JP4538472B2 - 画像形成方法、及び電子顕微鏡 - Google Patents
画像形成方法、及び電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4538472B2 JP4538472B2 JP2007065979A JP2007065979A JP4538472B2 JP 4538472 B2 JP4538472 B2 JP 4538472B2 JP 2007065979 A JP2007065979 A JP 2007065979A JP 2007065979 A JP2007065979 A JP 2007065979A JP 4538472 B2 JP4538472 B2 JP 4538472B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- sample
- transmission
- coincidence
- degree
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 25
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 49
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 25
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 claims description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 18
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000012549 training Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/226—Image reconstruction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/248—Components associated with the control of the tube
- H01J2237/2485—Electric or electronic means
- H01J2237/2487—Electric or electronic means using digital signal processors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2611—Stereoscopic measurements and/or imaging
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2617—Comparison or superposition of transmission images; Moiré
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/262—Non-scanning techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
・本例にて採用される演算法について
(A)位相限定相関で移動量を計算する手法
図20に示す画像相関の例を用いて、上記した構成を有する透過電子顕微鏡の動作を説明する。透過像(1)の一部を切り取った画像を透過像(3)としてM×Nの画素数で記憶装置に登録画像としてf1(m,n)として記録する。次に記録モード後に取り込んだ画像を透過像(2)をM×Nの画素数で記憶装置に参照画像としてf2(m,n)として記録する。
F2(u,v)=B(u,v)ejφ(u,v) …(2)
但し、u=0,1,2,…M−1、v=0,1,2,…N−1,A(u,v),B(u,v)は振幅スペクトル、θ(u,v),φ(u,v)は位相スペクトル。
f2(m+r′,n)とする。式(2)を式(3)のように変形する。
=B(u,v)ej(φ+2πr′u/M) …(3)
振幅スペクトルB(u,v)を定数とすることにより、画像のコントラストに依存しない位相画像となる。f4の位相画像F′4(u,v)は式(4)となる。
位相画像F′1(u,v)にF′2(u,v)の複素供役を乗ずることによって合成画像H14(u,v)は式(5)となる。
=ej(θ−φ−2πru/M) …(5)
相関強度画像G14(r,s)は、合成画像H14(u,v)を逆フーリエ変換することによって式(6)となる。
=ΣΣ(ej(θ−φ−2πr′u/M))ej2π(ur/M
+us/N)
=G12(r−r′) …(6)
式(6)より、2つの画像間でX方向に位置ずれ量r′が存在する場合、相関強度画像のピークの位置は−r′だけずれる。また、位相成分で相関計算するため、2つの画像で明るさやコントラストに違いがあっても移動量の計算が行える。2つの画像間でX方向に位置ずれ量が存在する場合は、相関強度画像の中心よりΔG(pixel) の位置にピークが発生する。そして、例えば図20に示すような相関強度画像を形成することができる。
Δxは2つ画像間の試料面上での移動量となる。
(B)一致度を計算する手法
次に画像間移動量や倍率,回転角度の精度について説明する。位相成分のみを用いた相関計算では、数学上位相のみを使用しているため相関強度に現れるピークはδピークとなる。例えば2つの画像間で1.5画素ずれると合成画像は1.5周期の波となる。これを逆フーリエ変換すると、相関強度画像の中心より1.5pixelずれた位置にδピークが立つが、1.5 の画素は存在しないので、δピークの値は1pixel目と2pixel目に振り分けられる。
例えば処理画素数は128pixel×128pixel でPeakが16384(pixel)の場合は、一致度=(16384)/(128×128)×100=100(%)となる。
(C)パターンマッチングを用いた処理
画像のテンプレートマッチングによるテンプレート画像サーチについて以下に一例を示す。
(D)ニューラルネットを用いた処理
図16及び図17に図示するように、圧縮・復元ニューラルネットに関して、入力画像と復元画像との差異を小さくする条件下で行われる。しかし、平滑化画像上では同一濃淡値を持つ画素は複数存在する。したがって、この変換方法は、一意の解を解くために、グリッドの歪みを滑らかにする拘束条件を付加したコスト関数を再急降下法で最小にすることにより実現される。式(10)にコスト関数を示す。
式(7)で算出したΔXを式(11)に入れて、デフォーカス量Δfを計算する。
図25は、本例にて適用するオートフォーカスの原理図である。
31〜34に出力してレンズ系のデータをアナログ信号に変換する。各DAC24,25,28,31〜34より励磁電源13,14,17,20〜23にアナログ信号を出力して各レンズ系のレンズコイル2,3,6,9〜12に電流を出力させる。次に図7に示すように、試料傾斜開始角度,終了角度,ステップ,テンプレートサイズ(Image area
size)を入力する。
(C)(D)(E)を用いて移動量と一致度を計算する。一致度が60%以上であれば移動量より対物レンズ電流に補正を行い、焦点補正を行う。一致度が60%未満の場合は、エラーメッセージを表示して動作を停止してもよい。テンプレートは、図15にしめすように対象物のみを設定すると±60°傾斜した場合に視野ずれがすくなくなる。
DAC24,25,28,31〜34より励磁電源13,14,17,20〜23にアナログ信号を出力して各レンズ系のレンズコイル2,3,6,9〜12に電流を出力させる。次に図5のフローについて詳述する。
29にテンプレートを128pixelsから256pixelsにした場合の一致度を計算した一例を示す。結果より、テンプレートサイズが大きいと画像の特徴量が大きく取れるので、テンプレートサイズを変更したとことにより誤動作を防止して再計算できる場合もある。
DAC24,25,28,31〜34より励磁電源13,14,17,20〜23にアナログ信号を出力して各レンズ系のレンズコイル2,3,6,9〜12に電流を出力させる。
2 第1照射レンズコイル
3 第2照射レンズコイル
4 第1偏向コイル
5 第2偏向コイル
6 対物レンズコイル
7 第1電磁式試料イメージ移動用コイル
8 第2電磁式試料イメージ移動用コイル
9 第1中間レンズコイル
10 第2中間レンズコイル
11 第1投射レンズコイル
12 第2投射レンズコイル
13〜23 励磁電源
24〜34 DAC
35 マイクロプロセッサ
36 記憶装置
37 演算装置
38 CRTコントローラ
39 CRT
40,41 I/F
42 倍率切替用ロータリーエンコーダ
43 入力用ロータリーエンコーダ
44 キーボード
45 RAM
46 ROM
47 TV制御部
48 シンチレータ
49 TV
50 マウス
Claims (7)
- 電子銃と、
