JPH02152154A - 透過型電子顕微鏡 - Google Patents
透過型電子顕微鏡Info
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- JPH02152154A JPH02152154A JP63305812A JP30581288A JPH02152154A JP H02152154 A JPH02152154 A JP H02152154A JP 63305812 A JP63305812 A JP 63305812A JP 30581288 A JP30581288 A JP 30581288A JP H02152154 A JPH02152154 A JP H02152154A
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- Japan
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- rotation angle
- diffraction pattern
- electron microscope
- lens
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Links
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- 238000001000 micrograph Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000015654 memory Effects 0.000 abstract description 14
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 abstract description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 241000254158 Lampyridae Species 0.000 description 1
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- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、透過型電子顕微鏡に関し、特に、レンズ系の
レンズ電流を制御して試料像の像回転が行えるように構
成された透過電子顕微鏡に関する。
レンズ電流を制御して試料像の像回転が行えるように構
成された透過電子顕微鏡に関する。
［従来の技術］
一般に透過型電子顕微鏡による試料観察においては、蛍
光板上に試料像や試料の回折パターンを投影して観察し
たり、該試料像や回折パターンを像記録媒体、例えば写
真等に記録した後に像観察・像分析等が行なわれている
。近年では電子顕微鏡像の観察時に最も観察し易い電子
顕微鏡像が蛍光板上や写真フィルム上に投影されるよう
に、しンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回
転を自在に行えるように構成された電子顕微鏡が知られ
ている。
光板上に試料像や試料の回折パターンを投影して観察し
たり、該試料像や回折パターンを像記録媒体、例えば写
真等に記録した後に像観察・像分析等が行なわれている
。近年では電子顕微鏡像の観察時に最も観察し易い電子
顕微鏡像が蛍光板上や写真フィルム上に投影されるよう
に、しンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回
転を自在に行えるように構成された電子顕微鏡が知られ
ている。
［発明が解決しようとする課題］
さて、上述のような電子顕微鏡においては、蛍光板上に
投影される試料像の注目する部位が観察者に対して最も
観察し易い状態となるように回転され、該状態で試料像
の写真撮影等が行なわれる。
投影される試料像の注目する部位が観察者に対して最も
観察し易い状態となるように回転され、該状態で試料像
の写真撮影等が行なわれる。
その後、該試料の注目する部位の回折パターンを蛍光板
に投影すると共に、該回折パターンの撮影等が行なわれ
る。この回折パターン投影時のレンズ系の使用状態は前
記試料像投影時のレンズ系の使用状態と異なるため、投
影される回折パターンは前記試料像の回転には無関係な
状態で投影されている。そのため、前記撮影された試料
像の写真と前記撮影された回折パターンの写真を照合し
ながら試料の結晶方位等の観察や分析を行なう場合には
、結晶方位が既知の試料を用い、試料像と回折パターン
の回転角のずれを予め実測した上で観察方向を一致させ
るようにしている。しかし、このような作業は非常に面
倒である上に不正確さが伴うことが問題とされている。
に投影すると共に、該回折パターンの撮影等が行なわれ
る。この回折パターン投影時のレンズ系の使用状態は前
記試料像投影時のレンズ系の使用状態と異なるため、投
影される回折パターンは前記試料像の回転には無関係な
状態で投影されている。そのため、前記撮影された試料
像の写真と前記撮影された回折パターンの写真を照合し
ながら試料の結晶方位等の観察や分析を行なう場合には
