DE10218272A1 - Programmierbarer Festwertspeicher, Speicherzelle hierfür und zugehöriges Verfahren zum Schreiben/Lesen von Daten - Google Patents
Programmierbarer Festwertspeicher, Speicherzelle hierfür und zugehöriges Verfahren zum Schreiben/Lesen von DatenInfo
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf eine programmierbare Speicherzelle mit einer Wortleitung (WL0 bis WL 3), einer Bitleitung (BL0, BL1), einer virtuellen Masseleitung (VG0, VG1, VG2) und einem Zellentransistor (M1 bis M16), auf einen programmierbaren Festwertspeicher (ROM) mit mehreren derartigen programmierbaren Speicherzellen sowie auf zugehörige Verfahren zum Schreiben und Lesen binärer Daten. DOLLAR A Erfindungsgemäß ist die jeweilige virtuelle Masseleitung selektiv mit Masse in Reaktion auf ein Steuersignal verbunden. Der Zellentransistor ist mit einer Gate-Elektrode an eine der Wortleitungen angeschlossen, weist eine erste und eine mit einer jeweiligen Bitleitung verbundene zweite Elektrode auf und wird durch selektives Verbinden der ersten Elektrode mit einer jeweiligen virtuellen Masseleitung auf einen vorgegebenen Logikpegel programmiert. Zum Schreiben wird die zweite Elektrode selektiv mit der jeweiligen virtuellen Masseleitung abhängig vom zu schreibenden binären Datenwert verbunden. Zum Lesen wird die jeweilige Bitleitung vorgeladen, deren elektrisches Potential dann abhängig davon, ob die zweite Elektrode mit der jeweiligen virtuellen Masseleitung verbunden ist oder nicht, entladen oder aufrechterhalten und abhängig davon ein binärer Datenwert gelesen. DOLLAR A Verwendung z. B. für Masken-ROM hoher Betriebsgeschwindigkeit.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen programmierbaren Festwertspei
cher (ROM), eine programmierbare Speicherzelle hierfür und auf ein zu
gehöriges Verfahren zum Schreiben/Lesen binärer Daten.
Ein sogenannter Masken-ROM ist ein Halbleiterspeicherbauelement, mit
dem ein Nutzer im voraus Daten, die benötigt werden, auf dem Spei
cherbauelement in einem Herstellungsprozess derart codiert, dass die
codierten Daten später wiederholt gelesen werden können. Hierbei wer
den durch eingebettete Diffusion programmierbare ROM und durch ein
gebettetes Metall programmierbare ROM unterschieden. Beim durch
eingebettete Diffusion programmierbaren ROM wird ein ROM-Daten
code in einem Diffusionsprozess während der Fertigungsprozesse fest
gelegt, während beim durch eingebettetes Metall programmierbaren
ROM ein ROM-Datencode in einem Metall-Fertigungsprozess während
des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
Als weitere, mit dem durch eingebettetes Metall programmierbaren ROM
nah verwandte Typen sind der durch eingebetteten Kontakt program
mierbare ROM und der durch eingebetteten Durchkontakt programmier
bare ROM bekannt. Beim durch eingebetteten Kontakt programmierba
ren ROM wird ein ROM-Datencode in einem Kontakt-Herstellungs
prozess während der Fertigungsprozesse festgelegt, beim durch einge
betteten Kontakt programmierbaren ROM wird hingegen ein ROM-
Datencode in einem Durchkontakt-Herstellungsprozess während der
Herstellungsprozesse festgelegt.
Im allgemeinen wird der durch eingebettete Diffusion programmierbare
ROM dem durch eingebettetes Metall programmierbaren ROM vorgezo
gen, hauptsächlich weil sein Integrationsgrad um etwa 25% höher sein
kann. Der durch eingebettete Diffusion programmierbare ROM weist je
doch eine größere Zeitdauer ab dem Zeitpunkt, zu dem Daten von ei
nem Nutzer empfangen werden, bis zu dem Zeitpunkt auf, zu dem ein
vollständiges Produkt hergestellt ist, d. h. die Turn-around-Dauer des
durch eingebettete Diffusion programmierbaren ROM ist länger als die
jenige des durch eingebettetes Metall programmierbaren ROM. Dank
technologischer Fortschritte bei der Halbleiterfertigung konnte in jünge
rer Zeit der Integrationsgrad des durch eingebettetes Metall oder einge
betteten Durchkontakt programmierbaren ROM beträchtlich gesteigert
werden, und die Bedeutung des durch eingebettetes Metall oder einge
betteten Durchkontakt programmierbaren ROM, das hinsichtlich der
Zeitdauer bis zur Markteinführung vorteilhaft ist, hat zugenommen.
Fig. 1 zeigt im Blockschaltbild die Zellenfeldstruktur eines herkömmli
chen, durch Metall programmierbaren ROM. Dabei zeigt Fig. 1 beispiel
haft eine 4×4-Bitzellenfeldstruktur mit zwei Bitleitungen BL0 und BL1,
drei virtuellen Masseleitungen VG0, VG1, VG2, vier Wortleitungen WL0
bis WL3 und sechzehn Zellentransistoren M1 bis M16. Eine virtuelle
Masseleitung ist hierbei eine Leitung, die durch ein jeweiliges, nicht ge
zeigtes Schaltelement selektiv mit Masse verbunden werden kann. Des
weiteren sind Kondensatoren C1 bis C4 in Fig. 1 dargestellt, die keine
wirklichen Schaltkreisbauelemente, sondern Kopplungskapazitäten zwi
schen Leitungen repräsentieren. C5 bezeichnet eine Gesamtkapazität
der Bitleitung BL0, während C6 eine Gesamtkapazität der Bitleitung BL1
bezeichnet.
Wie aus Fig. 1 ersichtlich, ist die Gate-Elektrode jedes der 16 Zellen
transistoren M1 bis M16 mit einer Wortleitung verbunden, und deren
Source-Elektroden sind jeweils mit einer virtuellen Masseleitung ver
bunden. Die Drain-Elektroden jedes dieser Transistoren M1 bis M16
kann selektiv mit einer Bitleitung elektrisch verbunden werden, um den
Zellentransistor zu programmieren. Speziell wird durch elektrisches Ver
binden der Drain-Elektrode eines jeweiligen Zellentransistors M1 bis
M16 mit einer Bitleitung dieser Zellentransistor auf eine logische "0" pro
grammiert, während er auf eine logische "1" programmiert wird, wenn
die Drain-Elektrode potentialfrei, d. h. potentialschwebend oder floatend,
gehalten wird. Die Geschwindigkeit des programmierbaren ROM hängt
hierbei von der Gesamtkapazität ab, mit der eine Bitleitung belastet ist.
Die Gesamtkapazität, die eine Bitleitung belastet, bestimmt ein Zeitinter
vall ab dem Zeitpunkt, zu dem eine Bitleitung vorgeladen ist, bis zu ei
nem Zeitpunkt, zu dem die Bitleitung entladen ist. Dementsprechend
verringert sich die Gesamtbetriebsgeschwindigkeit des ROM, wenn die
Gesamtkapazität erhöht wird.
Des weiteren ist das Verhältnis der Kopplungskapazität zwischen einer
Bitleitung und einer benachbarten Leitung zur Gesamtkapazität der Bit
leitung ein wesentlicher Faktor bei der Bewertung eines programmierba
ren ROM. Wenn das Verhältnis zu hoch ist, beeinflusst ein Pegelwech
sel in der benachbarten Leitung die Bitleitung, wodurch die Gefahr be
steht, dass die Bitleitung, die vorgeladen ist, nicht in der Lage ist, den
vorgeladenen Zustand beizubehalten, was zu einem fehlerhaften Lesen
von ROM-Daten führen kann. Um diesen Fehler zu vermeiden, wird das
Verhältnis der Kopplungskapazität zwischen der Bitleitung und einer be
nachbarten Leitung zur Gesamtkapazität der Bitleitung klein gemacht.
Zu diesem Zweck sollte die Gesamtkapazität, mit der eine Bitleitung be
lastet wird, erhöht werden, dies verursacht jedoch eine Verringerung der
Geschwindigkeit.
Beim programmierbaren ROM von Fig. 1 werden Zellen, die mit der Bit
leitung BL0 verbunden sind, auf "0" programmiert, und Zellen, die mit
der Bitleitung BL1 verbunden sind, werden auf "1" programmiert. Die
Gesamtkapazität C5, mit der die Bitleitung BL0 belastet ist, bildet hierbei
den maximalen Wert, die Gesamtkapazität C6, mit der die Bitleitung BL1
belastet ist, bildet den minimalen Wert, und die Betriebsgeschwindigkeit
des programmierbaren ROM ist durch die Bitleitung BL0 bestimmt.
Die Faktoren, welche die Kapazität der Bitleitung BL0 beeinflussen, sind
hierbei die Kapazität durch die Bitleitungslänge, die Kapazität durch die
Programmier-Metallleitung 28, die Kapazität durch einen mit der Bitlei
tung verbundenen Kontakt CNT1 und die Kapazität durch die mit der
Bitleitung verbundenen Transistoren M1 bis M8. Die Gesamtkapazität
C5 der Bitleitung BL0 besitzt aufgrund des Einflusses dieser Kapazitäten
einen sehr hohen Wert, und die Geschwindigkeit des programmierbaren
ROM ist dementsprechend reduziert. Mit geringer werdendem Verhältnis
der Kopplungskapazität zwischen der Bitleitung BL0 und der benachbar
ten Leitung VG0 oder VG1 zur Gesamtkapazität der Bitleitung BL0
(= C1/C5 oder C2/C5) kann jedoch das fehlerhafte Lesen von ROM-
Daten aufgrund einer Kopplungskapazität mit einer benachbarten Lei
tung verhindert werden.
Da der einzige Faktor, der die Kapazität der Bitleitung BL1 beeinflusst,
die Kapazität durch die Bitleitungslänge ist, hat die Gesamtkapazität C6
der Bitleitung BL1 einen viel kleineren Wert als C5. Mit größer werden
dem Verhältnis der Kopplungskapazität zwischen der Bitleitung BL1 und
der benachbarten Leitung VG1 oder VG2 zur Gesamtkapazität der Bitlei
tung BL1 (= C3/C6 oder C4/C6) kann daher ein fehlerhaftes Lesen von
ROM-Daten von Zellen, die mit der Bitleitung BL1 verbunden sind, auf
grund einer Kopplungskapazität auftreten. Daher sollte, um das fehler
hafte Lesen von ROM-Daten aufgrund einer Kopplungskapazität zu ver
hindern, beim Lesen von ROM-Daten die Betriebsgeschwindigkeit eines
Abtastverstärkers verringert werden, oder die Vorlade- und Entladezeit
sollte geeignet angepasst werden, um eine Wechselwirkung zu vermei
den, beides verursacht jedoch eine Verringerung der Geschwindigkeit
des ROM.
Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung eines
programmierbaren ROM, einer programmierbaren Speicherzelle hierfür
sowie eines zugehörigen Verfahrens zum Schreiben/Lesen von Daten
zugrunde, die einen zuverlässigen Betrieb mit hoher Geschwindigkeit
ermöglichen.
