DE1515295B1 - Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten aus dem Material einer Zerstäubungskathode auf eine senkrecht zu einer Anode angeordnete Unterlage - Google Patents
Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten aus dem Material einer Zerstäubungskathode auf eine senkrecht zu einer Anode angeordnete UnterlageInfo
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Description
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Bereiche auf der Unterlage stärker beschichten kann über eine im wesentlichen rohrförmige Fadenabschirals
andere Bereiche derselben. Durch diese Regelbar- mung oder Elektronenführung 32 mit einem Knie 35
keit der Beschichtung läßt sich die aufgewandte in Verbindung steht. An der Seitenöffnung 31 ist ein
Energie bestmöglich ausnutzen, so daß sich Schich- Flansch 33 mittels einer Anzahl von Bolzen auf der
ten hoher Qualität mit verhältnismäßig geringem 5 Grundplatte 11 befestigt. Ein Dichtungsring 36 dich-Energieaufwand
aufbringen lassen. Hierzu wird da- tet den Flansch 33 gegen die Grundplatte 11 ab. Der
durch beigetragen, daß die Anode und die Zerstäu- Flansch 33 besitzt einen Vorsprung 38, welcher die
bungskathode senkrecht zueinander angeordnet sind, Basis eines Kathodenteils 40 bildet. Das Kathodenteil
wobei die Anode senkrecht zur Plasmaachse und so- umfaßt weiter einen Glühfaden 41, welcher von zwei
mit die Zerstäubungskathode seitlich von der Pias- io Leitungen 42 gehalten und mit elektrischem Strom
maachse verläuft; dadurch werden Störungen oder versorgt wird, welche sich durch den Flansch 32 erStauungen
der elektrischen Feldlinien und des Pias- strecken und gegen diesen durch zwei Isolierbüchsen
mas vermieden, somit der Energiebedarf verrin- 44 isoliert sind. An den Büchsen 44 sind Anschlüsse
gert. 45 befestigt, die mit den Leitungen 42 verbunden
Die Erfindung und ihre vorteilhaften Ausgestal- 15 sind. Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel trägt die
tungen sind im folgenden an Hand von in der Zeich- Fadenabschirmung 32 eine Rohrschlange 47, welche
nung dargestellten Ausführungsbeispielen näher er- in üblicher (nicht gezeigter) Weise mit einer Kühlmit-
läutert. Es zeigt telversorgung für ein flüssiges Kühlmittel verbunden
F i g. 1 eine teilweise geschnittene Ansicht einer er- ist. Die Kühlflüssigkeit zirkuliert durch die Rohr-
sten Ausführungsform der Vorrichtung, 20 schlange 47, um die Fadenabschirmung zu kühlen.
F i g. 2 eine der F i g. 1 entsprechende Ansicht der Auf diese Weise wird eine Überhitzung der Fadenabgleichen
Vorrichtung in abgeänderter Form, schirmung und ein Freisetzen von Verunreinigungen
■ F i g. 3 einen Schnitt längs der Linie 3-3 in F i g. 2, vermieden. Eine Prallplatte 50 umgibt das obere
F i g. 4 eine der F i g. 1 entsprechende Ansicht der Ende der Fadenabschirmung 32 und wird von zwei
dort dargestellten Vorrichtung in weiterer Abwand- 25 Bolzen 51 und 52 getragen,
lung, Eine Büchse erstreckt sich durch eine Bohrung 55
F i g. 5 einen Schnitt längs der Linie 5-5 in F i g. 4, in dem Flansch 18 und wird dort von einer Mutter
Fig. 6 eine teilweise geschnittene Ansicht einer 56 gehalten. Durch diese verläuft ein Rohr 57, das
weiteren Abwandlung der in Fig. 1 dargestellten gegen die Büchse 54 abgedichtet ist. Das Rohr 57
Vorrichtung. 30 trägt an seinem oberen Ende ein Knie 59. An dem
Die in F i g. 1 dargestellte Vorrichtung 10 besitzt Knie 59 ist ein weiteres Rohr 60 angeschlossen, das
eine Grundplatte 11 mit einer Mittelöffnung 12 und sich im wesentlichen senkrecht zu dem Rohr 57 er-
einer abnehmbaren Glasglocke 14, die auf der streckt. Ein isolierter Draht 62 verläuft durch die
Grundplatte 11 angeordnet und dort mit einer Ring- Rohre 57 und 60 und ist an einer Anodenbefesti-
dichtung 15 abgedichtet ist. Eine Vakuumleitung 17 35 gungsstange 64 angeschlossen, welche gegen das
ist an die Grundplatte 11 mittels eines Flansches 18 Rohr 60 isoliert ist. Der Draht 62 führt weiter zu
und einer Schweißnaht 19 angeschlossen. Der Hohl- einem Anschluß 65, welcher an dem unteren Ende
raum in der Grundplatte 11 und der Glasglocke 14 des Rohres 57 über einen Isolator 66 angeschlossen
wird mittels einer üblichen (nicht gezeigten) Hoch- ist. An der Stange 64 ist eine Anode 68 aufgehängt
vakuumpumpe evakuiert, welche an die Vakuumlei- 40 und mit dieser elektrisch verbunden. Die Anode 68
tung 17 angeschlossen wird. Die Grundplatte 11 be- besitzt eine im wesentlichen horizontale Anodenober-
sitzt eine erste Seitenöffnung 21, welche mit der Mit- fläche 70, welche auf die Fadenabschirmung 32 zu
telöffnung 12 in Verbindung steht. An der Grund- gerichtet ist.
