DE1208824B - Verfahren zum Herstellen einer ohmschen metallischen Kontaktelektrode an einem Halbkoerper eines Halbleiterbauelements - Google Patents
Verfahren zum Herstellen einer ohmschen metallischen Kontaktelektrode an einem Halbkoerper eines HalbleiterbauelementsInfo
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOIl
Deutsche KL: 21g-U/02
Nummer: 1208 824
Aktenzeichen: T19883 VIII c/21 g
Anmeldetag: 30. März 1961
Auslegetag: 13. Januar 1966
Die Erfindung beträft ein Verfahren zur Herstellung einer ohmschen metallischen Kontaktelektrode an
einem Halbleiterkörper eines Halbleiterbaulements.
In der Halbleiter-Technologie besteht häufig das Problem, an einem Halbleiterkörper eine metallische
Kontaktelektrode mit möglichst guten elektrischen Eigenschaften an der Kontaktstelle anzubringen.
So ist es z. B. bekanntgeworden, eine Spitze, die die Kontaktelektrode darstellt, federnd oder auf sonst
geeignete Weise an die Oberfläche des Halbleiterkörpers zu drücken, so daß an der Berührungsstelle
ein möglichst guter elektrischer Kontakt besteht. Es ist auch bekanntgeworden, eine Vielzahl von kleinen
Kontaktpunkten zwischen einer Kontaktelektrode und einem Halbleiterkörper dadurch herzustellen,
daß man die Kontaktelektrode gitter- oder geflechtartig ausbildet und mit geeigneten Mitteln gegen die
Halbleiteroberfläche drückt. Solche nur angedrückten Verbindungen haben den Nachteil, daß sie zunächst
elektrisch gesehen relativ unzuverlässig sind und vor allem mechanisch nicht diejenige Festigkeit haben,
die auch nur im entfernten der Festigkeit einer Lötstelle od. dgl. nahe kommt. Es muß außerdem als
nachteilig betrachtet werden, daß bei derartigen Halbleiterbauelementen stets eine Einrichtung vorgesehen
sein muß, um mit möglichst gleichbleibendem Druck die verschiedenen Kontaktstellen der Kontaktelektrode
an die Halbleiteroberfläche zu drücken.
Es ist ferner bekanntgeworden, eine aus einem Leiter bestehende Spitze durch Anwenden von Druck und
Wärme mit HiKe einer sogenannten Thermo-Druckverbindung mit einer Halbleiteroberfläche zu verbinden.
Diese letztere Verbindung hat den Vorteil sehr guter elektrischer Leitfähigkeit an der Kontaktstelle,
aber den Nachteil, daß die Kontaktstelle querschnittsmäßig sehr klein ist und somit für größere
Leistungen unbrauchbar ist.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein Verfahren zu finden, mit dessen Hilfe man eine
Kontaktelektrode an einem Halbleiterkörper herstellen kann, die mechanisch fest und elektrisch sehr
gut leitend auf möglichst großer Fläche mit dem Halbleiterkörper selbst verbunden ist. Dabei stellte
sich als größte Schwierigkeit in den Weg, daß die gebräuchlichen Halbleitermaterialien meist sehr spröde
sind und daß aus diesem Grund bei irgendeiner flächenhaften Verbindung eines Leiters mit einem
Halbleiterkörper die aus den verschiedenen Temperaturausdehnungskoeffizienten resultierenden Schwierigkeiten
überwunden werden mußten.
Die Erfindung betrifft somit ein Verfahren zum Herstellen einer ohmschen metallischen Kontakt-Verfahren
zum Herstellen einer ohmschen
metallischen Kontaktelektrode an einem
Halbkörper eines Halbleiterbauelements
metallischen Kontaktelektrode an einem
Halbkörper eines Halbleiterbauelements
Anmelder:
Tektronix Inc., Baeverton, Oreg. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. K.-A. Brose, Patentanwalt,
Pullach (Isartal), Wiener Str. 2
Als Erfinder benannt:
Thomas Boyd Hutchins IV, Baeverton, Oreg.
