DE844901C - Verfahren zur Herstellung von Di-(triorganosilyl)-methan-Verbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Di-(triorganosilyl)-methan-VerbindungenInfo
- Publication number
- DE844901C DE844901C DED5747A DED0005747A DE844901C DE 844901 C DE844901 C DE 844901C DE D5747 A DED5747 A DE D5747A DE D0005747 A DED0005747 A DE D0005747A DE 844901 C DE844901 C DE 844901C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- weight
- compounds
- parts
- mixture
- triorganosilyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- -1 for example Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical group 0.000 claims 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010720 hydraulic oil Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Verbindungen des Typus R3SiCH2SiR0,
worin R einwertige Kohlenwasserstoffradikale bedeutet.
Man unterscheidet bisher bei den Organo-Silicium-Verbindungen zwei Haupttypen, die mehr als
ein Si-Atom enthalten. Bei der einen dieser Typen sind die Si-Atome unmittelbar aneinandergekettet;
dies sind die schon von Kipping beschriebenen
ίο Polysilane. Die gegenwärtige Siliconindustrie basiert
auf den Siloxanen, d. h. Verbindungen, bei denen die Si-Atome durch Sauerstoffatome untereinander
verbunden sind. Auch sind bisher in der Literatur Organosiliciumhalogenide erwähnt, die eine Mehrzahl
von Si-Atomen enthalten, wobei die Si-Atome untereinander durch große zweiwertige Organoradi,-kale
verbunden und die restlichen Valenzen des Si-Atomes durch Chlor abgesättigt sind.
Im Gegensatz dazu werden nach dem vorliegenden Verfahren Organo-Silicium-Verbindungen er- ao
halten, bei denen die Si-Atome untereinander mittels einer Methylenbrücke verbunden sind.
Erfindungsgemäß werden Verbindungen dieses Typs hergestellt, indem man Verbindungen der
Formel R3SiX mit Verbindungen der Formel «5
R3SiCH2X derart in Reaktion bringt, daß die
letzteren mit Alkalimetall in Gegenwart der ersteren reagieren. X bedeutet Halogen, wie z. B. Chlor,
Brom, die verschiedenen R stellen einwertige Kohlenwasserstoffradikale dar, die über ein C-Atom1
an Si gebunden sind. Zu solchen Radikalen zählen beliebige Alkylreste, wie z. B. Methyl, Octadecyl,
und monocyclische Arylradikale, wie z. B. Phenyl und Tolyl.
Eine Umsetzung der beiden Stoffe zu solchen Verbindungen war nicht zu erwarten; man hätte
vielmehr eine W-urtzsche · Reaktion zwischen den
Chlormethylradikalen erwarten können. Auch hätte man annehmen können, daß z. B. Trimethylchlor-.
silan Anlaß zur Bildung von Hexamethyldisilan gibt. Überraschenderweise reagiert aber Trimethyl-.chlorsilan
nicht mit Natrium.
Die als Ausgangsstoffe dienenden Triorganosiliciumhalogenide
sind bekannte Stoffe.
Die anderen Ausgangsstoffe der Formel
ίο R3SiQH2X können auf verschiedene Weise erhalten
werden. Eine Verbindung dieser Art, bei der R Methyl ist, kann z. B. durch Chlorierung von
Tetramethylsilan gewonnen werden. Auch kann diese Verbindung durch Reaktion· eines Methyl Grignard-Reagenses
mit Chlormethyldimethylchlorsilan erhalten werden. Weiterhin können drei organische
Radikale an jedes Si-Atom angelagert werden, wenn Chlormethyltrichlorsilan mit dem entsprechenden
Grignard-Reagens in Reaktion gebracht
ao wird.
Die Art und Weise, wie diese beiden Verbindurigen in flüssiger Phase zusammen zur Reaktion
gebracht werden, kann verschieden sein; man kann das Alkalimetall in eine Trägerflüssigkeit, die mit
ihm nicht reagiert, aufnehmen und zu dieser Suspension die Mischung der Ausgangsstoffe geben.
Auch kann das Alkalimetall zu einer Mischung der beiden Ausgangsstoffe zugesetzt werden. Ein anderer
Weg ist der, das Alkalimetall zuerst mit dem Triorganosiliciumhalogenid zu mischen und
dann dieser Mischung das Triorganohalogenmethylsilan
zuzusetzen.
Die Reaktion verläuft schon unter Normaldruck bei Zimmertemperatur. Erhöhte Temperatur und erhöhter
Druck können angewendet werden, um wenigstens einen Teil der Reaktionsprodukte in flüssiger
Phase zu halten. Die Reaktion verläuft auch genügend schnell, wenn die Mischung der zwei Ausgangsstoffe
zum suspendierten geschmolzenen Na gegeben wird.
Während die einzelnen Ausgangsstoffe für sich allein gegenüber metallischem Na inert sind oder
nur unerwünschte Reaktionen eingehen, reagieren beide Produkte zusammen mit Na unter BiI-dung
von Verbindungen mit der Grundstruktur = Si C H2 Si=. Verbindungen, die diese Struktur
enthalten, sind besonders wertvoll als Schmier- und Hydrauliköle. Sie können auch als Isoliermittel
verwendet werden. Ein Hauptmerkmal dieser Verbindungen ist ihre außerordentliche chemische Stabilität.
Wejin die sechs Kohlenwasserstoffradikale, die an die Si;Atome gebunden sind, Methylgruppen
sind, dann ist diese Verbindung selbst gegenüber konzentrierter H2SO4, HNO3 und NaOH stabil, im
Gegensatz zu den entsprechenden Verbindungen der Siloxaiireihe. Dort wird z. B. Hexamethyldisiloxan
von jedem der drei genannten Reagenzien an der Siloxanbindung hydrolysiert.
6r Gewichtsteile (CH3)3SiCH2Cl, 55 Gewichtsteile .(C H3)1J Si Cl und 100 Gewichtsteile Hexadccan
werden in einen Reaktionskessel gefüllt.und.erhitzt,
bis Rückfluß beginnt. Dann werden 23 Gewichtsteile metallisches Na unter Rühren in kleinen Stücken
zugegeben. Die Reaktion verläuft zu Anfang langsam, was auf die zu niedrige Temperatur zurückzuführen
ist. In dem Malic, wie die Reaktion fortschreitet und die Ausgangsstoffe verbraucht werden,
steigt die Temperatur und damit die Reaktionsgeschwindigkeit an. Die Reaktionsprodukte
werden aus dem Reaktionsgemisch abdestillieit, sobald der Siedepunkt anzeigt, daß Hcxadecan zu
■destillieren beginnt. Das Destillat wird redestilliert, wobei 52 Gewichtsteile eines Stoffes, der bei
132,2" unter einem Druck von 740 mm siedet, erhalten
werden. Dieser Stoff ist die Verbindung (CH3)3SiCH2Si(CH;i)3. Die Eigenschaften dieses
Stoffes sind die folgenden:
beobachtet | berechnet | |
Siedepunkt | 132,20C bei 740 mm | |
Refraktion | 1,4154 bei 250 C | — |
spez. Gewicht | 0,7458 bei 25° C | — |
Molekularrefraktion') | 53-77 | 53.80 |
Si-Gehalt °/ | 34.2 | 35 |
C-Gehalt% | 50,6 | 52 |
C: Si-Verhältnis .... | 3.45 | 3.50 |
1J-VgI. E. L. Warrick in Journ. Amer. Chem.
Soc. 68, 2455 (1946).
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung von Di- (triorganosilyl)-methan-Verbindungcn,
dadurch ge- no kennzeichnet, daß man eine Verbindung der
Formel R3SiX, worin X ein Halogen, wie z.B.'
Cl oder Br, und R einen einwertigen Kohlenwasserstoffrest bedeuten, mit einer Verbindung
der Formel R3SiCH2X in flüssiger Phase in
Gegenwart eines Alkalimetalle zur Reaktion bringt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Gemisch der Verbindungen des Typus R3SiCH2X und R3SiX mit iao
Alkalimetall in Reaktion gebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 1, dadurch gekennzeichnet, daß R ein Alkyl- oder ein Arylradikal,
insbesondere Methyl oder Phenyl, oder ein Gemisch aus Alkyl und Arylradikalen bedeutet.
O 5236 7.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB17377/47A GB627809A (en) | 1947-07-01 | 1947-07-01 | A process for the manufacture of organo-silicon compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE844901C true DE844901C (de) | 1952-07-24 |
Family
ID=10094131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED5747A Expired DE844901C (de) | 1947-07-01 | 1950-09-20 | Verfahren zur Herstellung von Di-(triorganosilyl)-methan-Verbindungen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US2507513A (de) |
DE (1) | DE844901C (de) |
FR (1) | FR968130A (de) |
GB (1) | GB627809A (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3296296A (en) * | 1963-06-13 | 1967-01-03 | Monsanto Res Corp | Disilaalkanes |
US3296297A (en) * | 1963-06-13 | 1967-01-03 | Monsanto Res Corp | Organic silicon compounds |
KR940007416B1 (en) * | 1991-01-22 | 1994-08-18 | Korea Inst Sci & Tech | Process for the preparation of silaalkane |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2352974A (en) * | 1940-04-30 | 1944-07-04 | Gen Electric | Organosilicon compound |
-
0
- US US2511812D patent/US2511812A/en not_active Expired - Lifetime
-
1947
- 1947-07-01 GB GB17377/47A patent/GB627809A/en not_active Expired
-
1948
- 1948-04-20 US US22254A patent/US2507513A/en not_active Expired - Lifetime
- 1948-06-22 FR FR968130D patent/FR968130A/fr not_active Expired
-
1950
- 1950-09-20 DE DED5747A patent/DE844901C/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR968130A (fr) | 1950-11-20 |
US2511812A (en) | 1950-06-13 |
US2507513A (en) | 1950-05-16 |
GB627809A (en) | 1949-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1262271B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE2642833B2 (de) | Oxysilan-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
DE1259888B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE824048C (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
DE2642811C3 (de) | Oxysilanol-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
DE1232580B (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylhalogensilanen | |
DE3889103T2 (de) | Verfahren zur herstellung von organopolysiloxanen mit einer alkenyl-endgruppe. | |
DE855401C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosilmethylenen | |
DE60130776T2 (de) | Verfahren zur herstellung von silikonölen durch hydrosilylierung von sauerstoff-enthaltenden zyklischen kohlenwasserstoffen in anwesenheit von metallkomplexen | |
DE844901C (de) | Verfahren zur Herstellung von Di-(triorganosilyl)-methan-Verbindungen | |
DE1242614B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilangemischen | |
EP0114636A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silanen mit SiC-gebundener Bernsteinsäureanhydridgruppe und Silane mit derartiger Gruppe | |
DE3303707C2 (de) | ||
EP0117503B1 (de) | Verfahren zum Stabilisieren von Organopolysiloxanen | |
DE1294377B (de) | Verfahren zur Herstellung von hitzestabilen Pentahalogenphenylaethylsiliciumverbindungen | |
DE2044888A1 (de) | Verfahren zur Herstellung ungesatüg ter Organosihciumverbindungen | |
DE947475C (de) | Verfahren zur Herstellung von neuen Hexaorganoaethinyldisilanen | |
DE1241827B (de) | Verfahren zur Herstellung von tert.-Halogenbutoxysilanen | |
EP0031436B1 (de) | Verfahren zur Spaltung von Siloxanen | |
DE60201037T2 (de) | Herstellung verzweigter Siloxane | |
DE845514C (de) | Verfahren zur Herstellung von dimeren Organosiliciumverbindungen | |
DE2114027B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Methallylsiliciumverbindungen | |
DE3208829C2 (de) | ||
DE2409383A1 (de) | Schwefelhaltige perfluoralkylsiliciumverbindungen | |
DE1154477B (de) | Verfahren zur Herstellung von Nitro- oder Nitritogruppen enthaltenden Silanen |