CH624435A5 - - Google Patents
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Description
624 435
Claims (5)
1. Elektronenstrahlverdampfungseinrichtung für Vakuumaufdampfanlagen mit einer Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material, einer Elektronenstrahlquelle und mit einem Umlenkmagneten zur Führung des Elektronenstrahls auf das zu verdampfende Material, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten drei Bauelemente an einer Haltestange befestigt und wenigstens zwei davon auf dieser lösbar und verschiebbar angeordnet sind.
2. Einrichtung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material an dem einen Ende der Haltestange angeordnet ist und die Elektronenstrahlquelle und der Umlenkmagnet auf der Haltestange verschiebbar sind.
3. Einrichtung nach Paten tànspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material als Drehtisch ausgebildet ist.
4. Einrichtung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Haltestange hohl ausgebildet und mit einem Flansch zur Befestigung an der Rezipientenwand versehen ist.
5. Einrichtung nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Haltestange im Flansch verschiebbar ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Elektronenstrahl-verdampfungseinrichtung für Vakuumaufdampfanlagen mit einer Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material, einer Elektronenstrahlquelle und mit einem Umlenkmagneten zur Führung des Elektronenstrahls auf das zu verdampfende Material.
Vorrichtungen, bei denen die genannten Elemente einer Elektronenstrahlverdampfungseinrichtung zu einer Einheit zusammengebaut sind, sind in vielen verschiedenen Varianten bekannt geworden. Die meisten haben den Nachteil, dass sie nur für bestimmte spezifische Anwendungsfälle bzw. in bestimmten Vakuumaufdampfanlagen einsetzbar sind. Die verschiedenen Anwendungsfälle bedingen nämlich jeweils eine verschiedene geometrische Anordnung der Elektronenstrahlquelle, des Magneten und der Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material, um einen optimalen Wirkungsgrad zu erzielen.
Die vorliegende Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, einen Elektronenstrahlverdampfer so zu gestalten, dass er einen breiten Einsatzbereich besitzt, also den Anforderungen der verschiedensten Anwendungsfälle gerecht wird. Die Anpassung an den jeweils vorliegenden Fall soll dabei schnell und einfach erfolgen können, ohne dass das Auswechseln der ganzen Einrichtung erforderlich ist. Die erfindungsgemässe Elektronenstrahlverdampfungseinrichtung der erwähnten Art ist dadurch gekennzeichnet, dass die genannten drei Bauelemente an einer Haltestange befestigt und wenigstens zwei davon auf dieser lösbar und verschiebbar angeordnet sind.
Dadurch wird in überraschend einfacher Weise die nötige Anpassungsfähigkeit an die einzelnen Anwendungsfälle erreicht. Es hat sich erwiesen, dass es meistens sogar genügt, die Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material an dem einen Ende der Haltestange fest anzuordnen und die Elektronenstrahlquelle und den Umlenkmagneten auf der Haltestange verschiebbar zu machen. Es ist zu empfehlen,
die Haltestange mit Kühlkanälen auszubilden und mit einem Flansch zur Befestigung an der Rezipientenwand zu versehen.
Ein besonderer Vorteil, den der Elektronenstrahlverdampfer bietet, liegt darin, dass man den Brennfleck des s Elektronenstrahls auf dem zu verdampfenden Gut durch Änderung der Einstellung des Umlenkmagneten leicht je nach Bedarf kleiner oder grösser machen und damit den besonderen Erfordernissen des jeweiligen Verdampfungsmaterials anpassen kann. Für die Verdampfung von Gemischen und Le-io gierungen kann es vorteilhaft sein, die Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material um eine vertikale Achse drehbar auszubilden.
Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemässen Vorrichtung, "■ der sich insbesondere bei Reinigungs- und Reparaturarbeiten ' is geltend macht, besteht in der leichten Zerlegbarkeit der Ein- V richtung.
Nachfolgend soll die Erfindung an einem Beispiel anhand der anliegenden Zeichnung näher beschrieben werden. Die Figur 1 zeigt dieses in einer Draufsicht von oben, die Figur 2 20 in einer Seitenansicht. In beiden Figuren bedeutet 1 die Haltestange, die mittels eines Flansches 2 vakuumdicht an der Rezipientenwand befestigt werden kann und durch diese hindurch nach aussen geführt ist. Diese Haltestange ist hohl ausgebildet und kann alle notwendigen Leitungen für die elek-25 trische Strom- und Hochspannungsversorgung der Elektronenstrahlquelle, sowie die Kühlmittelzu- und -ableitungen für eine gekühlte Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material aufnehmen.
Im Ausführungsbeispiel sind auf der Haltestange der Reihe 30 nach befestigt: ein wassergekühlter doppelwandiger Kupfertiegel 3 als Haltevorrichtung für das zu verdampfende Material, der Umlenkmagnet 4, der hier als Permanentmagnet ähnlich wie ein Hufeisenmagnet mit zwei Polschuhen ausgebildet ist, und die Elektronenstrahlquelle 5, die von an sich bekannter 35 Art sein kann.
Im gezeigten Beispiel sind nur die Elektronenstrahlquelle und der Umlenkmagnet auf der Haltestange verschiebbar, dagegen ist die erwähnte Haltevorrichtung fest an der Haltestange befestigt. Für eine noch grössere Flexibilität ist es aber 40 selbstverständlich möglich, auch letztere auf der Haltestange verschiebbar zu machen. Es ist auch vorteilhaft, den Tiegel 3 drehbar zu machen. In dem gezeichneten Beispiel ist zu diesem Zweck auf der Haltestange 1 zusätzlich ein Motor 6 aufgebaut, der mittels eines Kettentriebes 7 und eines Zahnkranzes 8 am 45 Umfang des Drehtiegels 3 letzteren in Drehung versetzt.
In den Figuren 1 und 2 stellt die Haltestange eine gerade Stange dar, die demgemäss horizontal in der Seitenwand der Aufdampfkammer zu befestigen ist. Um sie gegebenenfalls an einem nicht vertikalen Wandteil befestigen zu können, kann so sie entsprechend gebogen werden, so dass, wenn sie an der betreffenden Wand angeflanscht wird, der Elektronenstrahlverdampfer selbst horizontal steht. Insbesondere kann es zweckmässig sein, die Haltestange um 90 Grad abzuwinkein, derart, dass bei horizontaler Lage des Verdampfers das 55 Flanschende der Haltestange vertikal steht und durch die Bodenplatte der Aufdampfkammer hindurchgeführt werden kann. Durch vertikales Verschieben kann dann jede passende Höhenlage des Verdampfers eingestellt werden, was besonders im Falle der Horizontalverdampfung, bei der die Verteilung 60 des Niederschlages auf den seitlich der Dampfquelle angeordneten Substraten entscheidend von der Höheneinstellung der D ampfquelle abhängt, wichtig ist.
B
1 Blatt Zeichnungen
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