DE1298833B - Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen einer Vielzahl von festhaftenden Schichten bestimmter Dicke aus verschiedenen Materialien auf eine Unterlage mittels Elektronenbeschuss - Google Patents

Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen einer Vielzahl von festhaftenden Schichten bestimmter Dicke aus verschiedenen Materialien auf eine Unterlage mittels Elektronenbeschuss

Info

Publication number
DE1298833B
DE1298833B DET23798A DET0023798A DE1298833B DE 1298833 B DE1298833 B DE 1298833B DE T23798 A DET23798 A DE T23798A DE T0023798 A DET0023798 A DE T0023798A DE 1298833 B DE1298833 B DE 1298833B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crucible
electron beam
shaft
screen
crucibles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DET23798A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Tyler Maurice Eugene
Shrader Robert Leland
Anderson Martin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Airco Inc
Original Assignee
Air Reduction Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Reduction Co Inc filed Critical Air Reduction Co Inc
Publication of DE1298833B publication Critical patent/DE1298833B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
DET23798A 1962-04-13 1963-04-06 Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen einer Vielzahl von festhaftenden Schichten bestimmter Dicke aus verschiedenen Materialien auf eine Unterlage mittels Elektronenbeschuss Pending DE1298833B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US187341A US3227133A (en) 1962-04-13 1962-04-13 Multiple layer coating and cleaning

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1298833B true DE1298833B (de) 1969-07-03

Family

ID=22688579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DET23798A Pending DE1298833B (de) 1962-04-13 1963-04-06 Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen einer Vielzahl von festhaftenden Schichten bestimmter Dicke aus verschiedenen Materialien auf eine Unterlage mittels Elektronenbeschuss

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3227133A (US06330241-20011211-M00004.png)
AT (1) AT247097B (US06330241-20011211-M00004.png)
BE (1) BE630728A (US06330241-20011211-M00004.png)
CH (1) CH414303A (US06330241-20011211-M00004.png)
DE (1) DE1298833B (US06330241-20011211-M00004.png)
DK (1) DK125169B (US06330241-20011211-M00004.png)
GB (1) GB979700A (US06330241-20011211-M00004.png)
LU (1) LU43540A1 (US06330241-20011211-M00004.png)
NL (1) NL291466A (US06330241-20011211-M00004.png)
SE (1) SE300173B (US06330241-20011211-M00004.png)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4470370A (en) * 1982-01-14 1984-09-11 GfO - Gesellschaft f/u/ r Oberfl/a/ chentechnik m.b.H. Means for loading vapor coating materials into an evaporator

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3277865A (en) * 1963-04-01 1966-10-11 United States Steel Corp Metal-vapor source with heated reflecting shield
US3467057A (en) * 1966-07-27 1969-09-16 Hitachi Ltd Electron beam evaporator
CA997228A (en) * 1972-06-27 1976-09-21 Hans-Juergen C. Blume Deposition of films
DE2917841A1 (de) * 1979-05-03 1980-11-13 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen
DE3316554C1 (de) * 1983-05-06 1984-07-12 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Verdampfervorrichtung mit Strahlheizung zum Aufdampfen mehrerer Materialien
CH663037A5 (de) * 1985-02-05 1987-11-13 Balzers Hochvakuum Dampfquelle fuer vakuumbeschichtungsanlagen.
GB8726639D0 (en) * 1987-11-13 1987-12-16 Vg Instr Groups Ltd Vacuum evaporation & deposition
DE102004006849B4 (de) * 2004-02-12 2011-06-01 Ald Vacuum Technologies Ag Vorrichtung zum Beschichten von Substraten
DE102010017896A1 (de) * 2010-04-21 2011-10-27 Ald Vacuum Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Substraten nach dem EB/PVD-Verfahren
EP2868768B1 (en) 2013-10-29 2021-06-16 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Shutter system

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE882174C (de) * 1942-10-07 1953-07-06 Bosch Gmbh Robert Verfahren zum Verdampfen von Stoffen im Vakuum mittels Elektronenstrahlen
DE895086C (de) * 1942-04-15 1953-10-29 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung metallischer Niederschlaege durch thermische Verdampfung
FR1064045A (fr) * 1952-01-22 1954-05-10 Procédé pour l'obtention de couches semi-conductrices
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
DE1054802B (de) * 1956-03-05 1959-04-09 Westinghouse Electric Corp Verfahren zur Verdampfung von Stoffen, insbesondere zur Erzeugung der UEbergangszonen (junctions) von Transistoren
DE1072451B (de) * 1955-07-06 1960-06-02 English Electric Valve Company Limited, London Vorrichtung zur Herstellung von Überzügen durch Vakuumaufdampfen