Die Erfindung löst dieses Problem durch die Bereitstellung einer pro
grammierbaren Speicherzelle mit den Merkmalen des Anspruchs 1, ei
nes programmierbaren ROM mit den Merkmalen des Anspruchs 7, eines
Verfahrens zum Schreiben binärer Daten auf einen Zellentransistor in
einem programmierbaren ROM mit den Merkmalen des Anspruchs 14
und eines Verfahrens zum Lesen binärer Daten, die in einem Zellentran
sistor eines programmierbaren ROM gespeichert sind, mit den Merkma
len des Anspruchs 19.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Vorteilhafte, nachfolgend beschriebene Ausführungsformen der Erfin
dung sowie das zu deren besserem Verständnis oben erläuterte, her
kömmliche Ausführungsbeispiel sind in den Zeichnungen dargestellt, in
denen zeigen:
Fig. 1 ein Blockschaltbild der Zellenfeldstruktur eines herkömmlichen,
durch Metall programmierbaren ROM,
Fig. 2 ein Blockschaltbild einer Zellenfeldstruktur eines programmier
baren ROM hoher Geschwindigkeit gemäß der Erfindung,
Fig. 3 eine Schnittansicht eines horizontalen Abschnitts eines von
mehreren in Fig. 2 gezeigten Zellentransistoren,
Fig. 4 ein Blockschaltbild eines programmierbaren ROM-Systems
gemäß der Erfindung,
Fig. 5 ein Zeitdiagramm von den Betrieb der Schaltung gemäß Fig. 4
steuernden Signalen und
Fig. 6 ein Flussdiagramm zur Veranschaulichung eines Verfahrens
zum Lesen von Daten im programmierbaren ROM-System von
Fig. 4.
Fig. 2 zeigt im Schaltbild eine vorteilhafte Realisierung einer Zellenfeld
struktur eines programmierbaren ROM hoher Geschwindigkeit gemäß
der Erfindung. Beispielhaft ist in Fig. 2 eine 4×4-Bitzellenfeldstruktur mit
zwei Bitleitungen BL0 und BL1, drei virtuellen Masseleitungen VG0,
VG1, VG2, vier Wortleitungen WL0 bis WL3 und sechzehn NMOS-
Transistoren M1 bis M16 dargestellt. Des weiteren sind Kondensatoren
C20 bis C23 gezeigt, die keine tatsächlichen Schaltungselemente, son
dern Kopplungskapazitäten zwischen Leitungen repräsentieren. Außer
dem ist mit C24 eine Gesamtkapazität, mit der Bitleitung BL0 belastet
ist, und mit C25 eine Gesamtkapazität bezeichnet, mit der die Bitleitung
BL1 belastet ist. Lediglich als Beispiel ist in Fig. 2 ein mittels Durchkon
takt programmierbarer ROM gezeigt, bei dem das Programmieren der
ROM-Daten in einem Durchkontakt-Herstellungsprozess erfolgt.
Wie aus Fig. 2 ersichtlich, ist die Drain-Elektrode jedes der Zellentransis
toren M1 bis M8 mit der Bitleitung BL0 verbunden, während die Drain-
Elektrode jedes der Zellentransistoren M9 und M10 mit der Bitleitung
BL1 verbunden ist. Bei der in Fig. 2 gezeigten Struktur teilen sich jeweils
vier horizontal und vertikal benachbarte Zellentransistoren M1 und M4
sowie M5 bis M8 die angrenzende Bitleitung BL0. In gleicher Weise tei
len sich die horizontal und vertikal benachbarten, an die Bitleitung BL1
angrenzenden, jeweiligen vier Zellentransistoren M9 bis M12 und M13
bis M16 diese Bitleitung BL1.
Lediglich zur einfacheren Erläuterung sei angenommen, dass die Zel
lentransistoren M1 bis M8 auf "0" und die Zellentransistoren M9 bis M16
auf "1" programmiert sind. Zum Programmieren der Zellentransistoren
M1 bis M8 auf "0" ist deren jeweilige Source-Elektrode mit einer der vir
tuellen Masseleitungen VG0, VG1 verbunden. Analog wird zum Pro
grammieren der Zellentransistoren M9 bis M16 auf "1" deren jeweilige
Source-Elektrode in einem floatenden, d. h. potentialfreien Zustand
gehalten, in der sie mit keiner der virtuellen Masseleitungen VG1, VG2
verbunden ist. Ein ausgefülltes Viereck repräsentiert in Fig. 2 einen Zu
stand, bei dem der Zellentransistor mit einer virtuelllen Masseleitung o
der einer Bitleitung elektrisch verbunden ist, während ein hohles Viereck
einen Zustand repräsentiert, in welchem der Zellentransistor an der
betreffenden Stelle nicht verbunden ist.
Da somit ROM-Daten in einen Zellentransistor abhängig davon pro
grammiert werden, ob die Source-Elektrode desselben mit einer virtuel
len Masseleitung verbunden ist oder nicht, haben die Gesamtkapazitä
ten C24 und C25 der Bitleitungen BL0 und BL1 denselben Wert unab
hängig davon, ob ein Zellentransistor auf "0" oder "1" programmiert ist.
Hingegen kann die Kapazität der virtuellen Masseleitung von den pro
grammierten Daten abhängen. Da jedoch die jeweilige virtuelle Masse
leitung ein Signal trägt, das einen vollen Hub von einem hohen zu einem
niedrigen Logikpegel und umgekehrt ausführt, im Gegensatz zu einer
Bitleitung, die einen kleinen Hub ausführt, spielt es für die Betriebsge
schwindigkeit des ROM keine große Rolle, ob die Leitungskapazität
groß oder klein ist.
Die Faktoren, welche die Gesamtkapazitäten C24 und C25 der Bitleitun
gen BL0 und BL1 beeinflussen, sind die Kapazität durch die Bitleitungs
länge, die Kapazität durch Kontakte CNT zur Verbindung mit der jeweili
gen Bitleitung BL0, BL1 und die Kapazität durch die mit der Bitleitung
verbundenen Transistoren. Verglichen mit den Gesamtkapazitäten C5
und C6 der Bitleitungen BL0 und BL1 von Fig. 1 werden die Kapazitäten
C24 und C25 beide nicht durch die Kapazität von programmierendem
Metall beeinflusst und sind daher kleiner als C5. Aufgrund des Einflus
ses der Kapazität durch die Kontakte CNT zum Verbinden mit der Bitlei
tung und der Kapazität durch die mit der Bitleitung verbundenen Transis
toren ist jede der Kapazitäten C24 und C25 größer als C6. Die Tatsa
che, dass C24 kleiner als C5 ist, bedeutet hierbei, dass die Geschwin
digkeit zum Entladen der Bitleitung für C24 höher ist als für C5. Da au
ßerdem die Kapazität C25 größer als C6 ist, wird das Verhältnis der
Kopplungskapazität mit einer Nachbarleitung kleiner, so dass das feh
lerhafte Lesen von in einem Zellentransistor programmierten Daten auf
grund Wechselwirkung mit der Nachbarleitung verringert werden kann.
