DE1185609B - Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SilcarbanenInfo
- Publication number
- DE1185609B DE1185609B DED39425A DED0039425A DE1185609B DE 1185609 B DE1185609 B DE 1185609B DE D39425 A DED39425 A DE D39425A DE D0039425 A DED0039425 A DE D0039425A DE 1185609 B DE1185609 B DE 1185609B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- radicals
- general formula
- silcarbanes
- halogen atom
- lithium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
- C08G77/52—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages containing aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
- C07F7/0807—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms comprising Si as a ring atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0836—Compounds with one or more Si-OH or Si-O-metal linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Internat. KL: C07f
Deutsche Kl.: 12 ο-26/03
Nummer: 1185 609
Aktenzeichen: D 39425IV b/12 ο
Anmeldetag: 20. Juli 1962
Auslegetag: 21. Januar 1965
Gegenstand des Hauptpatentes 1 170 405 ist ein Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen, wonach
man Halogensilane der allgemeinen Formel SiR2ZX, worin die "Reste R Alkyl- und/oder Cycloalkylreste
darstellen, Z R oder OR, jeweils mit der angegebenen Bedeutung für R, ein Wasserstoffatom oder ein
Halogenatom und X ein Halogenatom ist, mit Benzol in Gegenwart von Alkalimetallen und linearen oder
cyclischen Äthern umsetzt und gegebenenfalls nach an sich bekannten Verfahren dehydriert.
Es wurde nun gefunden, daß man wertvolle Silcarbane auch erhält, wenn man an Stelle des Benzols
ein substituiertes Benzol der allgemeinen Formel CeHsY, worin Y ein Alkyl- oder Alkoxyrest mit jeweils
weniger als 5 Kohlenstoffatomen ist, verwendet.
Als Beispiele für Reste R seien der Methyl-, Äthyl-, Isopropyl-, tert.-Butyl-, η-Butyl-, 2-Äthylhexyl-,Myricyl-,
Cyclopentyl- und Cyclohexylrest sowie Dodecyl- und Octadecylreste genannt. Vorzugsweise ist R
jeweils der Methylrest.
Ist Z eine RO-Gruppe, so sind darin vorzugsweise weniger als 5 Kohlenstoffatome, wie im Methoxy-
und Äthoxyrest, den verschiedenen Butoxyresten, z. B. dem tert-Butoxyrest, vorhanden.
Vorzugsweise sind die Halogenatome in den bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten SiIanen
Chloratome, sie können jedoch auch Fluor-, Brom- oder Jodatome sein.
Y kann der Methyl-, Äthyl-, n-Propyl-, Isopropyl-, η-Butyl-, sec.-Butyl- und/oder tert.-Butylrest bzw. der
Methoxy-, Äthoxy-, n-Propoxy-, Isopropoxy-, n-Butoxy-, sec.-Butoxy- oder tert.-Butoxyrest sein.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann jedes beliebige Alkalimetall verwendet werden. Da die Um-Setzung
offensichtlich an der Oberfläche des Alkalimetalls stattfindet, wird das Alkalimetall zweckmäßig
als freies Metall oder als Suspension des freien Metalls in einer Flüssigkeit oder einem Feststoff, der
in Lösungsmitteln löslich ist, zugegeben. Verwendet man das freie Metall, so ist Lithium bevorzugt.
Natrium, Kalium, Rubidium und Caesium sind jedoch ebenfalls in Form der freien Metalle wirksam,
besonders wenn sie zusammen mit etwas Lithium oder Lithiumsalz, z. B. Lithiumchlorid, angewandt
werden. Auch flüssige Legierungen, beispielsweise der Zusammensetzung der Formel Na2K, eignen sich
sehr gut.
Die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Äther sind vorzugsweise frei von aliphatischen
Mehrfachbindungen. Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare cyclische Äther sind
Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen
Zusatz zum Patent: 1170 405
Zusatz zum Patent: 1170 405
Anmelder:
Dow Corning Corporation, Midland, Mich.
(V. St. A.)
