DE112019001905T5 - Die-tiling-techniken - Google Patents
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- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
- H01L2224/16146—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked the bump connector connecting to a via connection in the semiconductor or solid-state body
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- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
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- H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
- H01L2224/25—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of a plurality of high density interconnect connectors
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
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- H01L2224/81001—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus
- H01L2224/81005—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus being a temporary or sacrificial substrate
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- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
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- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92222—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
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- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15192—Resurf arrangement of the internal vias
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15313—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a land array, e.g. LGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3511—Warping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/37—Effects of the manufacturing process
- H01L2924/37001—Yield
Landscapes
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Buildings Adapted To Withstand Abnormal External Influences (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Element Separation (AREA)
Abstract
Es werden Techniken für Feinknoten-Heterogen-Chip-Packages bereitgestellt. Bei einem Beispiel kann ein Verfahren zum Bilden eines Heterogen-Chip-Package das Koppeln elektrischer Anschlussklemmen einer ersten Seite eines ersten Basis-Die mit elektrischen Anschlussklemmen einer ersten Seite eines zweiten Basis-Die unter Verwenden eine Siliziumbrücke, das Bilden eines organischen Substrats um die Siliziumbrücke und an die ersten Seiten des ersten und des zweiten Basis-Die angrenzend, und das Koppeln eines Feinknoten-Die mit einer zweiten Seite mindestens eines des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die beinhalten.
Description
- Diese Anmeldung beansprucht die Priorität der US-Patentanmeldung Serien-Nr.
15/949 141 - Technisches Gebiet
- Dieses Dokument betrifft im Allgemeinen aber auf keine Weise einschränkend Die-Interconnects und insbesondere das Bereitstellen großer Heterogen-Die-Packages unter Verwenden integrierter Die-Brücken.
- Stand der Technik
- Herkömmliche Die-Herstellungstechniken geraten hinsichtlich der Größe eines monolithischen Die an ihre Limits, und doch streben Anwendungen nach Fähigkeiten, die für groß bemessene integrierte Schaltungen möglich sind, indem die neuesten Technologien, wie 7-nm-Gate-Längen, verwendet werden. Da monolithische Dies größer geworden sind, können kleinere Unterschiede, die bei kleineren Dies vernachlässigt werden können, nicht kompensiert werden und können den Ertrag oft beträchtlich verringern. Jüngere Lösungen können das Verwenden kleinerer integrierter Schaltungen involvieren, die mit einem Halbleiter-Interposer verbunden oder mit Siliziumbrücken integriert sind, die in ein Siliziumsubstrat verarbeitet sind, um ein Heterogen-Chip-Package bereitzustellen. Herkömmliche Techniken zum Herstellen des Halbleiter-Interposers oder Substrats begrenzen jedoch die Größe des Heterogen-Chip-Package.
- Figurenliste
- In den Zeichnungen, die nicht zwingend maßstabgerecht gezeichnet sind, können gleiche Bezugszeichen ähnliche Komponenten in unterschiedlichen Ansichten beschreiben. Gleiche Bezugszeichen, die unterschiedliche Buchstabensuffixe beinhalten, können unterschiedliche Instanzen ähnlicher Komponenten darstellen. Einige Ausführungsformen sind beispielhaft und nicht einschränkend in den Figuren der begleitenden Zeichnungen veranschaulicht, in welchen:
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1 allgemein ein Beispiel mindestens eines Abschnitts eines Heterogen-Chip-Package100 gemäß dem vorliegenden Gegenstand veranschaulicht. - die
2A bis2G ein Verfahren zum Herstellen eines Heterogen-Chip-Package100 gemäß dem vorliegenden Gegenstand veranschaulichen. -
3 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens300 zum Herstellen eines Heterogen-Chip-Package veranschaulicht. -
4 ein Blockschaltbild einer beispielhaften Maschine400 veranschaulicht, auf der eine oder mehrere der Techniken (zum Beispiel Methodologien), die hierin besprochen sind, laufen können. -
5 ein Diagramm auf Systemebene veranschaulicht, das ein Beispiel eines elektronischen Bauelements (zum Beispiel Systems) abbildet, das ein Heterogen-Chip-Package wie in der vorliegenden Offenbarung beschrieben beinhaltet. - Ausführliche Beschreibung
- Die folgende Beschreibung und die Zeichnungen veranschaulichen spezifische Ausführungsformen ausreichend, um es dem Fachmann zu ermöglichen, sie umzusetzen. Andere Ausführungsformen können strukturelle, logische, elektrische, Prozess- und andere Änderungen enthalten. Abschnitte und Merkmale einiger Ausführungsformen können hierin enthalten sein oder für die anderer Ausführungsformen ersetzt werden. Ausführungsformen, die in den Ansprüchen dargelegt sind, schließen alle verfügbaren Äquivalente dieser Ansprüche ein.
- Packaging-Techniken zum Verwenden mehrerer heterogener Dies in einer einzigen Lösung können eine Anzahl von Verbindungen von Die zu Die erfordern. Obwohl es sich um eine relativ neue Technologie handelt, kann eine herkömmliche Lösung für diese Herausforderung, die eine 2.5D-Lösung genannt werden kann, einen Silizium-Interposer und Through Silicon Vias (TSVs - Silikon-Durchkontaktierungen) verwenden, um den Die an sogenannter „Silicon Interconnect Speed“ in einem minimalen Fußabdruck zu verbinden. Das Resultat sind zunehmend komplexe Layouts und Herstellungstechniken, die Tape-Outs verzögern und die Ausbeute schmälern können. Einige Techniken, die einen Silizium-Interposer verwenden, schränken zum Beispiel die Größe des Heterogen-Chip-Package ein. Eine Einschränkung besteht darin, dass der Silizium-Interposer auf die lithografische Reticle-Größe des Herstellungsprozesses beschränkt ist. Eine zweite Einschränkung kann in der Fähigkeit des Montageprozesses, akzeptable Packages zu erzeugen, bestehen. Der Montageprozess kann zum Beispiel das Montieren eines Fine-Node-Die (Feinknoten-Die) oder Advanced-Node-Die an dem Silizium-Interposer und dann das Anbringen des Silizium-Interposers an einem Substrat, wie einem organischen Substrat, beinhalten. Das Anbringen des Interposers an dem Substrat kann einen Wärmeverbindungs-Anbindungsprozess (Thermal Connection Bond Process - TCB) beinhalten, der den großen Interposer verwirft und keine robusten elektrischen Verbindungen erlaubt.