»platte 11 ist um die Seitenöffnung 21 ein Flansch 22 Nachdem die Grundplatte 11 und die Glocke 14
mittels einer Anzahl von Bolzen 23 befestigt. Ein 45 evakuiert worden sind, wird der Faden 41 von der
Dichtungsring 25 dichtet den Flansch 22 gegen die Batterie 72, welche an die Anschlüsse 45 angeschlos-Grundplatte
11 ab. Ein von Hand einstellbares Na- sen ist, mit Heizstrom versorgt. Die Anode 68 wird
delventil 26 ist so an den Flansch 22 angeschlossen, dann mittels einer Batterie 73 positiv gegenüber dem
daß einer seiner Anschlüsse mit der Seitenöffnung 21 Faden 41 vorgespannt. Der negative Anschluß der
in Verbindung steht. Der andere Anschluß des Na- 50 Batterie 73 ist mit einem der Heizfadenanschlüsse 45
delventils 26 ist mit einem Rohr 27 verbunden, wel- verbunden und kann geerdet oder mit der Vorrichches
zu einem Gastank 28 führt. Der Gastank, der tung 10 verbunden sein. Der positive Anschluß der
eine Gasflasche sein kann, enthält ein ionisierbares Batterie 73 ist über einen einstellbaren Widerstand
Gas, beispielsweise Argon, welches die Ionisierung in 75 mit dem Anodenanschluß 65 verbunden. Der geder
Glocke 14 unterstützt, wenn es in kleinen Men- 55 heizte Faden 41 entsendet Elektronen zur Anodengen
über das Nadelventil 26 durch die Grundplatte oberfläche 70. Diese Elektronen stoßen mit den in
11 in die Glocke 14 eingelassen wird. Es ist aber der Glocke 14 vorhandenen Gasmolekülen zusamauch
möglich, die notwendigen Ionisierungsbedin- men. Die Gasmoleküle werden dabei ionisiert, und es
gungen in der Glocke 14 dadurch zu schaffen, daß bildet sich in dem Zwischenraum zwischen der Andie
Tätigkeit der Vakuumpumpe so gesteuert wird, 60 ode und der Prallplatte 50 ein Plasma. Die strichlierdaß
während der Evakuierung eine genügende An- te Linie 130 soll das Plasma 131 schematisch symbozahl
von Gasmolekülen in der Glocke 14 verbleibt. lisieren. Das Plasma 131 erstreckt sich im wesentli-Die
Verwendung eines gesonderten Gastankes und chen entlang der Achse 77. Das Nadelventil 25 kann
eines Nadelventils ermöglicht jedoch eine zweckmä- von Zeit zu Zeit eingestellt werden, um die geßigere
und genauere Einstellung der Ionisierungsbe- 65 wünschte Menge an Gasmolekülen aus dem Tank 28
dingungen. in das Plasma einzuleiten. Da die Kathode die Form Die Grundplatte 11 besitzt eine zweite Seitenöff- eines Heizfadens 41 besitzt, kann sie eine große Annung
31, welche mit dem Hohlraum in der Glocke 14 zahl von Elektronen aussenden. Eine rohr'örmige
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Fadenabschirmung bzw. Rohrführung 32 begrenzt Oberfläche 95, und die Anodenoberfläche 70 ist mit
die Elektronen seitlich und leitet sie in der Form Abstand davon im wesentlichen rechtwinklig zu den
eines Elektronenstromes, der durch eine Anzahl von Oberflächen 95 und 100 angeordnet,
gestrichelten Linien 133 angedeutet ist, zu dem Pias- Der negative Anschluß einer Batterie 102 ist über
ma 131. Das Plasma 131 wird so kontinuierlich mit 5 einen einstellbaren Widerstand 103 mit dem Zerstäueiner
konzentrierten Menge von Elektronen gespeist, bungskathodenanschluß 90 verbunden. Der positive
und es kann eine kräftige Erzeugung von Plasma er- Anschluß der Batterie 102 ist an die Leitung angefolgen
und, so lange gewünscht, aufrechterhalten schlossen, die von dem positiven Anschluß der Battewerden.