Der erfindungsgemäße programmierbare ROM, der die Source-Elektro
de eines Zellentransistors selektiv in Abhängigkeit von ROM-Daten mit
einer virtuellen Masseleitung verbindet, kann folglich die Betriebsge
schwindigkeit gegenüber dem herkömmlichen programmierbaren ROM
erhöhen, der die Source-Elektrode eines Zellentransistors selektiv mit
einer Bitleitung verbindet. Dies minimiert das fehlerhafte Lesen pro
grammierter Daten.
Zwecks einfacher Erläuterung sei angenommen, dass es sich bei dem
programmierbaren ROM von Fig. 2 um einen mittels Durchkontakt pro
grammierbaren ROM handelt, bei dem das Programmieren der ROM-
Daten in einem Durchkontakt-Herstellungsprozess erfolgt. Es versteht
sich jedoch, dass die Erfindung auf einen mittels Kontakt programmier
baren ROM und einen mittels Metall programmierbaren ROM in gleicher
Weise anwendbar ist.
Fig. 3 veranschaulicht in einer Schnittdarstellung einen horizontalen Ab
schnitt eines beliebigen Zellentransistors von Fig. 2 sowie den Abschnitt
einer virtuellen Masseleitung, der mit der Source-Elektrode eines Zellen
transistors verbunden ist, und den Abschnitt einer Bitleitung, die mit der
Drain-Elektrode eines Zellentransistors verbunden ist.
Wie aus Fig. 3 ersichtlich, können ROM-Daten in einen Zellentransistor
durch selektives Verbinden der Source-Elektrode mit einer virtuellen
Masseleitung mittels Prozessen zur Bildung eines Kontakts 30, eines
ersten Metalls 20, eines ersten Durchkontakts 10 und eines zweiten Me
talls 40 einprogrammiert werden. Speziell wird hierbei "0" in einen Zel
lentransistor durch elektrisches Verbinden von dessen Source-Elektrode
mit einer virtuellen Masseleitung nach Erzeugung des Kontakts 30, des
ersten Metalls 20, des ersten Durchkontakts 10 und des zweiten Metalls
40 einprogrammiert. Des weiteren wird "1" in einen Zellentransistor da
durch einprogrammiert, dass die Source-Elektrode desselben von einer
jeweiligen virtuellen Masseleitung getrennt und damit potentialfrei gehal
ten wird, indem der Kontakt 30, das erste Metall 20, der erste Durchkon
takt 10 und/oder das zweite Metall 40 nicht gebildet werden.
Fig. 4 veranschaulicht im Schaltbild ein programmierbares ROM-System
gemäß der Erfindung, das eine Zellentransistorgruppe 50, eine Vorlade
einheit 60a, eine Vorladesteuereinheit 60b, eine Einheit 80 zur Auswahl
einer virtuellen Masseleitung und eine Einheit 70 zur Bitleitungsauswahl
umfasst. Dabei bezeichnen wiederum die Stellen mit ausgefülltem Vier
eck einen Zustand, in welchem ein Zellentransistor elektrisch mit einer
virtuellen Masseleitung oder einer Bitleitung verbunden ist, während die
Stellen mit hohlem Viereck einen Zustand bezeichnen, in welchem der
betreffende Zellentransistor nicht an dieser Stelle verbunden ist. Dies
bedeutet für die Zellentransistorgruppe 50, dass in jedem Zellentransis
tor M41 bis M46 der Datenwert "0" und in jedem der Zellentransistoren
M40 und M47 der Datenwert "1" einprogrammiert sind.
Wenngleich in Fig. 4 nur eine einzelne Zellentransistorgruppe 50 explizit
dargestellt ist, kann das programmierbare ROM-System eine Mehrzahl
solcher Zellentransistorgruppen umfassen, wobei ein Zellengruppen
auswahlsignal SEL dazu dient, eine oder mehrere dieser Zellentransis
torgruppen auszuwählen.
Die Vorladesteuereinheit 60b führt eine logische Verknüpfung des Zel
lengruppenauswahlsignals SEL mit einem Vorlade signal aus, um ein
Vorladesteuersignal zu erzeugen. Die Vorladeeinheit 60a lädt die virtuel
len Masseleitungen VG0 bis VG2 und die Bitleitungen BL0 und BL1 vor,
indem sie mit diesen Leitungen VG0 bis VG2, BL0, BL1 verbundene
Transistoren in Abhängigkeit vom Vorladesteuersignal leitend/sperrend
schaltet.
Die Einheit 80 zur Auswahl der virtuellen Masseleitung verknüpft das
Zellengruppenauswahlsignal SEL mit Auswahlsignalen AD_VG0 bis
AD_VG2 bezüglich der jeweiligen virtuellen Masseleitung und steuert
das Ein-/Ausschalten von Schaltelementen SW0 bis SW2 derart, dass
eine entsprechende der virtuellen Masseleitungen VG0 bis VG2 mit
Masse verbunden ist.
In Reaktion auf ein Bitleitungsauswahlsignal AD_BL wählt die Bitlei
tungsauswahleinheit 70 irgendeine von den Bitleitungen BL0 und BL1
aus und gibt über einen Datenausgangsanschluss DQ Daten ab, die in
einem mit der ausgewählten Bitleitung verbundenen Zellentransistor
programmiert sind.