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1 veranschaulicht allgemein ein Beispiel mindestens eines Abschnitts eines Heterogen-Chip-Package100 gemäß dem vorliegenden Gegenstand. Bei bestimmten Beispielen kann das Heterogen-Chip-Package100 ein Substrat101 , eine Vielzahl von Basie-Dies102 , eine oder mehrere Siliziumbrücken103 und einen oder mehrere Feinknoten-Chips104 beinhalten. Das Substrat101 kann ein organisches Substrat sein und kann Anschlussklemmen und Interconnects105 zum Verbinden des Heterogen-Chip-Package100 mit einem anderen Bauelement, wie mit einer Leiterplatte oder einer anderen Komponente eines größeren elektronischen Bauelements, beinhalten. Jeder Basis-Die102 kann Interconnects106 für die Feinknoten-Chips104 , die darauf verbunden sind, sowie einige Durchkontaktierungen107 zwischen einer ersten Seite des Basis-Die102 und einer zweiten Seite des Basis-Die102 bereitstellen. Bei bestimmten Beispielen ist der Basis-Die102 passiv und beinhaltet nur passive Schaltungselemente, wie Widerstände, Kondensatoren, Induktoren, Dioden usw. oder nicht, um die Feinknoten-Chips zu unterstützen. Bei einigen Beispielen kann der Basis-Die102 aktive Komponenten beinhalten, um die Feinknoten-Chips zu unterstützen. Bei einigen Beispielen kann der Basis-Die102 sowohl passive Komponenten als auch aktive Komponenten beinhalten, um den Betrieb der Feinknoten-Chips104 oder den Betrieb des Heterogen-Chip-Package100 zu unterstützen. Schaltungen des Basis-Die102 können, ohne darauf beschränkt zu sein, Spannungswandler, Level-Shifter, Pufferspeicher, Taktschaltungen usw. beinhalten. Bei bestimmten Beispielen kann die Größe der Basis-Die-Schaltungen durch die Reticle-Größe der Lithographieausstattung, die zur Herstellung des Basis-Die102 verwendet wird, eingeschränkt sein. Bei bestimmten Beispielen kann der Basis-Die102 zusätzliche Interconnects108 zum Koppeln mit anderen Basis-Dies über eine Siliziumbrücke103 beinhalten. - Die Siliziumbrücken
103 können unter Verwenden desselben Wafer-Herstellungsprozesses, der für die Herstellung des Basis-Die102 oder der Feinknoten-Chips104 verwendet wird, hergestellt werden. Bei bestimmten Aspekten kann eine Siliziumbrücke durch ihre kleine Größe, Dünne und feine Verdrahtung charakterisiert sein. Die Länge und die Breite einer Siliziumbrücke können zum Beispiel eine Kombination aus 2 mm, 4 mm, 6 mm und unter bestimmten Umständen sogar größer sein. Eine Siliziumbrücke kann Leiterbahnverlegungen zu 2 Mikrometer (µm) Breite und 2 µm Beabstandung aufweisen. Siliziumbrücken weisen im Allgemeinen eine Stärke zwischen 35 µm und 150 µm auf, können in Abhängigkeit von der Anwendung aber stärker sein. Bei bestimmten Beispielen kann eine Siliziumbrücke mindestens zwei Grundschichten aus leitendem Material und zwei Verlegungsschichten aus leitendem Material beinhalten. Siliziumbrücken103 können Interconnect109 zwischen kleinen Knotenabständen des Basis-Die102 bereitstellen und erlauben, dass die Gesamtgröße des Heterogen-Chip-Package100 ziemlich groß wird, während Erträge bereitgestellt werden, die bei herkömmlich montierten Heterogen-Chip-Packages, die Feinknoten-Chips aufweisen, nicht verfügbar sind. Feinknoten-Chips104 können Knotenabstände in der Größenordnung von 12 nm, 10 nm, 7 nm und feiner beinhalten, sind aber als solche nicht eingeschränkt. Mit der Weiterentwicklung der Transistor-Pitch-Technologie, um Knotenlängen kleiner als 7 nm zu bewältigen, wird der vorliegende Gegenstand vorweggenommen, um eine Herstellung oder Montage von Heterogen-Chip-Packages zu erlauben, die nicht durch die Reticle-Fläche, die zum Herstellen eines monolithischen Interposers oder Basis-Die102 verfügbar ist, eingeschränkt wird. Große Heterogen-Chip-Packages, die Feinknoten-Chips verwenden, können folglich mit robusten Erträgen unter Verwenden von Verarbeitung basierend auf kostengünstigem, großflächigem organischem Substrat hergestellt werden. Bei bestimmten Beispielen kann der verbundene Basis-Die eines Heterogen-Chip-Package, das 7 nm-Feinknoten-Chips verwendet, ein endgültiges Package definieren, das eine Breite, Länge oder Kombination davon zu 25 mm, 50 mm, 75 mm oder länger beinhaltet und immer noch hohe Erträge aufrechterhält. - Die
2A bis2G veranschaulichen ein Verfahren zum Herstellen eines Heterogen-Chip-Package100 gemäß dem vorliegenden Gegenstand.2A zeigt eine Keimschicht210 , die an einem entfernbaren Herstellungssubstrat211 oder Herstellungsträger angebracht ist. Bei bestimmten Beispielen kann die Keimschicht210 auf einem Trennmittel oder ablösbaren Klebstoff212 abgeschieden werden. Die Keimschicht210 kann verwendet werden, um Metallständer213 aufzubauen, die als Passermarken für das präzise Platzieren von zwei oder mehreren Basis-Dies102 zwischen den Ständern213 dienen können. Die Ständer213 können unter Verwenden herkömmlicher Verfahren hergestellt werden. Bei bestimmten Beispielen können die Metallständer eine funktionale Verbindung zwischen den Hauptoberflächen des Heterogen-Chip-Package100 bereitstellen, zum Beispiel zum Stapeln des Heterogen-Chip-Package100 mit anderen Komponenten. - Der Basis-Die
102 kann an der Keimschicht210 unter Verwenden herkömmlicher Verfahren positioniert und angebracht werden. Bei bestimmten Beispielen kann der Basis-Die102 an der Keimschicht unter Verwenden eines zweiten Klebstoffs214 angebracht werden. Bei bestimmten Beispielen ist das Herstellungssubstrat211 ein formbeständiges Substrat, wie Glas. Wie oben besprochen, kann jeder Basis-Die102 erste Interconnects215 für die Feinknoten-Chips104 , die darauf verbunden sind, sowie einige Durchkontaktierungen216 zwischen einer ersten Seite des Basis-Die102 und einer zweiten Seite des Basis-Die102 bereitstellen. - In
