DE1238987B - Halbleiterkoerper fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften - Google Patents
Halbleiterkoerper fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen EigenschaftenInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 69
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical group [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 6
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 6
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- NSRGWYQTFLSLOJ-UHFFFAOYSA-N antimony;cobalt(3+) Chemical compound [Co+3].[Sb] NSRGWYQTFLSLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBLMIPWAMVAONB-UHFFFAOYSA-N antimony;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].[Sb] SBLMIPWAMVAONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N gallium antimonide Chemical compound [Sb]#[Ga] VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- -1 nickel antimonide Chemical compound 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/24—Alloying of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, with a semiconductor body
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B21/00—Unidirectional solidification of eutectic materials
- C30B21/02—Unidirectional solidification of eutectic materials by normal casting or gradient freezing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B21/00—Unidirectional solidification of eutectic materials
- C30B21/04—Unidirectional solidification of eutectic materials by zone-melting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/40—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials of magnetic semiconductor materials, e.g. CdCr2S4
- H01F1/401—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials of magnetic semiconductor materials, e.g. CdCr2S4 diluted
- H01F1/404—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials of magnetic semiconductor materials, e.g. CdCr2S4 diluted of III-V type, e.g. In1-x Mnx As
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
HOIc
HOIf
Deutsche Kl.: 21c-54/05
Deutsche Kl.: 21c-54/05
Nummer: 1 238 987
Aktenzeichen: S 80682 VIII d/21 c
Anmeldetag: 31. Juli 1962
Auslegetag: 20. April 1967
Der Erfindung liegt allgemein die Aufgabe zugrunde, einen Halbleiterkörper zu schaffen, der unabhängig
von Dotierung und äußeren leitenden Schichten richtungsabhängige elektrische Eigenschaften
aufweist, d. h. elektrisch anisotrop ist.
Es ist bekannt, daß sich der elektrische Widerstand von Halbleiterkörpern hoher Ladungsträgerbeweglichkeit
im Magnetfeld deutlich ändert (s. zum Beispiel deutsche Patentschrift 973 121). Dieser Effekt
ist besonders groß, wenn der Halbleiter nicht in Form eines Stabes ausgebildet ist, an dessen Enden die
Elektroden für die Stromzuführung angebracht sind, sondern wenn der Halbleiter in Form einer rechteckigen
Platte ausgebildet ist (s. zum Beispiel österreichische Patentschrift 202 645). Mit einer rechteckigen
Platte (z. B. aus Indiumantimonid) kann man in einem Magnetfeld von 10 000 Gauß gegenüber
dem Magnetfeld Null eine Erhöhung des elektrischen Widerstandes auf das Zehnfache erhalten, wenn das
Verhältnis von Elektrodenbreite zu Elektrodenabstand 3 :1 beträgt. Bei einem derartigen Verhältnis
sind die Platten jedoch (ohne Magnetfeld) sehr niederohmig. Der Widerstand beim Magnetfeld Null
wird auch als »Grundwiderstand« bezeichnet. Zur Herstellung möglichst hochohmiger Platten dieser
Art, die also einen relativ hohen Grundwiderstand besitzen, wurden deshalb langgestreckte Halbleiterkörper
verwendet, auf die zur Erzielung eines starken Gaußfeldes nachträglich gut leitende und senkrecht
zur Stromrichtung verlaufende Streifen, z. B. ein SiI-berraster, aufgebracht wurden (s. zum Beispiel F i g. 4
der österreichischen Patentschrift 202 645 und deutsches Gebrauchsmuster 1 844 056). Dieser Herstellungsprozeß
ist schwierig, und die aufgebrachten Streifen können sich bei ungünstigen Umgebungsbedingungen
lösen.
Die Erfindung bezweckt insbesondere, Halbleiterkörper zu schaffen, welche, ohne daß die genannten
Schwierigkeiten auftreten, unter anderem gleichzeitig eine sehr hohe Magnetfeldabhängigkeit des Wider-Standes
und einen noch höheren Grundwiderstandswert als die bekannten Halbleiterkörper mit Silberraster
aufweisen.