Fig. 5 veranschaulicht ein Zeitdiagramm von Signalen zur Steuerung
des Betriebs der in Fig. 4 gezeigten Schaltung, und Fig. 6 veranschau
licht als Flussdiagramm ein Verfahren zum Lesen von Daten, wie es im
programmierbaren ROM-System von Fig. 4 ausgeführt wird.
Wie aus den Fig. 4 bis 6 zu erkennen, wird das Vorladesignal auf einem
niedrigen Logikpegel gehalten, bis eine Anforderung von außen zum
Lesen von Daten vorliegt. Durch den niedrigen Logikpegel des Vorlade
signals sind die Transistoren der Vorladeeinheit 60a leitend geschaltet,
und die Bitleitungen BL0 und BL1 sowie die virtuellen Masseleitungen
VG0 bis VG2 sind vorgeladen, siehe Schritt 95 von Fig. 6.
Wenn dann ein Taktsignal CLK erzeugt wird, um das Lesen von Daten
von außen anzufordern, wie im Teilbild von Fig. 5(a) gezeigt, wird in Re
aktion auf dieses Signal ein internes Taktsignal IN_CLK aktiviert, wie im
Teilbild von Fig. 5(b) gezeigt, siehe Schritt 100 von Fig. 6. In Reaktion
auf das interne Taktsignal IN_CLK werden nacheinander die Wortlei
tungs- und Vorladesignale aktiviert, wie in den Teilbildern der Fig. 5(c)
und 5(d) gezeigt, siehe Schritt 105 von Fig. 6. Wie speziell aus Fig. 4
ersichtlich, werden die Transistoren, welche die Vorladeeinheit 60a bil
den, durch die Vorladesteuereinheit 60b sperrend geschaltet, wenn das
Vorladesignal auf einen Übergang zu hohem Logikpegel aktiviert wird,
und das Vorladen wird gestoppt.
Mit aktiviertem internem Taktsignal IN_CLK werden dann die Auswahl
signale AD_VG0 bis AD_VG2 bezüglich der jeweiligen virtuellen Masse
leitung zugeführt, und eine durch diese Signale ausgewählte, virtuelle
Masseleitung wird auf Massepegel entladen. Zu diesem Zeitpunkt wirkt
in Reaktion auf das elektrische Potential ein Steuersignal, welches die
Deaktivierung des internen Taktsignals IN_CLK und die Aktivierung ei
nes Abtastsignals gesteuert, entladen, wie im Teilbild von Fig. 5(e) ge
zeigt. Mit anderen Worten startet das im Teilbild von Fig. 5(e) gezeigte
Steuersignal das Entladen in Reaktion auf das interne Taktsignal
IN_CLK, und die Deaktivierung des internen Taktsignals IN_CLK und die
Aktivierung des Abtastsignals erfolgen in Reaktion darauf, dass das
Steuersignal unter einen vorgegebenen Pegel fällt, siehe Schritt 115 von
Fig. 6.
Wenn auf diese Weise das Abtastsignal aktiviert ist, besitzt abhängig
davon, ob die Source-Elektrode eines Zellentransistors, der durch die
Auswahlsignale AD_VG0 bis AD_VG2 bezüglich der jeweiligen virtuellen
Masseleitung und das Bitleitungsauswahlsignal AD_BL ausgewählt wur
de, mit der virtuellen Masseleitung verbunden ist, siehe Schritt 120 von
Fig. 6, das elektrische Potential der mit der Drain-Elektrode des ausge
wählten Zellentransistors verbundenen Bitleitung einen Wert höher oder
niedriger als eine Referenzspannung.
Beispielsweise sei angenommen, dass Daten zu lesen sind, die in den
Zellentransistoren M40 und M44 programmiert sind, welche durch die
Auswahlsignale AD_VG0 bis AD_VG2 bezüglich der jeweiligen virtuellen
Masseleitung und das Bitleitungsauswahlsignal AD_BL mit der Bitleitung
BL0 verbunden sind. Um Daten zu lesen, die im Zellentransistor M40
programmiert sind, wird zuerst das Schaltelement SW0 durch das Aus
wahlsignal AD_VG0 zur betreffenden virtuellen Masseleitung leitend ge
schaltet, und die virtuelle Masseleitung VG0 wird mit Masse verbunden.
Da die Source-Elektrode nicht mit der virtuellen Masseleitung verbunden
ist, kann das elektrische Potential, auf das die mit der Drain-Elektrode
des Zellentransistors M40 verbundene Bitleitung vorgeladen ist, nicht
über Masse entladen werden, so dass das elektrische Vorladepotential
unverändert aufrechterhalten wird, siehe Schritt 140 von Fig. 6. Da an
dererseits die Source-Elektrode des Zellentransistors M44 mit der virtu
ellen Masseleitung verbunden ist, wird das elektrische Potential, auf das
die mit der Drain-Elektrode des Zellentransistors M44 verbundene
Bitleitung vorgeladen ist, über die virtuelle Masseleitung VG0 nach
Masse entladen, siehe Schritt 125 von Fig. 6.
Dementsprechend wird in Abhängigkeit davon, ob die Source-Elektrode
eines Zellentransistors mit einer virtuellen Masseleitung verbunden ist
oder nicht, das elektrische Potential auf einer Bitleitung entladen oder
verbleibt unverändert auf einem elektrischen Vorladepotential, und das
elektrische Potential der Bitleitung wird mit einem elektrischen Refe
renzpotential REF verglichen, und dies dient als ein Kriterium für festge
stellte Daten, siehe Schritt 130 von Fig. 6. Wenn das elektrische Poten
tial der Bitleitung über die virtuelle Masseleitung entladen wird und das
elektrische Potential der Bitleitung zu einem Zeitpunkt, zu dem das Ab
tastsignal, wie im Teilbild von Fig. 5(h) gezeigt, aktiviert ist, geringer als
das elektrische Referenzpotential REF ist, wie im Teilbild von Fig. 5(g)
gezeigt, wird der Datenwert "0" gelesen, wie im Teilbild von Fig. 5(i) ge
zeigt, siehe Schritt 135 von Fig. 6. Wenn das elektrische Potential der
Bitleitung unverändert auf dem elektrischen Vorladepotential verbleibt
und höher als das elektrische Referenzpotential REF zu dem Zeitpunkt
ist, zu dem das Abtastsignal aktiviert wird, wie im Teilbild von Fig. 5(h)
gezeigt, wird der Datenwert "1" gelesen, siehe Schritt 135 von Fig. 6.
