DE112018006814T5

DE112018006814T5 - Siebdruckvorrichtung

Info

Publication number: DE112018006814T5
Application number: DE112018006814.5T
Authority: DE
Inventors: Takeshi Fujimoto
Original assignee: Yamaha Motor Co Ltd
Current assignee: Yamaha Motor Co Ltd
Priority date: 2018-01-10
Filing date: 2018-01-10
Publication date: 2020-09-17
Also published as: JPWO2019138464A1; US20200331257A1; US11141970B2; WO2019138464A1; JP6856778B2; CN111565931B; CN111565931A

Abstract

Eine Siebdruckvorrichtung (1) weist auf: ein Druckarbeitsteil (2A); ein Maskenspeicherteil (2B), welches eine Vielzahl von Unterbringungsabschnitten (17a, 17b) aufweist, die jeweils eine Siebmaske (7) unterbringen können; eine Transfervorrichtung (10, 14), welche die Siebmaske (7) zwischen jedem der Unterbringungsabschnitte (17a, 17b) sowie dem Druckarbeitsteil (2A) transferiert; ein Paar von ersten Führungselementen (30), das in dem Druckarbeitsteil (2A) angeordnet ist und die Siebmaske (7) während des Transfers führt, wobei das Paar von ersten Führungselementen (30) einen variablen Abstand aufweist; ein Paar von zweiten Führungselementen (52), das in den Unterbringungsabschnitten (17a, 17b) angeordnet ist und die Siebmaske (7) während des Transfers führt; und eine Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung (80, 60), welche bestimmt, ob der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen (30) mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen (52) übereinstimmt.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegenden Erfindung betrifft eine Siebdruckvorrichtung, die eine Paste wie beispielsweise eine Lötpaste oder dergleichen auf ein Substrat bzw. einen Träger, beispielsweise eine gedruckte Leiterplatte aufbringt.
Technischer Hintergrund
Aus dem Stand der Technik ist eine Siebdruckvorrichtung bekannt, die durch eine Öffnung (Maskenöffnung), die in einer Siebmaske ausgebildet ist, eine Paste auf ein Substrat aufbringt (druckt), indem die Siebmaske eine Leiterplatte oder dergleichen überlagert, und die Paste, beispielsweise Lötpaste oder dergleichen, auf der Siebmaske mit einer Rakel bewegt wird.
Bei dieser Art von Siebdruckvorrichtung ist es erforderlich, die Siebmaske in Abhängigkeit von einer Art des Substrats auszutauschen, und beispielsweise wurde, wie in Patentliteratur 1 offenbart, eine Siebdruckvorrichtung entwickelt, die in der Lage ist, die Siebmaske in Abhängigkeit von dem Substrat automatisch auszutauschen.
Diese Siebdruckvorrichtung weist einen Maskenunterbringungsabschnitt, in dem eine Vielzahl von Arten von Siebmasken in einer Vielzahl von oberen und unteren Stufen untergebracht sind, sowie eine Beförderungsvorrichtung auf, welche die Siebmasken befördert. Obgleich es nicht explizit erwähnt wird, ist es denkbar, dass ein Druckarbeitsteil und der Maskenunterbringungsabschnitt jeweils mit einem Paar von Führungselementen versehen sind, welches beide Enden von jeder der Siebmasken trägt und führt, und dass sich die Siebmaske zwischen dem Druckarbeitsteil und dem Maskenunterbringungsabschnitt entlang des Paars von Führungselementen bewegt.
Hierbei ist es bei der Siebdruckvorrichtung mit einer Funktion zum automatischen Austauschen der Siebmaske denkbar, eine Vielzahl von Arten von Siebmasken mit voneinander verschiedenen Größen wahlweise zu verwenden. In diesem Fall ist es notwendig, einen Abstand zwischen dem Paar von Führungselementen an einer Druckarbeitsteilseite gemäß einer Größe der Siebmaske zu verändern. Falls die Veränderung der Größe nicht zweckmäßig vorgenommen wird, wird aus diesem Grund unmittelbar ein Vorrichtungsproblem verursacht werden. Wenn die Siebmaske beispielsweise von dem Maskenunterbringungsabschnitt zu dem Druckarbeitsteil überführt wird, wird möglicherweise ein Problem dahingehend ausgelöst, dass die Siebmaske mit dem entsprechenden Führungselement kollidiert und dass die Siebmaske beschädigt wird oder dergleichen, falls der Abstand zwischen dem Paar von Führungselementen an der Druckarbeitsteilseite kleiner als die Siebmaske ist. Dementsprechend ist es erforderlich, ein solches Problem vorab zu vermeiden, jedoch offenbart Patentliteratur eine solche Ausgestaltung nicht bzw. legt diese nicht nahe.
Liste der Entgegenhaltungen
Patentliteratur
Patentliteratur 1: japanisches Patent Nr. 3401798
Darstellung der Erfindung
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Technik zur Verhinderung des Auftretens eines Problems anzugeben, das auf eine unzweckmäßige Einstellung eines Abstands zwischen Führungselementen zur Führung einer Siebmaske in einer Siebdruckvorrichtung mit einer Funktion zum automatischen Austauschen der Siebmaske zurückzuführen ist.
Eine Siebdruckvorrichtung der vorliegenden Erfindung weist auf: ein Druckarbeitsteil, in dem Druckarbeit ausgeführt wird; ein Maskenspeicherteil, welches auf einer Seite des Druckarbeitsteils angeordnet ist und eine Vielzahl von Unterbringungsabschnitten aufweist, die jeweils eine Siebmaske unterbringen können; eine Transfervorrichtung, welche die Siebmaske in einer ersten Richtung bewegt, um die Siebmaske zwischen jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils sowie des Druckarbeitsteils zu transferieren, wobei die erste Richtung horizontal ist; ein Paar von ersten Führungselementen, das mit einem Abstand in einer zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in dem Druckarbeitsteil angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt, wobei das Paar von ersten Führungselementen einen variablen Abstand aufweist; ein Paar von zweiten Führungselementen, das mit einem Abstand in der zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt; und eine Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung, welche bestimmt, ob der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt, bevor der Transfer der Siebmaske durch die Transfervorrichtung beginnt.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen

1 ist eine schematische Darstellung (Seitenansicht) der Konfiguration einer Siebdruckvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
2 ist eine schematische Draufsicht eines Druckarbeitsteils und eines Maskenspeicherteils.
3 ist eine Ansicht auf einen Pfeil A in 2, der das Maskenspeicherteil (eine Maskenvorhalteeinrichtung) zeigt.
4 ist ein Ablaufdiagramm zur Beschreibung der Verarbeitungssteuerung des Siebmaskenaustauschs.
5 ist eine beispielhafte Ansicht eines Siebmaskenaustauschvorgangs (eines Zustands, bei dem sich ein Druckwerk an einer Transferstartposition in dem Druckarbeitsteil befindet).
6 ist eine Erläuterungsansicht des Siebmaskenaustauschvorgangs (eines Zustands, bei dem eine zweite Maske in der Maskenvorhalteeinrichtung untergebracht ist).
