DE1243193B - Verfahren zur Gewinnung von Dimethylchlorsilan - Google Patents
Verfahren zur Gewinnung von DimethylchlorsilanInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
C07f
Deutsche Kl.: 12 ο-26/03
Nummer: 1 243 193
Aktenzeichen: G 44116 IV b/12 ο
Anmeldetag: 9. Juli 1965
Auslegetag: 29. Juni 1967
Es ist bekannt, daß Dimethylchlorsilan durch Umsetzung von Siliciumpulver mit Methylchlorid in
Gegenwart eines Kupferkatalysators gewonnen werden kann, wobei aber auch Nebenprodukte, wie
Kohlenwasserstoffe, gebildet werden. Ein solches Verfahren ist in den USA.-Patentschriften 2 380 995
und 2 563 557 beschrieben, wobei im letzteren Fall ein zwischen etwa 26 und 41° C siedendes Reaktionsgemisch anfällt, das als Verunreinigungen des Dimethylchlorsilans
auch Siliciumtetramethyl, Trichlorsilan und Methyldichlorsilan enthält. Durch fraktionierte
Destillation des bei der Umsetzung anfallenden Reaktionsgemisches erhielt man bisher Dimethylchlorsilan
nur mit 95 gewichtsprozentiger Reinheit, wobei die restlichen 5 Gewichtsprozent außer den
obengenannten Verunreinigungen im wesentlichen aus im gleichen Siedebereich wie Dimethylchlorsilan
siedenden Kohlenwasserstoffen bestehen. Ein so verunreinigtes Dimethylchlorsilan besitzt aber bei der
Weiterverarbeitung wesentliche Nachteile, die sich beispielsweise in einer Verminderung der Reaktionsgeschwindigkeit
und Produktausbeuten äußern. Außerdem ist ein solches bei der Weiterverwendung zurückgewonnenes unumgesetztes Dimethylchlorsilan
meist nicht mehr zu verwenden, da es prozentual mit den Verunreinigungen angereichert ist.
Aufgabe der Erfindung war es daher, ein reineres Dimethylchlorsilan aus dem bei der Umsetzung von
Silicium mit Methylchlorid anfallenden Reaktionsgemisch mit wenigstens 10% Dimethylchlorsilan zu
gewinnen. Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man das Reaktionsgemisch mit mindestens
0,01 Teil Chlorwasserstoff je Teil Silicium verbindung behandelt und anschließend destilliert.
Bei diesem Verfahren nach der Erfindung destilliert man zweckmäßigerweise bis zu einem Siedepunkt
von 41° C und fängt die zwischen 34 und 36° C siedende Fraktion als Produktfraktion auf.
Vorzugsweise arbeitet man mit wasserfreiem Chlorwasserstoff, mit dem das Reaktionsgemisch bei einem
Druck oberhalb Atmosphärendruck behandelt wird. Dabei kann man bei Temperaturen oberhalb von
0° C Drücke bis zu 74,84 atü anwenden.
Beim Arbeiten bei Atmosphärendruck oder darunter kann man in Gasphase bei Temperaturen bis
zur Rückflußtemperatur des zu behandelnden Reaktionsgemisches oder in flüssiger Phase bei einer
Temperatur zwischen —20 und 30° C behandeln.
Im allgemeinen werden Temperaturen zwischen 0 und 50° C benutzt, obwohl man auch bei höheren
Temperaturen, wie beispielsweise 150° C, arbeiten kann. Die Reaktionszeiten können je nach den Be-Verfahren
zur Gewinnung
von Dimethylchlorsilan
von Dimethylchlorsilan
Anmelder:
General Electric Company,
New York, N. Y. (V. St. A.)
New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr. H.-H. Willrath, Patentanwalt,
Wiesbaden, Hildastr. 18
Wiesbaden, Hildastr. 18
Als Erfinder benannt:
Richard August Petelinkar,
Latham, N. Y. (V. St. A.)
