durch den Fortfall der elektrischen Erregerspule geringer geworden, die ansonsten notwendigen
elektrischen Anschlüsse und die schwierige Abdichtung der Spule gegen das Hochvakuum
entfallen, und die schädliche: Gasbildung ist ausgeschaltet.
Von besonderem Vorteil ist weiterhin, daß durch den Magnetspalt eine Halterung für das zu verdampfende
Material mit Nachschubvorrichtung hindurch-
;■ geführt werden kann, während bei den vorbekannten Anordnungen dieser Raum von der Erregerspule
beansprucht wurde und das Material oberhalb der Spule auf einer Trägerplatte gelagert werden mußte.
Sehr vorteilhaft auf die Fokussierung mittels des Magnetfeldes hat sich auch die Anordnung von
zylindrischen Magneten mit axialer Magnetisierung
erwiesen. Diese zylindrischen Magneten liegen zwi-
sehen den Schenkeln des Hufeisenmagneten und den zum Elektronenstrahl hin angeordneten Magnet-
> backen.· Durch die Anordnung der Regelzunge ist es gelungen, die Kathodenheizung bzw. die Kathodentemperatur
sehr niedrig zu halten und trotzdem ein Maximum an Elektronen zur Erzielung der erforderlichen
Energiedichte zu erhalten.
In einer Zeichnung ist das Wesen der Erfindung schematisch erläutert:
Der Hufeisenmagnet ist symmetrisch ausgebildet
Der Hufeisenmagnet ist symmetrisch ausgebildet
zo und besteht aus dem unterbrochenen Steg 1, den Schenkeln 2, den zylindrischen, axial magnetisierten
Scheiben 3 und den Magnetbacken 4. Aus der nicht dargestellten Kathode . der Elektronenstrahlquelle
treten die Elektronen durch den Spalt 5 aus, der von
der Hilfsanode 6, der Abschirmung 7 und der Entladungsabschirmung 8 gebildet wird. Sie gelangen
in das magnetische Feld, welches sie umlenkt und auf dem zu verdampfenden Materialkörper 9 fokussiert.
Die Einstellung der Fokussierung erfolgt durch
Änderung des Magnetfeldes über die Regelzungen 10,
- mit der die Breite des Magnetspaltes 11 einstellbar
ist. Durch den Spalt 11 ist eine Halterung 12 mit
Nachschubantrieb 13 für den zu verdampfenden
. Körper 9 geführt. Es versteht sich, daß die gesamte
35. Vorrichtung einschließlich des zu bedampfenden Gegenstandes in einem abgedichteten Raum unter
Hochvakuum angeordnet ist.
Claims (2)
1. Vorrichtung zum Verdampfen von hochschmelzenden Materialien wie Quarz od. dgl.,
:. insbesondere zum Aufdampfen von Schichten,
bestehend aus einer Elektronenstrahlquelle mit magnetischer Fokussierung der Strahlen durch
einen Hufeisenpermanentmagneten, dadurch
gekennzeichnet, daß der Permanentmagnet an seinem Steg (1) durch einen Spalt (11) unterbrochen
ist, dessen Breite mittels einer Regelzunge (10) einstellbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Magnetspalt (11) eine
Halterung (12) für das zu verdampfende Material (9) angeordnet ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEF0049093 | 1966-05-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| DE1521252B2 true DE1521252B2 (de) | 1969-10-30 |
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|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2918563A1 (de) * | 1978-11-22 | 1980-06-04 | Hiradastech Ipari Kutato | Magnetisches ablenksystem fuer elektronenstrahlbedampfungsquellen |
Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| CH624435A5 (de) * | 1977-11-22 | 1981-07-31 | Balzers Hochvakuum |
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| CH488026A (de) | 1970-03-31 |
| SE306461B (de) | 1968-11-25 |
| US3544756A (en) | 1970-12-01 |
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| BR6788829D0 (pt) | 1973-03-13 |
| GB1155656A (en) | 1969-06-18 |
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