Das Plasma ist dabei stärker als die mit der rie 73 ausgeht. Die Zerstäubungskathode 94 und die
gleichen Energie in den bekannten Vorrichtungen, io Oberfläche 95 sind daher elektrisch so vorgespannt,
bei denen keine die Elektronen begrenzenden und daß die positiven Ionen aus dem Plasma auf die
führenden Einrichtungen wie die Rohrführung 32 Oberfläche 95 auftreffen. Diese auftreffenden Ionen
vorhanden waren, erzielbaren Plasmen. zerstäuben Material von der Oberfläche 95, welches
Die Kathode ist durch eine lange Lebensdauer ge- sich auf der Oberfläche 100 der Unterlage absetzt
kennzeichnet, da sie das zu zerstäubende Material 15 und auf dieser eine dünne Schicht bildet. Während
nicht wie bei den bekannten Vorrichtungen zu liefern des Betriebes der dargestellten Vorrichtung kann der
braucht. Sie kann daher aus einem typischen Katho- Anodenstrom mittels eines Widerstandes 75 und der
denmaterial hergestellt sein, das eine hohe Elektro- Zerstäubungskathodenstrom mittels eines Widerstannenausbeute
ergibt. Die geheizte Kathode besitzt wei- des 103 eingestellt werden.
ter infolge der geringen Spannungsabfälle zwischen 20 Die Vorrichtung besitzt ferner eine im wesentlider
Kathode und Anode eine niedrige Zerstäubungs- chen zylindrische Haube, welche auf der Grundplatte
geschwindigkeit. 11 ruht und abnehmbar ist. Die Seitenwand der Hau-
Eine getrennte Befestigung des Kathodenteiles 40, be 110 kann aus nichtmagnetischem Drahtnetz bestewie
sie in der Zeichnung dargestellt ist, ist äußerst hen. Ein dreiarmiger Ständer 111 ruht auf der Obervorteilhaft,
da die Kathode dann seitlich von der 25 Seite der Haube 110. Drei Ketten, von denen zwei
Grundplatte 11 ausgebaut werden kann, ohne daß mit 112 und 114 in der Zeichnung bezeichnet sind,
die Abdichtung zwischen der Glocke 14 und der hängen von dem Ständer 111 herab. Eine Magnetan-Grundplatte
11 geöffnet und die Vorrichtung bewegt Ordnung 125, welche eine Spule 116 enthält, ist mitzu
werden braucht, wie dies bei einigen bekannten tels einer Anzahl weiterer Ketten 116 an den zuerst
Vorrichtungen der Fall war. Zusätzlich hat die ge- 30 erwähnten Ketten aufgehängt, welche mit den erstgezeigte
Anordnung des Kathodenteiles 40 und der Fa- nannten Ketten durch Haken 118 verbunden sind,
denabschirmung 32 den Vorteil, daß sie die Verseu- Die Spule 116 wird über einen einstellbaren
chung des Glockenraumes durch Kathodenmaterial Widerstand 120 von einer Batterie 121 gespeist, welauf
ein Minimum reduziert. eher eine Regelung des durch die Spule 116 fließen-
Durch eine Öffnung 81 in dem Flansch 18 er- 35 den Stromes und somit des von dieser Spule erzeugstreckt
sich eine weitere Büchse 80, die von einer ten Magnetfeldes ermöglicht. Die Spule besitzt Ring-Mutter
82 gehalten wird. Durch diese Mutter läuft form und das Magnetfeld, welches in der Zeichnung
ein Rohr 84, das gegen die Büchse 80 abgedichtet ist. schematisch durch den Pfeil 123 angedeutet ist, er-Das
Rohr 84 trägt an seinem oberen Ende ein Knie- streckt sich im wesentlichen entlang der Achse 77
stück 85. An dem Kniestück 85 ist ein weiteres 40 und in deren Nähe.
Rohr 86 befestigt, das sich im wesentlichen recht- Die Auftrag- oder Absetzgeschwindigkeit und so-
winklig zu dem Rohr 84 erstreckt. Durch die Rohre mit die Dicke der auf der Oberfläche 100 der Unter-84
und 86 verläuft ein isolierter Draht 88, der an lage 98 gebildeten Schicht kann durch Verschieben
einem Zerstäubungskathodenträger 89 angeschlossen und/oder Kippen des von der Spule 116 erzeugten
ist, welcher nahe an dem Rohr 86 gegen dieses iso- 45 magnetischen Feldes gegenüber der Plasmaachse an
liert angeordnet ist. Das untere Ende des Drahtes 88 verschiedenen Stellen der Unterlage verändert werist
elektrisch mit einem Anschluß 90 verbunden, wel- den. Das magnetische Feld kann entweder entlang
eher durch einen Isolator 92 gegen das Rohr 84 iso- der Plasmaachse 77 auf die Anode 68 oder die Anliert
ist. An dem Zerstäubungskathodenträger 89 ist odenoberfläche 70 zu oder von dieser weg verschoeine
Zerstäubungskathode in der Form einer Platte 50 ben werden bis eine maximale Gleichmäßigkeit der
befestigt. Die Platte 94 besteht aus dem zu zer- Schichtdicke auf der Oberfläche 100 der Unterlage