Richard August Petelinkar,
Latham, N. Y. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 31. Juli 1964 (386761) --
handlungsbedingungen zwischen 0,5 und 100 Stunden variieren oder sogar darüber- oder darunterliegen.
Vorzugsweise wird das bei der Umsetzung von Silicium mit Methylchlorid anfallende Reaktionsgemisch
mit 0,01 bis 0.5 Teilen Chlorwasserstoff je Teil Siliciumverbindung behandelt, obwohl
auch höhere Chlorwasserstoffkonzentrationen, wie etwa 10 Teile je Teil Siliciumverbindung, angewandt
werden können.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung, wobei alle Teile als Gewichtsteile
angegeben sind.
Wasserfreier Chlorwasserstoff wird in ein verschlossenes System eingeführt, das ein rohes Reaktionsgemisch
enthält. Eine Massenspektrometeranalyse zeigt, daß die Siliciumverbindungen des Gemisches
zu etwa 45 Gewichtsprozent aus Siliciumtetramethyl, etwa 12 Gewichtsprozent aus Trichlorsilan,
etwa 31 Gewichtsprozent aus Dimethylchlorsilan und etwa 12 Gewichtsprozent aus Methyltrichlorsilan
bestanden. Das Gemisch ist mit etwa Gewichtsprozent, bezogen auf das Gemisch, Kohlenwasserstoffen
verunreinigt. Das Gemisch wird bei Normaltemperatur 4 Stunden gerührt, während ein
Druck von 2,7 atü in dem System aufrechterhalten wird. Das Gemisch wird dann offen destilliert, und
eine Fraktion wird bei einer Temperatur zwischen
YUS 608/467
34 und 36" C aufgefangen. Das Produkt wird mit einem Massenspektrometer analysiert. Man fand,
daß es mehr als 98 Gewichtsprozent Dimethylchlorsilan und weniger als 2 Gewichtsprozent Kohlenwasserstoffverunreinigungen
enthielt.
Eine Probe des gleichen rohen Chlorsilangemisches wird direkt mit dem gleichen Destillationsverfahren
destilliert, ohne daß es mit wasserfreiem Chlorwasserstoff behandelt wurde. Eine Fraktion, die zwischen
34 und 36: C siedet, wird aufgefangen. Eine Massenspektrometeranalyse
zeigt, daß die Destillation des unbehandelten rohen Chlorsilangemisches zu
einem Produkt mit etwa 13 Gewichtsprozent Kohlenwasserstoffverunreinigungen führt.
In ein aus etwa 87 Gewichtsprozent Dimethylchlorsilan, etwa 12 Gewichtsprozent Kohlenwasserstoffverunreinigungen
und kleineren Mengen an Silan, Trichlorsilan und Methyldichlorsilan bestehendes
Reaktionsgemisch, das unter Rückfluß siedete, wurde bis zur Sättigung wasserfreier Chlorwasserstoff
eingeleitet. Das gasförmige Gemisch, das 2 Teile Chlorwasserstoff je Teil Siliciumverbindung enthielt,
wurde in eine Kondensationszone eingeleitet, deren anfängliche Behandlungstemperatur etwa 25° C und
deren Endtemperatur etwa —20° C betrug. Das Kondensat wurde destilliert, wobei eine Fraktion
aufgefangen wurde, die zwischen 34 und 36° C siedete. Bei der Massenspektrometeranalyse zeigte sich,
daß diese Fraktion aus Dimethylchlorsilan mit einer Reinheit von etwa 98,7 0Zo bestand.
lysators bei einer Temperatur zwischen 100 und 110° C miteinander umgesetzt. Das Dimethylchlorsilan
wird zu einem Gemisch von Penten-(l) und 0,1 Gewichtsprozent Platinkatalysator, bezogen auf
das Gewicht des Penten-(l), zugesetzt. Das gleiche Verfahren wird mit dem Dimethylchlorsilan der
Fraktion B wiederholt.