2B , nachdem der Basis-Die102 auf der Keimschicht210 platziert wurde, kann ein dielektrisches Material217 hergestellt werden, wie durch Formen, um den Basis-Dies102 abzudecken. Das dielektrische Material217 kann dann geschliffen oder geätzt werden, um die Verbindungen auf den ersten Seiten jedes Basis-Die102 freizulegen. In2C kann eine Siliziumbrücke103 montiert und elektrisch zwischen zwei Basis-Die102 verbunden werden. Die Siliziumbrücke103 kann Interconnects zwischen dem Basis-Die102 bereitstellen. Die Verwendung eines maßlich beständigen Trägers oder beständigen Herstellungssubstrats211 , wie Glas, und das Anbringen der Siliziumbrücke103 in den allerersten Stadien des Prozesses kann eine Gelegenheit für signifikant höhere Platzierungspräzision und Interconnect-Zuverlässigkeit bieten als bei den herkömmlichen Siliziumbrücken-Einbettungsprozessen, bei welchen die Brücke in den abschließenden Stadien der Substratverarbeitung und auf einem weniger maßlich beständigen mehrschichtigen organischen Substrat platziert wird. - In
2D kann ein Substrat101 , wie ein organisches Substrat, hergestellt werden, um die freigelegten Seiten der Siliziumbrücke103 einzuhüllen, und um externe Verbindungen der Basis-Dies102 bereitzustellen. In2E kann das Herstellungssubstrat211 gemeinsam mit dem ablösbaren Klebstoff212 entfernt werden, die Keimschicht210 kann geätzt oder entfernt werden, und der zweite Klebstoff214 kann geätzt oder gebohrt werden, um Anschlüsse auf einer zweiten Seite des Basis-Die102 freizulegen. Bei bestimmten Beispielen kann der Zwischenaufbau des Heterogen-Chips entweder vor oder nach dem Entfernen des Fertigungssubstrats211 umgedreht werden. - In
2F kann der Feinknoten-Die104 an jedem Basis-Die102 angebracht werden. Bei bestimmten Beispielen werden die Feinknoten-Dies104 elektrisch über hergestellte Interconnects220 mit Anschlüssen auf der zweiten Seite jedes Basis-Die102 verbunden und dann unterfüllt 218. In2G kann ein zweites Dielektrikum219 hergestellt werden, um den Feinknoten-Die104 abzudecken. Das zweite Dielektrikum219 kann geschliffen werden, um die Rückseite des Feinknoten-Die104 zur Wärmeableitung freizulegen. Bei bestimmten Beispielen kann ein integrierter Wärmespreizer (Integrated Heat Spreader - IHS) (nicht gezeigt) für verbesserte Wärmeableitung angebracht werden. Bei bestimmten Beispielen kann das zweite Dielektrikum219 gebohrt werden, um Anschlüsse eines oder mehrerer der Passerständer213 freizulegen. Zusätzliche Herstellung kann das Abscheiden leitenden Materials involvieren, um Pads oder Bumps zu bilden, um es dem Heterogen-Chip-Package zu erlauben, elektrisch mit anderen Komponenten, wie, ohne darauf beschränkt zu sein, mit einer Leiterplatte verbunden zu werden. Bei bestimmten Beispielen veranschaulichen die2A bis2G die Herstellung eines Heterogen-Chips, der zwei Basis-Dies und eine einzige Siliziumbrücke beinhaltet. Bei bestimmten Beispielen veranschaulichen die2A bis2G die Herstellung eines Abschnitts eines größeren Heterogen-Chip-Package. Es ist klar, dass ein Heterogen-Chip-Package, das die oben stehenden Verfahren verwendet, viele weitere Basis-Dies und Siliziumbrücken aufweisen kann, ohne von dem Schutzbereich des vorliegenden Gegenstands abzuweichen. -
3 veranschaulicht ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens300 zum Herstellen eines Heterogen-Chip-Package. Bei301 kann eine Siliziumbrücke an zwei Basis-Dies angebracht werden, um elektrische Verbindungen zwischen den Basis-Dies zu erleichtern. Bei bestimmten Beispielen kann der Basis-Die ein sehr dünner Silizium-Die mit Leiterbahnen sein, die externe Anschlüsse koppeln, wie externe Mikro-Bump-Anschlüsse mit Pitch-Abständen in der Größenordnung von 55 Mikrometer, 35 Mikrometer, zukünftigen kleineren Pitchs, wie 10 Mikrometer, oder Kombinationen davon. Bei302 kann ein Substrat hergestellt werden, um die Siliziumbrücke einzuhüllen und die entsprechenden Oberflächen des Basis-Die abzudecken. Wie hiermit verwendet, beinhaltet das Herstellen des Substrats kein Montieren eines vorab hergestellten Substrats mit dem montierten Basis-Die und der Siliziumbrücke. Das Herstellen beinhaltet bei diesem Fall sowie auch unter Bezugnahme auf2D das Abscheiden einer oder mehrerer Schichten von Materialien auf der Montage des Basis-Die und des Brücken-Die derart, dass sich das Substrat, während es hergestellt wird, an die Topographie der Oberfläche des Basis-Die, der mit der Silizium-Brücke gekoppelt ist, und an die Topologie der freigelegten Abschnitte der Siliziumbrücke angleicht. Bei bestimmten Beispielen kann beim Fertigstellen des Substrats die Siliziumbrücke innerhalb des Substrats eingehüllt sein, mit Ausnahme der Oberfläche des Brücken-Die, der an den Basis-Die gekoppelt ist. Bei bestimmten Beispielen kann das Substrat ein organisches Substrat sein. Bei bestimmten Beispielen kann das Herstellen des Substrats in Schichten erfolgen, um zu erlauben, dass leitende Schichten und Durchkontaktierungen hergestellt und geformt werden. Die leitenden Schichten und Durchkontaktierungen des Substrats können es dem Pitch des Basis-Die erlauben, auf einen akzeptablen Pitch für externe Anschlüsse des Heterogen-Chip-Package aufzufächern. - Bei bestimmten Beispielen kann das Verfahren
300 das Herstellen einer Passermarke auf einem stabilen Fertigungssubstrat aufweisen. Solche Marken können verwendet werden, um die Basis-Dies zueinander derart zu positionieren, dass die externen Verbindungen für den Basis-Die ordnungsgemäß für das Verbinden über den Brücken-Die positioniert sind. Bei bestimmten Beispielen können die Passermarken aus Metall auf einer Keimschicht, die an dem stabilen Fertigungssubstrat angebracht ist, gebildet werden. Bei einigen Beispielen können die Passermarken Metallständer sein, die sich senkrecht zu dem Fertigungssubstrat erstrecken. Bei bestimmten Beispielen kann nach dem Herstellen des Substrats über dem Brücken-Die und entsprechenden Oberflächen des Basis-Die das Fertigungssubstrat entfernt werden, und bei303 können Knoten von Feinknoten-Dies an entsprechenden Knoten des Basis-Die auf Oberflächen des Basis-Die, den Oberflächen des Basis-Die, an welchem die Siliziumbrücke angebracht ist, angebracht werden. -
