DE10313593B8 - Verfahren zum Betrachten einer Probe mittels eines Transmissionselektronenmikroskops und entsprechendes Transmissionselektronenmikroskop - Google Patents

Verfahren zum Betrachten einer Probe mittels eines Transmissionselektronenmikroskops und entsprechendes Transmissionselektronenmikroskop Download PDF

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4262184B2 (ja) * 2004-10-12 2009-05-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 透過型電子顕微鏡およびそれを用いた像観察方法
US20070236489A1 (en) * 2006-01-30 2007-10-11 Jung Edward K Positional display elements
JP2007212288A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Toshiba Corp パターン検査方法、パターン検査装置およびプログラム
US8155391B1 (en) 2006-05-02 2012-04-10 Geoeye Solutions, Inc. Semi-automatic extraction of linear features from image data
US9600740B2 (en) * 2006-05-02 2017-03-21 Digitalglobe, Inc. System and methods for semi-automated editing of ortho-mosaics built from remotely-sensed imagery
JP4957152B2 (ja) * 2006-09-28 2012-06-20 富士通株式会社 測長方法
JP4538472B2 (ja) * 2007-03-15 2010-09-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 画像形成方法、及び電子顕微鏡
JP4825734B2 (ja) 2007-06-15 2011-11-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 異種計測装置間のキャリブレーション方法及びそのシステム
JP5978075B2 (ja) * 2012-09-05 2016-08-24 日本電子株式会社 試料観察方法および電子顕微鏡
JP7059402B2 (ja) * 2019-01-11 2022-04-25 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置及びその制御方法
DE102020108514A1 (de) * 2019-03-28 2020-10-01 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Bestimmen eines Bildaufnahmefehlers
CN111766694A (zh) * 2020-07-20 2020-10-13 深圳市创能亿科科技开发有限公司 显微镜切片位置的采集方法和系统

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61239553A (ja) * 1985-04-15 1986-10-24 Hitachi Ltd 荷電粒子を用いた顕微鏡の試料位置調整装置
US5144129A (en) * 1989-12-25 1992-09-01 Hitachi, Ltd. Electron microscope
US5300776A (en) * 1992-09-16 1994-04-05 Gatan, Inc. Autoadjusting electron microscope
DE19911944A1 (de) * 1998-03-18 1999-09-23 Hitachi Ltd Vorrichtung zur Bestrahlung mit geladenen Teilchenstrahlen und Bestrahlungsverfahren hierfür
JP2000030652A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Hitachi Ltd 試料の観察方法およびその装置
JP2000323081A (ja) * 1999-05-11 2000-11-24 Hitachi Ltd 電子顕微鏡
JP2000331637A (ja) * 1999-05-19 2000-11-30 Hitachi Ltd 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置
JP2001118535A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Hitachi Ltd 透過型電子顕微鏡
US6225628B1 (en) * 1996-12-10 2001-05-01 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US20020027199A1 (en) * 2000-07-13 2002-03-07 Hiromi Inada Method and device for observing a specimen in a field of view of an electron microscope
US20020033451A1 (en) * 1997-10-30 2002-03-21 Isao Nagaoki Electron microscope

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0654639B2 (ja) * 1987-02-06 1994-07-20 株式会社日立製作所 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置
JPH02152154A (ja) * 1988-12-02 1990-06-12 Jeol Ltd 透過型電子顕微鏡
EP0840940B1 (de) * 1995-07-25 2000-06-14 Nmi Naturwissenschaftliches Und Medizinisches Intitut An Der Universität Tübingen In Reutlingen Verfahren und vorrichtung zur ionendünnung in einem hochauflösenden transmissionselektronenmikroskop
US6573502B2 (en) * 2001-03-12 2003-06-03 Jeol Ltd. Combined electron microscope
US6617580B2 (en) * 2001-12-27 2003-09-09 Ut-Battelle, L.L.C. Electron holography microscope

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61239553A (ja) * 1985-04-15 1986-10-24 Hitachi Ltd 荷電粒子を用いた顕微鏡の試料位置調整装置
US5144129A (en) * 1989-12-25 1992-09-01 Hitachi, Ltd. Electron microscope
US5300776A (en) * 1992-09-16 1994-04-05 Gatan, Inc. Autoadjusting electron microscope
US6225628B1 (en) * 1996-12-10 2001-05-01 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US20020033451A1 (en) * 1997-10-30 2002-03-21 Isao Nagaoki Electron microscope
DE19911944A1 (de) * 1998-03-18 1999-09-23 Hitachi Ltd Vorrichtung zur Bestrahlung mit geladenen Teilchenstrahlen und Bestrahlungsverfahren hierfür
JP2000030652A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Hitachi Ltd 試料の観察方法およびその装置
JP2000323081A (ja) * 1999-05-11 2000-11-24 Hitachi Ltd 電子顕微鏡
JP2000331637A (ja) * 1999-05-19 2000-11-30 Hitachi Ltd 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置
JP2001118535A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Hitachi Ltd 透過型電子顕微鏡
US20020027199A1 (en) * 2000-07-13 2002-03-07 Hiromi Inada Method and device for observing a specimen in a field of view of an electron microscope

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