7 ist eine Erläuterungsansicht des Siebmaskenaustauschvorgangs (eines Zustands, bei dem die Maskenvorhalteeinrichtung sich an einer gesenkten Position befindet).
8 ist eine Erläuterungsansicht des Siebmaskenaustauschvorgangs (eines Zustands, bei dem das Druckwerk sich an einer Transferstartposition in dem Maskenspeicherteil befindet).
9 ist ein Erläuterungsdiagramm des Siebmaskenaustauschvorgangs.
10 ist eine schematische Draufsicht des Druckarbeitsteils und des Maskenspeicherteils (ein Zustand, bei dem ein Abstand zwischen Führungselenenten einer Maskenhalteeinheit und ein Abstand zwischen Führungselementen der Maskenvorhalteeinrichtung nicht miteinander übereinstimmen).

Beschreibung der Ausführungsform
1 ist eine schematische Darstellung (Seitenansicht) einer Konfiguration einer Siebdruckvorrichtung 1 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Es wird darauf hingewiesen, dass die zueinander orthogonalen XYZ-Koordinatenachsen in 1 dargestellt sind, um Richtungsbeziehungen zu verdeutlichen. Eine X-Richtung ist eine horizontale Richtung, eine Z-Richtung ist eine vertikale Richtung, und eine Y-Richtung ist eine Richtung orthogonal zu sowohl der X-Richtung als auch der Z-Richtung.
Die Siebdruckvorrichtung 1 (nachfolgend kurz als Druckvorrichtung 1 bezeichnet) weist ein Druckarbeitsteil 2A, an dem ein Substrat P wie eine gedruckte Leiterplatte einem Bedrucken unterzogen wird, und ein Maskenspeicherteil 2B auf, das an einer Seite des Druckarbeitsteils 2A angeordnet ist und eine Siebmaske zum Austausch speichert bzw. vorhält. Das Druckarbeitsteil 2A und das Maskenspeicherteil 2B sind in der X-Richtung nebeneinander angeordnet.
Das Druckarbeitsteil 2A weist eine Maskenhalteeinheit 6, eine Substrathalteeinheit 8 und ein Druckwerk 10 auf.
Die Substrathalteeinheit 8 weist eine obere Einheit 8A und eine untere Einheit 8B auf. Die obere Einheit 8A hält das Substrat P während der Druckarbeit. Die obere Einheit 8A weist eine Beförderungseinrichtung 20 zum Befördern des Substrats P, einen SubstratTragemechanismus 22, der das Substrat P von der Beförderungseinrichtung 20 anhebt und das Substrat P trägt, und einen Substratklemmmechanismus 24 auf, welcher das von der Beförderungseinrichtung 20 durch den Substrattragemechanismus 22 angehobene Substrat P einklemmt bzw. einspannt. Das Substrat P wird von einer in der Y-Richtung stromaufwärtigen Seite (Rückseite in der Richtung orthogonal zu einer Ebene in 1) auf die Beförderungseinrichtung 20 geladen und wird von den Mechanismen 22 und 24 gehalten, während es in der oberen Einheit 8A positioniert ist. Nach der Druckbearbeitung wird dieser Positionierungszustand gelöst, und das Substrat P wird durch die Beförderungseinrichtung 20 auf einer in der Y-Richtung stromabwärtigen Seite (Vorderseite in der Richtung orthogonal zu der Ebene aus 1) ausgetragen.
Die untere Einheit 8B bewegt das auf der oberen Einheit 8A positionierte Substrat P zusammen mit der oberen Einheit 8A. Obgleich eine ausführliche Ansicht nicht dargestellt ist, ist die untere Einheit 8B aus einem Tisch und einem Antriebsmechanismus konfiguriert, der einen Servomotor als Antriebsquelle verwendet, um den Tisch in den X-, Y- und Z-Richtungen und einer R-Richtung zu verlagern. Die obere Einheit 8A ist an dem Tisch befestigt. Mit dieser Ausgestaltung bewegt die Substrathalteeinheit 8 das Substrat P in jeder der X-, Y-, Z- und R-Richtungen.
Die Maskenhalteeinheit 6 ist oberhalb der Substrathalteeinheit 8 angeordnet. Die Maskenhalteeinheit 6 hält eine Siebmaske 7 (nachfolgend kurz als Maske 7 bezeichnet). Wie in 2 dargestellt besitzt die Maske 7 eine rechteckige Form (rechteckig oder quadratisch) in einer Draufsicht, und weist einen Maskenkörper (70) aus einer dünnen Metallplatte, in der eine Öffnung zum Drucken ausgebildet ist, und einen Rahmenkörper 72 aus einem Metall (z.B. Aluminium) auf, wobei der Maskenkörper 70 langgestreckt auf diesem Rahmenkörper 72 angeordnet ist.
Die Maskenhalteeinheit 6 umfasst ein Paar von Führungselementen 30, die parallel zueinander in der X-Richtung verlaufen und in der Y-Richtung beabstandet angeordnet sind, Maskenspannvorrichtungen 32 zum Einspannen der Maske 7 an dem Paar von Führungselementen 30, sowie Abstandsveränderungsmechanismen 34 zur Veränderung des Abstands zwischen dem Paar von Führungselementen 30 auf. Es wird angemerkt, dass in 1 die Maskenspannvorrichtungen 32 und der Abstandsveränderungsmechanismus 34 zum erleichterten Verständnis nicht dargestellt sind.
Wie in 2 dargestellt ist jedes der Führungselemente 30 ein Element mit einem L-förmigen Querschnitt, wobei jedes der Führungselemente ein Trageteil 30a mit einer Tragefläche, welche die Maske 7 trägt, und ein Führungsteil 30b mit einer Führungsfläche, welche die Siebmaske 7 von außen in der Y-Richtung einschränkt, aufweist, und aus einem Metallwerkstoff wie beispielsweise Edelstahl oder dergleichen hergestellt ist.
Die Maskenspannvorrichtungen 32 sind in jedem der Führungselemente 30 bereitgestellt. Obgleich keine ausführliche Ansicht dargestellt ist, ist jede der Maskenspannvorrichtungen 32 aus einer Spannplatte und einem Luftzylinder gebildet, welcher die Spannplatte vorwärts und rückwärts antreibt, und die Maske 7 (einen Teil des Rahmenkörpers 72) sandwichartig zwischen dem Trageteil 30a des Führungselements und der Spannplatte einspannt, um die jeweilige Maske 7 an dem Führungselement 30 zu fixieren. In diesem Beispiel sind für jedes der Führungselemente 30 die zwei Maskenspannvorrichtungen 32 mit einem vorgegebenem Abstand in der X-Richtung (in einer Längsrichtung des Führungselements 30) bereitgestellt.
Jeder der Abstandsveränderungsmechanismen 34 ist ein Vorschubspindelmechanismus. Insbesondere umfasst jeder der Abstandsveränderungsmechanismen 34 ein Paar von Schienen 36, das sich in der Y-Richtung erstreckt, und trägt das Führungselement 30 in bewegbarer Art und Weise, eine Spindel 37, die in der Y-Richtung verläuft und in ein Mutterelement (nicht dargestellt), welches an dem Führungselement 30 befestigt ist, geschraubt ist, sowie einen Servomotor 38, der diese Spindel 37 antreibt. Das bedeutet, dass der Abstandsveränderungsmechanismus 34 eingerichtet ist, das Führungselement 30 durch rotatorisches Antreiben der Spindel 37 mittels des Servomotors 38 entlang der Schienen 36 zu bewegen. Es wird angemerkt, dass das Paar von Schienen 36, die Spindel 37, das Mutterelement und der Servomotor 38 für jedes der Führungselemente 30 vorgesehen sind.