stäubenden Material und hat eine Oberfläche 95, die erreicht ist. Das Erreichen dieser optimalen Gleichseitlich von der Plasmaachse 77 angeordnet ist. Die mäßigkeit kann in üblicher Weise leicht mittels einer
Oberfläche 95 besitzt nicht nur einen Abstand von der bekannten optischen Vorrichtungen zum Messen
der Achse 77, sondern erstreckt sich auch im wesent- 55 der Dicke von dünnen Schichten festgestellt werden,
liehen parallel zu dieser. Ein Halter 96 für eine Un- Diese Meßvorrichtungen und ihre Verwendung sind
terlage 98 ist an der Prallplatte 50 befestigt und er- dem Fachmann bekannt, so daß sie nicht in den
streckt sich von dieser nach oben. Die Unterlage 98 Zeichnungen dargestellt zu werden brauchen. Die
ist an diesem Halter so befestigt, daß sie von diesem Verschiebung der Spule 116 kann bei dem gezeigten
herabhängt. Die Unterlage 98 besitzt eine Oberfläche 60 Ausführungsbeispiel leicht dadurch bewirkt werden,
100, auf die eine dünne Schicht des von der Zerstäu- daß die Haken 118 aus den Gliedern der Ketten 112
bungskathode 95 zerstäubten Materials aufgebracht und 114 und der dritten in der Zeichnung nicht
werden soll. Die Oberfläche 100 ist seitlich von der sichtbaren Kette ausgehakt werden, und dann wieder
Plasmaachse 77 angeordnet, wobei sie von dieser in andere Glieder der entsprechenden Ketten eingeeinen
Abstand besitzt und der Oberfläche 95 der 65 hakt werden. Gegebenenfalls können auch andere
Zerstäubungskathode gegenüberliegt. Bei dem gezeig- Arten von verstellbaren Aufhängungen wie Kabelzüten
Ausführungsbeispiel erstreckt sich die Oberfläche ge mit veränderbarer Länge zur Bewegung der Spule
der Unterlage 98 im wesentlichen parallel zu der 116 verwendet werden. Das magnetische Feld kann
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auch ohne weiteres gegen die Plasmaachse 77 oder thode 95 Ionen angezogen, welche deren Material
die Oberfläche 95 geneigt werden, indem einer der auf die Unterlage 98 zerstäuben.
Haken 118 in ein höheres oder niedrigeres Glied der Durch die scheibenförmige Plasmagestalt wird ein
Ketten 112 und 114 als die anderen Haken einge- sehr gleichmäßiges Ionenbombardement an der
hängt wird. Die Intensität des Magnetfeldes kann 5 Oberfläche 95 und eine entsprechende gleichmäßige
durch Verstellung eines Einstellwiderstandes 120 Zerstäubung des Materials erzielt. Daraus ergibt sich
verändert werden. eine außerordentlich gleichmäßige Schichtbildung
Bei einem der Experimente mit der in der Zeich- auf der Oberfläche 100 der Unterlage. Falls ge-
nung dargestellten Vorrichtung wurde beobachtet, wünscht, kann die Zerstäubungskathode 94 und die
daß sich Schichten aus zerstäubtem Material mit ho- io Unterlage 98 näher an das Plasma herangerückt wer-
her Qualität bildeten, wenn zwischen Anode und Ka- den als in Fig. 2. Selbstverständlich können ver-
thode eine Spannung von 40 V und eine Zerstäu- schiedene Arten von Rohrführungen verwendet wer-
bungskathodenspannung von —800 V verwendet den, um verschiedenförmige Plasmen und verschiede-
wurde. Die Fadenspannung betrug ungefähr 16 V, lie Zerstäubungseffekte zu erzielen. Der Ausdruck
und der Fadenstrom betrug ungefähr 40 Ampere. 15 Rohrführung soll hier im allgemeinen Sinne verstan-
Der Anodenstrom lag bei 3,7 Ampere, während der den werden, wie es sich auch aus F i g. 3 ergibt, bei
Zerstäubungskathodenstrom um etwa 120 Milliampere der die Rohrführungen rechteckigen bzw. prismati-
betrug. Als Ionisierungsgas wurde Argon verwen- sehen und nichtzylindrischen Querschnitt besitzen,
det, und der Druck wurde auf 10~3 Torr (1 Mikron) Wie leicht einzusehen, führt der Aufbau der in
eingestellt. Das Magnetfeld wurde von einer Spule 20 Fig. 2 und 3 gezeigten Vorrichtung zu einer sehr
mit ungefähr 58,4 cm (23 Zoll Durchmesesr) gelie- wirksamen Ausnutzung der zur Verfügung stehenden
fert, die 40 Windungen aus 0,1 mm starkem Draht Elektronen und der im Plasma erzeugten Ionen. Zu-
(Draht Nr. 10) besaß. Der Spulenstrom wurde auf sätzlich werden mit dieser Vorrichtung Schichten mit
ungefähr 14 Ampere eingestellt. besserer Gleichmäßigkeit und gesteuerter Dicke er-
Die meisten Teile der Vorrichtung nach Fig. 2 35 zielt.