4 veranschaulicht ein Blockschaltbild einer beispielhaften Maschine400 , auf der eine oder mehrere der Techniken (zum Beispiel Methodologien), die hierin besprochen sind, laufen können. Bei alternativen Ausführungsformen kann die Maschine400 als ein autonomes Gerät arbeiten oder kann mit anderen Maschinen verbunden (zum Beispiel vernetzt) sein. Bei einem vernetzten Einsatz kann die Maschine400 als eine Server-Maschine, eine Client-Maschine oder als beides in Server-Client-Netzwerkumgebungen arbeiten. Bei einem Beispiel kann die Maschine400 als eine Peer-Maschine in einer Peer-to-Peer-Netzwerkumgebung (oder anderen verteilten Netzwerkumgebung) fungieren. Wie hierin verwendet, verweist Peer-to-Peer auf einen Datenlink direkt zwischen zwei Geräten (zum Beispiel handelt es sich nicht um eine Hub-and-Spoke-Topologie). Peer-to-Peer-Vernetzen ist folglich ein Vernetzen zu einem Satz von Maschinen unter Verwenden von Peer-to-Peer-Datenlinks. Die Maschine400 kann ein Einplatinencomputer, ein Package integrierter Schaltung, ein System-on-a-Chip (SOC), ein Personal Computer (PC), ein Tablet-PC, eine Set-Top-Box (STB), ein Personal Digital Assistant (PDA), ein Mobiltelefon, ein Internetgerät, ein Netzwerk-Router oder eine andere Maschine sein, die fähig ist, Anweisungen (sequenziell oder anderswie), die Aktionen, die die Maschine zu setzen hat, spezifizieren. Ferner und obwohl nur eine einzige Maschine veranschaulicht ist, muss der Begriff „Maschine“ als auch irgendeine Sammlung von Maschinen beinhaltend verstanden werden, die einzeln oder gemeinsam einen Satz (oder mehrere Sätze) von Anweisungen ausführen, um eine oder mehrere der hier besprochenen Methodologien auszuführen, wie Cloud-Computing, Software-as-a-Service (SaaS), andere Computer-Clusterkonfigurationen. - Beispiele, wie hierin beschrieben, können Logik beinhalten oder können auf einer Anzahl von Komponenten oder Mechanismen arbeiten. Schaltungen ist eine Sammlung von Schaltungen, die in konkreten Einheiten, die Hardware beinhalten (zum Beispiel einfache Schaltungen, Gates, Logik usw.), umgesetzt werden. Schaltungszugehörigkeit kann im Laufe der Zeit anpassungsfähig sein und Hardware-Variabilität unterliegen. Die Schaltungen weisen Teilnehmer auf, die allein oder in Kombination spezifizierte Vorgänge beim Betrieb ausführen können. Bei einem Beispiel kann die Hardware der Schaltungen unveränderlich konzipiert sein, um einen spezifischen Vorgang auszuführen (zum Beispiel verdrahtet). Bei einem Beispiel kann die Hardware der Schaltungen variabel verbundene physische Komponenten aufweisen (zum Beispiel Ausführungseinheiten, Transistoren, einfache Schaltungen usw.), die ein computerlesbares Medium aufweisen, das physisch (zum Beispiel magnetisch, elektrisch, durch bewegbares Platzieren unveränderlicher Massenteilchen usw.) geändert wird, um Anweisungen des spezifischen Vorgangs zu codieren. Beim Verbinden der physischen Komponenten werden die darunterliegenden elektrischen Eigenschaften eines Hardwarebestandteils zum Beispiel von einem Isolator zu einem Leiter oder umgekehrt geändert. Die Anweisungen ermöglichen es eingebetteter Hardware (zum Beispiel Ausführungseinheiten oder ein Lademechanismus), Teilnehmer der Schaltungen in Hardware über die variablen Verbindungen anzulegen, um Abschnitte des spezifischen Vorgangs beim Betrieb auszuführen. Das computerlesbare Medium ist folglich kommunikationsfähig mit den anderen Komponenten der Schaltungen gekoppelt, wenn das Gerät in Betrieb ist. Bei einem Beispiel kann eine der physischen Komponenten in mehr als einem Teilnehmer von mehr als einer Schaltungsanordnung verwendet werden. Beim Betrieb können zum Beispiel Ausführungseinheiten in einer ersten Schaltung einer ersten Schaltungsanordnung in einem Zeitpunkt verwendet werden, und von einer zweiten Schaltung in der ersten Schaltungsanordnung wieder verwendet werden, oder von einer dritten Schaltung in einer zweiten Schaltungsanordnung in einem unterschiedlichen Zeitpunkt.
- Die Maschine (zum Beispiel das Computersystem)
400 kann einen Hardware-Prozessor402 (zum Beispiel eine Zentraleinheit (Central Processing Unit - CPU), eine Grafikverarbeitungseinheit (Graphics Processing Unit - GPU), einen Hardware-Prozessorkern, ein Heterogen-Chip-Package oder eine beliebige Kombination davon), einen Hauptspeicher404 und einen statischen Speicher406 aufweisen, von welchen einige oder alle miteinander über ein Zwischenglied (zum Beispiel einen Bus)408 kommunizieren können. Die Maschine400 kann weiter eine Anzeigeeinheit410 , eine alphanumerische Eingabevorrichtung412 (zum Beispiel eine Tastatur) und eine Benutzeroberflächen-Navigationsvorrichtung (User Interface - UI-Navigationsvorrichtung)414 (zum Beispiel eine Maus) aufweisen. Bei einem Beispiel können die Anzeigeeinheit410 , die Eingabevorrichtung412 und die UI-Navigationsvorrichtung414 eine Touchscreen-Anzeige sein. Die Maschine kann zusätzlich eine Speichervorrichtung (zum Beispiel ein Laufwerk)416 , eine Signalerzeugungsvorrichtung418 (zum Beispiel einen Lautsprecher), eine Netzwerkschnittstellenvorrichtung420 oder einen oder mehrere Sensoren421 , wie einen Global-Positioning-System-Sensor (GPS-Sensor), Kompass, Beschleunigungsmesser oder anderen Sensor aufweisen. Die Maschine400 kann eine Ausgabesteuervorrichtung428 , wie eine serielle Verbindung (zum Beispiel Universal-Bus (USB), parallele oder andere verdrahtete oder drahtlose (zum Beispiel Infrarot-Verbindungen (IR-Verbindungen), Nahfeldkommunikationsverbindungen (NFC-Verbindungen) usw.) aufweisen, um zu kommunizieren oder ein oder mehrere Peripheriegeräte (zum Beispiel einen Drucker, ein Kartenlesegerät usw.) zu steuern. - Die Speichervorrichtung
416 kann ein maschinenlesbares Medium422 aufweisen, auf dem ein oder mehrere Sätze von Datenstrukturen oder Anweisungen424 (zum Beispiel Software) gespeichert sind, die eine oder mehrere der Techniken oder Funktionen, die hierin beschrieben sind, verkörpern oder einsetzen. Die Anweisungen424 können sich auch vollständig oder mindestens teilweise innerhalb des Hauptspeichers404 , innerhalb des statischen Speichers406 oder innerhalb des Hardwareprozessors402 während der Ausführung dieser durch die Maschine400 befinden. Bei einem Beispiel kann eine oder eine beliebige Kombination des Hardwareprozessors402 , des Hauptspeichers404 , des statischen Speichers406 , eines Heterogen-Chip-Package oder einer Speichervorrichtung416 maschinenlesbare Medien bilden. Bei bestimmten Beispielen, wie, ohne darauf beschränkt zu sein, einer Server-Maschine, kann ein Heterogen-Chip-Package die Maschine400 oder eine Kombination der oben erwähnten Komponenten402 aufweisen. - Obwohl das maschinenlesbare Medium