(V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 21. November 1960
(70 784)
V. St. v. Amerika vom 21. November 1960
(70 784)
elektrode an einem Halbleiterkörper eines Halbleiterelements. Dieses Verfahren wird erfindungsgemäß so
durchgeführt, daß auf die Oberfläche des Halbleiterkörpers ein Metalldrahtgitter oder -geflecht gelegt
wird und. daß dann durch Einwirken von Druck und durch Aufheizen auf eine Temperatur unterhalb der
Schmelzpunkte des Drahtgitter- oder -geflechtmaterials und des Halbleitermaterials oder des Eutektikums von
beiden Materialien an den Kreuzungsstellen des Metalldrahtgitters oder -geflechtes mechanisch feste Thermo-Druckverbindungen
zum Halbleiterkörper ausgebildet werden.
Ersichtlich löst die Erfindung damit die Schwierigkeiten bei der Herstellung von Kontaktelektroden, die
dann entstehen, wenn man relativ großflächige Verbindungen benötigt und diese Verbindungen mechanisch
fest sein sollen. Dadurch, daß in vernünftigen technologischen Grenzen die Fläche, an welcher das
Drahtgitter oder -geflecht gegen die Halbleiteroberfläche gedrückt und in der eben beschriebenen Weise
befestigt werden kann, kann man also auch sehr große
ohmsche Verbindungen zwischen einer Kontaktelektrode und einem Halbleitermaterial herstellen;
d. h. also, daß der Kontaktquerschnitt groß wird und man damit auch hohe Leistungen über die Kontaktstellen
übertragen kann.
Bei einer besonders vorteilhaften Weiterbildung des oben beschriebenen Verfahrens kann vorgesehen
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3 4
sein, daß auf die dem Halbleiterkörper abliegende Erzeugung sauberer Kontaktflächen zwischen diesen
Seite ein zweiter Körper gelegt wird und in einem Oberflächen und der Oberfläche der Drähte des Gitters
Arbeitsgang gemäß dem oben beschriebenen Ver- 14 geätzt oder auf andere Weise gereinigt. Das Gitter
fahren der Halbleiterkörper mittels des Metallgitters 14 wurde zuvor gereinigt, beispielsweise entfettet
oder -geflechtes mit dem zweiten Körper elektrisch 5 oder geätzt oder beides. Damit die Teile 10 und 12
leitend verbunden wird. Damit besteht praktisch die und das Gitter 14 erhitzt werden können, ist ein Teil 16
Möglichkeit, den zweiten Körper, der sich auf der aus leitendem Metall so angeordnet, daß es mit einem
dem Halbleiterkörper gegenüberliegenden Seite des der Teile 10 oder 12, beispielsweise mit dem Teil 12,
Metallgeflechtes befindet, entweder aus Metall oder in Verbindung steht.
ebenfalls aus einem Halbleitermaterial oder einem io Die beschriebene Anordnung wird dann zwischen
anderen spröden Material zu wählen, so daß eine zwei Platten 18 aus feuerbeständigem, hitzeisolieren-
Möglichkeit besteht, derartige sonst sehr schwierig dem Material gebracht, beispielsweise Aluminiumoxyd
miteinander elektrisch gut zu verbindende Teile zu oder Tonerde. Diese Anordnung wird dann zwischen
verbinden. zwei Metallbacken 20 und 22 gebracht, die einen Teil
Als Halbleitermaterialien kommen zur Anwendung xs einer C-förmigen Schraubzwinge24bilden(s. Fig. 2).