Vertreter:
L. F. Drissl, Rechtsanwalt,
München 23, Clemensstr. 26
Als Erfinder benannt:
Louis H. Toporcer, Cincinnati, Ohio (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 21. Juli 1961 (125 660)
Tetrahydrofuran, Tetrahydropyran und 2-Butoxymethyltetrahydrofuran.
Die linearen Äther besitzen vorzugsweise ein Kohlenstoff-Sauerstoff-Verhältnis
von weniger als 4 : 1 und insbesondere von weniger als 3:1, wie Dimethyl-, Methyläthyl-, Äthylenglykoldimethyl-,
Äthylenglykoldiäthyläther und die Dimethyläther von Polyäthylenglykolen.
Die Umsetzung der Halogensilane mit den Verbindungen der allgemeinen Formel CeHsY, worin Y
die angegebene Bedeutung hat, wird vorzugsweise bei 15 bis 400C und insbesondere bei Raumtemperatur
durchgeführt. Die dabei anfallenden Verbindungen sind 3,6-bis-trisubstituierte Silylcyclohexadiene-1,4
der allgemeinen Formel
CH = CY
ZR2SiCH
CHSiR2Z
CH = CH
worin R, Y und Z die oben angegebene Bedeutung haben. Sie können gegebenenfalls durch Destillation
isoliert werden. Hydrolysierbare Reste Z können durch Hydrolyse in HO-Gruppen umgewandelt
werden.
409 769/439
Bei der gegebenenfalls durchzuführenden Dehydrierung entstehen Silphenylenverbindungen der allgemeinen
Formel
ZR2Si <
>SiR2Z
C(CHs)3
CH = C
(CHs)3SiCH
CH = CH
CHSi(CHs)3
CH3
CH = C
(CHs)3SiCH CHSi(CHs)3
CH = CH
und zu 9% aus der Verbindung der Formel
CH3
die von besonderer Bedeutung für die Herstellung von Silcarban-Siloxan-Mischpolymeren sind, wenn Z
jeweils ein funktioneller Rest ist.
Die Dehydrierung der Silylcyclohexadiene zu Silphenylenverbindungen
erfolgt nach an sich bekannten Verfahren, wie Erhitzen mit Schwefel auf 1600C
oder Sauerstoff auf 1000C oder Behandlung mit Chinon bei 25°C.
15
216 g (CHs)3SiCl werden zu einer Mischung aus
25 g Lithiumsand (etwa 80% Lithium), 134 g tert-Butylbenzol und 30OmI Tetrahydrofuran gegeben.
Nach etwa 20 Tagen Rühren bei Raumtemperatur und Abfiltrieren wird destilliert Dabei wird die Verbindung
der Formel
vom Kp.1,5 96°C, ng = 1,4732, erhalten. Ausbeute:
28 g, entsprechend 10%, bezogen auf das eingesetzte tert.-Butylbenzol.
besteht, entsprechend einer Ausbeute von 38,5 bzw. 4%, jeweils bezogen auf das eingesetzte Toluol.
Ein Gemisch aus 17,5 g Lithiumsand (etwa 80% Lithium), 108 g Anisol und 250 ml Tetrahydrofuran
wird mit 216 g (CH3)3SiCl versetzt und 20 Tage bei
Raumtemperatur gerührt. Nach dem Abfiltrieren wird destilliert. Nach erneuter Destillation wird ein
Produkt vom Kp.2 86 bis 900C, rig = 1,4819, das
auf Grund des Infrarotspektrums ein Gemisch aus den Verbindungen der Formel
OCH3
25 und
30 CH = C
(CHs)3SiCH CHSi(CHa)3
CH = CH
OCH3
40
Ein Gemisch aus 25 g Lithiumsand (etwa 80% Lithium), 92 g Toluol und 300 ml Tetrahydrofuran
wird mit 216 g (CHs)3SiCl versetzt und etwa 8 Tage
bei Raumtemperatur gerührt. Nach dem Abfiltrieren wird destilliert, wobei 101 g eines Gemisches erhalten
wird, das auf Grund der Infrarot- und kernmagnetisehen Resonanzanalyse zu 91% aus der Verbindung
der Formel
ist,erhalten. Ausbeute: 76 g, entsprechend 30%, bzw.