sind mit den Teilen der in Fig. 1 gezeigten Vorrich- Die in Fig. 4 dargestellte Vorrichtung entspricht
tung identisch oder ihnen sehr ähnlich. Daher sind in in vieler Hinsicht der Vorrichtung in Fig. 1 und ist
den F i g. 1 und 2 die gleichen Bezugszeichen zur Be- teilweise identisch, so daß gleiche Teile gleiche Bezeichnung
der identischen oder sehr ähnlichen Teile zugszeichen erhalten haben,
verwendet worden. 30 Bei dem in Fig. 4 gezeigten Ausführungsbeispiel
verwendet worden. 30 Bei dem in Fig. 4 gezeigten Ausführungsbeispiel
Die in Fig. 2 gezeigte Vorrichtung besitzt eine ist die Zerstäubungskathode 95 mit dem Anschluß 64
Rohrführung 150, die auf der Platte 50 ruht und verbunden, welcher seinerseits über den Draht 62 an
einen Hohlraum 152 umgibt, der mit dem Hohlraum den Außenanschluß 65 angeschlossen ist. Das in
innerhalb der Rohrführung 32 in Verbindung steht. F i g. 4 gezeigte Isolierrohr 84 ist kürzer als sein Ge-Die
Rohrführung 150, die aus leitendem oder isolie- 35 genstück in den zuvor beschriebenen Figuren und
rendem Material bestehen kann, bildet an seinem trägt eine Anschlußstange 180. Diese Anschlußstanoberen
Ende eine Düse 153. Die Düse 153 besitzt ge 180 ist über den Draht 88 mit dem Ausgangsaneine
langgestreckte Öffnung 155, welche am besten Schluß 90 verbunden. An der Anschlußstange 180 ist
aus der in F i g. 3 dargestellten Ansicht zu erkennen eine Anode 181 befestigt. Der veränderliche Widerist.
Bei den in den F i g. 2 und 3 gezeigten Ausfüh- 40 stand 75 ist an den Anschluß 90 so angeschlossen,
rungsbeispielen erstreckt sich die Öffnung 155 paral- daß er die Anode 181 auf das gewünschte Potential
IeI zur Oberfläche 95 der Zerstäubungskathode 94 bringt. Die Batterie 102 und der Einstell widerstand
sowie zur Oberfläche 100 der Unterlage 98. 103 sind an den Ausgangsanschluß 65 angeschlossen,
Bei der in F i g. 2 gezeigten Vorrichtung wird eine so daß sie die Zerstäubungskathode 95 auf das geAnode
157 verwendet, welche eine Form besitzt, die 45 wünschte Potential bringen. Die Rohrführung 32 ist
im wesentlichen der Form der Öffnung 155 ent- etwas länger als ihr Gegenstück in den zuvor bespricht.
Dies kann man am besten aus F i g. 3 erken- schriebenen Figuren. Ihre Natur und Funktion sind
nen, wo ein Rand der Anode 157 mit gestrichelten jedoch die gleichen, so daß das gleiche Bezugszeichen
Linien dargestellt ist. In diesem Zusammenhang soll- verwendet worden ist.
te erwähnt werden, daß die effektive Fläche der An- 50 Die von dem Glühfaden 41 ausgesandten Elektro-
ode auch etwas kleiner als der Querschnitt der Düsen- nen werden durch die Rohrführung 32 in das Innere
öffnung gewählt werden kann. eines Adapters 184 geleitet, welcher auf der Platte 50
Bei dem Betrieb der in F i g. 2 und 3 dargestellten ruht. Der Adapter 184 besitzt eine Düse 185, die sich
Vorrichtung leitet die Rohrführung 32 die Elektro- in Richtung der Anode 181 erstreckt. Die Rohrfüh-
nen von dem Faden 41 zur Innenseite der Rohrfüh- 55 rung 32 und der Adapter 184 wirken bei der Bildung
rung 150. Diese Elektronen bewegen sich, sobald sie eines Elektronenstromes zusammen, welcher von der
von der positiv vorgespannten Anode angezogen wer- Düse 185 in einer im wesentlichen zur Platte 50 par-
den, durch die Öffnung 155 in der Düse 153. Eine allelen Richtung ausgeht.
Anzahl von strichlierten Linien 158 deutet schema- Die Form des Adapters 184 und der Düse 185 ist
tisch den Elektronenfluß innerhalb der Rohrführun- 60 am besten aus der F i g. 5 der Zeichnung zu erken-
gen 32 und 150 an. Infolge der gezeigten Form der nen. Die Düse 185 besitzt eine rechteckige Öffnung
Öffnung 155 und der Anode 157 kufen die von der 187, die der zuvor beschriebenen Öffnung 155 aus
Düse 153 ausgehenden Elektronen in der Form einer F i g. 3 ähnlich ist. Die gestrichelten Linien in F i g. 5
Elektronenscheibe zur Anode. Das an der Zerstäu- geben die Form der Anode 181 an. Diese Anoden-
bungskathode 94 erzeugte Plasma besitzt daher eine 65 form entspricht der Form der Öffnung 187, so daß
scheibenförmige Gestalt. Dies ist durch die strichlier- eine im wesentlichen rechteckige bzw. prismatische
ten Linien 159 angedeutet. Aus dieser Scheibe wer- Scheibe von Elektronen und somit ein nahezu pris-
den durch die negativ vorgespannte Zerstäubungska- matisches Plasma zwischen der Düse 185 und der
ίο
Anode 181 gebildet wird. Die gestrichelten Linien 188 in Fig. 4 sollen den Umriß dieses Ionenblattes anzeigen.
Die an die Zerstäubungskathode 95 in F i g. 4 angelegte
Spannung bewirkt eine Anziehung von Ionen aus der Plasmascheibe 188. Diese Ionen zerstäuben
Material von der Unterseite der Zerstäubungskathode 95. Dieses Material bewegt sich — in F i g. 4 gesehen
— abwärts. Auf der Platte 50 ist eine Unterlage
ruht. Die Zerstäubungskathode 95' besteht aus dem Material, welches auf die Unterlage 190' aufgestäubt
werden soll, die an einer anderen Stelle der Platte 50 angeordnet ist.
Die Zerstäubungskathode nach Fig. 6 wird im wesentlichen in der gleichen Weise wie die Zerstäubungskathoden
95 und 95' in Fig. 4 gespeist, so daß gleiche Bezugszeichen verwendet worden sind, um
die Teile zur Befestigung und zur Speisung zu be-
190 angeordnet. Auf der Oberseite 190 der Unterlage io zeichnen, wobei lediglich bei den der Zerstäubungs-190
wird eine dünne Schicht des zerstäubten Mate- kathode 95' zugehörigen Teilen zur besseren Unterscheidung
jeweils ein Strich hinzugefügt wurde. Erwähnenswert ist, daß die in den zuvor beschrie
benen Figuren dargestellte Stromquelle 102 auch in
Ordnung 115 in den zuvor erwähnten Figuren der Fall ist.
Die in den F i g. 4 und 5 gezeigte Vorrichtung hat den Vorteil, daß das Plasma in einer Horizontalebene
liegt, so daß die Unterlage nicht vertikal aufgehängt zu werden braucht. Die Platte 50 dient viel-
rials gebildet. Zur Beeinflussung der Dichte der auf
der Oberfläche 191 der Unterlage aufgestäubten
Schicht ist eine Magnetspule 193 in der in Fig. 4
dargestellten Stellung vorgesehen. Die Spule 193 15 Fig. 6 verwendet wird, wobei sie die gemeinsame wird von der zuvor erwähnten Batterie 121 über den Stromquelle zur Vorspannung der beiden Zerstäu-Einstellwiderstand 120 mit Strom gespeist. Die Spule bungskathoden 95 und 95' bildet. Deren Ein- und 193 ist beweglich, wie dies auch bei der Magnetan- Ausschalten wird durch die Betätigung von entsprechenden Schaltern 202 bzw. 202' bewirkt.
der Oberfläche 191 der Unterlage aufgestäubten
Schicht ist eine Magnetspule 193 in der in Fig. 4
dargestellten Stellung vorgesehen. Die Spule 193 15 Fig. 6 verwendet wird, wobei sie die gemeinsame wird von der zuvor erwähnten Batterie 121 über den Stromquelle zur Vorspannung der beiden Zerstäu-Einstellwiderstand 120 mit Strom gespeist. Die Spule bungskathoden 95 und 95' bildet. Deren Ein- und 193 ist beweglich, wie dies auch bei der Magnetan- Ausschalten wird durch die Betätigung von entsprechenden Schaltern 202 bzw. 202' bewirkt.
Auch hier leiten eine Rohrführung 32 und ein Adapter 205 die Elektronen vom Glühfaden 41 bis in
Höhe der Anoden 181 und 181'. Der Adapter 205 hat eine Haube 206, welche durch Teile 208 von dem
Adapterkörper 207 auf Abstand gehalten wird. Die
mehr als Tisch für die Unterlage 190, die auf diese 25 von dem Adapterkörper 207 ausgehenden Elektro-Weise
leicht eingesetzt und entfernt werden kann. nen strömen durch den Raum zwischen ihm und der
Falls gewünscht, kann die in F i g. 1 gezeigte Vor- Haube 206 und werden in Richtung der Anode 181
richtung gleich so dimensioniert werden, daß sie so- bzw. 181' angezogen, wenn der eine bzw. der andere
wohl in der in F i g. 2 als auch in der in F i g. 4 ge- Schalter 200 geschlossen ist. Diese Elektronen bilzeigten
Weise betrieben werden kann. In diesem FaI- 30 den Plasmen 210 bzw. 210', wie sie schematisch in
Ie wird eine Vorrichtung vorgesehen, welche in der F i g. 6 eingezeichnet sind. Wenn der Schalter 202 geeinen
Anordnung so betrieben werden kann, daß sie schlossen ist, werden Ionen aus dem Plasma 210 von
ein vertikales Plasma liefert, während sie in der an- der Zerstäubungskathode 65 in Fig. 6 angezogen,
deren Anordnung ein horizontales Plasma liefert. bewirken deren Zerstäubung und bilden eine dünne
Auf diese Weise erhält man eine vielseitige Vorrich- 35 Schicht auf der Oberfläche 191 der Unterlage 160.
tung, welche für verschiedene Zerstäubungsvorgänge Diese Schichtbildung kann in der oben beschriebenen
verwendet werden kann.
Die in F i g. 6 gezeigte Vorrichtung ist eine Weiterentwicklung der in F i g. 4 und 5 gezeigten Vorrichtung.
Zum leichteren Verständnis sind daher auch in 40 diesem Falle für gleiche Teile gleiche Bezugszeichen
verwendet worden.
Die Vorrichtung nach Fig. 6 besitzt eine Anode
181, welche in der gleichen Weise wie die Anode 181
in Fig. 4 aufgehängt und gespeist wird, mit der Aus- 45 einer Batterie 121' gespeiste Spule 193' steuert die nähme, daß in der Stromversorgungsschaltung ein Schiehtbildung auf der Unterlage 190'. Schalter 200 vorgesehen ist, um ein wahlweises Ein- Falls gewünscht, können die Schalter 200 und 202
181, welche in der gleichen Weise wie die Anode 181
in Fig. 4 aufgehängt und gespeist wird, mit der Aus- 45 einer Batterie 121' gespeiste Spule 193' steuert die nähme, daß in der Stromversorgungsschaltung ein Schiehtbildung auf der Unterlage 190'. Schalter 200 vorgesehen ist, um ein wahlweises Ein- Falls gewünscht, können die Schalter 200 und 202
und Ausschalten der Anode 181 in Fig. 6 zu ermög- geschlossen und die Schalter 200' und 202' offen
liehen. Die Vorrichtung von Fi g. 6 besitzt weiterhin bleiben, so daß nur das Zerstäubungssystem mit Zereine
Anode 181', welche in der gleichen Weise wie 50 stäubungskathode 95 betätigt wird. Andererseits köndie
Anode 181 in F i g. 6 befestigt ist und gespeist nen die Schalter 200 und 202 offen bleiben und die
wird. Die Befestigungs- und Versorgungseinrichtun- Schalter 200' und 202' können geschlossen werden,
gen für die Anode 181 haben deshalb die gleichen so daß nur das System mit der Zerstäubungskathode
Bezugszeichen wie die entsprechenden Teile für die 95' betätigt wird. Gegebenenfalls können an der VorVersorgung
der Anode 181 in Fig. 6 erhalten, mit 55 richtung von Fig. 6 weitere Anoden und Zerstäuder
Ausnahme, daß jedes Bezugszeichen zur deutli- bungskathoden mit zugehörigen Versorgungssystecheren
Unterscheidung mit einem Strich versehen ist. men angebaut werden, wodurch eine Gruppe von
Die Vorrichtung nach F i g. 6 besitzt weiter eine Zer- mehreren Anoden und mehreren Ionentargets rund
stäubungskathode 95, die mit der Anode 181, und um den in der Mitte angeordneten Adapter 205 enteine
Zerstäubungskathode 95', die mit der Anode 60 steht. Es können dann in dem gleichen Gefäß ver-181'
zusammenwirkt. Die Zerstäubungskathode 95 schiedene Zerstäubungsvorgänge durchgeführt und je
besteht aus dem Material, das auf die Unterlage 190 nach Wunsch eingeschaltet und ausgeschaltet weraufgestäubt
werden soll, welche auf der Platte 50 den.
Weise mittels einer von einer Stromquelle 121 über einen Einstellwiderstand 12 gespeisten Spule 193 gesteuert
werden.
Wenn der Schalter 202' geschlossen ist, werden Ionen aus dem Plasma 210' von der Zerstäubungskathode
95' angezogen, deren Material auf die Oberfläche 191' der Unterlage 190' von Fig. 6 zerstäubt
wird. Eine über einen Einstellwiderstand 120' von
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Vorrichtung zum Aufbringen dünner Zerstäubungskathode auf eine senkrecht zu einer AnSchichten
aus dem Material einer Zerstäubungs- ode angeordnete Unterlage, in der ein Plasma gebilkathode
auf eine senkrecht zu einer Anode an- 5 det wird, das sich entlang einer vorgegebenen Achse
geordnete Unterlage, in der ein Plasma gebildet erstreckt und Ionen für das Zerstäuben der parallel
wird, das sich entlang einer vorgegebenen Achse zur Plasmaachse angeordneten Oberfläche der Zererstreckt
und Ionen für das Zerstäuben der paral- stäubungskathode auf die Unterlage liefert, und bei
IeI zur Plasmaachse angeordneten Oberfläche der der das Plasma von einer Spule mit einem über eine
Zerstäubungskathode auf die Unterlage liefert, io angelegte Spannung steuerbaren Magnetfeld umge-
und bei der das Plasma von einer Spule mit ben ist.
einem über eine angelegte Spannung steuerbaren Es ist eine Vorrichtung dieser Bauart bekannt
Magnetfeld umgeben ist, dadurch gekenn- (deutsche Auslegeschrift 1122 801), bei welcher die
zeichnet, daß zwischen einer Elektronenquel- Spule ein hochfrequentes Magnetfeld erzeugt, das die
Ie (41) und der senkrecht zur Plasmaachse (77) 15 Bildung des Plasmas bewirkt. Durch die Steuerung
angeordneten Anode (68,157,181,181') ein Elek- des Magnetfeldes dieser Spule läßt sich demnach die
tronenstrahl erzeugt ist und daß eine Steuerung Intensität des Plasmas und damit die Stärke der Zerdes
Magnetfeldes (123) über Verstellvorrichtun- stäubung beeinflussen. Diese bekannte Vorrichtung
gen (112, 114, 118) für die Spule (116) erfolgt, ist jedoch nicht in der Lage, das Auf treffen der Ionen
mittels derer sich die Spule (116) entlang der 20 des Plasmas auf bestimmte Bereiche der Zerstäu-Plasmaachse
(77) verschieben und/oder gegen- bungskathode bzw. die Ablagerung der zerstäubten
über der Plasmaachse (77) kippen läßt. Partikel auf bestimmte Bereiche der Unterlage zu
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- steuern.
kennzeichnet, daß die Magnetspule (116) so aus- Ferner ist eine Vorrichtung zum Aufdampfen eines
gebildet ist, daß sie sowohl die Zerstäubungska- 25 Stoffes, beispielsweise eines Metalls, bekannt (deutthode
(94) als auch die Unterlage (98) umgibt. sehe Patentschrift 764 927), bei welcher der Stoff so
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeich- weit erhitzt wird, daß er verdampft und sich im Vanet
durch Rohrführungen (32) zur Führung der kuum auf der dafür vorgesehenen Unterlage nieder-Elektronen
von der Elektronenquelle (40) zu dem schlagen kann. Zur Erhitzung wird dabei ein Elek-Bereich
für die Bildung und Aufrechterhaltung 30 tronenstrahl verwendet, der zur besseren Energieausdes
Plasmas (131). nutzung durch Magnetfelder gebündelt und damit
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge- konzentriert auf den zu verdampfenden Stoff geleitet
kennzeichnet, daß die Rohrführungen (32, 150, wird. Die Spule beeinflußt somit den Strahlengang
153; Fig. 2) eine Öffnung (155; Fig. 2 und 3) des Elektronenstrahls, um dessen Energie zur effektimit
vorgegebener Form für die Formung eines 35 veren Erhitzung des zu verdampfenden Stoffes zu
Elektronenstromes und die Bildung des Plasmas verwenden. Ein Plasma ist bei dieser bekannten Vor-(79)
aufweisen, welch letzteres eine ähnliche richtung nicht vorhanden. Die dort verwendete Spule
Querschnittsform wie die Öffnung besitzt (Fig. 2). ist demnach eine elektronenoptische Linse, deren
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch ge- Verschieben oder Verschwenken eine entsprechende
kennzeichnet, daß die Öffnung (155) der Rohr- 40 Verlagerung des Auftreffbereichs der Elektronenführung
(150) im wesentlichen rechteckig ist und strahlen auf den zu verdampfenden Stoff und damit
die Formung einer Plasmascheibe (159) mit im die Verdampfung beeinflußt. Wie sich die verdampfwesentlichen
rechteckigem Querschnitt be- ten Moleküle dann auf die zu bedampfende Unterlawirkt.
ge niederschlagen, ist bei der bekannten Vorrichtung
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, ge- 45 nicht beeinflußbar.
kennzeichnet durch eine Anode (157), die im we- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine
sentlichen die gleiche Form wie die Öffnung Vorrichtung der eingangs genannten Bauart zu schaf-
(155) der Rohrführung besitzt. fen, bei welcher die Ablagerung der zerstäubten Par-
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 tikel auf der Unterlage steuerbar ist und die bei verbis
6, dadurch gekennzeichnet, daß die Rohrfüh- 50 tretbarem Energiebedarf eine hohe Qualität der steurung
ein Rohrelement (185; Fig. 4) zur Aussen- erbar ausgestäubten Schichten gewährleistet. Diese
dung von Elektronen in einer im wesentlichen ho- Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
rizontalen Richtung für die Bildung eines im we- zwischen einer Elektronenquelle und der senkrecht
sentlichen horizontalen Ionenplasmas (188) ent- zur Plasmaachse angeordneten Anode ein Elektrohält.
55 nenstrahl erzeugt ist und daß eine Steuerung des Ma-
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 gnetfeldes über Verstellvorrichtungen für die Spule
bis 6, gekennzeichnet durch zwei oder mehr Zer- erfolgt, mittels derer sich die Spule entlang der Plasstäubungssysteme,
die jeweils eine Anode (181, maachse verschieben und/oder gegenüber der Plas-18Γ)
und eine Zerstäubungskathode (95, 95') so- maachse kippen läßt.
wie eine gemeinsame Glühkathode (40) für beide 60 Bei der erfindungsgemäßen Bauart läßt sich dem-Systeme
besitzen, und durch entsprechende Rohr- nach das Magnetfeld mittels der Verstellvorrichtunführungen
(32, 205) für die Führung der Elektro- gen verschieben oder kippen, wodurch sich nicht nur
nen von der Glühkathode zu einem der Zerstäu- die Dichte der auf die Zerstäubungskathode auftrefbungssysteme
zur Erzeugung und Aufrechterhai- fenden Ionen und damit die Zerstäubung des Matetung
eines Ionenplasmas (210, 210') in einem der 65 rials der Zerstäubungskathode, sondern auch die
Zerstäubungssysteme (Fig. 6). Dicke der sich auf der Unterlage bildenden Schicht
aus dem zerstäubten Material beeinflussen läßt. Diese Beeinflußbarkeit geht so weit, daß man Örtliche
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