an erster Stelle Silicium und Germanium in Frage, Die Teile 18,10,14,12,16 und 18 werden dann zwischen
weiterhin aber auch Gallium, Arsenmetall, Indium- den Backen 20 und 22 in der aus F i g. 2 ersichtlichen
antimonid, Aluminiumarsenid, -phosphid oder anti- Weise durch Drehen der Spindel 32 eingespannt. Die
monid, Galliumphosphid, Gallium- oder Selentellurid. Zwinge wird dann auf ein Tragteil 26 gesetzt, das auf
Es besteht sogar die Möglichkeit, mit HiKe der Er^ 20 einer Verschlußplatte 28 für eine Glocke 30 ruht,
findung Diamant mit einem Drahtgitter in der eingangs Zwischen den entgegengesetzten Enden des als
beschriebenen Weise elektrisch gut leitend und mecha- Heizung dienenden Leiters 16 und den sich durch die
nisch einigermaßen fest zu verbinden. Ebenso kann Platte 28 erstreckenden Drähten 34 werden die elek-
man Keramikmaterial, Glas oder Quarz mit einer irischen Verbindungen hergestellt und mit einer elek-
solchen Kontaktelektrode aus einem gitterartigen 25 irischen Stromquelle 36 in Reihe mit einem verstell-
Material verbinden. Mit Hilfe der Erfindung kann baren Widerstand 38 geschaltet. Darauf wird die
man beispielsweise zwei verschiedene spröde Halb- Glocke 30 aufgesetzt, wonach ein inertes oder redu-
leiter od. dgl. miteinander mechanisch fest und elek- zierendes Gas durch eine der Röhren 40 eingeführt
irisch gut leitend verbinden. Man kann aber auch ein und die Luft durch die andere Röhre ausgetrieben
Halbleitermaterial über das Metalldrahtgitter oder 30 werden kann, bis die gewünschte Atmosphäre inner-
-geflecht mit einem Metall verbinden. halb der Glocke 30 herrscht.
Als solche Metalle kommen hauptsächlich in Frage: Da der Halbleiterkörper 10, mit dem die Verbindung
Molybdän, Wolfram, Tantal, Eisen, Platin. hergestellt werden soll, aus einem harten, spröden
Besonders vorteilhaft ist das erfindungsgemäße oder zerbrechlichen Material besteht und das feuer-Verfahren
zur Herstellung eines Halbleiterelements, 35 feste Material des Teils 18 ebenfalls ziemlich spröde
dessen Halbleiterkörper aus Silicium besteht, dessen sein kann, sollten die in Berührung stehenden Ober-Metalldrahtgitter
aus Nickeldraht von etwa 0,05 mm flächen von allen Teilen präzise aufeinanderpassen,
Durchmesser besteht und bei welchem auf der dem was beispielsweise dadurch erreicht wird, daß diese
Drahtgitter gegenüberliegenden Seite ein Molybdän- Oberflächen durch Schleifen oder Läppen glatt und
plättchen fest mit dem Gitter bzw. Geflecht verbunden 4° parallel gemacht wurden. Es ist wichtig, daß die mit
ist. ' dem Gitter 14 in Berührung stehenden Oberflächen
Weitere vorteilhafte Einzelheiten der Erfindung der Teile 10 und 12 ebenfalls im wesentlichen parallel
sind in den Unteransprüchen unter Schutz gestellt. zueinander stehen, so daß der auf die verschiedenen
Im folgenden wird die Erfindung unter Hinweis auf kleinen Kontaktflächen des Gitters 14 ausgeübte Druck
die Zeichnung erläutert. In den Zeichnungen zeigt 45 im wesentlichen an allen diesen Kontaktflächen gleich
F i g. 1 einen Querschnitt in stark vergrößertem ist. Die Sehraubzwinge 24 wird so lange angezogen,
Maßstab einer Anordnung zur Herstellung einer bis an den kleinen Kontaktflächen ein relativ hoher
großflächigen Verbindung gemäß der vorliegenden Einheitsdruck herrscht, wobei dieser Druck so hoch
Erfindung, sein kann, daß die mit den Oberflächen der Teile 10
F i g. 2 eine zum Teil schaubildliche Seitenansicht 5° und 12 in Berührung stehenden runden Teile der
einer Vorrichtung, die zur Herstellung einer Groß- Drähte verformt werden. Der somit an jeder der
flächenverbindung gemäß der vorliegenden Erfindung kleinen Kontaktflächen des Gitters herrschende Druck
verwendet werden kann, und ist so gewählt, daß bei einem nachfolgenden Er-
F i g. 3 einen Querschnitt in sehr stark vergrößertem wärmungsvorgang Thermo-Druckverbindungen entMaßstab
des entstehenden Produkts. 55 stehen. Der Druck ist so gewählt, daß Thermo-Druck-
In Fig. 1 ist eine Anordnung gezeigt, die ein verbindungen nicht zwischen den anderen Teilen der
erstes Teil 10 aus festem Halbleitermaterial, z. B. Anordnung entstehen können.
Silicium, enthält. Das Silicium kann entweder in Mittels eines durch das leitende Teil 16 von der
reinem Zustand vorliegen oder in Form von dotiertem Quelle 36 her fließenden Stromes werden die mitein-
p- oder η-leitendem Material. Das Teil 10 hat die 60 ander zu verbindenden Teile, nämlich die Teile 10,12
Form einer kleinen Platte. Ein zweites Teil 12 aus und 14 auf eine Temperatur erwärmt, bei der die
festem Material, beispielsweise Molybdän, ist gegen- Thermo-Druckverbindungen erzeugt werden. Man
über dem Teil 10 angeordnet, und ein gewebtes Draht- unterbricht dann den Heizstrom und läßt dann die
gitter 14 aus einem geeigneten verformbaren Metall Teile unter Druck und in der Atmosphäre unter der
liegt zwischen den Teilen 10 und 12. Die gegenüber- 65 Glocke abkühlen. Danach wird die Glocke abgehoben
liegenden Flächen der Teile 10 und 12 sind geläppt und die Schraubzwinge 24 geöffnet. Das endgültige
oder poliert oder in anderer geeigneter Weise behandelt, Erzeugnis zeigt die F i g. 3 in stark vergrößertem
um ebene, parallele Oberflächen zu erzeugen, und zur Maßstab; es besteht aus den zwei Teilen 10 und 12, die
mit dem Gitter 14 durch eine große Anzahl von kleinflächigen Druckverbindungen 42 zwischen den Flächen
der Teile 10 und 12 und den Drähten des Gitters verbunden sind. Es soll dabei festgestellt werden, daß die
Drähte im allgemeinen winkelig zu den Oberflächen der Teile 10 und 12 verlaufen, so daß sich kurze biegsame
oder nachgiebige Metalldrahtstücke 44 zwischen den Verbindungsstellen 42 ergeben. .
In einem speziellen Beispiel war das Teil 10 eine kleine Siliciumscheibe von 3,17 mm Durchmesser und
0,508 mm Dicke. Das Teil 12 war eine etwas größere Molybdänplatte von annähernd derselben Dicke, und
das Teil 16 hatte eine Molybdänstreifen ähnliche Dicke. Das Gitter bestand aus Nickeldraht solcher Maschenweite, daß etwa 150 kleinfiächige Thermo-Druckver-
bindungen auf der Fläche von 3,17 mm Durchmesser entstanden. Die Drähte des verwendeten Nickelgitters
haben einen Durchmesser von etwa 0,05 mm, so daß die Größe der Drähte des Gitters 14 in der Zeichnung
relativ zur Dicke der Teile 10 und 12 übertrieben dargestellt ist, soweit das vorliegende Beispiel betroffen
ist. Für das Teil 12, das mit dem Siliciumteil 10 durch das Nickelgitter 14 und die Thermo-Druckverbindungen
verbunden ist, wurde Molybdän gewählt, da der Wärmeausdehnungskoeffizient von Molybdän etwa dem des Siliciums gleicht.
Verbindungen der vorbeschriebenen Art können jedoch zwischen Teilen mit beträchtlich größeren
Differenzen zwischen deren Wärmeausdehnungskoeffizienten ausgeführt werden, wenn auch die Verbindung
um so stabiler ist, je mehr sich die entsprechenden Wärmeausdehnungskoeffizienten einander nähern. Die
Drahtabschnitte 44 des Gitters oder Geflechtes kompensieren Unterschiede in der Wärmeausdehnung.