Die Erfindung bezieht sich auf einen Halbleiterkörper für Bauelemente mit richtungsabhängigen
elektrischen, insbesondere magnetfeldabhängigen Eigenschaften. Sie besteht darin, daß der Halbleiterkörper
Einschlüsse einer zweiten Phase aus einem gegenüber dem Grundmaterial gut leitenden Stoff
enthält, der keine störende Dotierung des Grundmaterials hervorruft, daß die Einschlüsse in einer
oder zwei Dimensionen bevorzugt ausgedehnt sind Halbleiterkörper für Bauelemente mit
richtungsabhängigen elektrischen Eigenschaften
richtungsabhängigen elektrischen Eigenschaften
Anmelder:
Siemens Aktiengesellschaft, Berlin und München, Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Als Erfinder benannt:
Dipl.-Phys. Dr. Herbert Weiß,
Dipl.-Chem. Dr. Manfred Wilhelm, Nürnberg - -
und daß die Einschlüsse mit einer ausgezeichneten Orientierung parallel ausgerichtet sind.
Die Einschlüsse können beispielsweise nadeiförmig oder fiächenhaft ausgebildet sein. Die größte Ausdehnung
von Nadeln ist ihre Länge, in dieser Dimension sind die Nadeln bevorzugt ausgedehnt. Die größte
Ausdehnung von Flächen ist ihr Durchmesser, die flächenförmigen Einschlüsse sind also in zwei Dimensionen
bevorzugt ausgedehnt. Unter paralleler Ausrichtung ist bei nadeiförmigen Einschlüssen zu verstehen,
daß die Nadeln parallel liegen, bei flächenhaften Einschlüssen, daß die Flächennormalen parallel
liegen.
Die neuen Halbleiterkörper besitzen infolge der dichten Anordnung der Einschlüsse aus elektrisch
leitendem Material hohe Magnetfeldabhängigkeit des Widerstandes und können wegen der gleichzeitigen
Freiheit in der Formgebung (z. B. als sehr dünne Platten) mit hohem Grundwiderstand hergestellt werden.
Im Gegensatz zu den bisher bekannten Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, die
außer einem deutlichen Gaußeffekt auch relativ hohen Grundwiderstand aufweisen, ist man erfindungsgemäß
nicht mehr an das Aufbringen eines definierten Silberrasters gebunden. Außerdem lassen
sich Silberstreifen kaum mit so geringem Abstand (von einigen Mikron) auf der Halbleiteroberfläche
niederschlagen, wie ihn die kurzschließenden Einschlüsse innerhalb des erfindungsgemäßen Halbleiterkörpers
aufweisen.
709 550/242
3 4
Ein weiterer wesentlicher Vorteil der erfindungs- über den gesamten Querschnitt des Halbleiterkörpers
gemäßen Halbleiterkörper liegt in der größeren Zu- verteilt. Es kann statt dessen auch nur ein Teil des
verlässigkeit der daraus hergestellten Bauelemente; Halbleiterkörpers mit Einschlüssen einer zweiten
z. B. können Probleme, die sich früher aus einem Phase versehen sein.
eventuellen Ablösen des Silberrasters ergaben, nicht 5 Die erfindungsgemäßen Halbleiterkörper lassen
auftreten. sich z. B. dadurch herstellen, daß Halbleitermaterial
Die Einschlüsse aus elektrisch gut leitendem Mate- und Material für die Einschlüsse, z. B. in einem unbe-
rial brauchen nicht unbedingt regelmäßig angeord- kohlten Quarzschiffchen, zusammengeschmolzen und
nete Flächen zu sein, sondern können auch als anschließend einem gerichteten Erstarrungsprozeß
Scheibchen im Halbleiter zufällig verteilt sein, wobei io ausgesetzt werden. Die Schmelze kann in an sich be-
das Verhältnis von Abstand zu Durchmesser (der kannter Weise einem Erstarrungsprozeß unterworfen
Scheibchen) nicht zu groß sein soll. werden, der jedoch — um zu erreichen, daß die Ein-
Einen guten Effekt erhält man, wenn die Ein- Schlüsse des Halbleiterkörpers nicht ungerichtet, son-
schlüsse statt als zusammenhängende Kurzschluß- dern ausgerichtet angeordnet werden — gerichtet
flächen als (parallel) ausgerichtete Nadeln ausgebildet 15 durchzuführen ist. Beispielsweise kann die Ausrich-
sind, auf deren Längsachsen Stromrichtung und Ma- tugn der Einschlüsse durch Zonenschmelzen bewirkt