Die Erfindung kann als ein Code implementiert sein, der durch einen
Computer von einem computerlesbaren Aufzeichnungsmedium gelesen
wird. Das computerlesbare Aufzeichnungsmedium kann alle Arten von
Aufzeichnungsvorrichtungen umfassen, auf denen computerlesbare Da
ten gespeichert werden. Solche computerlesbaren Aufzeichnungsme
dien umfassen Speichermedien wie Magnetspeichermedien, z. B. ROM,
Disketten, Festplatten etc., optisch lesbare Medien, z. B. CD-ROM, DVD
etc., und Trägerwellen, z. B. Übertragungen über das Internet. Außerdem
können computerlesbare Aufzeichnungsmedien auf Computersystemen
verteilt sein, die über ein Netzwerk verbunden sind und einen computer
lesbaren Code in verteilter Weise speichern und ausführen können.
Wie die oben erwähnten Ausführungsformen deutlich machen, stellt die
Erfindung ein programmierbares ROM-System hoher Geschwindigkeit
bereit, das selektiv die Source-Elektrode eines Zellentransistors mit ei
ner virtuellen Masseleitung in Abhängigkeit von ROM-Daten verbindet,
so dass die Kapazität einer Bitleitung auf einem vorgegebenen Niveau
gehalten werden kann, ohne übermäßig groß oder klein zu werden. Dies
erlaubt gegenüber herkömmlichen Systemen eine vergleichsweise hohe
Betriebsgeschwindigkeit des programmierbaren ROM und eine Minimie
rung fehlerhafter Lesevorgänge programmierter Daten.
Claims (22)
1. Programmierbare Speicherzelle (M1 bis M16) für einen mehrere
programmierbare Speicherzellen enthaltenden Festwertspeicher (ROM),
mit
einer Wortleitung (WL0 bis WL3),
einer Bitleitung (BL0 bis BL1),
einer virtuellen Masseleitung (VG0, VG1, VG2) und
einem Zellentransistor (M1 bis M16),
dadurch gekennzeichnet, dass
die virtuelle Masseleitung (VG0, VG1, VG2) in Reaktion auf ein Steuersignal selektiv mit Masse verbunden ist und
der Zellentransistor (M1 bis M16) mit einer Gate-Elektrode an die Wortleitung (WL0 bis WL3) angeschlossen ist sowie eine erste und ei ne mit der Bitleitung (BL0, BL1) verbundene zweite Elektrode aufweist und durch selektives Verbinden der ersten Elektrode mit der virtuellen Masseleitung auf einen vorgegebenen Logikpegel programmiert ist.
einer Wortleitung (WL0 bis WL3),
einer Bitleitung (BL0 bis BL1),
einer virtuellen Masseleitung (VG0, VG1, VG2) und
einem Zellentransistor (M1 bis M16),
dadurch gekennzeichnet, dass
die virtuelle Masseleitung (VG0, VG1, VG2) in Reaktion auf ein Steuersignal selektiv mit Masse verbunden ist und
der Zellentransistor (M1 bis M16) mit einer Gate-Elektrode an die Wortleitung (WL0 bis WL3) angeschlossen ist sowie eine erste und ei ne mit der Bitleitung (BL0, BL1) verbundene zweite Elektrode aufweist und durch selektives Verbinden der ersten Elektrode mit der virtuellen Masseleitung auf einen vorgegebenen Logikpegel programmiert ist.
2. Programmierbare Speicherzelle nach Anspruch 1, weiter da
durch gekennzeichnet, dass der Zellentransistor ein Metall-Oxid-Halb
leiter-Transistor mit n-leitendem Kanal ist.
3. Programmierbare Speicherzelle nach Anspruch 1 oder 2, weiter
gekennzeichnet durch ein Schaltelement (SW0, SW1, SW2) zum selek
tiven Verbinden der virtuellen Masseleitung mit Masse in Reaktion auf
das Steuersignal.
4. Programmierbare Speicherzelle nach einem der Ansprüche 1 bis
3, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das selektive Verbinden der
ersten Elektrode mit der virtuellen Masseleitung in einem Kontaktloch
bildungsprozess während des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
5. Programmierbare Speicherzelle nach einem der Ansprüche 1 bis
3, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das selektive Verbinden der
ersten Elektrode mit der virtuellen Masseleitung in einem Metallleitungs-
Bildungsprozess während des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
6. Programmierbare Speicherzelle nach einem der Ansprüche 1 bis
3, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das selektive Verbinden der
ersten Elektrode mit der virtuellen Masseleitung in einem Durchkontakt
loch-Bildungsprozess während des Herstellungsprozesses festgelegt
wird.
7. Programmierbarer Festwertspeicher mit
mehreren Speicherzellen (M1 bis M16) mit je einer Gate- Elektrode, einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode,
mehreren Wortleitungen (WL0 bis WL3), von denen jede mit den Gate-Elektroden einer vorgegebenen Anzahl der mehreren Speicherzel len verbunden ist,
mehreren Bitleitungen (BL0, BL1), von denen jede mit den ers ten Elektroden einer vorgegebenen Anzahl der mehreren Speicherzel len verbunden und senkrecht zu den Wortleitungen angeordnet ist, und
mehreren virtuellen Masseleitungen (VG0, VG1, VG2),
dadurch gekennzeichnet, dass
die jeweilige virtuelle Masseleitung (VG0, VG1, VG2) selektiv in Reaktion auf Steuersignale mit Masse verbunden wird und senkrecht zu den Wortleitungen (WL0 bis WL3) angeordnet ist, wobei die mehreren Speicherzellen auf vorgegebene Logikpegel durch selektives Verbinden ihrer jeweiligen zweiten Elektrode mit einer der virtuellen Masseleitun gen programmiert sind.
mehreren Speicherzellen (M1 bis M16) mit je einer Gate- Elektrode, einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode,
mehreren Wortleitungen (WL0 bis WL3), von denen jede mit den Gate-Elektroden einer vorgegebenen Anzahl der mehreren Speicherzel len verbunden ist,
mehreren Bitleitungen (BL0, BL1), von denen jede mit den ers ten Elektroden einer vorgegebenen Anzahl der mehreren Speicherzel len verbunden und senkrecht zu den Wortleitungen angeordnet ist, und
mehreren virtuellen Masseleitungen (VG0, VG1, VG2),
dadurch gekennzeichnet, dass
die jeweilige virtuelle Masseleitung (VG0, VG1, VG2) selektiv in Reaktion auf Steuersignale mit Masse verbunden wird und senkrecht zu den Wortleitungen (WL0 bis WL3) angeordnet ist, wobei die mehreren Speicherzellen auf vorgegebene Logikpegel durch selektives Verbinden ihrer jeweiligen zweiten Elektrode mit einer der virtuellen Masseleitun gen programmiert sind.
8. Programmierbarer Festwertspeicher nach Anspruch 7, weiter
dadurch gekennzeichnet, dass jede Speicherzelle durch einen NMOS-
Transistor gebildet ist.
9. Programmierbarer Festwertspeicher nach Anspruch 7 oder 8,
weiter gekennzeichnet durch mehrere Schaltelemente (SW0, SW1,
SW2), von denen jede eine der virtuellen Masseleitungen in Reaktion
auf eines der Steuersignale mit Masse verbindet.
10. Programmierbarer Festwertspeicher nach einem der Ansprüche
7 bis 9, weiter gekennzeichnet durch eine Vorladeeinheit (60d), welche
die virtuellen Masseleitungen und die Bitleitungen in Reaktion auf ein
Vorladesignal und ein Zellengruppenauswahlsignal zum Auswählen ei
ner jeweiligen Speicherzellengruppe vorlädt.
11. Programmierbarer Festwertspeicher nach Anspruch 10, weiter
gekennzeichnet durch
eine Einheit (80) zum Auswählen einer jeweiligen virtuellen Mas seleitung, die in der Speicherzellengruppe enthalten ist, in Reaktion auf das Zellengruppenauswahlsignal und ein Auswahlsignal bezüglich der jeweiligen virtuellen Masseleitung und
eine Bitleitungsauswahleinheit (70) zum Auswählen einer jewei ligen, in der Speicherzellengruppe enthaltenen Bitleitung in Reaktion auf das Zellengruppenauswahlsignal und ein Bitleitungsauswahlsignal.
eine Einheit (80) zum Auswählen einer jeweiligen virtuellen Mas seleitung, die in der Speicherzellengruppe enthalten ist, in Reaktion auf das Zellengruppenauswahlsignal und ein Auswahlsignal bezüglich der jeweiligen virtuellen Masseleitung und
eine Bitleitungsauswahleinheit (70) zum Auswählen einer jewei ligen, in der Speicherzellengruppe enthaltenen Bitleitung in Reaktion auf das Zellengruppenauswahlsignal und ein Bitleitungsauswahlsignal.
12. Programmierbarer Festwertspeicher nach einem der Ansprüche
7 bis 11, weiter dadurch gekennzeichnet, dass jede Bitleitung mit den
ersten Elektroden zweier Speicherzellen, die einander in einer horizonta
len Richtung benachbart sind, verbunden ist und von diesen gemeinsam
genutzt wird.
13. Programmierbarer Festwertspeicher nach einem der Ansprüche
7 bis 11, weiter dadurch gekennzeichnet, dass jede Bitleitung mit den
ersten Elektroden von vier Speicherzellen, die einander in horizontaler
und vertikaler Richtung benachbart sind, verbunden ist und von diesen
gemeinsam genutzt wird.
14. Verfahren zum Schreiben binärer Daten auf einen Zellentransis
tor in einem programmierbaren Festwertspeicher, der mehrere Zellen
transistoren mit je einer Gate-Elektrode, einer ersten Elektrode in einer
zweiten Elektrode beinhaltet,
gekennzeichnet durch folgende Schritte:
gekennzeichnet durch folgende Schritte:
- - Verbinden der Gate-Elektrode und der ersten Elektrode mit einer Wortleitung (WL0 bis WL3) bzw. einer Bitleitung (BL0, BL1) und
- - selektives Verbinden der zweiten Elektrode mit einer virtuellen Masseleitung (VG0, VG1, VG2), die selektiv mit Masse verbunden wird, in Abhängigkeit von den zu schreibenden binären Daten.
15. Verfahren nach Anspruch 14, weiter dadurch gekennzeichnet,
dass zum Schreiben des binären Datenwertes "0" auf den Zellentransis
tor die zweite Elektrode mit der virtuellen Masseleitung verbunden wird
und zum Schreiben des binären Datenwerts "1" die zweite Elektrode ge
genüber der virtuellen Masseleitung potentialfrei gehalten wird.
16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, weiter dadurch gekenn
zeichnet, dass das selektive Verbinden der zweiten Elektrode mit der
virtuellen Masseleitung in einem Kontaktloch-Bildungsprozess während
des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, weiter dadurch gekenn
zeichnet, dass das selektive Verbinden der zweiten Elektrode mit der
virtuellen Masseleitung in einem Metallleitungs-Bildungsprozess wäh
rend des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
18. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, weiter dadurch gekenn
zeichnet, dass das selektive Verbinden der zweiten Elektrode mit der
virtuellen Masseleitung in einem Durchkontaktloch-Bildungsprozess
während des Herstellungsprozesses festgelegt wird.
19. Verfahren zum Lesen binärer Daten, die in einem Zellentransis
tor eines programmierbaren Festwertspeichers (ROM) gespeichert sind,
der mehrere Zellentransistoren mit je einer Gate-Elektrode, einer ersten
Elektrode und einer zweiten Elektrode aufweist,
gekennzeichnet durch folgende Schritte:
- - Vorladen einer mit der ersten Elektrode des Zellentransistors verbundenen Bitleitung auf einen vorgebbaren Pegel,
- - Entladen des elektrischen Potentials der im Vorladeschritt vor geladenen Bitleitung auf Masse über eine virtuelle Masseleitung, wenn die zweite Elektrode des Zellentransistors mit der virtuellen Masselei tung verbunden ist,
- - Beibehalten des elektrischen Potentials der im Vorladeschritt vorgeladenen Bitleitung, wenn die zweite Elektrode des Zellentransistors nicht mit der virtuellen Masseleitung verbunden ist,
- - Abtasten des elektrischen Potentials der Bitleitung und
- - Vergleichen des abgetasteten elektrischen Potentials der Bitlei tung mit einem elektrischen Referenzpotential und Lesen binärer ROM- Daten abhängig vom Vergleichsergebnis.
20. Verfahren nach Anspruch 19, weiter dadurch gekennzeichnet,
dass die Bitleitung im Vorladeschritt auf einen hohen Logikpegel oder
auf einen zugeführten Leistungsversorgungspegel aufgeladen wird.
21. Verfahren nach Anspruch 20, weiter dadurch gekennzeichnet,
dass
ein internes Taktsignal aktiviert wird, wenn von außen ein Takt signal angelegt wird, mit dem das Lesen von Daten angefordert wird, und in Reaktion auf das interne Taktsignal ein Steuersignal entladen wird, welches die Deaktivierung des internen Taktsignals und die Akti vierung eines Abtastsignals steuert,
in Reaktion auf das interne Taktsignal eine Wortleitung aktiviert und das Vorladen der Bitleitung gestoppt wird,
der Zellentransistor aus den mehreren Zellentransistoren durch ein Auswahlsignal bezüglich einer jeweiligen virtuellen Masseleitung und durch ein Bitleitungsauswahlsignal, das in Reaktion auf das interne Taktsignal bereitgestellt wird, für die Abfrage ausgewählt wird, ob seine zweite Elektrode mit einer virtuellen Masseleitung verbunden ist,
in Reaktion darauf, dass das Steuersignal unter einen vorgege benen Pegel fällt, das interne Taktsignal deaktiviert und das Abtastsig nal aktiviert werden und
das Abtasten des elektrischen Potentials der mit der ersten E lektrode des ausgewählten Zellentransistors verbundenen Bitleitung in Reaktion auf das aktivierte Abtastsignal erfolgt.
ein internes Taktsignal aktiviert wird, wenn von außen ein Takt signal angelegt wird, mit dem das Lesen von Daten angefordert wird, und in Reaktion auf das interne Taktsignal ein Steuersignal entladen wird, welches die Deaktivierung des internen Taktsignals und die Akti vierung eines Abtastsignals steuert,
in Reaktion auf das interne Taktsignal eine Wortleitung aktiviert und das Vorladen der Bitleitung gestoppt wird,
der Zellentransistor aus den mehreren Zellentransistoren durch ein Auswahlsignal bezüglich einer jeweiligen virtuellen Masseleitung und durch ein Bitleitungsauswahlsignal, das in Reaktion auf das interne Taktsignal bereitgestellt wird, für die Abfrage ausgewählt wird, ob seine zweite Elektrode mit einer virtuellen Masseleitung verbunden ist,
in Reaktion darauf, dass das Steuersignal unter einen vorgege benen Pegel fällt, das interne Taktsignal deaktiviert und das Abtastsig nal aktiviert werden und
das Abtasten des elektrischen Potentials der mit der ersten E lektrode des ausgewählten Zellentransistors verbundenen Bitleitung in Reaktion auf das aktivierte Abtastsignal erfolgt.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, weiter dadurch
gekennzeichnet, dass das Vergleichen des elektrischen Potentials der
Bitleitung mit dem elektrischen Referenzpotential und das davon abhän
gige Lesen binärer ROM-Daten folgende Schritte umfasst:
- - Lesen eines binären Datenwertes "1", wenn das abgetastete e lektrische Potential der Bitleitung größer als das elektrische Referenzpo tential ist, und
- - Lesen eines binären Datenwertes "0", wenn das abgetastete e lektrische Potential der Bitleitung kleiner als das elektrische Referenzpo tential ist.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20010020809 | 2001-04-18 | ||
KR2001-20809 | 2001-04-18 | ||
KR10-2002-0020234A KR100468724B1 (ko) | 2001-04-18 | 2002-04-13 | 고속의 프로그래머블 롬 시스템 및 그를 위한 메모리 셀구조와 상기 프로그래머블 롬에서의 데이터 기록 및 독출방법 |
KR2002-20234 | 2002-04-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10218272A1 true DE10218272A1 (de) | 2002-10-31 |
DE10218272B4 DE10218272B4 (de) | 2007-09-20 |
Family
ID=26638996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10218272A Expired - Lifetime DE10218272B4 (de) | 2001-04-18 | 2002-04-18 | Programmierbarer Festwertspeicher, Speicherzelle hierfür und zugehöriges Verfahren zum Schreiben/Lesen von Daten |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6861714B2 (de) |
JP (1) | JP2002352592A (de) |
DE (1) | DE10218272B4 (de) |
TW (1) | TW594768B (de) |
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- 2002-04-18 TW TW091107945A patent/TW594768B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
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US6861714B2 (en) | 2005-03-01 |
US7382640B2 (en) | 2008-06-03 |
US20050122760A1 (en) | 2005-06-09 |
DE10218272B4 (de) | 2007-09-20 |
US20020179999A1 (en) | 2002-12-05 |
JP2002352592A (ja) | 2002-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
R071 | Expiry of right |