、結晶方位が既知の試料を用い、試料像と回折パターン
の回転角のずれを予め実測した上で観察方向を一致させ
るようにしている。しかし、このような作業は非常に面
倒である上に不正確さが伴うことが問題とされている。
本発明は上記問題点を考慮し、回折パターン投影モード
におけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される
回折パターンの回転角を試料像の回転角に一致させたり
、試料像の回転角と回折パターンの回転角のずれを表示
することのできる透過型電子顕微鏡を提供することを目
的としている。
におけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される
回折パターンの回転角を試料像の回転角に一致させたり
、試料像の回転角と回折パターンの回転角のずれを表示
することのできる透過型電子顕微鏡を提供することを目
的としている。
［課題を解決するための手段］
第１の本発明は、試料像を投影するための電子顕微鏡像
モードと該試料の回折パターンを投影するための回折パ
ターン投影モードを有し、前記電子顕微鏡像モードでは
レンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回転が
行えるように構成された透過電子顕微鏡において、前記
試料像の回転角を表す情報に基づいて回折パターン投影
モードにおけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影
される回折パターンの回転角を前記試料像の回転角に略
一致させるための手段を備えることを特徴とする。
モードと該試料の回折パターンを投影するための回折パ
ターン投影モードを有し、前記電子顕微鏡像モードでは
レンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回転が
行えるように構成された透過電子顕微鏡において、前記
試料像の回転角を表す情報に基づいて回折パターン投影
モードにおけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影
される回折パターンの回転角を前記試料像の回転角に略
一致させるための手段を備えることを特徴とする。
第２の本発明は、試料像を投影するための電子顕微鏡像
モードと該試料の回折パターンを投影するための回折パ
ターン投影モードを有し、前記電子顕微鏡像モードでは
レンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回転が
行えるように構成された透過電子顕微鏡において、前記
試料像の回転角を表す情報に基づいて回折パターン投影
モードにおけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影
される回折パターンの回転角を前記試料像の回転角に近
付けるための手段と、該試料像の回転角と回折パターン
の回転角のずれを表示するための手段を備えることを特
徴とする。
モードと該試料の回折パターンを投影するための回折パ
ターン投影モードを有し、前記電子顕微鏡像モードでは
レンズ系のレンズ電流を制御して前記試料像の像回転が
行えるように構成された透過電子顕微鏡において、前記
試料像の回転角を表す情報に基づいて回折パターン投影
モードにおけるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影
される回折パターンの回転角を前記試料像の回転角に近
付けるための手段と、該試料像の回転角と回折パターン
の回転角のずれを表示するための手段を備えることを特
徴とする。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
２図及び第３図は第１図に示すメモリに記憶されている
テーブルを説明するための図である。第１図において１
は試料、２は対物レンズ、３，４は中間レンズ、５は投
影レンズ、６は蛍光板、７は撮像部、８は中央制御装置
（以下、ＣＰＵと称する。）、９はレンズ制御部、１０
゜１１はメモリ、１２は表示部、１３は入力部であり、
像倍率の設定や像の回の転角の設定、電子顕微鏡像モー
ドと回折パターン投影モードの選択切換等を行なうため
に使用されている。また、第１図において電子顕微鏡像
モード時の光線図を実線で示すと共に、回折パターン投
影モード時の光線図を破線で示す。
図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
２図及び第３図は第１図に示すメモリに記憶されている
テーブルを説明するための図である。第１図において１
は試料、２は対物レンズ、３，４は中間レンズ、５は投
影レンズ、６は蛍光板、７は撮像部、８は中央制御装置
（以下、ＣＰＵと称する。）、９はレンズ制御部、１０
゜１１はメモリ、１２は表示部、１３は入力部であり、
像倍率の設定や像の回の転角の設定、電子顕微鏡像モー
ドと回折パターン投影モードの選択切換等を行なうため
に使用されている。また、第１図において電子顕微鏡像
モード時の光線図を実線で示すと共に、回折パターン投
影モード時の光線図を破線で示す。
