DE2719008C2 - - Google Patents

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DE2719008C2
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Volker Dipl.-Chem. Dr. Frey
Rudolf Dipl.-Chem. Dr. 8263 Burghausen De Riedle
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0892Compounds with a Si-O-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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    • C08K5/54Silicon-containing compounds

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von über Sauerstoff an Silicium gebundene Oximgruppen aufweisenden Siliciumverbindungen durch Umsetzung von Oximen mit Siliciumverbindungen, bei denen an mindestens einem und demselben Siliciumatom mindestens drei andere hydrolysierbare Bindungen als SiON=C-Bindungen vorliegen. Erfindungsgemäß werden als Siliciumverbindungen, bei denen an mindestens einem und demselben Siliciumatom mindestens drei andere hydrolysierbare Bindungen als SiON=C-Bindungen vorliegen, solche verwendet, bei denen die hydrolysierbaren Bindungen SiN-Bindungen sind.
Bisher wurden bei der Umsetzung mit Oximen zur Herstellung von über Sauerstoff an Silicium gebundene Oximgruppen aufweisenden Siliciumverbindungen als Siliciumverbindungen, bei denen an mindestens einem und demselben Siliciumatom mindestens drei andere hydrolysierbare Bindungen als SiON=C-Bindungen vorliegen, solche Siliciumverbindungen, bei denen die hydrolysierbaren Bindungen Si-Halogen-Bindungen sind, und vorzugsweise gleichzeitig ein säurebindendes Mittel, wie Triäthylamin, verwendet (vgl. z. B. US-PS 36 74 738). Gegenüber diesem bekannten Verfahren hat das erfindungsgemäße Verfahren insbesondere die Vorteile, daß dabei innerhalb kürzerer Zeit und ohne Mitverwendung von aufwendigem säurebindendem Mittel ausgezeichnete Ausbeuten erreicht und die aus Chemical Engineering News, Bd. 52 (1974) Nr. 35, Seite 3, bekannten, durch Säure oder Salze von Säuren bewirkten Explosionen vermieden werden.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von über Sauerstoff an Silicium gebundene Oximgruppen aufweisenden Siliciumverbindungen der allgemeinen Formel
R a Si(NR₂¹) b (ON=X)4-a-b
worin R einen einwertigen, gegebenenfalls substituierten Kohlenwasserstoffrest bedeutet, R¹ Wasserstoff ist oder die gleiche Bedeutung wie R hat, X eine Gruppe der Formel CRR¹, wobei R und R¹ die vorstehend dafür angegebene Bedeutung haben oder CR² bedeutet, wobei R² einen zweiwertigen, gegebenenfalls substituierten Kohlenwasserstoffrest bedeutet, a 0 oder 1 und b 0, 1, 2 oder 3 und die Summe aus a + b höchstens 3 ist, durch Umsetzung von Oximen der allgemeinen Formel
HON=X
wobei X die oben dafür angegebene Bedeutung hat, mit Siliciumverbindungen bei 0°C bis 150°C, dadurch gekennzeichnet, daß man Siliciumverbindungen der allgemeinen Formel
R a Si(NR₂¹)4-a
worin R, R¹ und a jeweils die oben dafür angegebene Bedeutung haben, einsetzt.
Beispiele für Kohlenwasserstoffreste R und R¹ in den Oximen sind Alkylreste, wie der Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, Isopropyl-, n-Butyl- und sec.-Butylrest sowie Octadecylreste; Alkenylreste, wie der Vinyl- und Allylrest; cycloaliphatische gesättigte Kohlenwasserstoffreste, wie der Cyclopentyl- und Cyclohexylrest sowie Methylcyclohexylreste; cycloaliphatische Kohlenwasserstoffreste mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Mehrfachbindungen, wie Cyclohexenylreste; Arylreste, wie der Phenylrest, sowie Xenyl- und Naphthylreste; Aralkylreste, wie der Benzyl-, beta-Phenyläthyl- und beta-Phenylpropylrest; sowie Alkarylreste, wie Tolylreste.
Als substituierte Kohlenwasserstoffreste R und R¹ sind Perfluoralkyläthylreste, wie der 3,3,3-Trifluorpropylrest, und Halogenarylreste, wie Chlorphenylreste, und Cyanalkylreste, wie der beta-Cyanäthylrest, bevorzugt.
Beispiele für Reste R², also für mit dem Kohlenstoffatom der Gruppierung C=ON einen Ring bildende, zweiwertige gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste, sind solche der Formel
-CH₂(CH₂)₃CH₂-
-CH₂(CH₂)₄CH₂-
-C₆H₄C₆H₄-
-CH₂[C(CH₃)₂]CH₂CH₂- und
und derartige Kohlenwasserstoffreste, die durch Halogen substituiert sind, wie solche der Formeln
-CH₂CHCl(CH₂)₃-
-C₆H₄C₆H₃Br-
-CF₂(CF₂)₃CF₂-
-CH₂CH₂[C(CCl₃)₂]CH₂-.
Es können Gemische aus verschiedenen Oximen eingesetzt werden.
Die Beispiele für substituierte und unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste R und R¹ in den Oximen gelten, mit Ausnahme des Vinylrestes für an Stickstoff gebundene Reste R und R¹, im vollen Umfang auch für substituierte und unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste R und R¹ in sämtlichen oben angebenen Formeln für Siliciumverbindungen, bei denen an mindestens einem und demselben Siliciumatom mindestens 3 SiN- Bindungen vorliegen. Weitere Beispiele für an Stickstoff gebundene Reste R und R¹ sind der tert.-Butyl-, 3,5,5-Trimethylcyclohexyl- und der 2,3,4-Triäthylcyclohexylrest.
Es können auch Gemische aus verschiedenen Siliciumverbindungen der oben angegebenen Formel eingesetzt werden.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können Siliciumverbindungen, in denen nur ein Teil der ursprünglichen SiN- Bindungen durch SiON=C-Bindungen ersetzt ist, hergestellt werden, wenn weniger als 1 Mol Oxim je Grammatom Si-gebundenen Stickstoffs eingesetzt wird. Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können aber auch Siliciumverbindungen, in denen alle ursprünglichen SiN-Bindungen durch SiON=C-Bindungen ersetzt sind, hergestellt werden, wenn mindestens 1 Mol, vorzugsweise 1 bis 2 Mol, Oxim je Grammatom Si-gebundenen Stickstoffs eingesetzt werden.
Vorzugsweise wird das erfindungsgemäße Verfahren bei 15 bis 50°C durchgeführt. Weil dies den geringsten Aufwand erfordert, wird das erfindungsgemäße Verfahren vorzugsweise beim Druck der umgebenden Atmosphäre, also bei 1013 hPas oder etwa 1013 hPas durchgeführt. Falls erwünscht, kann das erfindungsgemäße Verfahren aber auch bei niedrigeren oder höheren Drücken durchgeführt werden.
Zweckmäßig wird das erfindungsgemäße Verfahren unter Ausschluß von Wasser durchgeführt. Der Auschluß von Wasser ist aber nicht erforderlich, wenn die gleichzeitige Bildung von oligomeren Produkten nicht stört.
Die Mitverwendung von inerten Lösungsmitteln ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vorteilhafterweise keineswegs erforderlich, aber auch nicht ausgeschlossen. Beispiele für inerte Lösungsmittel, die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren mitverwendet werden können, sind Kohlenwasserstoffe, wie Petroläther, Benzol und Toluol; Ester, wie Essigsäureäthylester; Äther, wie Diäthyläther, Di-n-butyläther, Dioxan und Tetrahydrofuran; Ketone, wie Aceton; chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Methylenchlorid; sowie Hexamethyldisiloxan.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann absatzweise, kontinuierlich oder halbkontinuierlich durchgeführt werden.
Bei der Umsetzung von Oxim mit an Silicium gebundener Gruppe der Formel NR₂¹ gebildeter Ammoniak bzw. bei dieser Umsetzung gebildetes Amin sowie überschüssiges Oxim lassen sich leicht durch Destillation beim Druck der umgebenden Atmosphäre oder bei niedrigerem Druck abtrennen, so daß auf einfache Weise ein reines Produkt erhalten wird.
Die erfindungsgemäße hergestellten, über Sauerstoff an Silicium gebundene Oximgruppen aufweisenden Siliciumverbindungen eignen sich insbesondere als vernetzende Siliciumverbindungen bei der Herstellung von unter Ausschluß von Wasser lagerfähigen, bei Zutritt von Wasser bei Raumtemperatur zu Elastomeren härtbaren Massen durch Vermischen von kondensationsfähige Endgruppen aufweisenden Diorganopolysiloxanen und vernetzenden Siliciumverbindungen.
Beispiele 1 bis 10
Jeweils 1 Mol der in der folgenden Tabelle angegebenen Silane werden mit den in der folgenden Tabelle angegebenen Oximen in den ebenfalls in der folgenden Tabelle angegebenen Mengen vermischt. Die so erhaltenen Mischungen werden 3 Stunden bei 30°C unter Ausschluß von Wasser gerührt. Dann werden die flüchtigen Bestandteile der Reaktionsgemische bei 13,3 bis 26,6 hPas (abs.) und einer Badtemperatur bis zu einer Temperatur im Bereich von 100 bis 120°C abdestilliert. Der Destillationsrückstand hat die in der folgenden Tabelle angegebene Formel und physikalische Eigenschaften, die ebenfalls in der folgenden Tabelle angegeben sind. Die in der Tabelle angegebenen Indizes in der Formel der erhaltenen Silane stellen jeweils Durchschnittswerte dar, wenn diese Indizes keine ganzen Zahlen sind. Die Ausbeuten sind jeweils Gewichtsprozent der Theorie, bezogen auf eingesetztes Silan. "C₆H₁₁" bedeutet den Cyclohexylrest.
Beispiel 11
  • a) Zur Bestimmung der Reaktionsgeschwindigkeit wird in einem NMR-Röhrchen Methyltris-(cyclohexylamino)-silan mit Methyläthylketoxim im Verhältnis von 1 Mol Silan zu 4 Mol Oxim vermischt. Nach 5 Minuten bei 25°C sind alle NMR-Signale von Aminosilan verschwunden und es ist nur noch das Methylprotonensignal von reinem Methyltris-(methyläthylketoxim)-silan festzustellen. Es handelt sich also um eine sehr schnell und quantitativ verlaufende Umsetzung.
  • b) Zur Bestimmung der Lage des Gleichgewichts bei der erfindungsgemäßen Umsetzung ≡SiN=+HON=X→≡SiON=X+HN=wird Methyltris-(methyläthylketoxim)-silan mit Cyclohexylamin im Verhältnis von 1 Mol Silan zu 2 Mol Amin vermischt und auf 60°C erwärmt. Durch gaschromatographische Analyse läßt sich auch nach 7 Tagen Erwärmen auf 60°C noch keine Bildung von Aminosilan oder Aminoximsilan feststellen. Das Gleichgewicht liegt also völlig auf der rechten Seite der obigen Reaktionsgleichung, so daß die Entfernung von Amin bzw. Ammoniak während des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht erforderlich ist.