Tabelle I zeigt die erhaltenen Ergebnisse, wobei die Reaktionszeit in Minuten die Zeit angibt, die
erforderlich ist, um die obigen Additionsreaktionen vollständig durchzuführen. Außerdem zeigt die
Tabelle die Dimethylpentylchlorsilanausbeute bei der Addition des Dimethylchlorsilans und Pentens-(l).
Fraktion | Reaktionszeit Minuten |
Ausbeute »/0 |
A B |
8 90 |
86 77 |
35
Wasserfreier Chlorwasserstoff wird in ein Reaktionsgemisch eingeleitet, das zu etwa 94 Gewichtsprozent
aus Siliciumverbindungen und zu etwa 6 Gewichtsprozent aus Kohlenwasserstoffverunreinigungen
besteht. Die Siliciumverbindungen bestehen zu 82 Gewichtsprozent aus Methyldichlorsilan und
82 Gewichtsprozent aus Mechyldichlorsilan und 7 Gewichtsprozent aus Siliciumtetramethyl. Das
resultierende Gemisch wird während 12 Stunden unter dichten Bedingungen auf eine Temperatur von
25: C bei einem Druck von 3,4 atü erhitzt. Das Gemisch
wird destilliert, und eine Fraktion »A«, die zwischen 34 und 36° C siedet, wird gewonnen. Das
Verfahren wird in gleicher Weise wiederholt, doch mit der Abänderung, daß an Stelle von Chlorwasserstoff
Stickstoff in das Gemisch eingeleitet wird. Dieses Gemisch wird ebenfalls destilliert, wobei man
eine zwischen 34 und 36° C siedende Reaktion »B« auffängt. Fraktion A und B werden mit einem Massenspektrometer
analysiert. Man fand, daß Fraktion A mehr als 98n/o Dimethylchlorsilan enthält,
während die mit Stickstoff behandelte Fraktion B mit mehr als 10 Gewichtsprozent Kohlenwasserstoffen,
bezogen auf das Gesamtgewicht an Chlorsilan und Kohlenwasserstoffen, verunreinigt ist.
Gleiche Molmengen von Dimethylchlorsilan als Fraktion A und Penten-(l) werden in einem verschlossenen
System in Gegenwart eines Platinkata-
Ein rohes Reaktionsgemisch, das aus 86,8 Gewichtsprozent Dimethylchlorsilan, 11,5% Kohlenwasserstoffverunreinigungen,
1,2% Trichlorsilan, 0,1% Silan und 0,4% Methyldichlorsilan bestand, wurde in einen verschlossenen Kessel eingeführt.
Dann wurde wasserfreier Chlorwasserstoff in das Gemisch mit einer Geschwindigkeit eingeleitet, die ausreichte,
bei einer Temperatur zwischen 0 und 10° C einen Druck zwischen etwa 0,476 atü und 1,564 atü
zu bekommen. Während des Reaktionsverlaufes wurden Proben des Gemisches abgenommen und
destilliert. Zwischen 34 und 36° C siedendes Produkt wurde mit einem Massenspektrometer analysiert.
Tabelle II zeigt die Änderung der Gewichtsprozente an Dimethylchlorsilan in dem zwischen 34
und 36C C siedenden Produkt. Außerdem zeigt die Tabelle die Zeit, nach der die jeweilige Probe dem
Reaktionsgemisch während des Ablaufs des Verfahrens entnommen wurde.
Stunden
12
30
30
Dimethylchlorsilan
Gewichtsprozent
Gewichtsprozent
86,8
89,1
91,9
96,8
89,1
91,9
96,8
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Gewinnung von Dimethylchlorsilan aus dem bei der Umsetzung von Silicium mit Methylchlorid anfallenden Reaktionsgemisch mit wenigstens 10% Dimethylchlorsilan, dadurch gekennzeichnet, daß man das Reaktionsgemisch mit mindestens 0,01 Teil Chlorwasserstoff je Teil Siliciumverbindung behandelt und anschließend destilliert.709 608/467 6.67 © Bundesdruckerei Berlin
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Cited By (2)
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