電子顕微鏡において、対物レンズによって形成される電
子顕微鏡像と回折パターンは同じレンズ磁界を利用して
形成されており、相互の回転角にずれが生じることはな
い。そのため、該像と回折パターンのどちらを蛍光板上
に投影するかは中間及び投影系レンズの励磁の設定のみ
によって決定される。また、その時の像回転はレンズ系
の総励磁量（総アンペアターン（ＡＴ） ）によって決
定される。そこで、回折パターン投影時にも前記像回転
時のレンズ系の総ＡＴと等しい励磁電流をレンズ系に供
給することにより、前記像の回転と回折ハターンの回転
を一致させることができる。
子顕微鏡像と回折パターンは同じレンズ磁界を利用して
形成されており、相互の回転角にずれが生じることはな
い。そのため、該像と回折パターンのどちらを蛍光板上
に投影するかは中間及び投影系レンズの励磁の設定のみ
によって決定される。また、その時の像回転はレンズ系
の総励磁量（総アンペアターン（ＡＴ） ）によって決
定される。そこで、回折パターン投影時にも前記像回転
時のレンズ系の総ＡＴと等しい励磁電流をレンズ系に供
給することにより、前記像の回転と回折ハターンの回転
を一致させることができる。
そこで、前記メモリ１０及びメモリ１１には、電子顕微
鏡像の投影時の投影レンズ系の励磁電流の総ＡＴと回折
パターンの投影時の投影レンズ系の励磁電流の総ＡＴを
一致させるような投影レンズ系の励磁電流の組合せを計
算または実験により求めた励磁電流値のデータがテーブ
ルとして記憶されている。ここで、第１図のメモリ１０
に記憶されているテーブルは、第２図に示すような電子
顕微鏡像モード時の像倍率Ｍ１〜Ｍ ｎを実現するため
に必要な各レンズの励磁電流値の組合せデータＡ１〜Ａ
ｎを記憶したもので、該テーブルは電子顕微鏡像の回転
角度Ｒのステップ数に応じて複数設けられている。一方
、第１図に示すメモリ１１に記憶されているテーブルは
、第３図に示すように回折パターン投影モード時に拡大
率Ｌ１〜Ｌｎ （カメラ長）を実現するために必要な各
レンズの励磁電流値の組合せデータＡｄｌ〜Ａｄｎを記
憶したもので、該テーブルも前記メモリ１０の像の回転
角度のステップ数に応じて複数設けられている。
鏡像の投影時の投影レンズ系の励磁電流の総ＡＴと回折
パターンの投影時の投影レンズ系の励磁電流の総ＡＴを
一致させるような投影レンズ系の励磁電流の組合せを計
算または実験により求めた励磁電流値のデータがテーブ
ルとして記憶されている。ここで、第１図のメモリ１０
に記憶されているテーブルは、第２図に示すような電子
顕微鏡像モード時の像倍率Ｍ１〜Ｍ ｎを実現するため
に必要な各レンズの励磁電流値の組合せデータＡ１〜Ａ
ｎを記憶したもので、該テーブルは電子顕微鏡像の回転
角度Ｒのステップ数に応じて複数設けられている。一方
、第１図に示すメモリ１１に記憶されているテーブルは
、第３図に示すように回折パターン投影モード時に拡大
率Ｌ１〜Ｌｎ （カメラ長）を実現するために必要な各
レンズの励磁電流値の組合せデータＡｄｌ〜Ａｄｎを記
憶したもので、該テーブルも前記メモリ１０の像の回転
角度のステップ数に応じて複数設けられている。
さて、蛍光板上で電子顕微鏡像を観察する場合は、まず
、入力部１３により電子顕微鏡像モードが選択設定され
る。そして、該入力部１３に観測倍率が設定される。例
えば、入力部１３に偉観７１Ｉ１１倍率Ｍ２が入力され
ると、ＣＰＵ８はメモリ１０に記憶されているテーブル
から像回転ＲＯ（像回転の生じない状態）で偉観７Ｉｌ
ｌＪ倍率Ｍ２の場合の中間レンズ、投影レンズ等の投影
系レンズの励磁電流値のデータＡ２を読出し、該データ
をレンズ制御部９に供給する。そして、該レンズ制御部
９は前記データＡ２に基づいて各レンズに前記指定され
た倍率に対応した励磁電流を供給する。
、入力部１３により電子顕微鏡像モードが選択設定され
る。そして、該入力部１３に観測倍率が設定される。例
えば、入力部１３に偉観７１Ｉ１１倍率Ｍ２が入力され
ると、ＣＰＵ８はメモリ１０に記憶されているテーブル
から像回転ＲＯ（像回転の生じない状態）で偉観７Ｉｌ
ｌＪ倍率Ｍ２の場合の中間レンズ、投影レンズ等の投影
系レンズの励磁電流値のデータＡ２を読出し、該データ
をレンズ制御部９に供給する。そして、該レンズ制御部
９は前記データＡ２に基づいて各レンズに前記指定され
た倍率に対応した励磁電流を供給する。
ここで、蛍光板に投影された電子顕微鏡像を倍率を変え
ずに所望の角度だけ回転させるために入力部１３により
回転角度が入力される。該入力部１３より例えば、１５
度の像回転角度が入力されると、ＣＰＵ８はメモリ１０
に記憶されて゛いるテーブル内の回転角１５度に対応し
たＲ１５のテーブルを参照し、該テーブル内で前記指定
された倍率Ｍ２に対応した各レンズの励磁電流値の組合
せデータＢ２を求め、該データをレンズ制御部９に供給
する。そして、レンズ制御部９は該データＢ２に基づい
て各レンズに指定された励磁電流を供給し、前記倍率Ｍ
２で、且つ１５度像回転された電子顕微鏡像を蛍、先板
上に投影する。なお、この時の像の回転角及び像倍率の
データは表示部１２に供給され、該表示部おいて数値あ
るいは図形等で像回転角や像倍率が表示される。
ずに所望の角度だけ回転させるために入力部１３により
回転角度が入力される。該入力部１３より例えば、１５
度の像回転角度が入力されると、ＣＰＵ８はメモリ１０
に記憶されて゛いるテーブル内の回転角１５度に対応し
たＲ１５のテーブルを参照し、該テーブル内で前記指定
された倍率Ｍ２に対応した各レンズの励磁電流値の組合
せデータＢ２を求め、該データをレンズ制御部９に供給
する。そして、レンズ制御部９は該データＢ２に基づい
て各レンズに指定された励磁電流を供給し、前記倍率Ｍ
２で、且つ１５度像回転された電子顕微鏡像を蛍、先板
上に投影する。なお、この時の像の回転角及び像倍率の
データは表示部１２に供給され、該表示部おいて数値あ
るいは図形等で像回転角や像倍率が表示される。
次に、該蛍光板上で前記電子顕微鏡像の回折パターンを
観察する場合、入力部１３により回折パターン投影モー
ドが選択設定される。該回折パターン投影モードが設定
されると、ＣＰＵ８は前記表示部に表示されている７に
子顕微鏡像の回転角Ｒ１５及び倍率Ｍ２の情報に基づい
て、メモリ１１に記憶されているテーブル内の回転角Ｒ
１５のテーブルを参照し、試料を透過した電子線の回折
パターンが前記指定された倍率Ｍ２に対応した拡大率Ｌ
２で蛍光板上に投影されるような中間レンズ、投影レン
ズ等の投影系レンズの各レンズの励磁電流値の組合せデ
ータＢｄ２を求め、該データをレンズ制御部９に供給す
る。そして、該レンズ制御部９は前記データに基づいて
、各レンズに指定された励磁電流を供給し前記指定され
た拡大率Ｌ２を有し、前記電子顕微鏡像の像回転に略一
致した１５度像回転された回折パターンを蛍光板上に投
影する。この時の像及び回折パターンの回転角及び像倍
率のデータは表示部１２に供給され、該表示部おいて数
値あるいは図形等で像回転の角度や像倍率が表示される
。
観察する場合、入力部１３により回折パターン投影モー
ドが選択設定される。該回折パターン投影モードが設定
されると、ＣＰＵ８は前記表示部に表示されている７に
子顕微鏡像の回転角Ｒ１５及び倍率Ｍ２の情報に基づい
て、メモリ１１に記憶されているテーブル内の回転角Ｒ
１５のテーブルを参照し、試料を透過した電子線の回折
パターンが前記指定された倍率Ｍ２に対応した拡大率Ｌ
２で蛍光板上に投影されるような中間レンズ、投影レン
ズ等の投影系レンズの各レンズの励磁電流値の組合せデ
ータＢｄ２を求め、該データをレンズ制御部９に供給す
る。そして、該レンズ制御部９は前記データに基づいて
、各レンズに指定された励磁電流を供給し前記指定され
た拡大率Ｌ２を有し、前記電子顕微鏡像の像回転に略一
致した１５度像回転された回折パターンを蛍光板上に投
影する。この時の像及び回折パターンの回転角及び像倍
率のデータは表示部１２に供給され、該表示部おいて数
値あるいは図形等で像回転の角度や像倍率が表示される
。
ところで、前記メモリ１０及びメモリ１１には、像の回
転と回折パターンの回転を一致させるために投影レンズ
系の励磁電流の組合せを種々変化させて、計算または実
験により求めた励磁電流値のデータが記憶されている。
転と回折パターンの回転を一致させるために投影レンズ
系の励磁電流の組合せを種々変化させて、計算または実
験により求めた励磁電流値のデータが記憶されている。
しかし、レンズの構造上の問題から、励磁電流の組合せ
を変えても回折パターンの回転を電子顕微鏡像に一致さ
せることができない領域、即ち、像の投影時の投影レン
ズ系の総ＡＴと回折パターン投影時の投影レンズ系の総
ＡＴを一致させた状態で正しく結像できない部分が存在
する。そのため、該領域では投影される回折パターンの
回転角が試料像の回転角に最も近くなるような、投影レ
ンズ系の励磁電流の組合せを求め、該データがメモリ１
１のテーブル内に記憶されている。
を変えても回折パターンの回転を電子顕微鏡像に一致さ
せることができない領域、即ち、像の投影時の投影レン
ズ系の総ＡＴと回折パターン投影時の投影レンズ系の総
ＡＴを一致させた状態で正しく結像できない部分が存在
する。そのため、該領域では投影される回折パターンの
回転角が試料像の回転角に最も近くなるような、投影レ
ンズ系の励磁電流の組合せを求め、該データがメモリ１
１のテーブル内に記憶されている。
そこで、このような回折パターンと電子顕微鏡像を完全
に一致させられない部分では、像及び回折パターンの回
転角及び像倍率のデータが表示部１２に供給され、該表
示部において数値あるいは図形等で像回転角や電子顕微
鏡像と回折パターンの回転角のずれ量、像倍率等が表示
されると共に、該データが撮像部にも供給されて、写真
フィルム上にこれらのデータや図形が焼き込まれる。従
って、前記像と前記回折パターンを夫々撮影した場合で
も、前記表示手段によって表示される情報に基づいて２
つの写真の観察方向を容易に一致させることができる。
に一致させられない部分では、像及び回折パターンの回
転角及び像倍率のデータが表示部１２に供給され、該表
示部において数値あるいは図形等で像回転角や電子顕微
鏡像と回折パターンの回転角のずれ量、像倍率等が表示
されると共に、該データが撮像部にも供給されて、写真
フィルム上にこれらのデータや図形が焼き込まれる。従
って、前記像と前記回折パターンを夫々撮影した場合で
も、前記表示手段によって表示される情報に基づいて２
つの写真の観察方向を容易に一致させることができる。
なお、上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎず、本
発明は種々変形して実施することが可能である。例えば
、上述した実施例においては、試料像の回転角を表す情
報を予めメモリ内に記憶させたが、該情報は投影レンズ
系の励磁電流の総アンペアターンを計７１Ｐ１シ、該計
測値に等しくなるように回折パターン投影モード時にお
けるレンズ系のレンズ電流を制御して、投影される回折
パターンの回転角を前記試料像の回転角に一致させるよ
うにしても良い。
発明は種々変形して実施することが可能である。例えば
、上述した実施例においては、試料像の回転角を表す情
報を予めメモリ内に記憶させたが、該情報は投影レンズ
系の励磁電流の総アンペアターンを計７１Ｐ１シ、該計
測値に等しくなるように回折パターン投影モード時にお
けるレンズ系のレンズ電流を制御して、投影される回折
パターンの回転角を前記試料像の回転角に一致させるよ
うにしても良い。
［発明の効果］
以上の説明から明らかなように、第１の本発明によれば
、試料像を投影するための電子顕微ｖｌ像モードと該試
料の回折パターンを投影するための回折パターン投影モ
ードを有し、前記電子顕微鏡像モードではレンズ系のレ
ンズ電流を制御して前記試料像の像回転が行えるように
構成された透過電子顕微鏡において、前記試料像の回転
角を表す情報に基づいて回折パターン投影モードにおけ
るレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される回折パ
ターンの回転角を前記試料像の回転角に略−致させるだ
めの手段を備えたことにより、試料像が像回転された場
合でも、該像の回転角と略一致した回折パターンを投影
することができる。そのため、前記像と前記像の回転角
に略一致した回折パターンを夫々撮影した場合、２つの
写真の観察方向が略一致しているため、方位合わせ等を
行なうことなく像分析が行なえる。
、試料像を投影するための電子顕微ｖｌ像モードと該試
料の回折パターンを投影するための回折パターン投影モ
ードを有し、前記電子顕微鏡像モードではレンズ系のレ
ンズ電流を制御して前記試料像の像回転が行えるように
構成された透過電子顕微鏡において、前記試料像の回転
角を表す情報に基づいて回折パターン投影モードにおけ
るレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される回折パ
ターンの回転角を前記試料像の回転角に略−致させるだ
めの手段を備えたことにより、試料像が像回転された場
合でも、該像の回転角と略一致した回折パターンを投影
することができる。そのため、前記像と前記像の回転角
に略一致した回折パターンを夫々撮影した場合、２つの
写真の観察方向が略一致しているため、方位合わせ等を
行なうことなく像分析が行なえる。
また、第２の本発明によれば、回折パターンの回転角を
前記試料像の回転角に近付けるための手段により前記回
折パターンの回転角と前記試料像の回転角が完全に一致
しない場合でも、試料像の回転角に最も近い回転角で回
折パターンが投影されると共に、該試料像の回転角と回
折パターンの回転角のずれを表示するための手段を備え
ているため、該表示に基づいて方位のずれを確認するこ
とができる。そのため、前記像と前記回折パターンを夫
々撮影した場合でも、前記表示手段の情報に基づいて２
つの写真の観察方向を一致させることができるため、結
晶方位が既知の試料を用いて、予め回転角のずれを測定
しておき、そのずれを考慮した上で方位合わせを行なう
という面倒な作業をすることなく像分析が行なえる。
前記試料像の回転角に近付けるための手段により前記回
折パターンの回転角と前記試料像の回転角が完全に一致
しない場合でも、試料像の回転角に最も近い回転角で回
折パターンが投影されると共に、該試料像の回転角と回
折パターンの回転角のずれを表示するための手段を備え
ているため、該表示に基づいて方位のずれを確認するこ
とができる。そのため、前記像と前記回折パターンを夫
々撮影した場合でも、前記表示手段の情報に基づいて２
つの写真の観察方向を一致させることができるため、結
晶方位が既知の試料を用いて、予め回転角のずれを測定
しておき、そのずれを考慮した上で方位合わせを行なう
という面倒な作業をすることなく像分析が行なえる。
第１図は本発明の一実施例を説明するための装置構成図
、第２図及び第３図は第１図に示すメモリに記憶されて
いるテーブルを説明するための図である。 １：試料 ２：対物レンズ３：中間レン
ズ ４；中間レンズ５；投影レンズ
６：蛍光板 ７：撮像部 ８：中央制御装置９：レンズ
制御部
、第２図及び第３図は第１図に示すメモリに記憶されて
いるテーブルを説明するための図である。 １：試料 ２：対物レンズ３：中間レン
ズ ４；中間レンズ５；投影レンズ
６：蛍光板 ７：撮像部 ８：中央制御装置９：レンズ
制御部
Claims (2)
- （１）試料像を投影するための電子顕微鏡像モードと該
試料の回折パターンを投影するための回折パターン投影
モードを有し、前記電子顕微鏡像モードではレンズ系の
レンズ電流を制御して前記試料像の像回転が行えるよう
に構成された透過電子顕微鏡において、前記試料像の回
転角を表す情報に基づいて回折パターン投影モードにお
けるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される回折
パターンの回転角を前記試料像の回転角に略一致させる
ための手段を備えることを特徴とする透過電子顕微鏡。 - （２）試料像を投影するための電子顕微鏡像モードと該
試料の回折パターンを投影するための回折パターン投影
モードを有し、前記電子顕微鏡像モードではレンズ系の
レンズ電流を制御して前記試料像の像回転が行えるよう
に構成された透過電子顕微鏡において、前記試料像の回
転角を表す情報に基づいて回折パターン投影モードにお
けるレンズ系のレンズ電流を制御し前記投影される回折
パターンの回転角を前記試料像の回転角に近付けるため
の手段と、該試料像の回転角と回折パターンの回転角の
ずれを表示するための手段を備えることを特徴とする透
過電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63305812A JPH02152154A (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 透過型電子顕微鏡 |
| US07/442,111 US5001345A (en) | 1988-12-02 | 1989-11-28 | Transmission electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63305812A JPH02152154A (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 透過型電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02152154A true JPH02152154A (ja) | 1990-06-12 |
Family
ID=17949664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63305812A Pending JPH02152154A (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 透過型電子顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5001345A (ja) |
| JP (1) | JPH02152154A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009295429A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Jeol Ltd | 像観察用カメラを備える電子顕微鏡 |
| JP2011076813A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査透過電子顕微鏡および走査透過像観察方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6573502B2 (en) * | 2001-03-12 | 2003-06-03 | Jeol Ltd. | Combined electron microscope |
| JP3970656B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2007-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過電子顕微鏡による試料観察方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH0815060B2 (ja) * | 1985-06-12 | 1996-02-14 | 株式会社日立製作所 | 透過形電子顕微鏡 |
-
1988
- 1988-12-02 JP JP63305812A patent/JPH02152154A/ja active Pending
-
1989
- 1989-11-28 US US07/442,111 patent/US5001345A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009295429A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Jeol Ltd | 像観察用カメラを備える電子顕微鏡 |
| JP2011076813A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査透過電子顕微鏡および走査透過像観察方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5001345A (en) | 1991-03-19 |
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