7,6 g, entsprechend 3%, jeweils bezogen auf das eingesetzte Toluol.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen durch Umsetzung von Halogensilanen der allgemeinen Formel SiR2ZX, worin die Reste R Alkyl- und/oder Cycloalkylreste darstellen, Z R oder OR, jeweils mit der angegebenen Bedeutung für R, ein Wasserstoff- und/oder Halogenatom und X ein Halogenatom ist, in Gegenwart von Alkalimetallen und linearen oder cyclischen Äthern mit einem aromatischen Kohlenwasserstoff und gegebenenfalls anschließende Dehydrierung, nach Patent 1 170405, dadurch gekennzeichnet, daß an Stelle von Benzol Verbindungen der allgemeinen Formel QHsY, worin Y ein Alkyl- oder Alkoxyrest mit jeweils weniger als 5 Kohlenstoffatomen ist, verwendet werden.50409 769/439 1.65ι Bundesdcuckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US125660A US3105085A (en) | 1961-07-21 | 1961-07-21 | Bissil ylcyclohexandienes, their preparation and use |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1185609B true DE1185609B (de) | 1965-01-21 |
Family
ID=22420809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DED39425A Pending DE1185609B (de) | 1961-07-21 | 1962-07-20 | Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3105085A (de) |
| DE (1) | DE1185609B (de) |
| GB (1) | GB965487A (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3304319A (en) * | 1963-01-14 | 1967-02-14 | Dow Corning | Tetra (trialkylsilyl) cyclohexene derivatives and process of preparation |
| US3304320A (en) * | 1963-06-17 | 1967-02-14 | Dow Corning | Organosilicon compositions |
| NL130556C (de) * | 1967-07-19 | 1900-01-01 | ||
| WO2018105716A1 (ja) * | 2016-12-09 | 2018-06-14 | ダイキン工業株式会社 | ポリマー、組成物及び成形品 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2561429A (en) * | 1946-10-28 | 1951-07-24 | Du Pont | Disila organo compounds |
-
1961
- 1961-07-21 US US125660A patent/US3105085A/en not_active Expired - Lifetime
-
1962
- 1962-04-26 GB GB16015/62A patent/GB965487A/en not_active Expired
- 1962-07-20 DE DED39425A patent/DE1185609B/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3105085A (en) | 1963-09-24 |
| GB965487A (en) | 1964-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2642833C3 (de) | Oxysilan-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
| DE1668757A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Metallkoordinationsverbindungen von tertiaeren Aminoalkoxyalkylsilan-oder-siloxanverbindungen | |
| DE1248049B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organovinyloxysilanen und -siloxanen | |
| DE4219375C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen | |
| DE2642811C3 (de) | Oxysilanol-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
| DE1267220B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
| DE2642835A1 (de) | Oxysilan-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung | |
| DE2405274A1 (de) | Schwefelhaltige komplexe | |
| DE1246251B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen Hydroxylgruppen | |
| DE1185609B (de) | Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen | |
| DE2719008C2 (de) | ||
| DE2044888A1 (de) | Verfahren zur Herstellung ungesatüg ter Organosihciumverbindungen | |
| DE1170952B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen und Organosiloxanen | |
| DE1793200A1 (de) | Phenolische Organosiliciumverbindungen | |
| DE1249276B (de) | Verfahren zur Herstellung von Isopropenoxy Siliciumverbindungen | |
| DE1170405B (de) | Verfahren zur Herstellung von Silcarbanen | |
| DE2114027A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Methallylsilicinnverbindungen | |
| DE1170409B (de) | Verfahren zur Herstellung von Cyanalkylsilanen | |
| DE1252681B (de) | Verfahren zur Herstellung von Arylsilanen | |
| DE844901C (de) | Verfahren zur Herstellung von Di-(triorganosilyl)-methan-Verbindungen | |
| DE1154477B (de) | Verfahren zur Herstellung von Nitro- oder Nitritogruppen enthaltenden Silanen | |
| DE1227905B (de) | Verfahren zur Herstellung von Zinnkomplexsalzen | |
| DE970341C (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE1266301B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE869955C (de) | Verfahren zur Herstellung von Di-(trialkylsilylphenoxy)-dialkylsilanen |