Claims (1)

  1. Verfahren zur Herstellung von über Sauerstoff an Silicium gebundene Oximgruppen aufweisenden Siliciumverbindungen der allgemeinen Formel R a Si(NR₂¹) b (ON=X)4-a-b worin R einen einwertigen, gegebenenfalls substituierten Kohlenwasserstoffrest bedeutet, R¹ Wasserstoff ist oder die gleiche Bedeutung wie R hat, X eine Gruppe der Formel CRR¹, wobei R und R¹ die vorstehend dafür angegebene Bedeutung haben oder CR² bedeutet, wobei R² einen zweiwertigen, gegebenenfalls substituierten Kohlenwasserstoffrest bedeutet, a 0 oder 1 und b 0, 1, 2 oder 3 und die Summe aus a + b höchstens 3 ist, durch Umsetzung von Oximen der allgemeinen FormelHON=Xwobei X die oben dafür angegebene Bedeutung hat, mit Siliciumverbindungen bei 0°C bis 150°C, dadurch gekennzeichnet, daß man Siliciumverbindungen der allgemeinen FormelR a Si(NR₂¹)4-a worin R, R¹ und a jeweils die oben dafür angegebene Bedeutung haben, einsetzt.
DE19772719008 1977-04-28 1977-04-28 Verfahren zum herstellen von ueber sauerstoff an silicium gebundene oximgruppen aufweisenden siliciumverbindungen Granted DE2719008A1 (de)

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