In dem vorstehenden speziellen Beispiel wurde die Anordnung auf 6000C in einer Wasserstoffatmosphäre
erhitzt und dann in 20 Minuten in dieser Atmosphäre abgekühlt, wonach die Anordnung von Druck entlastet
wurde.
Die verwendeten Materialien sollten einen Schmelzpunkt aufweisen, der über 400° C liegt, vorzugsweise
aber bei mindestens 1000° C liegt. Das Metall des Gitters kann ebenfalls aus einer großen Anzahl von
Metallen ausgewählt werden, deren Schmelzpunkte, wie eben besprochen, genügend hoch liegen. Solche
Metalle sind mindestens im geringen Ausmaß dehnbar oder verformbar, so daß sie leicht verformt werden,
wenn sie zwischen den beiden zu vereinigenden Teilen gepreßt werden. Dafür kommen beispielsweise noch
in Frage: Kupfer, Eisen, Platin, Gold oder Silber. Thermo-Druckverbindungen können abhängig von
dem verwendeten Material bei Temperaturen in einem Bereich von etwa 400 bis 1000° C gebildet werden.
Claims (3)
1. Verfahren zum Herstellen einer ohmschen metallischen Kontaktelektrode an einem Halbleiterkörper
eines Halbleiterbauelements, dadurch gekennzeichnet, daß auf die
Oberfläche des Halbleiterkörpers ein Metalldrahtgitter oder -geflecht gelegt wird und daß dann
durch Einwirken von Druck und durch Aufheizen auf eine Temperatur unterhalb der Schmelzpunkte
des Drahtgitter- oder -geflechtmaterials und des Halbleitermaterials oder des Eutektikums von
beiden Materialien an den Kreuzungsstellen des Metalldrahtgitters oder -geflechtes mechanisch
feste Thermo-Druckverbindungen zum Halbleiterkörper ausgebildet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf die dem Halbleiterkörper (10)
abliegende Seite des Metalldrahtgitters oder -geflechts eine Platte (12), z. B. aus Metall, gelegt wird
und im gleichen Arbeitsgang mit dem Metallgitter oder -geflecht (14) elektrisch leitend verbunden
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zum Aufheizen der miteinander
zu verbindenden Teile eines derselben in wärmeleitender Verbindung mit einem durch
Widerstandsheizung erhitzten Leiter (16) gehalten wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die miteinander
zu verbindenden Teile (10, 14, 12) gegebenenfalls unter Einschluß des zur Heizung
dienenden Leiters (16) aufeinandergestapelt und in einer Schraubzwinge (F i g. 2) zusammengedrückt
werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schraubzwingenbacken (20, 22)
über Blöcke (18) aus feuerfestem Material an dem Stapel (10, 14, 12, 16) angelegt werden.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
Druckeinwirkung und/oder die Wärmebehandlung in einer inerten oder reduzierenden Atmosphäre
vorgenommen werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein Halbleiterkörper
(10) aus Silicium, ein Gitter bzw. Geflecht (14) aus Nickeldraht von vorzugsweise 0,05 mm Durchmesser
und eine Platte (12) aus Molybdän verwendet werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß Halbleiterkörper
und die Metallplatte (10, 12) als runde Platten ausgebildet werden, deren Durchmesser groß ist
im Verhältnis zur Maschengröße des Gitters bzw. Geflechts (14).
9. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß für den zur Widerstandsheizung verwendeten
Leiter (16) ein Molybdänband verwendet wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1120 603;
österreichische Patentschrift Nr. 130 102;
schweizerische Patentschrift Nr. 307 776;
USA.-Patentschriften Nr. 1915 221, 2 290 554, 423 870, 2 595 052;
Maschinery, London, 3. August 1950, S. 138.
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1120 603;
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Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
509 778/280 1.66 © Bundesdruckerei Berlin
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US70784A US3153581A (en) | 1960-11-21 | 1960-11-21 | Large area connection for semiconductors and method of making |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=22097373
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DE (1) | DE1208824B (de) |
GB (1) | GB973747A (de) |
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