Das Druckwerk 10 ist bewegbar oberhalb der Maskenhalteeinheit 6 bereitgestellt. Dieses Druckwerk 10 bewegt die Paste entlang einer Oberseite der Maske 7 (Maskenkörper 70). Beispiele der Paste umfassen leitfähige Bindemittel wie Lötpaste und Leitpaste.
Das Druckwerk 10 ist in der X-Richtung durch einen Vorschubspindelmechanismus bewegbar bereitgestellt. Konkret weist das Druckwerk 10 einen Träger 11, der sich in der Y-Richtung erstreckt, auf, und beide Enden dieses Trägers 11 sind durch eine Schiene 40, die sich in der Y-Richtung erstreckt, bewegbar gelagert. Mutterelemente sind in beiden Enden des Trägers 11 integriert, und eine Spindel 42, die sich in X-Richtung erstreckt, ist in diese Mutterelemente eingeschraubt und mit einem Servomotor 44 gekoppelt. Die Spindel 42 wird von dem Servomotor 44 in Rotation versetzt, wodurch das Druckwerk 10 entlang der Schiene 40 in der X-Richtung verlagert wird.
Es wird angemerkt, dass sich die Schiene 40 und die Spindel 42 in der X-Richtung von einer Position des Druckarbeitsteils 2A zu einer Position des Maskenspeicherteils 2B erstrecken. Darüber hinaus besitzt der Träger 11 eine Längenabmessung, die in der Lage ist, in der Maskenhalteeinheit 6 und einer Maskenvorhalteeinrichtung 16, die später beschrieben wird, in der Y-Richtung zu wandern bzw. zu verlaufen. Dementsprechend ist das Druckwerk 10 in der X-Richtung von dem Druckarbeitsteil 2A zu dem Maskenspeicherteil 2B bewegbar.
Das Druckwerk 10 ist ferner mit einer Druckrakel 12 bzw. Rakel und einem Maskenschieber 14 versehen. Die Rakel 12 ist ein plattenförmiges Metallelement mit einer Pressfläche zum Pressen der Paste. Die Paste bewegt sich auf der Maske 7, indem sie durch die Rakel 12 gepresst wird. Die Rakel 12 bewegt sich in der X-Richtung einstückig bzw. integral mit dem Druckwerk 10 hin- und her, und eine Stellung bzw. Haltung davon wird zwischen in Vorwärtsrichtung und in Rückwärtsrichtung verändert, so dass die Pressfläche nach vom in einer Bewegungsrichtung weist. Ferner ist die Rakel 12 in der Z-Richtung zu einer Position, in der die Rakel auf dem Maskenkörper 7a gleiten kann (Position, die durch eine Zweipunktlinie in 1 dargestellt ist), und einer Position bewegbar, in der die Rakel oberhalb der Maske 7 zurückgezogen ist.
Der Maskenschieber 14 dient zum Bewegen der Maske 7 zwischen dem Druckarbeitsteil 2A und dem Maskenspeicherteil 2B.
Der Maskenschieber 14 weist einen Stift 14a, der sich in der Z-Richtung erstreckt, und ein Antriebsteil 14b (vgl. 5) wie beispielsweise eine Luftzylinder zum Antreiben dieses Stifts 14a in der Z-Richtung vor und zurück auf. Der Stift 14a ist verlagerbar zwischen einer vorgegebenen vorstehenden Position (abgesenkte Position), an der eine Spitze (unteres Ende) des Stifts 14a niedriger als die obere Oberfläche der Maske 7 ist, die von dem Führungselement 30 getragen wird, und höher als die obere Oberfläche des Maskenkörpers 70 ist, und zurückgezogenen Position (erhöhte Position) bereitgestellt, in der die Spitze über die Maske 7 zurückgezogen ist. In 1 ist eine Position, die durch eine durchgezogene Linie angedeutet wird, die vorstehende Position des Stifts 14a, und die Position, die von der Zweipunktstrichlinie angedeutet wird, ist die zurückgezogene Position des Stifts 14a. Mit anderen Worten bewegt der Maskenschieber 14 die Maske 7 in der X-Richtung mit der Bewegung des Druckwerks 10 durch Einhaken des Stifts 14a an dem Rahmenkörper 72. In diesem Beispiel entspricht das den Maskenschieber 14 beinhaltende Druckwerk 10 einer „Transfervorrichtung“ der vorliegenden Erfindung.
Die Maskenvorhalteeinrichtung 16 hingegen ist in dem Maskenspeicherteil 2B angeordnet. Die Maskenvorhalteeinrichtung 16 nimmt eine Vielzahl von Masken 7 auf.
Wie in den 1 bis 3 dargestellt weist die Maskenvorhalteeinrichtung 16 obere und untere Unterbringungsabschnitte 17a, 17b zur Unterbringung der Masken 7 auf, und zwei Arten von Masken 7, die sich hinsichtlich einer Strukturierung der Maskenöffnung und Größe unterscheiden, sind in diesen Unterbringungsabschnitten 17a, 17b untergebracht. Insbesondere ist die Maske 7 mit einer kleineren Größe (wird, falls angemessen, als erste Maske 7A bezeichnet) in dem oberen Unterbringungsabschnitt 17a (als erster Unterbringungsabschnitt 17a bezeichnet) untergebracht, und die Maske 7 mit einer größeren Größe als die erste Maske 7A (wird, falls angemessen, als zweite Maske 7B bezeichnet) ist in dem unteren Unterbringungsabschnitt 17b (als zweiter Unterbringungsabschnitt 17b bezeichnet) untergebracht. Es wird angemerkt, dass die 1 bis 3 einen Zustand zeigen, in dem die zweite Maske 7B in dem Druckarbeitsteil 2A angeordnet ist, und nur die erste Maske 7A in der Maskenvorhalteeinrichtung 16 untergebracht ist.
Die Maskenvorhalteeinrichtung 16 ist aus einem Paar von Maskenträgerrahmen 50 gebildet, die mit einem vorgegebenen Abstand in der Y-Richtung angeordnet sind und aus einem Metallmaterial wie Aluminium oder dergleichen hergestellt sind. Jeder der Maskenträgerrahmen 50 weist ein oberen Ablageteil 51a mit einer flachen und horizontalen Tragfläche, einen unteren Ablageteil 51b mit einer ähnlichen Tragfläche, und Führungselemente 52, die an jedem der Ablageteile 51a, 51b befestigt sind, auf. Die Ablageteile 51a, 51b und die Führungselemente 52 verlaufen in der X-Richtung mit einer äquivalenten Länge.
Jedes der Führungselemente 52 ist ein Element mit einem L-förmigen Querschnitt, wobei das Führungselement 52 ein Führungsteil 53b mit einer Führungsfläche, welche die Maske 7 von außen in der Y-Richtung einschränkt, und ein Fixierteil 53a, welches das Führungselement 52 an jedes der Ablageteile 51a, 51b fixiert, aufweist, und das entsprechende Führungselement 52 wird an jedem der Ablageteile 51a, 51b durch Bolzen B über das Fixierteil 53a fixiert. Wie in 3 dargestellt sind die Führungsfläche des Führungsteils 53b und die Tragfläche von jedem der Ablageteile 51a, 51b unter einem rechten Winkel bereitgestellt, und das Fixierteil 53a erstreckt sich von dem Führungsteil 53b nach außen (in der Y-Richtung nach außen). Bei dieser Konfiguration ist die erste Maske 7A in dem ersten Unterbringungsabschnitt 17a in einem Zustand untergebracht, bei dem beide Enden davon durch die jeweiligen oberen Ablageteile 51a getragen werden und von außen in der Y-Richtung durch die Führungsteile 53b der Führungselemente 52 eingeschränkt werden. Ferner ist die zweite Maske 7B in dem zweiten Unterbringungsabschnitt 17b in einem Zustand untergebracht, bei dem beide Enden davon durch die jeweiligen unteren Ablageteile 51b getragen werden und von außen in der Y-Richtung durch die Führungsteile 53b der jeweiligen Führungselemente 52 eingeschränkt werden.
Es wird angemerkt, dass in jedem der Ablageteile 51a, 51b zwei Schraubreihen mit einer Vielzahl von Schraublöchern Bh, die mit einem vorgegebenen Abstand in der X-Richtung angeordnet sind, mit einem vorgegebenen Abstand in der Y-Richtung vorgesehen sind. Diese Schraubreihen dienen zum Fixieren der Führungselemente 52 und ein Abstand zwischen den Führungselementen 52 kann in zwei Stufen bzw. Schritten, d.h. engere und breitere Stufen, in Abhängigkeit davon, welches der Schraublöcher Bh in den inneren oder äußeren Schraubreihen verwendet wird, verändert werden. Bei diesem Beispiel ist für jedes der oberen Ablageteile 51a das Führungselement 52 mittels der Schraublöcher Bh in der inneren Schraubreihe fixiert, so dass der Abstand zwischen den Führungselementen 52 zu einem engen Abstand entsprechend der ersten Maske 7A wird, und was das untere Ablageteil 51b anbelangt werden die Führungselemente 52 mittels der Schraublöcher Bh in den äußeren Schraubreihen fixiert, so dass der Abstand zwischen den Führungselementen 52 zu einem breiteren Abstand entsprechend der zweiten Maske 7B wird.
Jeder der Maskentragrahmen 50 wird durch einen Vorrichtungsrahmen (nicht dargestellt) getragen, so dass er frei angehoben und abgesenkt wird, und ist mit einem Luftzylinder 18 verbunden. Das Antreiben bzw. Ansteuern der Luftzylinder 18 in synchroner Weise macht es möglich, dass beide der Maskenträgerrahmen 50 einstückig bzw. integral angehoben und abgesenkt werden. Mit anderen Worten ist die Maskenvorhalteeinrichtung 16 eingerichtet, um durch das Antreiben bzw. Ansteuern des Luftzylinders 18 zwischen einer abgesenkten Position, in der der erste Unterbringungsabschnitt 17a der Maskenhalteeinheit 6 entspricht, und einer angehobenen bzw. erhöhten Position, in der der zweite Unterbringungsabschnitt 17b dem Maskenhalteabschnitt 6 entspricht, angehoben und abgesenkt werden zu können. Die abgesenkte Position ist eine Position, in der eine Position der Tragfläche des Tragteils 30a des Führungselements 30 gleich einer Position der Tragfläche des oberen Ablageteils 51a in der Z-Richtung ist, und die erhöhte Position ist eine Position, in der die Position der Tragfläche des Tragteils 30a des Führungselements 30 gleich einer Position der Tragfläche des unteren Ablageteils 51b in der Z-Richtung ist.
Es wird angemerkt, dass ein photoelektrischer Sensor 60 an jedem der Führungselemente 30 der Maskenhalteeinheit 6 und jedem der Führungselemente 52 der Unterbringungsabschnitte 17a, 17b der Maskenvorhalteeinrichtung 16 bereitgestellt ist. Der photoelektrische Sensor 60 dient dem Detektieren, ob ein Abstand zwischen den Führungsteilen 30b des Paars von Führungselementen 30 (z.B. eine Führungsbreite) und ein Abstand zwischen den Führungsteilen 53b des Paars von Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen.
Wie in 2 dargestellt weist der photoelektrische Sensor 60 einen Sensorkörper 61 mit einem Lichtprojektionsteil und einem Lichtempfangsteil, sowie eine Reflexionsplatte 62 als zu detektierendes Objekt auf. Der Sensorkörper 61 ist an einem Ende von jedem der Führungselemente 30 auf einer Seite des Maskenspeicherteils 2B (rechtes Ende in 2) fixiert, und die Reflexionsplatte 62 ist ein Ende von jedem der Führungselemente 52 auf einer Seite des Druckarbeitsteils 2a (linkes Ende in 2). Der Sensorkörper 61 und die Reflexionsplatte 62 sind beide an Seitenflächen der Führungsteile 30b, 53b an der gegenüberliegenden Seite der Führungsflächen fixiert.
Mit anderen Worten, wenn ein Abstand Wa zwischen den jeweiligen Führungsteilen 30b des Paars von Führungselementen 30 und ein Abstand Wb zwischen den jeweiligen Führungsteilen 53b des Paars von Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen (gleich sind), liegen jeder der Sensorkörper 61 und jede der Reflexionsplatten 62 einander in der X-Richtung gegenüber, wodurch Licht, das von dem entsprechenden Sensorkörper 61 projiziert wird, von der jeweiligen Reflexionsplatte 62 reflektiert wird und von dem jeweiligen Sensorkörper 61 empfangen wird. Das bedeutet, die Reflexionsplatte 62 wird detektiert. Dies ermöglicht es dem Sensorkörper 61, ein vorgegebenes Signal mit Pegel High auszugeben. Wenn hingegen der Abstand Wa zwischen den jeweiligen Führungsteilen 30b des Paars von Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den jeweiligen Führungsteilen 53b des Paars von Führungselementen 52 nicht miteinander übereinstimmen, fluchten die Sensorkörper 61 und die Reflexionsplatten 62 in der Y-Richtung nicht. Deshalb wird das von jedem der Sensorkörper 61 reflektierte Licht nicht von jeder der Reflexionsplatten 62 reflektiert, das bedeutet die jeweilige Reflexionsplatte 62 wird nicht detektiert, und der jeweilige Sensorkörper 61 gibt ein Signal mit Pegel Low mit einem niedrigeren Pegel als das Signal mit Pegel High aus. Bei einer Steuerungsvorrichtung 80 (arithmetische Verarbeitungseinheit 81), die später beschrieben wird, wird basierend auf dem Ausgangssignal von jedem dieser photoelektrischen Sensoren 60 bestimmt, ob der Abstand zwischen den Führungsteilen 30b des Paars von Führungselementen 30 und der Abstand zwischen den Führungsteilen 53b des Paars von Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen. In diesem Beispiel entsprechen der photoelektrische Sensor 60 und die Steuerungsvorrichtung 80 (eine arithmetische Verarbeitungseinheit 81) einer „Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung“ der vorliegenden Erfindung, und der photoelektrische Sensor 60, der Sensorkörper 61 und die Reflexionsplatte 62 entsprechen jeweils einem „Sensor“, einem „Detektionsteil“ und einem „detektierten Teil“.
Bezugszeichen 4 in 1 bezeichnet eine Kameraeinheit. Diese Kameraeinheit 4 weist eine Kamera 4a zur Erfassung eines Bilds des Substrats P, das durch die Substrathalteeinheit 8 gehalten wird, eine Beleuchtungsvorrichtung und dergleichen auf. Die Kameraeinheit 4 ist in der X-Richtung von einer Position, sich zwischen der Maskenhalteeinheit 6 und der Substrathalteeinheit 8 befindet, in einem Zustand, bei dem das Substrat P, das durch die Substrathalteeinheit 8 gehalten wird, von der Maske 7 getrennt ist (in 1 gezeigter Zustand), zu einer Position unter der Maskenvorhalteeinrichtung 16, zurückgezogen aus dieser Position, bewegbar bereitgestellt.
Ein Ablauf der Druckvorgangs durch die Druckvorrichtung 1 ist wie folgt. Das Substrat P wird durch die obere Einheit 8A der Substrathalteeinheit 8 gehalten und wird an einer unteren Fläche der Maske 7 mit Betätigung der unteren Einheit 8B überlappt und montiert. In diesem Zustand bewegt sich das Druckwerk 10 in der X-Richtung hin und her, so dass die Rakel 12 die Paste auf dem Maskenkörper 70 bewegt. Im Ergebnis wird die Paste auf das Substrat P aufgebracht (gedruckt). Das Substrat P wird nach dem Bedrucken durch Betätigung der unteren Einheit 8B von der Maske 7 getrennt und wird durch Betätigung der Beförderungseinrichtung 20 der oberen Einheit 8A nach unten von dem Druckarbeitsteil 2 ausgetragen. Falls erforderlich wird die Maske 7 des Druckarbeitsteils 2 durch die Maske 7 in der Maskenvorhalteeinrichtung 16 zwischen der oben beschriebenen Druckarbeit ausgetauscht.
Wie in 1 dargestellt weist die Druckvorrichtung 1 die Steuerungsvorrichtung 80 auf, welche die gesamte Vorrichtung umfassend steuert bzw. regelt. Die Steuerungsvorrichtung 80 weist die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, eine Antriebssteuerungseinheit 82, eine Speichereinheit 83, eine Eingabe/Ausgabe-Steuerungseinheit 84 und dergleichen auf.
Die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 ist aus einer CPU oder dergleichen konfiguriert und steuert bzw. regelt den Betrieb von jedem der Teile der Druckvorrichtung 1 wie etwa dem Druckwerk 10 und dergleichen über die Antriebssteuerungseinheit 82 gemäß einem vorab in der Speichereinheit 83 gespeicherten Druckprogramm, um die oben beschriebene Druckverarbeitung auszuführen. Darüber hinaus führt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 eine Maskenaustauschverarbeitung, die später beschrieben wird, gemäß einem in der Speichereinheit 83 gespeicherten Maskenaustauschprogramm basierend auf einer Befehlseingabe durch eine Betätigung einer Eingabevorrichtung (nicht dargestellt) durch einen Bediener, oder basierend auf vorab eingegebenen Produktionsplaninformationen aus.
Die Eingabe/Ausgabe-Steuerungseinheit 84 steuert die Eingabe und Ausgabe von Signalen zwischen der Steuerungsvorrichtung 80 und verschiedenen Sensoren und Aktuatoren, und die Sensorkörper 61 der photoelektrischen Sensoren 60 sind mit der Eingabe/Ausgabe-Steuerungseinheit 84 verbunden. Ferner ist ein Warnlicht/Lautsprecher 85 mit der Eingabe/Ausgabe-Steuerungseinheit 84 verbunden. Das Warnlicht bzw. der Lautsprecher 85 benachrichtigt den Bediener über das Auftreten eines Problems in der Druckvorrichtung 1 durch Licht und Geräusche.
Als nächstes wird die Steuerung der Maskenaustauschverarbeitung durch die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 basierend auf einem Ablaufdiagramm aus 4 unter Bezugnahme auf die 5 bis 10 beschrieben.
In der folgenden Beschreibung wird das Führungselement 30 der Maskenhalteeinheit 6 als „erstes Führungselement 30“ bezeichnet und das „Führungselement 52“ der Maskenvorhalteeinrichtung 16 wird als ein „zweites Führungselement 52“ bezeichnet. Darüber hinaus ist die Druckvorrichtung 1 in dem in 1 dargestellten Zustand, also in dem Zustand, bei dem die zweite Maske 7B in das Druckarbeitsteil 2 eingelegt ist und die erste Maske 7A in der Maskenvorhalteeinrichtung 16 untergebracht ist, und in dem Zustand gezeigt, bei dem die Maskenvorhalteeinrichtung 16 an der erhöhten Position angeordnet ist.
Diese Steuerung wird beispielsweise durch Eingabe eines Befehls zur Ausführung der Maskenaustauschverarbeitung gestartet. Wenn diese Steuerung startet, bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 basierend auf den Ausgangssignalen von den photoelektrischen Sensoren 60 (Sensorkörpern 61) zunächst, ob der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen 30 und der Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen 52 auf der Seite der Maskenvorhalteeinrichtung 16 miteinander übereinstimmen, oder korrekterweise, ob der Abstand Wa zwischen den Führungsteilen 30b des Paars von ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den Führungsteilen 53b des Paars von zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen (Schritt S1). Es wird angemerkt, dass in der folgenden Beschreibung diese Abstände einfach als „der Abstand zwischen den ersten Führungselementen 30“ und „der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen 52“ bezeichnet werden können.
Genauer, falls das Ausgangssignal von jedem der Sensorkörper 61 das Signal mit Pegel High ist, bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen, und falls das Ausgangssignal das Signal mit Pegel Low ist, bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 nicht miteinander übereinstimmen.
Falls in Schritt S1 Ja bestimmt bzw. festgestellt wird, steuert bzw. regelt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 das Druckwerk 10 und dergleichen, um den Maskenaustragsvorgang (Schritt S3) auszuführen.
Insbesondere wird das Druckwerk 10 bewegt, so dass der Stift 14a des Maskenschiebers 14 sich auf der gegenüberliegenden Seite des Maskenspeicherteils 2B in Bezug auf die zweite Maske 7B befindet, und der Maskenschieber 14 wird dort betätigt, um den Stift 14a an der vorstehenden Position anzuordnen (vgl. 5). Nach dem Lösen eines eingespannten Zustands der zweiten Maske 7B durch die Maskenspannvorrichtungen 32 wird das Druckwerk 10 in Richtung des Maskenspeicherteils 2B bewegt. Mit anderen Worten wird der Stift 14a an der zweiten Maske 7B eingehakt und bewegt die zweite Maske 7B zusammen mit dem Druckwerk 10 in der X-Richtung. Dadurch wird die zweite Maske 7B von der Maskenhalteeinheit 6 an den zweiten Unterbringungsabschnitt 17b der Maskenvorhalteeinrichtung 16 verbracht (vgl. 6). Hierbei wird die zweite Maske 7B problemlos bzw. störungsfrei in dem zweiten Unterbringungsabschnitt 17b untergebracht und dabei entlang des Führungsteils 30b von jedem der ersten Führungselemente 30 und dem Führungselement 53b von jedem der zweiten Führungselemente 52 geführt. Es wird angemerkt, dass weil die oberen und unteren Masken 7A, 7B durch den gemeinsamen Stift 14a des Maskenschiebers 14 transferiert werden müssen, eine Unterbringungsposition der ersten Maske 7A, die in der oberen Stufe untergebracht ist, in Bezug auf eine Unterbringungsposition der zweiten Maske 7B in der X-Richtung nach außen (gegenüberliegende Seite des Druckarbeitsteils 2A) versetzt ist, um das Einbringen und Entnehmen der zweiten Maske 7B, die in der unteren Stufe unterzubringen ist, nicht zu stören bzw. zu behindern.
Als nächstes bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, ob das Unterbringen der zweiten Maske 7B abgeschlossen ist oder nicht (Schritt S5), und falls hier Ja bestimmt wird, wird die Maskenvorhalteeinrichtung 16 von der erhöhten Position in die abgesenkte Position bewegt (vgl. 7), der Abstand zwischen den ersten Führungselementen 30 wird auf einen Abstand entsprechend der ersten Maske 7A verändert (Schritt S7). Hierbei wird der Stift 14a des Maskenschiebers 14 von der vorstehenden Position in die zurückgezogene Position bewegt. Es wird angemerkt, dass ob das Unterbringen der zweiten Maske 7B abgeschlossen ist oder nicht basierend auf Ausgangsinformationen von einem Sensor (nicht dargestellt), der in dem zweiten Unterbringungsabschnitt 17b angeordnet ist, oder Ausgangsinformationen von einer Positionsdetektionsvorrichtung wie beispielsweise einem Encoder oder dergleichen, der in dem Servomotor 44 integriert ist, bestimmt wird.
Als nächstes bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, ob der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 auf Seite der Maskenvorhalteeinrichtung 16 basierend auf den Ausgangssignalen von den Sensorkörpern 61 (Schritt S9) miteinander übereinstimmen.
Falls hier Ja bestimmt wird, steuert die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 das Druckwerk 10 und dergleichen, um einen Maskenladevorgang auszuführen (Schritt S11). Insbesondere wird das Druckwerk 10 bewegt, so dass der Stift 14a des Maskenschiebers 14 sich innerhalb des Rahmenkörpers 72 der ersten Maske 7A befindet, und der Maskenschieber 14 wird dort betätigt, um den Stift 14a an der vorstehenden Position anzuordnen (8). Als nächstes wird das Druckwerk 10 in Richtung des Druckarbeitsteils 2 bewegt. Mit anderen Worten wird der Stift 14a an dem Rahmenkörper 72 von innerhalb der ersten Maske 7A eingehakt, und bewegt die erste Maske 7A in der X-Richtung zusammen mit dem Druckwerk 10. Dadurch wird die erste Maske 7A von dem ersten Unterbringungsabschnitt 17a der ersten Maskenvorhalteeinrichtung 16 an die Maskenhalteeinheit 6 verbracht (siehe 9). Hierbei wird die erste Maske 7A problemlos bzw. störungsfrei an die Maskenhalteeinheit 6 transferiert und dabei entlang des Führungsteils 53b von jedem der zweiten Führungselemente 52 des ersten Unterbringungsabschnitts 17a und des Führungsteils 30b von jedem der ersten Führungselemente 30 geführt.
Als nächstes bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, ob der Transfer der ersten Maske 7A zu der Maskenhalteeinheit 6 abgeschlossen wurde (Schritt S13), und falls Ja bestimmt wird, bewirkt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, dass der Stift 14a des Maskenschiebers 14 sich von der vorstehenden Position in die zurückgezogene Position bewegt, und betätigt die Maskenspannvorrichtungen 32, um die erste Maske 7A an jedem der ersten Führungselemente 30 zu fixieren, und beendet daraufhin diesen Ablauf. Es wird angemerkt, dass ob der Transfer der ersten Maske 7A abgeschlossen wurde oder nicht durch Ausgangsinformationen von dem Sensor (nicht dargestellt), der in der Maskenhalteeinheit 6 angeordnet ist, oder Ausgangsinformationen von der Positionsdetektionsvorrichtung wie beispielsweise einem Encoder bzw. Geber oder dergleichen, der in dem Servomotor 44 integriert ist, bestimmt wird.
Falls hingegen in Schritt S1 Nein bestimmt wird, also falls bestimmt wird, dass der Abstand Wa zwischen den Führungsteilen 30b der ersten Führungselemente 30 und der Abstand Wb zwischen den Führungsteilen 53b der zweiten Führungselemente 52 nicht miteinander übereinstimmen, bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, ob ein Zeitnehmer eingeschaltet ist (Schritt S15), und falls hier Nein bestimmt wird, wird der Zeitnehmer eingeschaltet (Schritt S17), und dann wird der Luftzylinder betätigt, um die Maskenvorhalteeinrichtung 16 zu bewegen (Schritt S19). Dann wird bestimmt, ob eine vorgegebene Zeit h1 verstrichen ist (Schritt S21), und falls hier Nein bestimmt wird, geht die Verarbeitung zu Schritt 1. Das bedeutet, falls der Abstand Wa zwischen den Führungsteilen 30b der ersten Führungselemente 30 und der Abstand Wb zwischen den Führungsteilen 53b der zweiten Führungselemente 52 nicht miteinander übereinstimmen, eine Entsprechungsbeziehung zwischen den ersten Führungselementen 30 und jedem der Unterbringungsabschnitte 17a, 17b der Maskenvorhalteeinrichtung 16 nicht miteinander übereinstimmen, und daher bewegt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 die Maskenvorhalteeinrichtung 16, um dies zu beheben.
Falls bevor die vorgegebene Zeit h1 verstrichen ist, bestimmt wird, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen (falls ja in Schritt S1 bestimmt wird), wechselt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 die Verarbeitung zu Schritt S3. Falls hingegen bevor die vorgegebene Zeit h1 verstrichen ist, nicht bestimmt wird, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen, betätigt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 das Warnlicht/Lautsprecher 85 zu dem Zeitpunkt, wenn die jeweilige vorgegebene Zeit h1 verstrichen ist (Schritt S31) und beendet diesen Ablauf.
Falls darüber hinaus in Schritt S9 Nein bestimmt wird, also falls bestimmt wird, dass der Abstand Wa zwischen den Führungsteilen 30b der ersten Führungselemente 30 nicht mit dem Abstand Wb zwischen den Führungsteilen 53b der zweiten Führungselemente 52 des ersten Unterbringungsabschnitts 17a übereinstimmt, bestimmt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81, ob der Zeitnehmer eingeschaltet ist (Schritt S23), und falls hier Nein bestimmt wird, schaltet die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 den Zeitnehmer ein (Schritt S25), und betätigt dann den Servomotor 38, um jedes der ersten Führungselemente 30 zu bewegen (Schritt S27). Dann wird bestimmt, ob eine vorgegebene Zeit h2 verstrichen ist (Schritt S29) oder nicht, und falls hier Nein bestimmt wird, wechselt die Verarbeitung zu Schritt S9. Falls zum Beispiel eine Bewegungsmenge von jedem der ersten Führungselemente 30 in Schritt S7 unvollständig ist, kann es sein, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungsteilen 52 nicht miteinander übereinstimmen, und daher bewegt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 jedes der ersten Führungselemente 30, um dies zu beheben.
Auf diese Weise, falls, bevor die vorgegebene Zeit h2 verstrichen ist, festgestellt wird, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 übereinstimmen (falls Ja in Schritt S9 bestimmt wird), wechselt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 die Verarbeitung nach Schritt S11. Falls hingegen bevor die vorgegebene Zeit h2 verstrichen ist, nicht bestimmt wird, dass der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 übereinstimmen, wechselt die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 die Verarbeitung zu Schritt S31 zu einem Zeitpunkt, wenn die jeweilige vorgegebene Zeit h2 verstrichen ist, und betätigt das Warnlicht/Lautsprecher 85, und dann endet dieser Ablauf.
Wie oben beschrieben wird gemäß der Druckvorrichtung 1, wenn die Maske 7 ausgetauscht wird basierend auf den Ausgangssignalen von den photoelektrischen Sensoren 60 (den Sensorkörpern 61) durch die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 bestimmt, ob der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 in dem Druckarbeitsteil 2A (der Maskenhalteeinheit 6) und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 in dem Maskenspeicherteil 2B (der Maskenvorhalteeinrichtung 16) miteinander übereinstimmen. Falls der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb der zweiten Führungselemente 52 nicht miteinander übereinstimmen, und falls dies nicht behoben wird, bevor die vorgegebene Zeit h1 oder h2 verstrichen ist, wird das Warnlicht/Lautsprecher 85 betätigt und der Transfervorgang der Maske 7 wird gestoppt. Dementsprechend ist es möglich, das Auftreten eines Problem aufgrund des Transfers der Maske 7 in dem Zustand, bei dem der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 nicht miteinander übereinstimmen, zu verhindern.
Beispielsweise wird während des Transfers der zweiten Maske 7B von der Maskenhalteeinheit 6 zu der Maskenvorhalteeinrichtung 16 verhindert, dass die zweite Maske 7B mit den zweiten Führungselementen 52 des ersten Unterbringungsabschnitts 17a kollidiert und beschädigt wird. Darüber hinaus wird verhindert, dass die erste Maske 7A auf die Substrathalteeinheit 8 von zwischen beiden der ersten Führungselemente 30 fällt und die Substrathalteeinheit 8 und die erste Maske 7A beschädigt, aufgrund des Starts des Transfers der ersten Maske 7A von der Maskenvorhalteeinrichtung 16, während der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 der Abstand Wb bleibt, der der zweiten Maske 7B entspricht, wie in 10 dargestellt.
Darüber hinaus wird gemäß der Druckvorrichtung 1 die Konfiguration eingesetzt, bei der der photoelektrische Sensor 60 (der Sensorkörper 61, die Reflexionsplatte 62) an jedem der ersten Führungselemente 30 der Maskenhalteeinheit 6 und jedem der zweiten Führungselemente 52 der Maskenvorhalteeinrichtung 16 befestigt ist, und die arithmetische Verarbeitungseinheit 81 bestimmt, ob der Abstand Wa zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand Wb zwischen den zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen, basierend auf dem Ausgangssignal von dem photoelektrischen Sensor 60. Deshalb können die obigen Aktionen und Wirkungen mit einer einfachen Konfiguration erzielt werden.
Insbesondere ist die Ausgestaltung derart, dass während der Sensorkörper 61 an dem Ende von jedem der ersten Führungselemente 30 angebracht ist, die Reflexionsplatte 62 an dem Ende von jedem der zweiten Führungselemente 52 angebracht ist, und dass wenn der Abstand zwischen den ersten Führungselementen 30 und der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen 52 miteinander übereinstimmen, der Sensorkörper 61 die Reflexionsplatte 62 detektiert (das Signal mit Pegel High ausgibt), so dass die Struktur auch sehr einfach ist. Deshalb besteht ein Vorteil dahingehend, dass die Wartung wie beispielsweise der Austausch des photoelektrischen Sensors 60 aufgrund eines Ausfalls einfach ist.
Die oben beschriebene Druckvorrichtung 1 ist ein Beispiel einer bevorzugten Ausführungsform der Siebdruckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung, und die konkrete Ausgestaltung der Druckvorrichtung 1 kann zweckmäßig verändert werden, ohne vom Geist der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
Zum Beispiel wird bei der Druckvorrichtung 1 der photoelektrische Sensor als der „Sensor“ der vorliegenden Erfindung angewendet, die Art des „Sensors“ ist jedoch nicht hierauf beschränkt. Andere verschiedene Sensoren (einschließlich einer Kamera) sind ebenfalls einsetzbar bzw. anwendbar. Ferner ist die vorliegende Erfindung nicht auf den Sensor mit dem dedizierten detektierten Teil (Reflexionsplatte 62) wie in der Druckvorrichtung 1 beschränkt, sondern kann eine Vorrichtung sein, die ein Teil des Führungselements 52 unmittelbar als detektiertes Teil detektiert. Dementsprechend kann ein Näherungsschalter eines Induktionstyps, eines Kapazitätstyps, eines magnetischen Typs oder dergleichen, oder ein Sensor wie ein Hallelement oder dergleichen angewendet werden. Ferner kann nicht nur ein Sensor von kontaktlosen Typ, sondern auch ein Sensor vom Kontakttyp wie beispielsweise ein Mikroschalter oder dergleichen angewendet werden.
Darüber hinaus ist die Druckvorrichtung 1 eingerichtet, die Maske 7 mithilfe der Tatsache zu transferieren, dass sich das Druckwerk 10 in der X-Richtung bewegt und indem das Druckwerk 10 mit dem Maskenschieber 14 bereitgestellt wird. Eine Ausgestaltung, die eine zugehörige Transfervorrichtung für den Transfer der Maske 7 getrennt von dem Druckwerk 10 kann jedoch eingesetzt werden.
Darüber hinaus kann, auch wenn bei der Maskenvorhalteeinrichtung 16 der oben beschriebenen Druckvorrichtung 1 der Abstand zwischen den Führungselementen 52 durch Anbringen und Lösen der Bolzen B verändert werden kann, beispielsweise eine Konfiguration angewendet werden, bei dem ähnlich zu den ersten Führungselementen 30 der Maskenhalteeinheit 6 der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen 52 durch einen Gewindespindelmechanismus oder dergleichen verändert wird. Gemäß dieser Ausgestaltung nimmt ein Freiheitsgrad des Abstands zwischen den Führungselementen 52 zu, so dass die Masken 7 mit einer breiteren Spanne von Größen untergebracht werden können. In diesem Fall können bei der Verarbeitung aus Schritt S19 in 4 die Führungselemente 52 zusätzlich zu der Bewegung der Maskenvorhalteeinrichtung 16 bewegt werden.
Wie oben beschrieben wird die vorliegenden Erfindung, die gemäß der Ausführungsform beschrieben ist, wie folgt zusammengefasst:
Eine Siebdruckvorrichtung der vorliegenden Erfindung weist auf: ein Druckarbeitsteil, in dem Druckarbeit ausgeführt wird; ein Maskenspeicherteil, welches auf einer Seite des Druckarbeitsteils angeordnet ist und eine Vielzahl von Unterbringungsabschnitten aufweist, die jeweils eine Siebmaske unterbringen können; eine Transfervorrichtung, welche die Siebmaske in einer ersten Richtung bewegt, um die Siebmaske zwischen jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils sowie dem Druckarbeitsteil zu transferieren, wobei die erste Richtung horizontal ist; ein Paar von ersten Führungselementen, das mit einem Abstand in einer zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in dem Druckarbeitsteil angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt, wobei das Paar von ersten Führungselementen einen variablen Abstand aufweist; ein Paar von zweiten Führungselementen, das mit einem Abstand in der zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt; und eine Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung, welche bestimmt, ob der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt, bevor der Transfer der Siebmaske durch die Transfervorrichtung beginnt.
Bei dieser Siebdruckvorrichtung wird, wenn die Siebmaske durch die Transfervorrichtung mit dem Austausch der Siebmaske transferiert wird, durch die Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung bestimmt, ob der Abstand zwischen den ersten Führungselementen auf der Seite des Druckarbeitsteils und der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen auf der Seite des Maskenspeicherteils (Unterbringungsabschnitt) miteinander übereinstimmen. Deshalb kann das Steuern bzw. Regeln der Transfervorrichtung oder dergleichen basierend auf dem obigen Bestimmungsergebnis verhindern, dass die Siebmaske in einem Zustand transferiert wird, bei dem der Abstand zwischen den ersten Führungselementen und der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen nicht miteinander übereinstimmen.
In dieser Konfiguration umfasst die Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung einen Sensor, der aus einem an einer Seite von jedem der ersten Führungselemente und jedem der zweiten Führungselemente angebrachten Detektionsteil sowie einem an einer anderen Seite von jedem der ersten Führungselemente und jedem der zweiten Führungselemente angebrachten detektierten Teil konfiguriert ist, und in einem Fall, bei dem jedes der Detektionsteile jedes der detektierten Teile detektiert hat, bestimmt die Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung, dass der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt.
Gemäß dieser Konfiguration ist es möglich, mit der einfachen Konfiguration mittels des Sensors, der aus dem Detektionsteil und dem detektierten Teil konfiguriert ist, zu bestimmen, ob der Abstand zwischen den ersten Führungselementen und der Abstand zwischen den zweiten Führungselementen übereinstimmen.
In diesem Fall ist es bevorzugt, dass das Detektionsteil und das detektierte Teil an einander in der ersten Richtung gegenüberliegenden Positionen in einem Zustand angebracht sind, bei dem der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt, und dass das Detektionsteil das detektierte Teil an der Position gegenüberliegend dem detektierten Teil in der ersten Richtung detektiert.
Gemäß dieser Konfiguration kann eine einfachere Konfiguration erzielt werden, bei der die Befestigungspositionen des Detektionsteils und des detektierten Teils einfach sind.
Es ist bevorzugt, dass die oben beschriebene Siebdruckvorrichtung eine Benachrichtigungsvorrichtung aufweist, welche die Bestimmung meldet, wenn die Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung bestimmt, dass der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen nicht mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt.
Gemäß dieser Ausgestaltung ist es für einen Bediener oder dergleichen möglich, den Zustand, bei dem der Abstand zwischen den ersten Führungselementen nicht mit dem Abstand zwischen den zweiten Führungselementen übereinstimmt, sofort zu erkennen.
Bezugszeichenliste

1: Siebdruckvorrichtung
2A: Druckarbeitsteil
2B: Maskenspeicherteil
7: Siebmaske
7A: erste Maske
7B: zweite Maske
10: Druckwerk (Transfervorrichtung)
14: Maskenschieber (Transfervorrichtung)
17a: erster Unterbringungsabschnitt
17b: zweiter Unterbringungsabschnitt
30: erstes Führungselement
52: zweites Führungselement
60: photoelektrischer Sensor
61: Sensorkörper (Detektionsteil)
62: Reflexionsplatte (detektiertes Teil)
80: Steuerungsvorrichtung (Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung)
81: arithmetische Verarbeitungseinheit (Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung)
85: Warnlicht/Lautsprecher (Benachrichtigungsvorrichtung)

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

JP 3401798 [0006]

Claims

Siebdruckvorrichtung, aufweisend: ein Druckarbeitsteil, in dem Druckarbeit ausgeführt wird; ein Maskenspeicherteil, welches auf einer Seite des Druckarbeitsteils angeordnet ist und eine Vielzahl von Unterbringungsabschnitten aufweist, die jeweils eine Siebmaske unterbringen können; eine Transfervorrichtung, welche die Siebmaske in einer ersten Richtung bewegt, um die Siebmaske zwischen jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils sowie dem Druckarbeitsteil zu transferieren, wobei die erste Richtung horizontal ist; ein Paar von ersten Führungselementen, das mit einem Abstand in einer zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in dem Druckarbeitsteil angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt, wobei das Paar von ersten Führungselementen einen variablen Abstand aufweist; ein Paar von zweiten Führungselementen, das mit einem Abstand in der zweiten Richtung orthogonal zu der ersten Richtung in jedem der Unterbringungsabschnitte des Maskenspeicherteils angeordnet ist und die Siebmaske während des Transfers führt; und eine Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung, welche bestimmt, ob der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt, bevor der Transfer der Siebmaske durch die Transfervorrichtung beginnt.
Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung einen Sensor aufweist, der aus einem an einer Seite von jedem der ersten Führungselemente und jedem der zweiten Führungselemente angebrachten Detektionsteil sowie einem an einer anderen Seite von jedem der ersten Führungselemente und jedem der zweiten Führungselemente angebrachten detektierten Teil konfiguriert ist, und in einem Fall, bei dem jedes der Detektionsteile jedes der detektierten Teile detektiert hat, die Führungsbreitenbestimmungsvorrichtung bestimmt, dass der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt.
Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Detektionsteil und das detektierte Teil an einander in der ersten Richtung gegenüberliegenden Positionen in einem Zustand angebracht sind, in dem der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt, und das Detektionsteil das detektierte Teil an der dem detektierten Teil in der ersten Richtung gegenüberliegenden Position detektiert.
Siebdruckvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, aufweisend: eine Benachrichtigungsvorrichtung, welche die Bestimmung meldet, wenn die Führungsbreiten-Bestimmungsvorrichtung bestimmt, dass der Abstand zwischen dem Paar von ersten Führungselementen nicht mit dem Abstand zwischen dem Paar von zweiten Führungselementen übereinstimmt.