gnetfeld senkrecht stehen. werden. Eine andere Möglichkeit, eine bestimmte
Halbleiter und Einschlüsse bilden keinen Misch- Ausrichtung der Einschlüsse zu erreichen, besteht
kristall, sondern sie sind getrennte Phasen des Halb- darin, daß der Erstarrungsprozeß unter Einwirkung
leiterkörpers. Die zweite Phase soll so beschaffen 20 eines äußeren Magnetfeldes durchgeführt wird,
sein, daß von ihr aus keine Dotierung des Halbleiters An Hand einer schematischen Zeichnung von Auserfolgt. Diese kann im Normalfall durch weitere Zu- führungsbeispielen und Meßergebnissen wird die Ergäbe von Donatoren oder Akzeptoren in der her- findung näher erläutert. Es zeigt
kömmlichen Weise erfolgen. Eine Dotierung durch F i g. 1 einen Halbleiterkörper mit flächenförmigen die vorhandene zweite Phase würde einerseits die 25 Einschlüssen,
sein, daß von ihr aus keine Dotierung des Halbleiters An Hand einer schematischen Zeichnung von Auserfolgt. Diese kann im Normalfall durch weitere Zu- führungsbeispielen und Meßergebnissen wird die Ergäbe von Donatoren oder Akzeptoren in der her- findung näher erläutert. Es zeigt
kömmlichen Weise erfolgen. Eine Dotierung durch F i g. 1 einen Halbleiterkörper mit flächenförmigen die vorhandene zweite Phase würde einerseits die 25 Einschlüssen,
Elektronenbeweglichkeit im Halbleiter und damit die F i g. 2 einen Halbleiterkörper mit nadeiförmigen
Widerstandsänderung im Magnetfeld reduzieren Einschlüssen; der elektrische Strom fließt senkrecht
und andererseits den spezifischen Widerstand ver- zur Längsachse der Nadeln, und das Magnetfeld hat
ringern. dieselbe Richtung wie die Längsachse der Nadeln,
Bauelemente mit den neuen Halbleiterkörpern 30 F i g. 3 einen Halbleiterkörper mit nadeiförmigen
können insbesondere in Halbleiteranordnungen ver- Einschlüssen; Strom- und Magnetfeld stehen zueinwendet
werden, deren Widerstand durch den im ander senkrecht und senkrecht auf der Längsachse
Halbleiter auftretenden Gaußeffekt gesteuert ist, der der Nadeln,
durch das Magnetfeld erzeugt und bestimmt ist, das F i g. 4 einen Halbleiterkörper mit nadelfönnigen
von dem die Anordnung durchfließenden Strom her- 35 Einschlüssen; der Strom fließt parallel zur Längsvorgerufen
ist. achse der Nadeln, und das Magnetfeld ist senkrecht
Bauelemente mit erfindungsgemäßen Halbleiter- dazu gerichtet,
körpern können weiterhin unmittelbar mit Vorteil in F i g. 5 eine graphische Darstellung der Abhängig-
Gleichspannungsmodulatoren, auch z. B. unter Aus- ,·,,„,.,.,,.., ob »t ^- ,j
nutzung des Halleffekts, oder in kontaktlosen Poten- 40 keit der Widerstandsänderung -|- vom Magnetfeld
tiometern verwendet werden. und von der Anordnung der Einschlüsse im HaIb-
Die neuen Halbleiterkörper sind außerdem zur leiterkörper.
Herstellung von Bauelementen geeignet, die zur Mes- F i g. 6 eine graphische Darstellung der Abhängig-
sung, Regelung oder Steuerung von Magnetfeldern keit der Hallspannung eines Halbleiterkörpers von
und/oder Messung, Regelung oder Steuerung von 45 der magnetischen Induktion.
Ortsveränderungen durch relative Verschiebung des In Fig. 1 ist ein Halbleiterkörper 11 dargestellt,
Halbleiterkörpers gegenüber dem Magnetfeld ver- der flächenhafte Einschlüsse 12 enthält. Der elek-
wendet werden. irische Strom i, der durch den Pfeil 13 dargestellt ist,
Darüber hinaus sind Halbleiterkörper der beschrie- fließt in Richtung der Längsachse des Halbleiterkör-
benen Art allgemein dann von Interesse, wenn rieh- 50 pers. Die Einschlüsse 12 sind im Halbleiterkörper
tungsabhängige elektrische Eigenschaften gewünscht angeordnet verteilt. Die Richtung des durch einen
werden. Pfeil gekennzeichneten Magnetfeldes B ist für die
Als Halbleitermaterial für den neuen Halbleiter- F i g. 1 bis 4 die gleiche.
körper sind z. B. halbleitende Verbindungen, vor- F i g. 2 zeigt einen Halbleiterkörper 21 mit nadel-
zugsweise vom Typ AmBv, wie z. B. Indiumanti- 55 förmigen Einschlüssen 22. Die Längsachsen der Ein-
monid, Indiumarsenid und Galliumantimonid, vor- Schlüsse sind parallel zueinander gerichtet, und zwar
gesehen. Weiterhin können als Halbleitermaterial (in Fi g. 2) so, daß der elektrische Strom 23 senk-
halbleitende Elemente der IV. Gruppe des Perioden- recht zur Längsachse der Nadeln und das äußere
systems, wie z. B. Germanium, verwendet werden. Magnetfeld JS in Richtung der Längsachse der Nadeln
Beispielsweise kann das elektrisch leitende Ein- 60 ausgerichtet ist.
schlußmaterial in der halbleitenden Verbindung In- Beim Ausführungsbeispiel gemäß F i g. 3 sind in
diumantimonid unter anderem aus Nickelantimonid, dem Halbleiterkörper 31 nadeiförmige Einschlüsse
Kobaltantimonid und Eisenantimonid bestehen; die- 32 so eingebaut, daß ihre zueinander parallelen
ses Einschlußmaterial ist für Indiumantimonid be- Längsachsen senkrecht zur Längsachse des HaIb-
sonders gut geeignet. Die Einschlüsse können auch f>5 leiterkörpers gerichtet sind. Der elektrische Strom 33
aus ferromagnetischem Material, z. B. Mangananti- und das äußere Magnetfeld B stehen zueinander senk-
monid, bestehen. recht auf den Längsachsen der nadelfönnigen Ein-
Die Einschlüsse sind vorzugsweise gleichmäßig Schlüsse.
In F i g. 4 ist ein Halbleiterkörper 41 dargestellt, dessen nadeiförmige Einschlüsse 42 so angeordnet
sind, daß der elektrische Strom 43 parallel zu den Längsachsen der parallel gerichteten Einschlüsse
fließt und das äußere Magnetfeld B senkrecht zu den Längsachsen der Nadeln ausgerichtet ist.
In Fig. 5 ist die Abhängigkeit der Widerstandsänderung
-^- von der magnetischen Induktion B
Qo
für verschiedene Halbleiterkörper mit elektrisch gut leitenden Einschlüssen graphisch aufgetragen. Die in
dem Diagramm dargestellten Kurven gelten bei Zimmertemperatur. Auf der Abszisse ist die magnetische
Induktion B in Kilogauß und auf der Ordiante die
Widerstandsänderung — aufgetragen.
Die Kurve 52 gilt für den Fall, daß die Einschlüsse parallel und bezüglich Strom und Magnetfeld wie in
F i g. 2 angeordnete Nadeln sind. Hierbei beträgt, wie aus Kurve 52 ersichtlich ist, die Widerstandsänderung
bei 1OkG etwa 200%.
Die Kurve 54 zeigt die Widerstandsänderung eines Halbleiterkörpers im Magnetfeld, dessen nadeiförmige
Einschlüsse wie in F i g. 4 angeordnet sind. Die Widerstandsänderung beträgt bei einem äußeren Magnetfeld
von 1OkG etwa 100%.
Die Kurve 53 bezieht sich auf einen Halbleiterkörper mit wie in F i g. 3 angeordneten nadeiförmigen
Einschlüssen. Bei dieser gegenseitigen Zuordnung von Einschlüssen, Strom und Magnetfeld ist die
Widerstandsänderung in Abhängigkeit vom äußeren Magnetfeld am größten. Beispielsweise für ein Magnetfeld
von 10 kG beträgt die Widerstandsänderung gegenüber dem Magnetfeld Null etwa 1100%. Demgegenüber
besitzt eigenleitendes InSb bei Zimmertemperatur eine Widerstandsänderung von nur 55%
bei 1OkG.
In F i g. 6 ist die Abhängigkeit der Hallspannung Uff eines erfindungsgemäßen Halbleiterkörpers graphisch
dargestellt. Der Halbleiterkörper besteht aus InSb mit 3 Gewichtsprozent NiSb-Einschlüssen.
Die spezifische elektrische Leitfähigkeit beträgt 259 (Ω cm)-1 und die Ladungsträgerbeweglichkeit
μ = 20 500 (cm2/Vsec). Auf der Abszisse ist die magnetische
Induktion B (in Kilogauß) und auf der Ordinate die Hallspannung Un (in Millivolt) aufgetragen.
Die Kurve 61 zeigt im Gegensatz zu dem bekannten Verlauf der Hallspannung in Abhängigkeit
von der magnetischen Induktion eine gewisse Sättigungserscheinung. Diese Charakteristik ist besonders
zur Ausnutzung für Steuer- bzw. Regelzwecke geeignet.
Beispiel I
Verfahren zur gerichteten Verteilung der Einschlüsse
Verfahren zur gerichteten Verteilung der Einschlüsse
120 g InSb werden zusammen mit 1,8 g zonengeschmolzenem NiSb etwa 1 Stunde lang bei 750 bis
800° C in einem unbekohlten Quarzschiff geschmolzen. Anschließend wird die Schmelze mit einer Geschwindigkeit
von 2,7 mm/min gerichtet erstarrt. Dieses Material wird dann noch zweimal zonengeschmolzen,
wobei die Zonengeschwindigkeit 1 mm/min beträgt. Der so erhaltene Halbzylinder des Materials
wird zu Stäbchen gewünschter Größe zugeschnitten.
Verfahren zur ungerichteten Verteilung der
Einschlüsse
Einschlüsse
Indiumantimonid wird mit 0,03 Gewichtsprozent NiSb bei einer Temperatur von 750 bis 8000C
1 Stunde lang in einem unbekohlten Quarzschiff geschmolzen. Die homogene Schmelze wird anschließend
plötzlich aus der heißen Ofenzone ausgefahren, so daß keine gerichtete Erstarrung der Schmelze eintreten
kann. Anschließend werden aus dem Halbzylinder Stäbchen gewünschter Größe herausgeschnitten.
In den nachfolgenden Tabellen sind für InSb-Proben mit unterschiedlichen Anteilen der Einschlüsse
die gemessenen Werte für σ (spezifische Leitfähigkeit), Rn (Hallkoeffizient), μ (Beweglichkeit)
und -
Δ qb
Qo
(relative Widerstandsänderung) zusammengestellt. Die Messungen wurden bei Zimmertemperatur
durchgeführt. Die Tabelle I gibt Meßergebnisse wieder, die an Halbleiterkörpern mit ungerichtet
verteilten Einschlüssen gewonnen wurden. Zum Vergleich sind in Tabelle II Meßergebnisse angegeben,
die sich auf Halbleiterkörper mit parallel zueinander ausgerichteten gut leitenden Einschlüssen
beziehen.
Tabelle I (ungerichtete zweite Phase)
NiSb | Atome Ni/cm3 |
215 228 270 |
Rj1 cmVAsec | μ cm2/Vsec | Δ Qb |
Gewichtsprozent | 5,8 1018 5,8 ΙΟΙ9 1,5 1020 |
-350 -308 -160 |
75 000 70000 43 000 |
Qo | |
0,03 0,3 0,77 |
72 260 310 |
Tabelle II (gerichtete zweite Phase)
NiSb Gewichtsprozent |
Atome Ni/cm3 |
σ CQ cm)-1 | Orientierung der Einschlüsse nach |
R11 cmVAsec | μ cm2/Vsec |
Δ QB
βο |
1,8 1,8 |
6 IO21 6 IO21 |
200 200 |
Fig. 2 Fig. 3 |
-335 | 67 000 | 1900 |
Iii Tabelle II ist σ mit einem wie in F i g. 2 oder 3
orientierten Halbleiterkörper (ohne Magnetfeld) gemessen. Die Werte von R11 und — wurden mit
Magnetfeld und Strom ermittelt. Es fällt besonders
auf, daß der beste Wert von -^- von Tabelle I in
Qo
Tabelle II noch um mehr als das 6fache übertroffen wird.
IO
Claims (11)
1. Halbleiterkörper für Bauelemente mit richtungsabhängigen elektrischen, insbesondere magnetfeldabhängigen
Eigenschaften, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper Einschlüsse einer zweiten Phase aus einem gegenüber
dem Grundmaterial gut leitenden Stoff enthält, der keine störende Dotierung des Grundmaterials
hervorruft, daß die Einschlüsse in einer oder zwei Dimensionen bevorzugt ausgedehnt
sind und daß sie mit einer ausgezeichneten Orientierung parallel ausgerichtet sind.
2. Halbleiterkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse nadeiförmig
ausgebildet sind.
3. Halbleiterkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse flächenhaft
ausgebildet sind.
4. Halbleiterkörper nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse
aus ferromagnetischem Material bestehen.
5. Halbleiterkörper nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Halbleitermaterial
eine halbleitende Verbindung vom Typ AmBv vorgesehen ist.
6. Halbleiterkörper nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Halbleiter Indiumantimonid
vorgesehen ist.
7. Halbleiterkörper nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse aus Nickelantimonid
bestehen.
8. Halbleiterkörper nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß nur ein Teil
des Halbleiterkörpers mit Einschlüssen einer zweiten Phase versehen ist.
9. Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterkörpers nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß Halbleitermaterial und Material für die Einschlüsse zusammengeschmolzen
und anschließend einem gerichteten Erstarrungsprozeß ausgesetzt werden.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausrichtung der Einschlüsse
durch Zonenschmelzen bewirkt wird.
11. Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterkörpers nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß Halbleitermaterial und Material für die Einschlüsse zusammengeschmolzen werden
und daß der Erstarnmgsprozeß unter Einwirkung eines äußeren Magnetfeldes durchgeführt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 713 635;
deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1 844 056.
Deutsche Patentschrift Nr. 713 635;
deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1 844 056.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 550/242 4. 67 © Bundesdruckerei Berlin
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL295918D NL295918A (de) | 1962-07-31 | ||
DES80682A DE1238987B (de) | 1961-08-10 | 1962-07-31 | Halbleiterkoerper fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften |
US273776A US3226225A (en) | 1962-07-31 | 1963-04-17 | Electronic semiconductor members and method of their manufacture |
DES84816A DE1281578B (de) | 1962-07-31 | 1963-04-23 | Sonde zum Erfassen magnetischer Felder unter Verwendung eines Halbleiterkoerpers fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften |
DE19631490406 DE1490406B2 (de) | 1961-08-10 | 1963-05-18 | Halbleiterkoerper |
CH817063A CH413975A (de) | 1962-07-31 | 1963-07-01 | Halbleiterelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
NL295918A NL150624B (nl) | 1962-07-31 | 1963-07-29 | Halfgeleiderelement, omvattende een halfgeleiderlichaam uit een halfgeleidermateriaal met insluitingen van een tweede fase, en werkwijze ter vervaardiging van een dergelijk halfgeleiderlichaam. |
SE839163A SE332452B (de) | 1962-07-31 | 1963-07-30 | |
GB3025063A GB1045978A (en) | 1962-07-31 | 1963-07-30 | A semiconductor element, and a process for its production |
FR943201A FR1417998A (fr) | 1962-07-31 | 1963-07-30 | élément semi-conducteur et procédé pour sa fabrication |
BE635628A BE635628A (fr) | 1962-07-31 | 1963-07-31 | Elément semi-conducteur et procédé pour sa fabrication |
FR971403A FR86315E (fr) | 1962-07-31 | 1964-04-17 | élément semi-conducteur et procédé pour sa fabrication |
US418648A US3267405A (en) | 1962-07-31 | 1964-12-16 | Galvanomagnetic semiconductor devices |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0075248 | 1961-08-10 | ||
DE1962S0079498 DE1240187B (de) | 1961-08-10 | 1962-05-18 | Verfahren zur Herstellung eines sperrfreien Kontaktes durch Auflegieren von Aluminium |
DES80682A DE1238987B (de) | 1961-08-10 | 1962-07-31 | Halbleiterkoerper fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften |
DES0084738 | 1963-04-18 | ||
DES84816A DE1281578B (de) | 1962-07-31 | 1963-04-23 | Sonde zum Erfassen magnetischer Felder unter Verwendung eines Halbleiterkoerpers fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften |
DES0085281 | 1963-05-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1238987B true DE1238987B (de) | 1967-04-20 |
Family
ID=32686367
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES80682A Pending DE1238987B (de) | 1961-08-10 | 1962-07-31 | Halbleiterkoerper fuer Bauelemente mit richtungsabhaengigen elektrischen Eigenschaften |
DE19631490406 Pending DE1490406B2 (de) | 1961-08-10 | 1963-05-18 | Halbleiterkoerper |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19631490406 Pending DE1490406B2 (de) | 1961-08-10 | 1963-05-18 | Halbleiterkoerper |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE1238987B (de) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1490406A1 (de) | 1969-07-10 |
DE1490406B2 (de) | 1971-04-15 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |