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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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1. GEBIET DER ERFINDUNG
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Die
Erfindung bezieht sich auf ein Metallglied mit einer Edelmetallplattierung
und ein Herstellungsverfahren desselben. Genauer gesagt, die Erfindung bezieht
sich auf ein Metallglied, das eine Edelmetallplattierung hat, die
sich nicht ohne weiteres abschält, und ein Herstellungsverfahren
desselben.
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2. BESCHREIBUNG DER VERWANDTEN
TECHNIK
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Bei
einem Bilden eines Separators einer Brennstoffzelle unter Verwendung
eines Materials, bei dem sich der Kontaktwiderstand zwischen der Brennstoffzelle
und der Elektrode erhöht, wenn dasselbe so, wie es ist,
verwendet wird, wird auf den Abschnitt der Separatoroberfläche,
der die Elektrode kontaktiert, eine Edelmetallplattierung aufgebracht. Beispielsweise
wird in der japanischen Patentanmeldungsveröffentlichung
Nr.
JP-A-2001-6713 rostfreier Stahl
mit einem an dessen Oberfläche haftenden Edelmetall durch
Durchführen eines Prozesses erzeugt, bei dem an der Oberfläche
des rostfreien Stahls winzige Mengen von Platin abgeschieden werden,
während ein Passivfilm (ein Oxidfilm) durch leichtes Polieren
des rostfreien Stahls mit Siliziumkarbidpapier mechanisch entfernt
wird.
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Ferner
weist in der japanischen Patentanmeldungsveröffentlichung
Nr.
JP-A-2000-164228 ein Brennstoffzellenseparator
eine Überzugsschicht, die einen Mehrschichtaufbau hat,
der aus zwei oder mehr Schichten einer Schicht mit einem niedrigen elektrischen
Widerstand, einer korosionsbeständigen Schicht und einer
abschälbeständigen Schicht gebildet ist, auf.
Die japanische Patentanmeldungsveröffentlichung Nr.
JP-A-2000-323151 beschreibt
eine Brennstoffzelle, die einen Separator aufweist, bei dem bei
einem Teil einer leitfähigen Gasdurchgangsplatte, die an
eine Gasdiffusionselektrode anstößt, eine leitfähige
Kontaktstelle mit einer Korrosionsbeständigkeit angeordnet
ist. Die japanische Patentanmeldungsveröffentlichung Nr.
JP-A-2002-134136 schafft
ein Oberflächenbehandlungsverfahren, bei dem Überzugspartikel
durch einen Ultraschallstrahl in Schwingungen versetzt und zum Fließen
veranlasst werden; und während der Oberflächenoxidfilm des
Passivzustandsmetalls durch die Kollision der Überzugspartikel
mit der behandelten Oberfläche entfernt wird, werden die Überzugspartikel
an einem Teil oder der Gesamtheit des Teils mit dem entfernten Oxidfilm
angelagert.
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Jedoch
bildet sich, selbst wenn, unmittelbar nachdem die Edelmetallschicht
gebildet wurde, die Edelmetallplattierungsschicht fest an das andere
Metall des Glieds gebunden wird, mit der Zeit bei der Grenzfläche
der Plattierungsschicht und des anderen Metalls eine Metallverbindungsschicht,
und als ein Resultat kann sich die Edelmetallplattierungsschicht abschälen.
Diese Art eines Problems ist nicht nur auf Separatoren von Brennstoffzellen
begrenzt, sondern kann immer dann auftreten, wenn ein Metallglied,
bei dem ein Oxidfilm dazu neigt, sich an der Oberfläche zu
bilden, mit einem Edelmetall plattiert wurde.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung schafft somit ein Metallglied mit einer Edelmetallplattierungsschicht, die
sich nicht ohne weiteres abschält, sowie eine Technologie,
um dieses Metallglied zu erzeugen.
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Somit
bezieht sich ein Aspekt der Erfindung auf ein Metallglied, das eine
Edelmetallplattierungsschicht an einer Oberfläche eines
blanken Metallabschnitts hat, der aus einem vorbestimmten Metall
gebildet ist, bei dem das Atomprozent von Wasserstoffatomen in der
Nähe einer Grenzfläche des blanken Metallabschnitts
und der Plattierungsschicht nicht mehr als 1,0% ist. Dies reduziert
die Wahrscheinlichkeit, dass sich die Plattierungsschicht aufgrund
einer Bildung eines Metallhydrids in der Nähe der Grenzfläche
der Plattierungsschicht und des blanken Metallabschnitts ohne weiteres
abschält. Nebenbei bemerkt kann dieses Metallglied als
ein Separator einer Brennstoffzelle verwendet sein.
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Das
Atomprozent von Kohlenstoffatomen in der Nähe der Grenzfläche
kann ebenfalls auf nicht mehr als 30% begrenzt werden. Dies reduziert
die Wahrscheinlichkeit, dass sich die Plattierungsschicht aufgrund
einer Bildung eines Metalloxids durch Oxidieren des Karbids, das
in der Nähe der Grenzfläche der Plattierungsschicht
und des blanken Metallabschnitts vorhanden ist, ohne weiteres abschält.
Dieser Aufbau ist besonders bevorzugt, da der Brennstoffzellenseparator
in einer Umgebung platziert sein kann, in der leicht eine Oxidation
aufgrund eines sauren Fluids auftritt.
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Der
Durchschnittswert des Atomprozents von Kohlenstoffatomen in der
Nähe der Grenzfläche kann ferner annähernd
5% sein. Hinsichtlich des Durchschnittswerts des Atomprozents von
Atomen eines gegebenen Elements bedeutet annähernd X% einen
Bereich von plus oder minus 10% von X%. Beispielsweise bedeutet
annähernd 5% 4,5% bis 5,5%.
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Das
vorbestimmte Metall, aus dem der blanke Metallabschnitt gebildet
ist, kann Titan oder rostfreier Stahl sein.
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Das
Metallglied mit einer Plattierungsschicht eines Edelmetalls an der
Oberfläche eines blanken Metallabschnitts, der aus einem
vorbestimmten Metall gebildet ist, kann ferner gemäß dem
folgenden Verfahren hergestellt werden. Zuerst wird eine Oberflächenschicht
des blanken Metallabschnitts entfernt (Entfernungsschritt). Dann
wird auf den Abschnitt, von dem die Oberflächenschicht
des blanken Metallabschnitts entfernt wurde (Entfernungsschritt),
eine Plattierung aus einem Edelmetall aufgebracht. Dann wird das
Metallglied in einer inerten Atmosphäre wärmebehandelt
(Wärmebehandlungsschritt). Als ein Resultat kann ein Metallglied
hergestellt werden, das in der Nähe der Grenzfläche
der Plattierungsschicht und des blanken Metallabschnitts weniger
Karbid und Wasserstoff aufweist, als wenn der Entfernungsschritt
und der Wärmebehandlungsschritt nicht durchgeführt
würden. Bei einem auf diese Weise hergestellten Metallglied
schält sich die Plattierungsschicht nicht ohne weiteres
ab. Die Wärmebehandlung kann so geartet sein, dass sich
der Wasserstoff verteilt, so dass das Atomprozent von Wasserstoffatomen
in der Nähe der Grenzfläche des blanken Metallabschnitts
und der Plattierungsschicht nicht mehr als 1,0% ist.
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Bei
dem Wärmebehandlungsschritt kann das Metallglied in einer
Atmosphäre zwischen einschließlich 220°C
und einschließlich 600°C wärmebehandelt werden.
Als ein Resultat kann ein Metallglied hergestellt werden, das in
der Nähe der Grenzfläche der Plattierungsschicht
und des blanken Metallabschnitts weniger Wasserstoff aufweist, als
wenn dasselbe bei einer anderen Temperatur wärmebehandelt
würde.
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Bei
dem Entfernungsschritt kann ein Abschnitt, der die Oberfläche
des blanken Metallabschnitts umfasst und der einen höheren
Kohlenstoffgehalt als ein Oberflächenabschnitt des blanken
Metallabschnitts, nachdem die Oberflächenschicht entfernt
wurde, aufweist, als die Oberflächenschicht entfernt werden.
Als ein Resultat kann ein Metallglied hergestellt werden, das in
der Nähe der Grenzfläche der Plattierungsschicht
und des blanken Metallabschnitts weniger Karbid aufweist, als wenn
der Entfernungsschritt nicht durchgeführt würde.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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Die
vorhergehenden und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung
werden aus der folgenden Beschreibung von bevorzugten Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, in denen
gleiche Ziffern verwendet sind, um gleiche Elemente darzustellen,
offensichtlich. Es zeigen:
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1 ein
Flussdiagramm, das ein Herstellungsverfahren eines Separators gemäß einem
exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt;
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2 eine
grafische Darstellung, die die Verteilung des Atomprozents von Kohlenstoffatomen
in der Tiefenrichtung eines Separatorglieds zeigt;
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3 eine
grafische Darstellung, die die Verteilung des Atomprozents von Wasserstoffatomen
in der Tiefenrichtung des Separatorglieds nach einer Wärmebehandlung
zeigt;
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4 eine
Ansicht des gemäß dem in 1 gezeigten
Verfahren erzeugten Separatorglieds;
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5 eine
Ansicht, die die Resultate eines Abschältests für
einen Separator zeigt, der erzeugt wurde, während die Bedingungen
des Polierläppens bei dem Schritt S20 geändert
wurden;
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6 eine
Ansicht, die die Resultate eines Abschältests für
einen Separator zeigt, der erzeugt wurde, während Bedingungen
der Wärmebehandlung bei dem Schritt S40 geändert
wurden; und
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7 eine
grafische Darstellung, die die Haftfähigkeit bei den Fällen
eines Separatorglieds (C), das gemäß dem in dem
Flussdiagramm in 1 gezeigten Verfahren erzeugt
wurde, eines Separatorglieds (A), das ohne Polierläppen
oder Wärmebehandlung erzeugt wurde, und eines Separatorglieds (B),
das ohne Wärmebehandlung erzeugt wurde, zeigt.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
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Als
Nächstes wird die Erfindung in folgender Reihenfolge beschrieben:
A. Exemplarische Ausführungsbeispiele, B. Testbeispiele,
C. Modifizierte Beispiele
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A. EXEMPLARISCHE AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
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1 ist
ein Flussdiagramm, das ein Herstellungsverfahren eines Separators
gemäß einem exemplarischen Ausführungsbeispiel
der Erfindung darstellt. Zuerst wird bei einem Schritt S10 ein Titanseparatorglied
vorbereitet. Dieses Separatorglied kann ein plattenartiges Glied
sein, das beispielsweise aus reinem Titan des Typs JIS 1 gebildet
ist. Nebenbei bemerkt kann an der Oberfläche des Titanseparatorglieds
eine Karbidschicht vorhanden sein, die TiC aufweist, das aus einer
Reaktion zwischen dem Titan und einem Kohlenstoffeinschluss einer
Walzlösung oder dergleichen, die zu der Zeit eines Pressformens
aufgebracht wurde, gebildet wurde.
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2 ist
eine grafische Darstellung, die die Verteilung des Atomprozents
von Kohlenstoffatomen in der Tiefenrichtung des Separatorglieds
zeigt. Die horizontale Achse der grafischen Darstellung stellt die
Position d in der Tiefenrichtung des Separatorglieds dar, und die
vertikale Achse der grafischen Darstellung stellt das Atomprozent
von Kohlenstoffatomen (Atom-%) dar. Die Zahlenwerte in der grafischen
Darstellung in 2 sind Werte, die durch Röntgenstrahl-Photoelektronenspektroskopie
oder XPS (engl.: X-ray Photoelectron Spectroscopy) erhalten wurden.
In dieser Patentschrift wird der Kohlenstoffgehalt durch das gemäß diesem
Verfahren gemessene Atomprozent von Kohlenstoffatomen bestimmt.
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In 2 zeigt
C1 die Verteilung des Atomprozents von Kohlenstoffatomen in der
Tiefenrichtung des Titanseparatorglieds, das bei dem Schritt S10
vorbereitet wurde, an. Wie aus 2 ersichtlich ist, überschreitet
bei dem Titanseparatorglied, das bei dem Schritt S10 vorbereitet
wurde, der maximale Wert des Atomprozents von Kohlenstoffatomen
in dem Bereich Rd0 von der Oberfläche (Tiefe 0) bis zu einer
Tiefe von 50 nm 30%, und der Durchschnittswert beträgt
nicht mehr als 5%.
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Bei
einem Schritt S20 wird das Karbid an der Oberflächenschicht
SL durch Polierläppen der Oberfläche des Separatorglieds
entfernt. Nebenbei bemerkt bezieht sich die Oberflächenschicht
eines Glieds auf einen Abschnitt des Glieds, der die Oberfläche
des Glieds umfasst. In diesem Fall wird die Oberfläche
des Separatorglieds poliergeläppt, bis eine annähernd
20 nm dicke Materialschicht entfernt worden ist.
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Die
Dicke der bei dem Schritt S20 entfernten Oberflächenschicht
kann gemäß der Verteilung des Atomprozents von
Kohlenstoffatomen in dem Separatorglied, das bei dem Schritt S10
vorbereitet wurde, bestimmt werden. In diesem Fall wird bei einem
Separatorglied, bei dem die Verteilung des Atomprozents von Kohlenstoffatomen
wie durch C1 in 2 gezeigt aussieht, eine annähernd
20 nm dicke Oberflächenschicht SL entfernt, so dass das
Atomprozent von Kohlenstoffatomen bis zu einer Tiefe von 50 nm von
der Oberfläche des Titanmetallabschnitts, nachdem die Oberflächenschicht
entfernt wurde, nicht mehr als 5% ist.
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In 2 zeigt
C2 die Verteilung des Atomprozents von Kohlenstoffatomen in der
Tiefenrichtung des Separatorglieds, nachdem der Schritt S20 durchgeführt
wurde, an. Wie aus 2 ersichtlich ist, liegt bei
dem Titanseparatorglied nach dem Schritt S20 das Atomprozent von
Kohlenstoffatomen in dem Bereich von der Oberfläche (Tiefe
0) bis zu einer Tiefe von 50 nm unter dem Durchschnittswert von
5%. Nebenbei bemerkt ist bei C2 in 2 der Prozentsatz
von Kohlenstoff nicht an der Oberfläche (Tiefe 0) am höchsten.
Vielmehr ist der Prozentsatz von Kohlenstoff in der Nähe
einer Tiefe von 2 bis 3 nm am höchsten. Man geht davon
aus, dass dies daran liegt, dass die Kohlenstoffmenge in der Nähe
der Oberfläche des Separatorglieds wegen Oberflächenunebenheiten
geringer als innerhalb des Glieds ist, wo 100% Metall vorhanden
sind.
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Dann
wird bei einem Schritt S30 in 1 die Oberfläche
des Separatorglieds durch Spratzen goldplattiert. Genauer gesagt,
in einer Argonatmosphäre mit 10–2 Torr
wird ein Spratzen mit Gold durchgeführt, so dass die Plattierungsschicht
annähernd 10 nm dick wird. Zu dieser Zeit wird H+ aus der geringen Menge von H2O
in der Umgebung in die Goldplattierungsschicht eingebracht.
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Bei
einem Schritt S40 in 1 wird das goldplattierte Separatorglied
während annähernd 30 Minuten bei einer Zieltemperatur
von 400°C wärmebehandelt, wobei die tatsächliche
Erwärmungstemperatur in einer Argonatmosphäre
mit 10–2 Torr 220°C bis 450°C
beträgt. Ein Durchführen dieser Art von Wärmebehandlung
entfernt Wasserstoff, der in der Nähe der Grenzfläche
der Goldplattierungsschicht und der Titanschicht vorhanden ist,
als Wasserstoffgas aus der Probe oder diffundiert denselben in die
Titanmetallschicht.
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3 ist
eine grafische Darstellung, die die Verteilung des Atomprozents
von Kohlenstoffatomen in der Tiefenrichtung des Separatorglieds,
nachdem eine Wärmebehandlung durchgeführt wurde,
zeigt. Die horizontale Achse der grafischen Darstellung stellt die
Position d in der Tiefenrichtung des Separatorglieds dar, und die
vertikale Achse der grafischen Darstellung stellt das Atomprozent
von Wasserstoffatomen (Atom-%) dar. Die Zahlenwerte in der grafischen
Darstellung in 3 sind Werte, die durch Messungen
gemäß der Rutherford-Rückstreuspektroskopie
oder RBS (engl.: Rutherford Backscattering Spectroscopy) erhalten
wurden. In dieser Patentschrift wird der Wasserstoffgehalt durch
das gemäß diesem Verfahren gemessene Atomprozent
von Wasserstoffatomen bestimmt. Nebenbei bemerkt tritt bei der Rutherford-Rückstreuspektroskopie
ein Fehler von mehreren nm in der Tiefenrichtung auf.
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Wie
aus der grafischen Darstellung in 3 ersichtlich
ist, ist das Atomprozent von Wasserstoffatomen in der Nähe
der Grenzfläche der Titanschicht G und der Goldplattierungsschicht
P in einer Tiefe von etwa 10 nm am höchsten. Als ein Resultat
der Wärmebehandlung bei dem Schritt S40 ist das Atomprozent
von Wasserstoffatomen jedoch in dem Bereich Rd von plus oder minus
10 nm von der Grenzfläche der Goldplattierungsschicht P
und der Titanschicht G höchstens 1%. Nebenbei bemerkt ist
in der grafischen Darstellung in 3 das Atomprozent
von Wasserstoffatomen in einer Tiefe von 3 nm auf der Seite der
Titanschicht G annähernd die Hälfte des Spitzenwerts.
Ferner geht man davon aus, dass der Grund dafür, dass der
Prozentsatz von Wasserstoff in der Nähe der Oberfläche
(Tiefe 0), also bei dem linken Ende in der grafischen Darstellung,
höher als in einer Tiefe von mehreren nm ist, darin liegt,
dass OH-basierter Wasserstoff, der an der goldplattierten Oberfläche
haftete, erfasst wurde.
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4 ist
eine Ansicht des gemäß dem in 1 gezeigten
Verfahren erzeugten Separatorglieds. Auf die im Vorhergehenden beschriebene
Art und Weise ist es möglich, ein Titanseparatorglied herzustellen,
bei dem das Atomprozent von Wasserstoffatomen in dem Bereich Rd
in der Nähe der Grenzfläche BS der Goldplattierungsschicht
P und der Titanschicht G als dem blanken Metallabschnitt nicht mehr
als 1% ist. Nebenbei bemerkt bezieht sich in dieser Patentschrift
die Phrase „in der Nähe der Grenzfläche"
bei dem Beschreiben des Atomprozents von Atomen eines Elements auf
einen Bereich zwischen der Position 10 nm über der Grenzfläche BS
und der Position 10 nm unter der Grenzfläche BS, also einen
Bereich, der die Plattierungsschicht P oder den blanken Metallabschnitt
G umfasst.
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Ferner
erhöht sich bei dem Prozess bei dem Schritt S30, bei dem
die Goldplattierungsschicht auf die Titanmetalloberfläche
aufgebracht wird, sowie bei dem Prozess danach, das Atomprozent
von Kohlenstoffatomen in dem Titanmetall nicht. Daher ist bei dem
Titanseparatorglied, das durch das Verfahren in 1 erhalten
wird, das Atomprozent von Kohlenstoffatomen in einer Tiefe von 50
nm in der Nähe der Grenzfläche BS (die der Titanmetalloberfläche
nach dem Schritt S20 und vor dem Schritt S30 entspricht) der Goldplattierungsschicht
P und der Titanschicht G im Durchschnitt nicht mehr als 5% (siehe
C2 in 2).
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B. TESTBEISPIEL
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B1. TESTBEISPIEL 1
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Eine
Mehrzahl von Separatorgliedern wurde bei dem Schritt S20 in 1 unter
einer Vielfalt von unterschiedlichen Polierläppbedingungen
erzeugt, so dass sich der Durchschnittswert des Atomprozents von
Kohlenstoffatomen in dem Bereich von der obersten Oberfläche
des Separatorglieds nach dem Polierläppen bis zu einer
Tiefe von 50 nm (auf diesen Bereich wird im Folgenden als der „Oberflächenabschnitt"
Bezug genommen) für jedes der Separatorglieder unterscheidet
und in einem Bereich von 1% bis 14% liegt. Nebenbei bemerkt sind
bei der Prozedur zum Erzeugen der Separatorglieder die Prozesse der
Schritte 20 und danach die gleichen. Die Mehrzahl der auf diese
Weise unter unterschiedlichen Bedingungen erzeugten Separatorglieder
wurde dann während 24 Stunden in eine Schwefelsäurelösung mit
80°C und einem pH-Wert von 2 getaucht, wonach dieselben
einem Abschältest unterworfen wurden. Der Test wurde gemäß dem
durch den JIS vorgeschriebenen Bandabschältest durchgeführt.
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5 ist
eine Ansicht, die die Resultate des Abschältests für
einen Separator zeigt, der erzeugt wurde, während die Bedingungen
des Polierläppens bei dem Schritt S20 geändert
wurden. In 5 zeigen die schwarzen Punkte
die Testresultate der unter unterschiedlichen Bedingungen erzeugten
Separatorglieder. Die horizontale Achse in der Mitte zeigt das Atomprozent
von Kohlenstoffatomen an. Die auf der Linie über der horizontalen
Achse gezeigten Punkte zeigen die Separatorglieder an, bei denen
ein Abschälen auftrat, während die Punkte auf
der Linie unter der horizontalen Achse die Separatorglieder anzeigen,
bei denen kein Abschälen auftrat. Wie aus 5 ersichtlich
ist, neigt, wenn das Titan des Typs JIS 1, das in dem im Vorhergehenden
beschriebenen exemplarischen Ausführungsbeispiel eingesetzt
wurde, als das Metall des blanken Metallabschnitts G verwendet wird
und eine Goldplattierung aufgebracht wird, die Goldplattierungsschicht
P dazu, sich abzuschälen, wenn der Durchschnittswert des
Atomprozents von Kohlenstoffatomen 5% überschreitet. Wenn
der Kohlenstoffgehalt weniger als 5% ist, schält sich die
Goldplattierungsschicht P nicht ohne weiteres ab.
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B2. TESTBEISPIEL 2
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Eine
Mehrzahl von Separatorgliedern wurde bei dem Schritt S40 in 1 unter
einer Vielfalt von unterschiedlichen Wärmebehandlungsbedingungen erzeugt,
so dass sich nach der Wärmebehandlung der maximale Wert
des Atomprozents von Wasserstoffatomen in der Nähe der
Grenzfläche des blanken Metallabschnitts und der Plattierungsschicht
für jedes der Separatorglieder unterscheidet und in einem Bereich
von 0,3% bis 2,3% liegt. Nebenbei bemerkt sind bei der Prozedur
zum Erzeugen der Separatorglieder die Prozesse der anderen Schritte
als des Schritts 40 die gleichen. Die Mehrzahl der auf diese Weise
unter unterschiedlichen Bedingungen erzeugten Separatorglieder wurde
dann während 24 Stunden in eine Schwefelsäurelösung
mit 80°C und einem pH-Wert von 2 getaucht, wonach dieselben
dem Abschältest unterworfen wurden. Der Test wurde gemäß dem
durch den JIS vorgeschriebenen Bandabschältest durchgeführt.
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6 ist
eine Ansicht, die die Resultate des Abschältests für
einen Separator zeigt, der erzeugt wurde, während die Bedingungen
der Wärmebehandlung bei dem Schritt S40 geändert
wurden. In 6 zeigt die horizontale Achse
in der Mitte das Atomprozent von Wasserstoffatomen an. Die andere Darstellungsweise
in 6 ist die gleiche wie in 5. Wie aus 6 ersichtlich
ist, neigt, wenn das Titan des Typs JIS 1, das in dem im Vorhergehenden beschriebenen
exemplarischen Ausführungsbeispiel eingesetzt wurde, als
das Metall des blanken Metallabschnitts G verwendet wird und eine
Goldplattierung aufgebracht wird, die Goldplattierungsschicht P dazu,
sich abzuschälen, wenn der maximale Wert des Atomprozents
von Wasserstoffatomen 1% überschreitet. Wenn der Wasserstoffgehalt
weniger als 1% ist, schält sich die Goldplattierungsschicht
P nicht ohne weiteres ab.
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B3. TESTBEISPIEL 3
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7 ist
eine grafische Darstellung, die die Haftfähigkeit bei den
Fällen eines Separatorglieds (C), das gemäß dem
in dem Flussdiagramm in 1 gezeigten Verfahren erzeugt
wurde, eines Separatorglieds (A), das ohne ein Polierläppen
bei dem Schritt S20 oder eine Wärmebehandlung bei dem Schritt S40
erzeugt wurde, und eines Separatorglieds (B), das ohne eine Wärmebehandlung
bei dem Schritt S40 erzeugt wurde, zeigt. Nebenbei bemerkt ist die Haftfähigkeit
ein aus dem Abschältest erhaltener Wert, der zu dem Kehrwert
des Verhältnisses der Fläche des Abschnitts, in
dem ein Abschälen auftrat, zu der Gesamtfläche,
auf die ein Band aufgebracht wurde, proportional ist.
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Wie
aus 7 ersichtlich ist, hat das Separatorglied (B),
das poliergeläppt, jedoch nicht wärmebehandelt
wurde, annähernd 1,3 mal die Haftfähigkeit des
Separatorglieds (A), das weder (bei dem Schritt S20 in 1)
poliergeläppt noch (bei dem Schritt S40 in 1)
wärmebehandelt wurde. Ferner hat das Separatorglied (C),
das sowohl poliergeläppt als auch wärmebehandelt
wurde, 1,4 mal die Haftfähigkeit des Separatorglieds (A),
das weder poliergeläppt noch wärmebehandelt wurde.
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B4. ANALYSE
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Man
geht davon aus, dass der Grund, aus dem die Edelmetallplattierung
dazu neigt, sich von dem Metallglied abzuschälen, folgender
ist. Das heißt, das Karbid, das in der Nähe der
Oberfläche des Metallglieds vorhanden war, bevor die Plattierung
aufgebracht wurde, reagiert bei der Grenzfläche der Plattierungsschicht
allmählich mit Sauerstoff, nachdem die Plattierung aufgebracht
wurde. Dann wird das Karbid zu einem Oxid verwandelt. Wenn das Karbid
(wie TiC) auf der Seite des Metallglieds bei der Grenzfläche
der Plattierungsschicht zu einem Oxid (wie TiO2)
verwandelt wird, ändert sich der Abstand des Kristallgitters.
Demgemäß ist die Plattierungsschicht nicht mehr
mit der Oxidschicht ausgerichtet, was die Haftfähigkeit
zwischen der Oxidschicht und der Plattierungsschicht reduziert.
Man geht davon aus, dass als ein Resultat dessen die Edelmetallplattierung
dazu neigt, sich von dem Metallglied abzuschälen.
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Das
Karbid in der Oberfläche des Metallglieds ist, bevor eine
Plattierung aufgebracht wird, in einer Tiefe, die von mehreren zehn
nm bis zu mehreren hundert nm reicht, in der Metalloberfläche
vorhanden. Bei dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel
wird die Wahrscheinlichkeit eines Abschälens der Plattierungsschicht,
nachdem die Edelmetallplattierung aufgebracht wurde, zuerst durch
Entfernen dieser Karbidschicht von der Edelmetallplattierung reduziert
(siehe Schritt S20 in 1 und 2). Wenn
der blanke Metallabschnitt beispielsweise Titan ist, ist das Ti,
das an der Oberfläche des blanken Metallabschnitts freiliegt,
nachdem das Karbid entfernt wurde, oxidationsbeständiger
als das TiC, also das Karbid.
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Nebenbei
bemerkt kann die im Vorhergehenden beschriebene Oxidreaktion durch
beispielsweise eine saure Flüssigkeit auftreten, die durch
einen Spalt in der Plattierungsschicht geht und die Grenzfläche
der Plattierungsschicht und des Metallglieds erreicht. Wenn die
Plattierungsschicht durch Spratzen aufgebracht wird, sammelt sich
das Plattierungsmaterial in Säulen in der Dickenrichtung
an und macht dieselbe anfälliger dafür, Spalte
zu bekommen, als eine Plattierung, die durch einen Nassprozess aufgebracht
wird. Daher ist eine Plattierung, die durch einen Nassprozess aufgebracht
wird, bei einigen Anwendungen geeigneter als dieselbe durch Spratzen.
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Andererseits
geht man davon aus, dass ein anderer Grund, aus dem die Edelmetallplattierung dazu
neigt, sich von dem Metallglied abzuschälen, folgender
ist. Das heißt, wenn eine Edelmetallplattierung unter einem
hohen Vakuum in einer Argonumgebung aufgebracht wird, werden Wasserstoffionen in
kleinen Mengen von vorhandenem H2O in die
Plattierungsschicht eingebracht. Diese Wasserstoffionen versammeln
sich dann durch eine Verteilung bei der Grenzfläche des
Metallglieds und der Edelmetallplattierungsschicht und bilden ein
Hydrid (beispielsweise Titanhydrid TiH oder TiH2,
wenn der blanke Metallabschnitt Titan ist). Goldhydrid ist äußerst
spröde, also ist der Hydridschichtabschnitt bruchanfällig.
Man geht davon aus, dass sich die Plattierungsschicht letzten Endes
abschält, da diese Hydridschicht bricht. Bei dem vorhergehenden
exemplarischen Ausführungsbeispiel verteilt die Wärmebehandlung, nachdem
die Plattierung aufgebracht wurde, den Wasserstoff, der in der Grenzfläche
BS der Plattierungsschicht P und des blanken Metallabschnitts G vorhanden
ist, überall in dem gesamten Metallglied. Man geht davon
aus, dass es deshalb weniger wahrscheinlich ist, dass sich die Plattierungsschicht
des Glieds des vorhergehenden Ausführungsbeispiels abschält.
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C. MODIFIZIERTE BEISPIELE
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Die
Erfindung ist nicht nur auf die im Vorhergehenden beschriebenen
exemplarischen Ausführungsbeispiele und Beispiele begrenzt.
Die Erfindung kann im Gegenteil modifiziert sein, ohne von dem Schutzbereich
derselben abzuweichen. Beispielsweise kann die Erfindung auch in
der Form eines Separators einer Brennstoffzelle, eines Herstellungsverfahrens
eines Separators einer Brennstoffzelle, einer Brennstoffzelle, die
einen Titanseparator aufweist, und eines Herstellungsverfahrens
dieser Brennstoffzelle und dergleichen realisiert sein. Ferner ist
beispielsweise auch folgender Modus möglich.
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C1. MODIFIZIERTES BEISPIEL 1
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel ist
der Separator aus Titan des Typs JIS 1 gebildet. Das Material des
plattierten Metallglieds ist jedoch nicht darauf begrenzt. Das heißt, das
Material des Glieds, das mit einem Edelmetall plattiert wird, kann
auch Titan des Typs JIS 2 oder JIS 3 sein. Ferner kann anders als
reines Titan, wie es durch den JIS vorgeschrieben ist, auch eine
Titanlegierung, die große Mengen anderer Metalle aufweist, verwendet
sein. Zusätzlich kann das Material des Glieds, das mit
einem Edelmetall plattiert wird, auch rostfreier Stahl sein. Dies
erlaubt ein Herstellen des Glieds mit einem niedrigeren Aufwand
als ein Titanglied.
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Das
heißt, das vorhergehende exemplarische Ausführungsbeispiel
ist auch wirksam, wenn der blanke Metallabschnitt des edelmetallplattierten Metallglieds
aus einem Metall gebildet ist, das in einer Atmosphäre
mit einer normalen Temperatur, die Sauerstoff aufweist, an der Oberfläche
einen Passivfilm bildet. Diese Art eines Metallglieds korrodiert über
eine längere Zeitdauer nicht und ist somit fähig, beispielsweise
als Teil einer Brennstoffzelle stabil zu funktionieren.
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Nebenbei
bemerkt kann in einem Modus, bei dem eine Edelmetallplattierung
auf ein Metallglied, das aus rostfreiem Stahl hergestellt ist, aufgebracht wird,
die Wärmebehandlung, die dem Schritt S40 in 1 entspricht,
auch weggelassen werden, da sich an rostfreiem Stahl nicht so ohne
weiteres wie an Titan ein Hydrid bildet.
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C2. MODIFIZIERTES BEISPIEL 2
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel besteht
die an dem Metallglied gebildete Plattierungsschicht aus Gold. Alternativ kann
die an dem Metallglied gebildete Plattierungsschicht jedoch auch
aus einem anderen Material, wie beispielsweise Platin oder Kupfer,
bestehen. Die Plattierungsschicht hat jedoch vorzugsweise eine größere
Leitfähigkeit als das Oxid des Materials des Metallglieds
und besteht ferner vorzugsweise aus einem Edelmetall.
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C3. MODIFIZIERTES BEISPIEL 3
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel ist
das bei dem Schritt S10 vorbereitete Titanseparatorglied ein Glied,
bei dem der Durchschnittswert des Atomprozents von Kohlenstoffatomen
in dem Bereich Rd0 von der Oberfläche (Tiefe 0) bis zu
einer Tiefe von 50 nm nicht mehr als 5% beträgt. Das Atomprozent
von Kohlenstoffatomen des bei dem Schritt S10 vorbereiteten Titanseparatorglieds
kann jedoch auch einen anderen Wert haben. Der Durchschnittswert
des Atomprozents von Kohlenstoffatomen innerhalb eines vorbestimmten Bereichs
von der Oberfläche des Separatorglieds kann beispielsweise
auf nicht mehr als 6% begrenzt sein. Der Durchschnittswert des Atomprozents
von Kohlenstoffatomen innerhalb eines vorbestimmten Bereichs von
der Oberfläche beträgt jedoch vorzugsweise 4%
bis 6%, stärker bevorzugt 4,5% bis 5,5% und am stärksten
bevorzugt 4,8% bis 5,2%.
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C4. MODIFIZIERTES BEISPIEL 4
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel wird
eine annähernd 20 nm dicke Oberflächenschicht
des Separatorglieds entfernt, bevor die Plattierung aufgebracht
wird. Die Dicke der Oberflächenschicht, die entfernt wird,
bevor die Plattierung aufgebracht wird, kann jedoch gemäß der Verteilung
des Atomprozents von Kohlenstoffatomen des Glieds variieren. Das
heißt, es kann ein Prozess durchgeführt werden,
bei dem ein Abschnitt, der einen höheren Kohlenstoffgehalt
als der Oberflächenabschnitt des blanken Metallabschnitts
nach dem Entfernungsprozess hat, als die Oberflächenschicht entfernt
wird, bevor die Plattierung aufgebracht wird. Mit anderen Worten,
der Prozess zum Entfernen der Oberflächenschicht kann ein
Prozess sein, der einen Abschnitt, der die Oberfläche des
Glieds umfasst, entfernt, derart, dass der Kohlenstoffgehalt des
Oberflächenabschnitts, der zu plattieren ist, reduziert
wird.
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Nebenbei
bemerkt bezieht sich der Ausdruck „Oberflächenabschnitt"
des blanken Metallabschnitts auf einen Bereich von der Oberfläche
des blanken Metallabschnitts bis zu einer Tiefe von 50 nm. Ferner wird
der Kohlenstoffgehalt des Oberflächenabschnitts des blanken
Metallabschnitts durch den Durchschnittswert des Atomprozents von
Kohlenstoffatomen in dem Oberflächenabschnitt des blanken
Metallabschnitts bestimmt.
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Bei
dem Prozess zum Entfernen der Oberflächenschicht kann ferner
ein anderes Polierverfahren als Polierläppen verwendet
werden, und ferner kann ein anderes Bearbeiten, wie Schleifen, durchgeführt werden.
Ferner kann die Oberflächenschicht durch Kugelstrahlen
oder Laser entfernt werden.
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel ist
ferner das Atomprozent von Kohlenstoffatomen in dem blanken Metallabschnitt, nachdem
die Oberflächenschicht entfernt wurde, weniger als 5% (siehe
C2 in 2). Das Atomprozent von Kohlenstoffatomen in dem
blanken Metallabschnitt, nachdem die Oberflächenschicht
entfernt wurde, kann jedoch abhängig von dem Aufbau des blanken
Metallabschnitts, dem zum Plattieren verwendeten Edelmetall und
dem Plattierungsverfahren und dergleichen einen von einer Vielfalt
von Werten haben. Das Atomprozent von Kohlenstoffatomen in dem Oberflächenabschnitt
des blanken Metallabschnitts, nachdem die Oberflächenschicht
entfernt wurde, ist jedoch vorzusgweise nicht mehr als 30%, stärker
bevorzugt nicht mehr als 10% und am stärksten bevorzugt
nicht mehr als 5%.
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C5. MODIFIZIERTES BEISPIEL 5
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel wird
bei dem Schritt S30 direkt nach dem Polierläppen bei dem
Schritt S20 in 1 ein Spratzen durchgeführt.
Es kann jedoch auch ein Argonspratzen durchgeführt werden,
um nach dem Polierläppen, und bevor die Plattierung aufgebracht wird,
das Oxid (wie TiO2, wenn der blanke Metallabschnitt aus Titan gebildet
ist), das sich an der Oberfläche des Metallglieds gebildet
hat, zu entfernen. Demgemäß kann, selbst wenn
sich, bevor die Plattierung aufgebracht wird, an der Oberfläche
des Metallglieds ein Oxid bildet, dieses Oxid entfernt werden. Als
ein Resultat kann die Bindung zwischen der Plattierungsschicht und
dem Metallmaterial noch stärker gemacht werden.
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C6. MODIFIZIERTES BEISPIEL 6
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel wird,
wenn die Goldplattierung auf die Oberfläche des Separatorglieds
aufgebracht wird, dieselbe in einer Argonatmosphäre mit
10–2 Torr aufgespratzt. Es können
jedoch, wenn eine Edelmetallplattierung auf die Oberfläche
des Metallglieds aufgebracht wird, verschiedene Temperaturen, Drücke,
einschließlich eines atmosphärischen Drucks, und
Aufbringungszeiten verwendet werden. Der Prozess kann ferner in
einer Atmosphäre eines anderen Inertgases, wie in einer
Heliumatmosphäre, durchgeführt werden. Das heißt,
die Wärmebehandlung kann in einer inerten Atmosphäre
durchgeführt werden. Der Ausdruck „inerte Atmosphäre"
bezieht sich hier auf eine Atmosphäre, in der sich, selbst
wenn die Wärmebehandlung durchgeführt wird, an
dem blanken Metallabschnitt kein Metalloxid bildet.
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C7. MODIFIZIERTES BEISPIEL 7
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel wird
bei einem Wärmebehandeln des Separatorglieds die Behandlung
bei einer Zieltemperatur von 400°C während 30
Minuten in einer Argonatmosphäre mit 10–2 Torr
durchgeführt. Bei dem Wärmebehandeln des Metallglieds
können jedoch verschiedene Temperaturen, Drücke
und Wärmebehandlungszeiten verwendet werden. Ferner kann
die Behandlung in einer Atmosphäre eines anderen Inertgases,
wie in einer Heliumatmosphäre, durchgeführt werden.
Die Erwärmungstemperatur liegt jedoch vorzugsweise zwischen
einschließlich 200°C und einschließlich
500°C, stärker bevorzugt zwischen einschließlich
350°C und einschließlich 450°C und am
stärksten bevorzugt zwischen einschließlich 380°C
und einschließlich 420°C.
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C8. MODIFIZIERTES BEISPIEL 8
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Bei
dem vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiel beträgt
der Wasserstoffgehalt bei der Grenzfläche der Plattierungsschicht
und des blanken Metallabschnitts nicht mehr als 1%. Der Wasserstoffgehalt
bei der Grenzfläche der Plattierungsschicht und des blanken
Metallabschnitts kann jedoch abhängig von dem Aufbau des
blanken Metallabschnitts, dem zum Plattieren verwendeten Edelmetall
und dem Plattierungsverfahren und dergleichen einen anderen Wert
haben. Der Wasserstoffgehalt in der Nähe der Grenzfläche
der Plattierungsschicht und des blanken Metallabschnitts beträgt
jedoch vorzugsweise nicht mehr als 1%, stärker bevorzugt
nicht mehr als 0,7% und am stärksten bevorzugt nicht mehr
als 0,5%.
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C9. MODIFIZIERTES BEISPIEL 9
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Eine
Brennstoffzelle kann ebenfalls unter Verwendung von Separatoren
hergestellt werden, die gemäß dem Verfahren des
vorhergehenden exemplarischen Ausführungsbeispiels hergestellt
wurden. Diese Brennstoffzelle weist die Separatoren und Membran-Elektroden-Anordnungen
(MEA) auf, die durch eine elektrochemische Reaktion mit einem Reaktionsgas
Elektrizität erzeugen. Jede MEA weist eine Elektrolytmembran
und Elektroden, die auf beiden Seiten der Elektrolytmembran vorgesehen
sind, auf. Die Separatoren sind dann auf den der Elektrolytmembran
entgegengesetzten Seiten der Elektroden vorgesehen, derart, dass
eine MEA durch einen Separator von einer anderen getrennt ist, wobei
die Separatoren die Elektroden über die Abschnitte, die goldplattiert
wurden, kontaktieren.
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Bei
dieser Art einer Brennstoffzelle sind die Separatoren aus einem
Metall gebildet, das an der Oberfläche einen Passivfilm
bildet. Als ein Resultat korrodieren die Separatoren nicht und sind
somit fähig, während einer längeren Zeitdauer
stabil zu funktionieren. Ferner kontaktieren die Separatoren die Elektroden über
die Abschnitte, die mit einem Edelmetall plattiert wurden, so dass
der Kontaktwiderstand zwischen den Separatoren und den Elektroden gering
ist. Demgemäß ist die Leistungserzeugungseffizienz
höher, als wenn die Kontaktabschnitte zwischen den Separatoren
und den Elektroden nicht mit einem Edelmetall plattiert sind. Ferner
bildet sich mit den Abschnitten, die mit dem Edelmetall plattiert
wurden, bei der Grenzfläche zwischen der Edelmetallschicht
und der blanken Metallschicht des Separators nicht ohne weiteres
ein Oxid, und als ein Resultat schält sich die Edelmetallplattierung
nicht ohne weiteres ab.
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Zusammenfassung
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Metallglied mit Edelmetallplattierung
und Herstellungsverfahren desselben
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Es
wird ein Metallglied hergestellt, das an der Oberfläche
eines blanken Metallabschnitts, der aus einem vorbestimmten Metall
gebildet ist, eine Plattierungsschicht aus einem Edelmetall hat.
Zuerst wird eine Oberflächenschicht des blanken Metallabschnitts
entfernt. Dann wird auf den Abschnitt, an dem die Oberflächenschicht
des blanken Metallabschnitts entfernt wurde, eine Plattierung aus
einem Edelmetall aufgebracht. Dann wird das Metallglied in einer
inerten Atmosphäre wärmebehandelt. Als ein Resultat
kann ein Metallglied hergestellt werden, das in der Nähe
einer Grenzfläche der Plattierungsschicht und des blanken
Metallabschnitts weniger Karbid und Wasserstoff hat, als wenn der
Entfernungsschritt und der Wärmebehandlungsschritt nicht durchgeführt
würden. Bei einem Metallglied, das auf diese Weise hergestellt
wird, schält sich die Plattierungsschicht nicht ohne weiteres
ab.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - JP 2001-6713
A [0002]
- - JP 2000-164228 A [0003]
- - JP 2000-323151 A [0003]
- - JP 2002-134136 A [0003]