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2482329A (en) * 1946-05-27 1949-09-20 Rca Corp Apparatus for selective vapor coating
GB754102A (en) * 1951-06-22 1956-08-01 Edwards & Co London Ltd W Improvements in or relating to a method and apparatus for vapourising materials, forexample, metal in vacuum
US2932588A (en) * 1955-07-06 1960-04-12 English Electric Valve Co Ltd Methods of manufacturing thin films of refractory dielectric materials
US3046936A (en) * 1958-06-04 1962-07-31 Nat Res Corp Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE895086C (de) * 1942-04-15 1953-10-29 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung metallischer Niederschlaege durch thermische Verdampfung
DE882174C (de) * 1942-10-07 1953-07-06 Bosch Gmbh Robert Verfahren zum Verdampfen von Stoffen im Vakuum mittels Elektronenstrahlen
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
FR1064045A (fr) * 1952-01-22 1954-05-10 Procédé pour l'obtention de couches semi-conductrices
DE1072451B (de) * 1955-07-06 1960-06-02 English Electric Valve Company Limited, London Vorrichtung zur Herstellung von Überzügen durch Vakuumaufdampfen
DE1054802B (de) * 1956-03-05 1959-04-09 Westinghouse Electric Corp Verfahren zur Verdampfung von Stoffen, insbesondere zur Erzeugung der UEbergangszonen (junctions) von Transistoren

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4470370A (en) * 1982-01-14 1984-09-11 GfO - Gesellschaft f/u/ r Oberfl/a/ chentechnik m.b.H. Means for loading vapor coating materials into an evaporator

Also Published As

Publication number Publication date
DK125169B (da) 1973-01-08
GB979700A (en) 1965-01-06
AT247097B (de) 1966-05-25
BE630728A (US06330241-20011211-M00004.png) 1963-11-04
CH414303A (de) 1966-05-31
LU43540A1 (US06330241-20011211-M00004.png) 1963-06-11
NL291466A (US06330241-20011211-M00004.png)
SE300173B (US06330241-20011211-M00004.png) 1968-04-08
US3227133A (en) 1966-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2902848C2 (de) Verfahren zur Herstellung von dünnen optischen Mehrfachschichten
DE68909361T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer werkstoffschicht mittels einer laser-ionenquelle.
DE2614951C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristall-Zelle
DE69027004T2 (de) Geometrie und Gestaltungen eines Geräts zum Magnetronzerstäuben
DE69032824T2 (de) Verfahren zum Laseraufdampfen
DE4341173B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Abscheidung unterschiedlicher Materialien auf einem Substrat
DE2653242A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ueberziehen eines isoliersubstrats durch reaktive ionenablagerung mit einer oxidschicht aus mindestens einem metall
DE2339949A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum auftragen einer duennen schicht auf einer unterlage
DE1298833B (de) Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen einer Vielzahl von festhaftenden Schichten bestimmter Dicke aus verschiedenen Materialien auf eine Unterlage mittels Elektronenbeschuss
DE3414539C2 (US06330241-20011211-M00004.png)
DE2312194A1 (de) Verfahren zur isotopentrennung
DE4126236A1 (de) Rotierende magnetron-katode und verfahren zur anwendung
EP0888463B1 (de) Einrichtung zum vakuumbeschichten von schüttgut
DE764927C (de) Verfahren zur Verdampfung im Vakuum
DE19546827A1 (de) Einrichtung zur Erzeugung dichter Plasmen in Vakuumprozessen
DE970970C (de) Einrichtung zum Herstellen von Oberflaechenschichten durch Verdampfen oder Sublimieren des UEberzugsstoffes im Hochvakuum
DE4006456C1 (en) Appts. for vaporising material in vacuum - has electron beam gun or laser guided by electromagnet to form cloud or pre-melted spot on the target surface
DE4339490C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Innenwandbeschichtung von Hohlkörpern, insbesondere kleiner Abmessungen
DE4425221C1 (de) Verfahren und Einrichtung zum plasmagestützten Beschichten von Substraten in reaktiver Atmosphäre
DE2430653C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines photoleitfähigen Materials aus mindestens zwei Elementen auf ein Substrat
DE69722812T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer beschichtung auf einem substratmittels kathodenzerstäubung
DE2231770C3 (de) Vorrichtung zum Schmelzen, Reinigen und gegebenenfalls Legieren von Metallportionen
EP1614138A2 (de) Hochfrequenz-plasmastrahlquelle und verfahren zum bestrahlen einer oberfläche
DE2305359B2 (de) Vorrichtung zur reaktiven Aufdampfung dünner Schichten auf Unterlagen
DE1539718B2 (de) Elektronenemissionsmikroskop