422 als ein einziges Medium veranschaulicht ist, kann der Begriff „maschinenlesbares Medium“ als ein einziges Medium oder mehrere Medien (zum Beispiel eine zentrale oder verteilte Datenbank und/oder dazugehörende Cachespeicher und Server), die konfiguriert sind, um die eine oder die mehreren Anweisungen424 zu speichern, aufweisen. - Der Begriff „maschinenlesbares Medium“ kann ein beliebiges Medium aufweisen, das fähig ist, Anweisungen zum Ausführen durch die Maschine
400 zu speichern, codieren oder zu tragen, und das die Maschine400 veranlasst, eine oder mehrere der Techniken der vorliegenden Offenbarung auszuführen, oder das fähig ist, Datenstrukturen, die von solchen Anweisungen verwendet werden oder mit ihnen assoziiert sind, zu speichern, codieren oder zu tragen. Nichteinschränkende maschinenlesbare Medienbeispiele können Festkörperspeicher und optische und magnetische Medien aufweisen. Bei einem Beispiel umfasst ein maschinenlesbares Massenmedium ein maschinenlesbares Medium mit einer Vielzahl von Teilchen, die unveränderliche (zum Beispiel Rest) Masse aufweisen. Maschinenlesbare Massenmedien sind sich verbreitende nichtflüchtige Signale. Spezifische Beispiele maschinenlesbarer Massenmedien können aufweisen: nichtflüchtigen Speicher, wie Halbleiter-Speichervorrichtungen (zum Beispiel elektrisch programmierbarer Nurlesespeicher (Electrically Programmable Read-Only Memory - EPROM), elektrisch löschbarer programmierbarer Nurlesespeicher (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory - EEPROM) und Flash-Speichervorrichtungen; Magnetplatten, wie interne Festplattenlaufwerke und herausnehmbare Laufwerke; magneto-optische Platten; und CD-ROM- und DVD-ROM-Platten. - Die Anweisungen
424 können ferner über ein Kommunikationsnetzwerk426 unter Verwenden eines Übertragungsmediums über die Netzwerkschnittstellenvorrichtung420 unter Einsetzen eines beliebigen einer Anzahl von Transferprotokollen (zum Beispiel Frame-Relay, Internetprotokoll (IP), Transmission Control Protocol (TCP), Benutzer-Datagramm-Protokoll (UDP), Hypertext Transfer Protocol (HTTP) usw.) übertragen werden. Beispielhafte Kommunikationsnetzwerke können unter anderen ein Local Area Network (LAN), ein Wide Area Network (WAN), ein Paketdatennetzwerk (zum Beispiel das Internet), Mobiltelefonnetzwerke (zum Beispiel zellulare Netzwerke), Plain-Old-Telephone-Netzwerke (POTS-Netzwerke) und drahtlose Datennetzwerke (zum Beispiel die Familie von Normen 802.11 des Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) 802.11, die als Wi-Fi® bekannt ist, die Familie der Normen IEEE-802.16, die als WiMax®) bekannt ist, die Familie von Normen IEEE 802.15.4, Peer-to-Peer-Netzwerke (P2P-Netzwerke) aufweisen. Bei einem Beispiel kann die Netzwerkschnittstellenvorrichtung420 eine oder mehrere physische Anschlüsse (zum Beispiel Ethernet, koaxial oder Telefonanschlüsse) oder eine oder mehrere Antennen aufweisen, um mit dem Kommunikationsnetzwerk426 zu verbinden. Bei einem Beispiel kann die Netzwerkschnittstellenvorrichtung420 eine Vielzahl von Antennen aufweisen, um drahtlos unter Verwenden mindestens einer von Single-Input-Multiple-Output-Technik (SIMO-Technik), Multiple-Input-Multiple-Output-Technik (MIMO-Technik) oder Multiple-Input-Single-Output-Technik (MISO-Technik) zu kommunizieren. Der Begriff „Übertragungsmedium“ muss als ein beliebiges materielles Medium aufweisend verstanden werden, das fähig ist, Anweisungen zur Ausführung durch die Maschine400 zu speichern, codieren oder zu tragen, und digitale oder analoge Kommunikationssignale oder als ein anderes immaterielles Medium, um Kommunikation solcher Software zu erleichtern. -
5 veranschaulicht ein Diagramm auf Systemebene, das ein Beispiel eines elektronischen Bauelements (zum Beispiel Systems) abbildet, das ein Heterogen-Chip-Package, wie in der vorliegenden Offenbarung beschrieben, beinhaltet. Bei einer Ausführungsform beinhaltet das System500 , ohne darauf beschränkt zu sein, einen Desktop-Computer, einen Laptop-Computer, ein Netbook, ein Tablet, einen Notebook-Computer, einen Personal Digital Assistant (PDA), einen Server, eine Workstation, ein Mobiltelefon, eine mobile Rechenvorrichtung, ein Smartphone, ein Internetgerät oder einen beliebigen anderen Typ von Rechenvorrichtung. Bei einigen Ausführungsformen ist das System500 ein System-on-a-Chip (SOC-System). - Bei einer Ausführungsform weist der Prozessor
510 einen oder mehrere Prozessorkerne512 und512N auf, wobei512N den N-ten Prozessorkern innerhalb des Prozessors510 darstellt, wobei N eine positive Ganzzahl ist. Bei einer Ausführungsform weist das System500 mehrere Prozessoren, einschließlich510 und505 auf, wobei der Prozessor505 eine ähnliche oder identische Logik hat wie die Logik des Prozessors510 . Bei einigen Ausführungsformen beinhaltet der Verarbeitungskern512 , ohne darauf beschränkt zu sein, Pre-Fetch-Logik, um Anweisungen zu holen, Decodierungslogik, um die Anweisungen zu decodieren, Ausführungslogik, um Anweisungen auszuführen und dergleichen. Bei einigen Ausführungsformen weist der Prozessor510 einen Cache-Speicher516 auf, um Anweisungen und/oder Daten für das System500 zwischenzuspeichern. Der Cache-Speicher516 kann in eine hierarchische Struktur, die ein oder mehreren Niveaus von Cache-Speicher beinhaltet, organisiert sein. - Bei einigen Ausführungsformen beinhaltet der Prozessor
510 eine Speichersteuervorrichtung514 , die betrieben werden kann, um Funktionen auszuführen, die es dem Prozessor510 ermöglichen, auf den Speicher530 , der einen flüchtigen Speicher532 und/oder einen nichtflüchtigen Speicher534 beinhaltet, zuzugreifen und mit ihm zu kommunizieren. Bei einigen Ausführungsformen ist der Prozessor510 mit dem Speicher530 und dem Chipsatz520 gekoppelt. Der Prozessor510 kann auch mit einer drahtlosen Antenne578 gekoppelt sein, um mit einem beliebigen Bauelement, das konfiguriert ist, um drahtlose Signale zu übertragen und/oder zu empfangen, zu kommunizieren. Bei einer Ausführungsform arbeitet eine Schnittstelle für drahtlose Antenne578 in Übereinstimmung mit, ohne darauf beschränkt zu sein, der IEEE 802.11-Norm und ihrer Familie, Home-Plug-AV (HPAV), Ultra-Wide-Band (UWB), Bluetooth, WiMax oder einer anderen Form drahtlosen Kommunikationsprotokolls. - Bei einigen Ausführungsformen beinhaltet der flüchtige Speicher
532 , ohne darauf beschränkt zu sein, Synchronous Dynamic Random Access Memory (SDRAM), Dynamic Random Access Memory (DRAM), RAMBUS Dynamic Random Access Memory (RDRAM) und/oder einen anderen Typ von Direkzugriffsspeicherbauelement. Der nichtflüchtige Speicher534 beinhaltet, ohne darauf beschränkt zu sein, Flashspeicher, Phasenwechselspeicher (Phase-Change-Memory - PCM), Nurlesespeicher (Read-Only Memory- ROM), elektrisch löschbaren programmierbaren Nurlesespeicher (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory - EEPROM) oder einen anderen Typ nichtflüchtigen Speicherbauelements. - Der Speicher
530 speichert Informationen und Anweisungen, die von dem Prozessor510 auszuführen sind. Bei einer Ausführungsform kann der Speicher530 auch vorübergehende Variablen oder andere Zwischeninformationen speichern, während der Prozessor510 Anweisungen ausführt. Bei der veranschaulichten Ausführungsform verbindet der Chipsatz520 mit dem Prozessor510 über Point-to-Point-Schnittstellen (PtP- oder P-P-Schnittstellen)517 und522 . Der Chipsatz520 ermöglicht es dem Prozessor510 , sich mit anderen Elementen in dem System500 zu verbinden. Bei einigen Ausführungsformen des beispielhaften Systems arbeiten die Schnittstellen517 und522 in Übereinstimmung mit einem PtP-Kommunikationsprotokoll, wie dem Intel® QuickPath Interconnect (QPI) oder dergleichen. Bei anderen Ausführungsformen kann eine andere Verbindung verwendet werden. Bei bestimmten Beispielen kann ein Heterogen-Chip-Package, wie oben unter Bezugnahme auf die1 ,2A bis2G und3 besprochen, den Prozessor510 , den Speicher530 , den Chipsatz520 , die Schnittstelle517 , die Schnittstelle522 oder Kombinationen davon beinhalten. - Bei einigen Ausführungsformen kann der Chipsatz
520 betrieben werden, um mit dem Prozessor510 ,505N , der Anzeigevorrichtung540 und anderen Geräten zu kommunizieren, einschließlich mit einer Bus-Brücke572 , einem TV576 , E/A-Bauelementen574 , nichtflüchtigem Speicher560 , einem Speichermedium, wie einem oder mehreren Massenspeichergeräten)562 , einer Tastatur/Maus564 , eine Netzwerkschnittstelle566 und diversen anderen Formen von Verbraucherelektronik577 (wie ein PDA, Smart-Phone, Tablet usw.) usw.. Bei einer Ausführungsform koppelt der Chipsatz520 mit diesen Geräten durch eine Schnittstelle524 . Der Chipsatz520 kann auch mit einer drahtlosen Antenne578 gekoppelt sein, um mit einem beliebigen Bauelement, das konfiguriert ist, um drahtlos zu übertragen und/oder zu empfangen, zu kommunizieren. - Der Chipsatz
520 verbindet mit der Anzeigevorrichtung540 über die Schnittstelle526 . Die Anzeigevorrichtung540 kann zum Beispiel eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung (Liquid Crystal Display- LCD), eine Plasmaanzeige, eine Kathodenstrahlröhrenanzeige (Cathode Ray Tube - CRT) oder eine andere Form visueller Anzeigevorrichtung sein. Bei einigen Ausführungsformen des beispielhaften Systems sind der Prozessor510 und der Chipsatz520 in einen einzigen SOC zusammengeführt. Zusätzlich verbindet der Chipsatz520 mit einem oder mehreren Bussen550 und555 , die diverse Systemelemente verbinden, wie E/A-Bauelemente574 , nichtflüchtigen Speicher560 , Speichermedium562 , eine Tastatur/Maus564 und eine Netzwerkschnittstelle566 . Die Busse550 und555 können über eine Bus-Brücke572 miteinander verbunden sein. - Bei einer Ausführungsform beinhaltet das Massenspeichergerät
562 , ohne darauf beschränkt zu sein, ein Solid-State-Laufwerk, ein Festplattenlaufwerk, ein Universal-Serial-Bus-Flash-Speicherlaufwerk oder eine andere Form von Computerdatenspeichermedium. Bei einer Ausführungsform wird die Netzwerkschnittstelle566 durch einen Typ gut bekannten Netzwerk-Schnittstellenstandards umgesetzt, ohne darauf beschränkt zu sein, eine Ethernet-Schnittstelle, Universal-Serial Bus-Schnittstelle (USB-Schnittstelle), eine Peripheral-Component-Interconnect-Express-Schnittstelle (PCI-Express-Schnittstelle), eine drahtlose Schnittstelle und/oder durch einen anderen zweckdienlichen Schnittstellentyp. Bei einer Ausführungsform arbeitet die drahtlose Schnittstelle in Übereinstimmung mit, ohne darauf beschränkt zu sein, der IEEE 802.11-Norm und ihrer Familie, Home-Plug-AV (HPAV), Ultra-Wide-Band (UWB), Bluetooth, WiMax oder einer anderen Form drahtlosen Kommunikationsprotokolls. - Obwohl die Module, die in
5 gezeigt sind, als getrennte Blöcke innerhalb des Systems500 abgebildet sind, können die Funktionen, die von einigen dieser Blöcke ausgeführt werden, in eine einzige Halbleiterschaltung integriert oder unter Verwenden von zwei oder mehreren separaten integrierten Schaltungen umgesetzt werden. Obwohl zum Beispiel der Cache-Speicher516 als ein separater Block innerhalb des Prozessors510 abgebildet ist, kann der Cache-Speicher516 (oder können ausgewählte Aspekte von516 ) in den Prozessorkern512 eingebaut werden. - Zusätzliche Hinweise
- Bei einem ersten Beispiel, Beispiel 1, kann ein Verfahren zum Bilden eines Heterogen-Chip-Package das Koppeln elektrischer Anschlussklemmen ersten Seite eines ersten Basis-Die mit elektrischen Anschlussklemmen einer ersten Seite eines zweiten Basis-Die unter Verwenden eine Siliziumbrücke, Bilden eines organischen Substrats um die Siliziumbrücke und an die ersten Seiten des ersten und des zweiten Basis-Die angrenzend, und das Koppeln eines Advanced-Knoten-Die mit einer zweiten Seite des mindestens einen ersten Basis-Die oder zweiten Basis-Die aufweisen.
- Bei Beispiel 2 beinhaltet das Verfahren des Anspruchs 1 optional vor dem Koppeln der elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit den elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die das Verwenden der Siliziumbrücke, Anbringen der zweiten Seite des ersten Basis-Die an einem Träger und Anbringen der zweiten Seite des zweiten Basis-Die an dem Träger.
- Bei Beispiel 3 ist der Träger eines oder mehrere der Beispiele 1-2 optional ein auf Glas basierender Träger.
- Bei Beispiel 4 beinhaltet das Verfahren der Beispiele 1 bis 3 optional vor der Schrittsteuerung des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die auf dem Träger das Herstellen von Passermarken auf dem Träger, um bei dem Platzieren des ersten Basis-Die und des zweiten Basis-Die zu unterstützen.
- Bei Beispiel 5 beinhaltet das Herstellen der Passermarken eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 4 optional das Abscheiden einer Keimschicht auf dem Träger und das Herstellen der Passermarken auf der Keimschicht.
- Bei Beispiel 6 sind die Passermarken eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 5 optional konfiguriert, um bei dem Platzieren von mehr als zwei Basis-Dies auf dem Träger zu unterstützen.
- Bei Beispiel 7 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 6 optional vor dem Koppeln der elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit den elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die das Verwenden der Siliziumbrücke, das Vergießen des ersten und des zweiten Basis-Die mit einem dielektrischen Material.
- Bei Beispiel 8 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1-2 optional das Schleifen des dielektrischen Material, um die elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die freizulegen.
- Bei Beispiel 9 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 8 optional das Schleifen des dielektrischen Material, um die elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die freizulegen.
- Bei Beispiel 10 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1-2 optional das Entfernen des Trägers nach dem Bilden des organischen Substrats.
- Bei Beispiel 11 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1-2 optional das Ätzen eines Klebstoffs an die zweite Seite des ersten Basis-Die und eine zweite Seite des zweiten Basis-Die angrenzend, um elektrische Anschlussklemmen der zweiten Seite des ersten Basis-Die freizulegen, und elektrische Anschlussklemmen der zweiten Seite des zweiten Basis-Die freizulegen.
- Bei Beispiel 12 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 11 optional das Unterfüllen des Advanced-Knoten-Die.
- Bei Beispiel 13 beinhaltet das Verfahren eines oder mehrerer der Beispiele 1-2 optional das Vergießen des Advanced-Knoten-Die.
- Bei Beispiel 14 kann ein Heterogen-Chip-Package einen ersten Basis-Die, einen zweiten Basis-Die, eine Siliziumbrücke, die konfiguriert ist, um Anschlussklemmen einer ersten Seite des ersten Basis-Die mit Anschlussklemmen einer ersten Seite des zweiten Basis-Die zu koppeln, ein organisches Substrat, das um die Siliziumbrücke und an die erste Seite des ersten und des zweiten Basis-Die angeordnet ist, beinhalten, wobei das organische Substrat konfiguriert ist, um elektrische Anschlussklemmen zum Koppeln des Heterogen-Chip-Package mit einer Schaltung bereitzustellen, und einen Advanced-Knoten-Die, der mit elektrischen Verbindungen einer zweiten Seite eines des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die gekoppelt ist.
- Bei Beispiel 15 ist der erste Basis-Die eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 14 optional konfiguriert, um zweite Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit zweiten Anschlussklemmen der zweiten Seite des ersten Basis-Die zu verbinden.
- Bei Beispiel 16 ist der zweite Basis-Die eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 15 optional konfiguriert, um zweite Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die mit zweiten Anschlussklemmen der zweiten Seite des zweiten Basis-Die zu verbinden.
- Bei Beispiel 17 ist eine Fläche eines Fußabdrucks des Heterogen-Chip-Package eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 16 optional größer als 700 mm2, und der Advanced-Knoten-Die beinhaltet 7-nm-Technologie.
- Bei Beispiel 18 beinhaltet das Heterogen-Chip-Package eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 17 optional ein Längenmaß von mehr als 50 mm.
- Bei Beispiel 19 beinhaltet das Heterogen-Chip-Package eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 18 optional ein Breitenmaß von mehr als 50 mm.
- Bei Beispiel 20 beinhaltet das Heterogen-Chip-Package eines oder mehrerer der Beispiele 1 bis 19 optional einen zusätzlichen Basis-Die, der Verbindungen zusätzlicher Feinknoten-Die unterstützt, wobei der zusätzliche Basis-Die über erste zusätzliche Siliziumbrücken verbunden ist und mit dem ersten Basis-Die und dem zweiten Basis-Die über zweite zusätzliche Siliziumbrücken verbunden ist.
- Die oben stehende ausführliche Beschreibung beinhaltet Verweise auf die begleitenden Zeichnungen, die fester Bestandteil der ausführlichen Beschreibung sind. Die Zeichnungen zeigen veranschaulichend spezifische Ausführungsformen, bei welchen die Erfindung angewandt werden kann. Diese Ausführungsformen werden hierin auch „Beispiele“ genannt. Solche Beispiele können Elemente zusätzlich zu denjenigen, die gezeigt oder beschrieben sind, aufweisen. Die vorliegenden Erfinder ziehen jedoch auch Beispiele in Betracht, in welchen nur diejenigen Elemente, die gezeigt oder beschrieben sind, bereitgestellt werden. Darüber hinaus ziehen die vorliegenden Erfinder auch Beispiele in Betracht, die eine Kombination oder Vertauschung dieser gezeigten oder beschriebenen Elemente (oder eines oder mehrerer ihrer Aspekte) verwenden, entweder in Bezug auf ein besonderes Beispiel (oder einen oder mehrere seiner Aspekte) oder in Bezug auf andere Beispiele (oder einen oder mehrere ihrer Aspekte), die hierin gezeigt und beschrieben sind.
- In diesem Dokument werden die Begriffe „ein“ wie in den Patentschriften üblich verwendet, nämlich als ein oder mehrere als eines aufweisend, unabhängig von anderen Instanzen oder Nutzungen von „mindestens ein“ oder „ein oder mehrere“. In diesem Dokument wird der Begriff „oder“ verwendet, um auf ein nicht ausschließliches Element zu verweisen, so dass „A oder B“ „A aber nicht B“, „B aber nicht A“ und „A und B“ enthält, außer wenn es anderswie angegeben ist. In den anliegenden Ansprüchen werden die Begriffe „enthaltend“ und „in welchen“ als die herkömmlichen einfachen englischen Äquivalente der jeweiligen Begriffe „umfassend“ und „wobei“ verwendet. In den folgenden Ansprüchen sind die Begriffe „aufweisend“ und „umfassend“ offen, das heißt ein System, eine Vorrichtung, ein Artikel, eine Zusammensetzung, eine Formulierung oder ein Prozess, der/die/das Elemente zusätzlich zu den aufgelisteten nach einem solchen Begriff in einem Anspruch beinhaltet, immer noch in den Schutzbereich dieses Anspruchs fallen. Darüber hinaus werden in den folgenden Ansprüchen die Begriffe „erste“, „zweite“ und „dritte“ usw. lediglich als Bezeichnungen verwendet und bezwecken nicht, ihren Objekten zahlenmäßige Forderungen aufzuerlegen.
- Die oben stehende Beschreibung soll als veranschaulichend und nicht einschränkend verstanden werden. Die oben beschriebenen Beispiele (oder eines oder mehrere ihrer Aspekte) können zum Beispiel miteinander kombiniert verwendet werden. Andere Ausführungsformen können, wie von einem Durchschnittsfachmann, bei der Durchsicht der oben stehenden Beschreibung verwendet werden. Die Zusammenfassung ist bereitgestellt, um 37 C.F.R. §1.72(b) zu entsprechen, um es dem Leser zu erlauben, rasch die Beschaffenheit der technischen Offenbarung zu ermitteln. Sie wird unter der Voraussetzung unterbreitet, dass sie nicht verwendet wird, um den Schutzbereich oder die Bedeutung der Ansprüche auszulegen oder einzuschränken. In der oben stehenden ausführlichen Beschreibung können auch diverse Merkmale gruppiert sein, um die Offenbarung zu rationalisieren. Das darf nicht dahingehend ausgelegt werden, dass ein nicht geltend gemachtes offenbartes Merkmal für irgendeinen Anspruch wesentlich ist. Stattdessen kann der erfinderische Gegenstand in weniger als allen Merkmalen einer besonderen offenbarten Ausführungsformen liegen. Die folgenden Ansprüche werden daher hiermit in die ausführliche Beschreibung aufgenommen, wobei jeder Anspruch eigenständig als eine separate Ausführungsform gilt, und es wird davon ausgegangen, dass solche Ausführungsformen miteinander in diversen Kombinationen oder Vertauschungen kombiniert werden können. Der Geltungsbereich der Erfindung sollte unter Bezugnahme auf die anliegenden Ansprüche gemeinsam mit dem vollen Geltungsbereich von Äquivalenten, auf die solche Ansprüche Anspruch haben, bestimmt werden.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- US 15/949141 [0001]
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- Normen 802.11 [0022]
- Normen IEEE-802.16 [0022]
- IEEE 802.15.4 [0022]
Claims (20)
- Verfahren zum Bilden eines Heterogen-Chip-Package, wobei das Verfahren umfasst: Koppeln elektrischer Anschlussklemmen einer ersten Seite eines ersten Basis-Die mit elektrischen Anschlussklemmen einer ersten Seite eines zweiten Basis-Die unter Verwenden einer Siliziumbrücke; Bilden eines organischen Substrats um die Siliziumbrücke und angrenzend an die ersten Seiten des ersten und des zweiten Basis-Die; und Koppeln eines Advanced-Knoten-Die mit einer zweiten Seite des mindestens einen des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die.
- Verfahren nach
Anspruch 1 , das vor dem Koppeln der elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit den elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die das Verwenden der Siliziumbrücke beinhaltet, um: die zweite Seite des ersten Basis-Die an einem Träger anzubringen; und die zweite Seite des zweiten Basis-Die an dem Träger anzubringen. - Verfahren nach
Anspruch 2 , wobei der Träger ein auf Glas basierender Träger ist. - Verfahren nach
Anspruch 2 , das vor der Schrittsteuerung entweder des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die auf dem Träger das Herstellen von Passermarken auf dem Träger beinhaltet, um bei dem Platzieren des ersten Basis-Die und des zweiten Basis-Die zu unterstützen. - Verfahren nach
Anspruch 4 , wobei das Herstellen der Passermarken das Abscheiden einer Keimschicht auf dem Träger und das Herstellen der Passermarken auf der Keimschicht beinhaltet. - Verfahren nach
Anspruch 4 , wobei die Passermarken konfiguriert sind, um bei dem Platzieren von mehr als zwei Basis-Dies auf dem Träger zu unterstützen. - Verfahren nach
Anspruch 2 , das vor dem Koppeln der elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit den elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die das Verwenden der Siliziumbrücke, das Vergießen des ersten und des zweiten Basis-Die mit einem dielektrischen Material beinhaltet. - Verfahren nach
Anspruch 7 , das das Schleifen des dielektrischen Materials beinhaltet, um die elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die freizulegen. - Verfahren nach
Anspruch 7 , das das Schleifen des dielektrischen Materials beinhaltet, um die elektrischen Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die freizulegen. - Verfahren nach
Anspruch 2 , das das Entfernen des Trägers nach dem Bilden des organischen Substrats beinhaltet. - Verfahren nach
Anspruch 10 , das das Ätzen eines Klebstoffs an die zweite Seite des ersten Basis-Die und eine zweite Seite des zweiten Basis-Die angrenzend beinhaltet, um elektrische Anschlussklemmen der zweiten Seite des ersten Basis-Die freizulegen, und elektrische Anschlussklemmen der zweiten Seite des zweiten Basis-Die freizulegen. - Verfahren nach
Anspruch 1 , das das Unterfüllen des Advanced-Knoten-Die beinhaltet. - Verfahren nach
Anspruch 12 , das das Vergießen des Advanced-Knoten-Die beinhaltet. - Heterogen-Chip-Package, das umfasst: einen ersten Basis-Die; einen zweiten Basis-Die; eine Siliziumbrücke, die konfiguriert ist, um Anschlussklemmen einer ersten Seite des ersten Basis-Die mit Anschlussklemmen einer ersten Seite des zweiten Basis-Die zu koppeln; ein organisches Substrat, das um die Siliziumbrücke angeordnet ist und an die erste Seite des ersten und des zweiten Basis-Die angrenzt, wobei das organische Substrat konfiguriert ist, um elektrische Anschlussklemmen zum Koppeln des Heterogen-Chip-Package mit einer Schaltung bereitzustellen; und einen Advanced-Knoten-Die, der mit elektrischen Verbindungen einer zweiten Seite eines des ersten Basis-Die oder des zweiten Basis-Die gekoppelt ist.
- Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , wobei der erste Basis-Die konfiguriert ist, um zweite Anschlussklemmen der ersten Seite des ersten Basis-Die mit zweiten Anschlussklemmen der zweiten Seite des ersten Basis-Die zu verbinden. - Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , wobei der zweite Basis-Die konfiguriert ist, um zweite Anschlussklemmen der ersten Seite des zweiten Basis-Die mit zweiten Anschlussklemmen der zweiten Seite des zweiten Basis-Die zu verbinden. - Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , wobei eine Fläche eines Fußabdrucks des Heterogen-Chip-Package größer ist als 700 mm2, und der Advanced-Knoten-Die 7-nm-Technologie beinhaltet. - Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , wobei das Heterogen-Chip-Package ein Längenmaß von mehr als 50 mm beinhaltet. - Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , wobei das Heterogen-Chip-Package ein Breitenmaß von mehr als 50 mm beinhaltet. - Heterogen-Chip-Package nach
Anspruch 14 , das einen zusätzlichen Basis-Die beinhaltet, der Verbindungen zusätzlicher Feinknoten-Dies unterstützt, wobei der zusätzliche Basis-Die über erste zusätzliche Siliziumbrücken verbunden ist und mit dem ersten Basis-Die und dem zweiten Basis-Die über zweite zusätzliche Siliziumbrücken verbunden ist.
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