電子線を試料に照射する収束レンズと、
電子線を偏向する機構と、
試料に焦点を合わせる対物レンズと、
試料を載置する試料ステージと、
試料を透過した電子線を拡大する結像レンズと、
透過像を画像データとして取り込む機構と、を備え、
第1の方向から試料に電子線を照射して取得した第1の透過像をサーチエリア画像として記憶し、
前記第1の方向とは異なる方向から試料に電子線を照射して取得した第2の透過像における画像中心を含み、且つ、前記サーチエリア画像より狭い領域をテンプレート画像として記憶し、
前記サーチエリア画像と前記テンプレート画像から移動量と一致度を算出し、
前記一致度が所定以上の場合に、前記移動量に基づいて前記対物レンズの焦点を自動補正し、
前記動作を所定の傾斜角度まで繰り返して行い、電子ビームの試料に対する照射角を変化させ、複数の照射角にて取得された透過像を合成し、三次元像を構築することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 請求項1記載の透過電子顕微鏡であって、
焦点補正後に透過像を取得することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 電子銃と、
電子線を試料に照射する収束レンズと、
電子線を偏向する機構と、
試料に焦点を合わせる対物レンズと、
試料を載置する試料ステージと、
試料を透過した電子線を拡大する結像レンズと、
透過像を画像データとして取り込む機構と、を備え、
第1の方向から試料に電子線を照射して取得した第1の透過像をサーチエリア画像として記憶し、
前記第1の方向とは異なる方向から試料に電子線を照射して取得した第2の透過像における画像中心を含み、且つ、前記サーチエリア画像より狭い領域をテンプレート画像として記憶し、
前記サーチエリア画像と前記テンプレート画像から移動量と一致度を算出し、
前記一致度が所定以上の場合に、前記移動量に基づいて試料ステージやイメージシフトを用いて位置補正し、
前記動作を所定の傾斜角度まで繰り返して行い、電子ビームの試料に対する照射角を変化させ、複数の照射角にて取得された透過像を合成し、三次元像を構築することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 請求項1〜3のいずれかに記載の透過電子顕微鏡であって、
前記一致度が所定未満の場合に、エラーメッセージを表示することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 請求項1〜3のいずれかに記載の透過電子顕微鏡であって、
前記一致度が所定未満の場合に、前記テンプレート画像のサイズを大きくして移動量と一致度を再度算出することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 請求項1〜5のいずれかに記載の透過電子顕微鏡であって、
正規化パターンマッチングにより前記一致度と前記移動量を算出することを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 請求項1〜5のいずれかに記載の透過電子顕微鏡であって、
ニューラルネットを用いた画像処理により前記一致度と前記移動量を算出することを特徴とする透過電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007065979A JP4538472B2 (ja) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | 画像形成方法、及び電子顕微鏡 |
EP08004794.7A EP1970936A3 (en) | 2007-03-15 | 2008-03-14 | Image forming method and electron microscope |
US12/048,775 US7838834B2 (en) | 2007-03-15 | 2008-03-14 | Image forming method and electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007065979A JP4538472B2 (ja) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | 画像形成方法、及び電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008226742A JP2008226742A (ja) | 2008-09-25 |
JP4538472B2 true JP4538472B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=39651456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007065979A Expired - Fee Related JP4538472B2 (ja) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | 画像形成方法、及び電子顕微鏡 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7838834B2 (ja) |
EP (1) | EP1970936A3 (ja) |
JP (1) | JP4538472B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170727A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP5331780B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2013-10-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡,電子顕微鏡用画像再構成システム、および電子顕微鏡用画像再構成方法 |
EP2811288B1 (en) * | 2013-06-06 | 2016-08-10 | Fei Company | Method for electron tomography |
JP6876418B2 (ja) * | 2016-12-05 | 2021-05-26 | 日本電子株式会社 | 画像取得方法および電子顕微鏡 |
US10923318B2 (en) * | 2018-12-20 | 2021-02-16 | Fei Company | Optical alignment correction using convolutional neural network evaluation of a beam image |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08292164A (ja) * | 1995-04-25 | 1996-11-05 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡及び3次元原子配列観察方法 |
JP2000331637A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Hitachi Ltd | 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置 |
JP2002270126A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-20 | Topcon Corp | 電子線装置、電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオデータ作成方法 |
JP2005019218A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡装置 |
JP2005505899A (ja) * | 2001-10-10 | 2005-02-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 荷電粒子ビームカラムのアライメント方法および装置 |
JP2006286578A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000030652A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-28 | Hitachi Ltd | 試料の観察方法およびその装置 |
JP4275786B2 (ja) * | 1999-01-04 | 2009-06-10 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
US6570157B1 (en) * | 2000-06-09 | 2003-05-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Multi-pitch and line calibration for mask and wafer CD-SEM system |
JP3813798B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2006-08-23 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
US6852974B2 (en) * | 2001-03-06 | 2005-02-08 | Topcon Corporation | Electron beam device and method for stereoscopic measurements |
JP3970656B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2007-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過電子顕微鏡による試料観察方法 |
JP4012813B2 (ja) * | 2002-11-27 | 2007-11-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
US7602962B2 (en) * | 2003-02-25 | 2009-10-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of classifying defects using multiple inspection machines |
US7067808B2 (en) * | 2003-10-14 | 2006-06-27 | Topcon Corporation | Electron beam system and electron beam measuring and observing method |
-
2007
- 2007-03-15 JP JP2007065979A patent/JP4538472B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-14 EP EP08004794.7A patent/EP1970936A3/en not_active Withdrawn
- 2008-03-14 US US12/048,775 patent/US7838834B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08292164A (ja) * | 1995-04-25 | 1996-11-05 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡及び3次元原子配列観察方法 |
JP2000331637A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Hitachi Ltd | 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置 |
JP2002270126A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-20 | Topcon Corp | 電子線装置、電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオデータ作成方法 |
JP2005505899A (ja) * | 2001-10-10 | 2005-02-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 荷電粒子ビームカラムのアライメント方法および装置 |
JP2005019218A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡装置 |
JP2006286578A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080224040A1 (en) | 2008-09-18 |
US7838834B2 (en) | 2010-11-23 |
EP1970936A3 (en) | 2014-09-24 |
EP1970936A2 (en) | 2008-09-17 |
JP2008226742A (ja) | 2008-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2877624B2 (ja) | 走査電子顕微鏡の対物レンズアライメント制御装置及び制御方法 | |
JP2008177064A (ja) | 走査型荷電粒子顕微鏡装置および走査型荷電粒子顕微鏡装置で取得した画像の処理方法 | |
JP4538472B2 (ja) | 画像形成方法、及び電子顕微鏡 | |
JP5603421B2 (ja) | 自動収差補正法を備えた荷電粒子線装置 | |
JP5205306B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2005302359A (ja) | Semの収差自動補正方法及び収差視覚化方法並びに収差自動補正装置 | |
JP6403196B2 (ja) | 画像評価方法および荷電粒子ビーム装置 | |
CN111095351B (zh) | 电荷粒子显微镜装置和广角图像生成方法 | |
JP6994897B2 (ja) | 電子顕微鏡および試料傾斜角の調整方法 | |
US6777679B2 (en) | Method of observing a sample by a transmission electron microscope | |
JP4095743B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡 | |
JP2733710B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP6770482B2 (ja) | 荷電粒子線装置および走査像の歪み補正方法 | |
US8426830B2 (en) | Focused ion beam apparatus, sample processing method using the same, and computer program for focused ion beam processing | |
JP4011455B2 (ja) | 透過電子顕微鏡による試料観察方法 | |
JP4634324B2 (ja) | 透過電子顕微鏡 | |
JPH07302564A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
US20140061456A1 (en) | Coordinate correcting method, defect image acquiring method and electron microscope | |
JP4891977B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
US9396906B2 (en) | Transmission electron microscope and method of displaying TEM images | |
JP2009043567A (ja) | 試料像回転方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP4841407B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP4728137B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP7144487B2 (ja) | 荷電粒子線装置および試料ステージの制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090610 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100301 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100323 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100615 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100621 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |