DE102019212581A1

DE102019212581A1 - Polierscheibe

Info

Publication number: DE102019212581A1
Application number: DE102019212581.6A
Authority: DE
Inventors: Katsuyoshi Kojima; Arisa Kuroda
Original assignee: Disco Corp
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2018-08-22
Filing date: 2019-08-22
Publication date: 2020-02-27
Also published as: JP7098240B2; KR20200022331A; TWI823988B; JP2020028944A; US20200061773A1; TW202009100A; US11612979B2; CN110856908A; CN110856908B

Abstract

Eine Polierscheibe weist ein scheibenförmiges Substrat und eine Polierschicht auf, von der eine obere Oberflächenseite an dem Substrat anhaftet. Die Polierschicht beinhaltet mehrere Durchgangslöcher, welche die Polierscheibe vertikal durchdringen und die mit einer Polierflüssigkeit versorgt werden, und mehrere Nuten, die an der unteren Oberflächenseite der Polierscheibe ausgebildet sind und die mit den Durchgangslöchern verbunden sind. Die mehreren Durchgangslöcher sind so ausgebildet, dass sie das Zentrum der Polierschicht umgeben und die mehreren Nuten sind radial von den mehreren Durchgangslöchern zu der äußeren Umgebung der Polierschicht ausgebildet.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Polierscheibe zur Verwendung beim Polieren eines Werkstücks.
Beschreibung des Stands der Technik
Ein Wafer, der mit Bauelementen wie integrierten Schaltungen (ICs) und large scale integrations (LSIs) an einer vorderen Oberflächenseite ausgebildet ist, wird entlang Straßen geteilt, wodurch mehrere Bauelementchips, die jeweils das Bauelement beinhalten, erhalten werden. Die Chips werden in verschiedenen elektronischen Vorrichtung verwendet. In den vergangenen Jahren zusammen mit der Reduktion der Größe und Dicke der elektronischen Vorrichtungen existierte auch der Bedarf, dass die Chips in ihrer Größe und Dicke reduziert werden. Deswegen wurde eine Technik zum Dünnen ausgestaltet der Chips durch Schleifen der hinteren Oberflächenseite des Wafers durch mehrere Schleifsteine verwendet. Zum Schleifen wird eine Schleifvorrichtung, die mit mehreren Schleifsteinen ausgestaltet ist, verwendet. Zum Beispiel offenbart die japanische Offenlegungsschrift Nummer 2000-288881 eine Schleifvorrichtung, welche einen Wafer unter Verwendung von mehreren Schleifsteinen, die abrasive Körner mit großer Partikelgröße aufweisen, zum rauen Schleifen und mehreren Schleifsteinen, die abrasive Körner mit kleiner Partikelgröße beinhalten, zum abschließenden Schleifen schleift.
Wenn die hintere Oberflächenseite des Wafers durch die Schleifsteine geschliffen wird, können kleine Unebenheiten (Vorsprünge und Vertiefungen) oder Risse in dem geschliffenen Bereich ausgebildet werden. Wenn ein Bereich, in dem die Unebenheiten oder Risse ausgebildet sind (verformte Schicht), vorliegt, ist die Die-Festigkeit der Chips, die durch Teilen der Wafer erhalten wird, verringert und darum ist es wünschenswert, dass die verformte Schicht nach dem Schleifen entfernt wird. Das Entfernen der verformten Schicht wird zum Beispiel durch Polieren der hinteren Oberflächenseite des Wafers unter Verwendung einer Poliervorrichtung durchgeführt. Die japanische Offenlegungsschrift Nummer Hei 8-99265 offenbart eine Poliervorrichtung, die einen Einspanntisch zum Halten eines Wafers und eine Poliereinheit (Poliermittel) zum Polieren des Wafers, der durch den Einspanntisch gehalten ist, beinhaltet. Die Poliereinheit der Poliervorrichtung ist mit einer scheibenförmigen Polierscheibe zum Polieren des Wafers ausgebildet. Zum Zeitpunkt des Polierens wird die Polierscheibe in Kontakt mit dem Wafer gebracht, während sie gedreht wird. Zusätzlich zum Zeitpunkt des Polierens des Wafers wird eine Polierflüssigkeit zu dem Bereich zwischen der Polierscheibe und dem Wafer durch ein Durchgangsloch (Zufuhrdurgang für Polierflüssigkeit), das in einem zentralen Abschnitt der Polierscheibe ausgebildet ist, zugeführt. Als die Polierflüssigkeit wird zum Beispiel eine chemische Flüssigkeit (dünnflüssiger Schlamm), in dem freie abrasive Körner dispergiert sind, verwendet. Die Polierflüssigkeit wirkt chemisch und mechanisch auf den Wafer, wodurch der Wafer poliert wird.
DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
Zum Zeitpunkt des Polierens des Wafers unter Verwendung der Poliervorrichtung wird die Polierscheibe so positioniert, dass sie in Kontakt mit dem gesamten Teil der Oberfläche des zu bearbeiteten Wafers, der durch den Einspanntisch gehalten ist, kommt. Hier in dem Fall, in dem der Durchmesser des Wafers vergleichsweise groß ist, ist der Zufuhrdurchgang für eine Polierflüssigkeit, der in dem zentralen Abschnitt der Polierscheibe ausgebildet ist, durch den Wafer bedeckt, sodass die Polierflüssigkeit einfach zu der Oberfläche des zu bearbeiteten Wafers durch den Zufuhrdurgang für eine Polierflüssigkeit zugeführt werden kann. Andererseits wenn der Durchmesser des Wafers klein ist, sogar falls die Polierscheibe so positioniert ist, dass sie in Kontakt mit dem gesamten Teil der Oberfläche des zu bearbeiteten Wafers kommt, kann der Zufuhrdurgang für die Polierflüssigkeit freiliegen, sodass er nicht von dem Wafer bedeckt wird. In diesem Fall kann der größte Teil der Polierflüssigkeit, die zu dem Zufuhrdurchgang für eine Polierflüssigkeit zugeführt wird, abfließen, ohne zu der zu bearbeiteten Oberfläche des Wafers zugeführt zu werden, und die Zufuhr der Polierflüssigkeit zu dem Bereich zwischen der Polierscheibe und dem Wafer kann nicht ausreichend sein. Als ein Ergebnis kann ein Problem, dass das Polieren des Wafers nicht geeignet durchgeführt wird, ein Problem, dass Schleifabrieb, der durch das Polieren generiert wird, (Polierabrieb) nicht geeignet abgeführt wird oder dergleichen auftreten, sodass eine falsche Bearbeitung leicht auftreten kann.
Die vorliegende Erfindung wurde unter Beachtung des oben genannten Problems gemacht. Entsprechend ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung eine Polierscheibe bereitzustellen, die eine Polierflüssigkeit geeignet zuführen kann.
In Übereinstimmung mit einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Polierscheibe bereitgestellt, die ein scheibenförmiges Substrat und eine Polierschicht aufweist, deren eine obere Oberflächenseite an dem Substrat angebracht ist, wobei die Polierschicht mehrere Durchgangslöcher, die so ausgebildet sind, dass sie die Polierschicht vertikal durchdringen und zu denen eine Polierflüssigkeit zugeführt wird, und die mehreren Nuten beinhaltet, die an einer unteren Oberflächenseite der Polierschicht ausgebildet sind und die mit den Durchgangslöchern verbunden sind, die mehreren Durchgangslöcher so ausgebildet sind, dass sie ein Zentrum der Polierschicht umgeben, und die mehreren Nuten radial von den mehreren Durchgangslöchern zu einer äußeren Umgebung der Polierschicht ausgebildet sind.
Beachte, dass mehrere konzentrische kreisförmige Nuten, die mit den Nuten verbunden sind, in einem Bereich an der unteren Oberflächenseite der Polierscheibe ausgebildet sein können, wobei der Bereich an der äußeren Umfangsseite der Polierscheibe im Vergleich zu den mehreren Durchgangslöcher liegt. Zusätzlich können die Nuten, die mit den Durchgangslöchern verbunden sind, so ausgebildet sein, dass sie die äußere Umgebung der Polierschicht nicht erreichen.
Die Polierscheibe entsprechend dem beschriebenen Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet mehrere Durchgangslöcher, die so ausgebildet sind, dass sie die Polierschicht vertikal durchdringen, und die mehreren Nuten, die an der unteren Oberflächenseite der Polierschicht ausgebildet sind und mit den Durchgangslöchern verbunden sind. Wenn diese Polierscheibe verwendet wird, wird die Polierflüssigkeit einfach zu dem gesamten Bereich an der unteren Oberflächenseite der Polierscheibe durch die Nuten zugeführt und die Polierflüssigkeit kann geeignet zu dem Bereich zwischen der Polierschicht und dem Werkstück zugeführt werden.
Das obige und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung und die Weise des Realisierens dieser wird klarer und die Erfindung selbst am besten durch ein Studieren der folgenden Beschreibung und angehängten Ansprüche mit Bezug zu den beigefügten Figuren verstanden, die eine bevorzugte Ausführung der Erfindung zeigen.
Figurenliste

1 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Konfigurationsbeispiel einer Poliervorrichtung darstellt;
2 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Polierscheibe darstellt;
3 ist eine Aufsicht von unten, die eine Polierscheibe darstellt;
4 ist eine Schnittansicht, die eine Poliereinheit darstellt;
5 ist eine Aufsicht von unten, die eine Modifikation der Polierscheibe, die in 3 dargestellt ist, darstellt;
6 ist eine Aufsicht von unten, die eine andere Polierscheibe darstellt;
7 ist eine Aufsicht von unten, die eine Modifikation der Polierscheibe darstellt, die in 6 dargestellt ist; und
8 ist eine Aufsicht von unten, die eine andere Polierscheibe darstellt.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird im Folgenden mit Bezug zu den angehängten Figuren beschrieben. 1 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Konfigurationsbeispiel einer Poliervorrichtung darstellt, an welcher eine Polierscheibe entsprechend der vorliegenden Ausführungsform befestigt ist. Die Poliervorrichtung 2 ist eine Bearbeitungsvorrichtung zum Polieren eines Werkstücks 1, mit einer Polierscheibe.
Das Werkstück 1, das durch die Poliervorrichtung 2 poliert werden soll, beinhaltet zum Beispiel einen scheibenförmigen Wafer oder dergleichen, der mit Bauelementen (nicht dargestellt) wie ICs und LSIs an einer vorderen Oberflächenseite ausgebildet ist. Das Material, die Form, Struktur, Größe und dergleichen des Werkstücks 1 sind nicht beschränkt und es kann zum Beispiel ein Wafer, der aus einem Halbleiter (Silizium, GaAs, InP, GaN, SiC usw.) Glas, Saphir, Keramik, Kunststoffmetall oder dergleichen ausgebildet ist, als das Werkstück 1 verwendet werden. Zusätzlich kann das Werkstück 1 ein Wafer aus Lithiumtantalat oder Lithiumniobat sein. Darüber hinaus ist die Art, Anzahl, Form, Struktur, Größe, Anordnung und dergleichen der Bauelemente nicht beschränkt.
Das Werkstück 1 ist in mehrere Bereiche durch mehrere Straßen aufgeteilt, die in einem Gittermuster angeordnet sind, sodass sie einander kreuzen und Bauelemente sind in den mehreren Bereichen ausgebildet. Durch Teilen des Werkstück 1 entlang der Straßen werden mehrere Bauelementchips, die jeweils das Bauelemente beinhalten, erhalten. Zum Zwecke des Ausdünnens der Chips kann das Werkstück 1, bevor es geteilt wird, dem Schleifen ausgesetzt werden. Insbesondere wird die hintere Oberflächenseite des Werkstück 1 durch mehrere Schleifsteine geschliffen, um das Werkstück 1 dünn auszugestalten. Jedoch, wenn die hintere Oberflächenseite des Werkstücks 1 durch die Schleifsteine geschliffen wird, können kleine Unebenheiten (Vorsprünge und Vertiefungen) und/oder Risse in dem geschliffenen Bereich ausgebildet werden. Wenn der Bereich (verformte Schicht), in dem die Unebenheiten und/oder die Risse ausgebildet sind, vorliegt, ist die Die-Festigkeit der Chips, die durch Teilen des Werkstücks 1 erhalten werden, abgesenkt und darum ist es bevorzugt, dass die verformte Schicht nach dem Schleifen entfernt wird. Die Poliervorrichtung 2 wird zum Beispiel zum Entfernen der verformten Schicht verwendet. Insbesondere wird die hintere Oberflächenseite des Werkstücks 1 durch die Poliervorrichtung 2 poliert, wodurch die verformte Schicht entfernt wird. Als ein Ergebnis wird ein Absenken der Die-Festigkeit der Chips unterdrückt.
Zum Zeitpunkt des Polierens der hinteren Oberflächenseite des Werkstücks 1 wird ein Schutzband 3 zum Schützen der Bauelemente an der vorderen Oberflächenseite des Werkstücks 1 angebracht. Das Schutzband 3 beinhaltet zum Beispiel ein flexibles filmförmiges Substrat und eine Klebstoffschicht (haftvermittelnde Schicht), die an dem Substrat ausgebildet ist. Als das Substrat können zum Beispiel Polyolefine (PO), Polyethylenterephthalat (PET), Polyvinylchlorid, Polyethylen oder dergleichen verwendet werden. Zusätzlich kann für die Klebeschicht zum Beispiel Silikon, Kunststoff, Acrylmaterialien, Epoxidmaterialen und dergleichen verwendet werden.
Die Poliervorrichtung 2 beinhaltet eine Basis 4, welche die Komponenten der Poliervorrichtung 2 trägt. An der vorderen Seite an der Basis 4 sind Kassettenbefestigungsbasen 6a und 6b bereitgestellt. Zum Beispiel ist eine Kassette 8a, in der das Werkstück 1 vor einem Polieren aufgenommen ist, an der Kassettenbefestigungsbasis 6a befestigt und zum Beispiel ist eine Kassette 8b, in welcher das Werkstück 1 nach einem Polieren aufgenommen ist, an der Kassettenbefestigungsbasis 6b befestigt. Eine Öffnung 4a ist in einem Bereich zwischen der Kassettenbefestigungsbasis 6a und der Kassettenbefestigungsbasis 6b ausgebildet. In der Öffnung 4a ist ein erster Fördermechanismus 10 zum Fördern des Werkstücks 1 bereitgestellt. Zusätzlich in einem Bereich an der vorderen Seite der Öffnung 4a ist eine Bedientafel 12 zum Eingeben von Polierbedingungen und dergleichen angeordnet.
An einer geneigten hinteren Seite des ersten Fördermechanismus 10 ist ein Anpassungsmechanismus 14 für eine Position zum Anpassen der Position des Werkstücks 1 bereitgestellt. Das Werkstück 1, das in der Kassette 8a aufgenommen ist, wird zu dem Anpassungsmechanismus 14 für eine Position durch den ersten Fördermechanismus 10 zugeführt und die Position des Werkstücks 1 wird durch den Anpassungsmechanismus 14 für eine Position angepasst. Darüber hinaus in der Nähe des Anpassungsmechanismus 14 für eine Position ist ein zweiter Fördermechanismus (Ladearm 16) zum Halten und Drehen des Werkstücks 1 angeordnet.
An einer oberen Oberflächenseite der Basis 4, die an der hinteren Seite des zweiten Fördermechanismus 16 liegt, ist eine Öffnung 4b in rechteckiger Form in einer Aufsicht bereitgestellt. Die Öffnung 4b ist so ausgebildet, dass ihre Längsrichtung entlang einer X Achsenrichtung (vorne-hinten Richtung) ist. Ein X-Achsenbewegungsmechanismus 18 eines Kugelrollspindeltyps und eine staubsichere und tropfensichere Abdeckung 20, die ein Teil des X-Achsenbewegungsmechanismus 18 bedeckt, sind in der Öffnung 4b bereitgestellt. Zusätzlich beinhaltet der X-Achsenbewegungsmechanismus 18 einen Bewegungstisch 22 und die Position des Bewegungstischs 22 in der X-Achsenrichtung wird durch den X-Achsenbewegungsmechanismus 18 gesteuert.
Ein Einspanntisch 24, der das Werkstück 1 hält, ist an dem Bewegungstisch 22 bereitgestellt und eine Oberfläche des Einspanntischs 24 bildet eine Halteoberfläche 24a, die das Werkstück 1 hält. Beachte, dass ein Beispiel, in dem die Halteoberfläche 24a in einer kreisförmigen Form in einer Aufsicht ausgebildet ist, in 1 dargestellt ist, bei der angenommen wird, dass insbesondere ein scheibenförmiges Werkstück gehalten wird, die Form der Halteoberfläche 24a geeignet modifiziert entsprechend der Form des Werkstücks oder dergleichen sein kann. Die Halteoberfläche 24a ist mit einer Saugquelle (nicht dargestellt) durch einen Saugdurchgang (nicht dargestellt) verbunden, der in dem Einspanntisch 24 ausgebildet ist. Das Werkstück 1, das an dem Anpassungsmechanismus 14 für eine Position angeordnet ist, wird auf die Halteoberfläche 24a des Einspanntischs 24 durch den zweiten Fördermechanismus 16 gefördert und ein negativer Druck der Saugquelle wird dazu gebracht, an der Halteoberfläche 24a zu wirken, wodurch das Werkstück 1 durch den Einspanntisch 24 unter einem Saugen gehalten wird. Wenn der Bewegungstisch 22 durch den X-Achsenbewegungsmechanismus 18 bewegt wird, wird der Einspanntisch 24 in der X-Achsenrichtung zusammen mit dem Bewegungstisch 22 bewegt. Zusätzlich ist der Einspanntisch 24 mit einer Drehantriebsquelle (nicht dargestellt) wie einem Motor verbunden und wird um eine Drehachse gedreht, die im Wesentlichen parallel zu einer Z-Achsenrichtung (vertikale Richtung) ist.
Ein Trägeraufbau 26, der eine rechteckige parallelepiped Form aufweist, ist an einem hinteren Ende der Basis 4 bereitgestellt und ein Z-Achsenbewegungsmechanismus 28 ist an einer vorderen Oberflächenseite des Trägeraufbaus 96 bereitgestellt. Der Z-Achsenbewegungsmechanismus 28 beinhaltet ein Paar Z-Achsenführungsschienen 30, die entlang der Z-Achsenrichtung an der vorderen Oberflächenseite des Trägeraufbaus 26 bereitgestellt sind und eine Z-Achsenbewegungsplatte 32 ist an dem Paar Z-Achsenführungsschienen 30, sodass sie entlang der Z-Achsenrichtung gleiten kann, befestigt. Ein Mutterabschnitt (nicht dargestellt) ist an einer hinteren Oberflächenseite (Oberfläche der Rückseite) der Z-Achsenbewegungsplatte 32 bereitgestellt und der Mutterabschnitt ist in Schraubeingriff mit einer Z-Achsenkugelrollspindel 34, die entlang einer Richtung Wesentlichen parallel zu den Z-Achsenführungsschienen 30 angeordnet ist. Zusätzlich ist ein Z-Achsenpulsmotor 36 mit einem Endabschnitt der Z-Achsenkugelrollspindel 34 verbunden. Wenn die Z-Achsenkugelrollspindel 34 durch den Z-Achsenpulsmotor 36 gedreht wird, wird die Z-Achsenbewegungsplatte 32 in der Z-Achsenrichtung entlang den Z-Achsenführungsschienen 30 bewegt.
Ein Trägerwerkzeug 38, das nach vorne hervorsteht, ist an der vorderen Oberflächenseite der Z-Achsenbewegungsplatte 32 bereitgestellt und das Trägerwerkzeug 38 trägt eine Poliereinheit (Poliermittel) 40, welches das Werkstück 1 poliert. Die Poliereinheit 40 beinhaltet ein Spindelgehäuse 42, das an dem Trägerwerkzeug 38 fixiert ist, und eine Spindel 44, die als eine Welle dient, die in einem drehbaren Zustand in dem Spindelgehäuse 42 aufgenommen ist. Ein Spitzenabschnitt (unterer Endabschnitt) der Spindel 44 liegt außerhalb des Spindelgehäuses 42 frei und eine scheibenförmige Befestigung 46 ist an dem Spitzenabschnitt der Spindel 44 fixiert. Zusätzlich ist eine scheibenförmige Polierscheibe 48, die so ausgestaltet ist, dass der Durchmesser im Wesentlichen gleich dem Durchmesser der Befestigung 46 ist, an einer unteren Oberflächenseite der Befestigung 46 befestigt. Das Befestigen der Polierscheibe 48 wird zum Beispiel durch Fixieren der Befestigung 46 und der Polierscheibe 48 durch Schrauben 50 durchgeführt. Es sei angemerkt, dass jedoch das Befestigungsverfahren der Polierscheibe 48 nicht beschränkt ist.
Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 wird zuerst das Werkstück 1 unter einem Saugen durch den Einspanntisch 24 in einer solchen Weise gehalten, dass die zu polierende Oberfläche (zu bearbeitende Oberfläche) durch die Poliereinheit 40, an der oberen Seite frei liegt. Dann wird der Einspanntisch 24 durch den X-Achsenbewegungsmechanismus 18 bewegt, um den Einspanntisch 34 an einer Position unterhalb der Polierscheibe 48 zu positionieren. Danach, während der Einspanntisch 24 und die Spindel 44 mit einer vorbestimmten Drehgeschwindigkeiten in vorbestimmten Richtungen gedreht werden, wird die Polierscheibe 48 mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit abgesenkt, um die Polierscheibe 48 in Kontakt mit der Oberfläche des Werkstücks 1, die bearbeitet werden soll, zu bringen. Als ein Ergebnis wird das Werkstück 1 durch die Polierscheibe 48 poliert. Die Poliereinheit 40 ist dabei mit einem Zufuhrdurchgang für eine Polierflüssigkeit 42 ausgebildet, der durch die Poliereinheit 40 in der Z-Achsenrichtung geführt ist und eine andere Endseite des Zufuhrdurchgangs 52 für eine Polierflüssigkeit ist mit einer Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit verbunden. Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1, das unter einem Saugen an dem Einspanntisch 24 gehalten ist, wird durch die Polierscheibe 48 eine Polierflüssigkeit von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit zu dem Werkstück 1 und der Polierscheibe 48 durch den Zufuhrdurchgang 52 für eine Polierflüssigkeit zugeführt.
An einer Position benachbart zu dem zweiten Fördermechanismus 16 ist ein dritter Fördermechanismus (Entnahmearm) 56 zum Halten und Schwenken des Werkstücks 1 angeordnet. Zusätzlich ist ein Reinigungsmechanismus 48 zum Reinigen des Werkstücks 1 an der vorderen Seite des dritten Fördermechanismus 56 angeordnet. Das Werkstück 1, das durch die Poliereinheit 40 poliert wurde, wird zu dem Reinigungsmechanismus 58 durch den dritten Fördermechanismus 56 gefördert und wird durch den Reinigungsmechanismus 58 gereinigt. Dann wird das gereinigte Werkstück 1 zu dem ersten Fördermechanismus 10 gefördert und in der Kassette 8b aufgenommen.
2 ist eine perspektivische Ansicht, welche die Polierscheibe 48, die an der Poliereinheit 40 befestigt ist, darstellt. Die Polierscheibe 48 beinhaltet ein scheibenförmiges Substrat 70, das aus einem metallischen Material wie Edelstahl und Aluminium und einem Kunststoff wie Polyphenylensulfid (PPS) ausgebildet ist. Das Substrat 70 beinhaltet eine obere Oberfläche 70a, die an der Befestigung 46 befestigt ist, und eine untere Oberfläche 70b, die im Wesentlichen parallel zu der oberen Oberfläche 70a ist. Das Substrat 70 ist an der oberen Oberflächenseite 70a mit mehreren Gewindelöchern 70c ausgebildet, in welche die Schrauben 50 (siehe 1) zum Fixieren der Befestigung 46 und der Polierscheibe 48 eingeführt werden können. Die mehreren Gewindelöcher 70c sind im Wesentlichen in regelmäßigen Abständen entlang einer umfänglichen Richtung des Substrats 70 ausgebildet. Beachte, dass die Anzahl der Gewindelöcher 70c nicht beschränkt ist. Das Substrat 70 ist in einem zentralen Abschnitt mit einem zylindrischen Durchgangsloch 70d ausgebildet, welches in das Substrat 70 von der oberen Oberfläche 70a zu der unteren Oberfläche 70b durchdringt. Dieses Durchgangsloch 70d entspricht zumindest teilweise dem Zufuhrdurchgang 52 für eine Polierflüssigkeit (siehe 1), die in der Poliereinheit 40 ausgebildet ist. Beachte, dass die Größe des Durchgangslochs 70d nicht beschränkt ist; zum Beispiel ist das Durchgangsloch 70d mit einem Durchmesser von ungefähr 10 bis 50 mm ausgebildet.
Eine Polierschicht 72 zum Polieren des Werkstücks 1 ist an der unteren Oberflächenseite 70b des Substrats 70 fixiert. Die Polierschicht 72 ist in einer scheibenförmigen Form im Wesentlichen gleich dem Durchmesser des Substrats 70 ausgebildet und beinhaltet eine obere Oberfläche 72a, die an der unteren Oberflächenseite 70b des Substrats 70 fixiert ist, und eine untere Oberfläche 72b im Wesentlichen parallel zu der oberen Oberfläche 72a. Die untere Oberfläche 72b der Polierschicht 72 bildet eine Oberfläche (Polieroberfläche) zum Polieren der Oberfläche, die bearbeitet werden soll, des Werkstücks 1 aus. Die Polierschicht 72 ist zum Beispiel an der unteren Oberflächenseite 70b des Substrats 70 durch einen Haftvermittler oder dergleichen angebracht. Die Polierschicht 72 ist zum Beispiel durch Dispergieren abrasiver Körner (fixierter abrasiver Körner) in einem nicht gewebten Stoff oder Polyurethanschaum ausgebildet. Als die abrasiven Körner können zum Beispiel welche aus Quarz verwendet werden, die ein Partikeldurchmesser von 0,1 bis 10 µm aufweisen. Es sei angemerkt, dass der Partikeldurchmesser, das Material und dergleichen der abrasiven Körner geeignet modifiziert entsprechend des Materials des Werkstücks 1 und der gleichen geeignet modifiziert werden können. In dem Fall, in dem die abrasiven Körner in der Polierschicht 72 beinhaltet sind, wird eine Polierflüssigkeit, welche abrasive Körner nicht enthält, als die Polierflüssigkeit, die von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit zugeführt wird, verwendet (siehe 1). Als die Polierflüssigkeit kann zum Beispiel eine alkalische Lösung mit Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid oder dergleichen darin gelöst verwendet werden oder saure Flüssigkeiten die Permanganat oder dergleichen enthalten. Zusätzlich kann reines Wasser auch als die Polierflüssigkeit verwendet werden. Andererseits muss die Polierschicht 72 keine abrasiven Körner enthalten. In diesem Fall wird eine chemische Flüssigkeit (dünnflüssiger Schlamm) in dem abrasive Körner (freie abrasive Körner) dispergiert sind, als die Polierflüssigkeit, die von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit (siehe 1) zugeführt werden, dispergiert. Das Material der chemischen Flüssigkeit, das Material der abrasiven Körner, der Partikeldurchmesser der abrasiven Körner und dergleichen werden geeignet entsprechend dem Material des Werkstücks 1 und dergleichen ausgewählt.
Zu dem Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 wird die Polierscheibe 48 durch Drehen der Spindel 44 in einem Zustand, in dem die Polierscheibe 48 an der Befestigung 46 befestigt ist, wie in 1 dargestellt, gedreht. Dann, während die Polierflüssigkeit von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit zu dem Bereich zwischen der Polierscheibe 48 und dem Werkstück 1 durch den Zufuhrdurchgang 52 für eine Polierflüssigkeit zugeführt wird, wird die Polierscheibe 48 beim Drehen gegen die Oberfläche, die bearbeitet werden soll, des Werkstücks 1, das durch den Einspanntisch 4 gehalten ist, gedrückt. Als ein Ergebnis wird die zu bearbeitende Oberfläche des Werkstücks 1 durch die untere Oberfläche 27b (Polieroberfläche) der Polierschicht 72 poliert.
Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 kommt die Polierschicht 72 der Polierscheibe 48 in Kontakt mit dem gesamten Teil der Oberfläche, die bearbeitet werden soll, des Werkstücks 1. Hier in dem Fall, in dem zum Beispiel der Durchmesser des Werkstücks 1 größer als der Radius der Polieroberfläche 72 ist, ist ein unteres Ende des Zufuhrdurchgangs 52 für eine Polierflüssigkeit durch das Werkstück 1 bedeckt, sodass die Polierflüssigkeit wahrscheinlich zu der Oberfläche, die bearbeitet werden soll, des Werkstücks 1 durch den Zufuhrdurchgang 52 für eine Polierflüssigkeit zugeführt wird. Andererseits wo zum Beispiel der Durchmesser des Werkstücks 1 kleiner als der Radius der Polierschicht 72 ist, wird das untere Ende des Zufuhrdurchgangs 52 für eine Polierflüssigkeit nicht durch das Werkstück 1 bedeckt sondern ist in einem freiliegendem Zustand. Wenn die Polierflüssigkeit zu dem Zufuhrdurchgangs 52 für Polierflüssigkeit in diesem Zustand zugeführt wird, würde der Hauptteil der Polierflüssigkeit abfließen, ohne zu der Oberfläche, die bearbeitet werden soll, des Werkstücks 1 zugeführt zu werden, was wahrscheinlich in einem nicht ausreichenden Zuführen der Polierflüssigkeit zu dem Bereich zwischen dem Werkstück 1 und der Polierscheibe 48 führt. Als ein Ergebnis kann ein Problem, dass das Polieren des Werkstücks 1 nicht geeignet durchgeführt wird, ein Problem, dass Schleifstaub, der durch Polieren (Polierstaub) generiert wird, nicht geeignet abgeführt wird oder dergleichen auftreten und eine beschädigende Bearbeitung kann wahrscheinlich auftreten.
Die Polierscheibe 48 entsprechend der vorliegenden Ausführungsform beinhaltet mehrere Durchgangslöcher, die so ausgebildet sind, dass sie die Polierschicht 72 vertikal durchdringen, und mehrere Nuten, die an der unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 ausgebildet sind und mit den Durchgangslöchern verbunden sind. Mit der Verwendung dieser Polierscheibe 48 wird die Polierflüssigkeit einfach zu dem gesamten Bereich der unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 durch die Nuten zugeführt, sodass die Polierflüssigkeit geeignet zu dem Bereich zwischen der Polierschicht 72 in dem Werkstück 1 zugeführt werden kann.
3 ist eine Aufsicht von unten, die eine Polierscheibe 48 darstellt. Die Polierschicht 72 ist in ihrem zentralen Abschnitt mit mehreren Durchgangslöchern 72c ausgebildet, welche durch die Polierschicht 72 von der oberen Schicht 72a zu der unteren Schicht 72b durchdringen und die so angeordnet sind, dass sie das Zentrum O₁ der Polierscheibe 72 umgeben. Die mehreren Durchgangslöcher 72c sind zum Beispiel in einer zylindrischen Form ausgebildet und sind in rechteckigen Abständen entlang des Umfangs (äußere Umgebung) eines Kreises angeordnet, der einen vorbestimmten Durchmesser aufweist, mit dem Zentrum O₁ der Polierschicht 72 als das Zentrum des Kreises.
Beachte, dass die mehreren Durchgangslöcher 72c an solchen Positionen ausgebildet sind, dass sie mit dem Durchgangsloch 70d (siehe 2) des Substrats 70 überlappen, d. h. in dem Bereich, in dem das Durchgangsloch 70d in einer Aufsicht von unten ausgebildet ist. Anders ausgedrückt sind das Durchgangsloch 70d und die mehreren Durchgangslöcher 72c miteinander gekoppelt. Zusätzlich ist die Polierschicht 72 an ihrer unteren Oberflächenseite 72b mit mehreren linearen Nuten 72d ausgebildet, die mit den Durchgangslöchern 72c verbunden sind und deren Tiefe weniger als die Dicke der Polierschicht 72 ist. Die mehreren Nuten 72d sind jeweils geradlinig von dem Durchgangsloch 72c zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 72 ausgebildet. Anders ausgedrückt die mehreren Nuten 72d sind radial in einer Aufsicht von unten ausgebildet. Es sei jedoch angemerkt, dass die mehreren Nuten 72d jeweils so ausgebildet sind, dass sie die äußere Umgebung der Polierschicht 72 nicht erreichen.
Die Größe der Durchgangslöcher 72c, die Anzahl der Durchgangslöcher 72c, die Tiefe der Nuten 72d, die Breite der Nuten 72d und dergleichen sind geeignet entsprechend den Bearbeitungsbedingungen oder dergleichen gesetzt. Zum Beispiel kann der Durchmesser der Durchgangslöcher 72c ungefähr 3 mm und die Anzahl der Durchgangslöcher 72c kann 4 bis 16 sein. Zusätzlich kann die Tiefe der Nuten 72d 0,5 bis 3 mm und die Breite der Nuten 72d kann 0,5 bis 3 mm sein. Beachte, dass, während ein Beispiel, bei dem die Nuten 72d geradlinig ausgebildet sind, in 3 dargestellt ist, die Form der Nuten 72d nicht beschränkt ist. Zum Beispiel können die Nuten 72d in der Form einer gekrümmten Linie (Sinuswelle, kreisförmiger Bogen usw.) oder in der Form einer gestrichelten Linie (dreieckige Welle, Sägezahn, usw.) sein.
4 ist eine Schnittansicht, welche die Poliereinheit 40 in einem Zustand darstellt, in dem die Polierscheibe 48 an der Befestigung 46 befestigt ist. Wie in 4 dargestellt, ist die Polierscheibe 48 an der unteren Oberflächenseite der Befestigung 46 durch Schrauben 40 fixiert, welche in die Gewindelöcher 70c eingeführt sind. Die Befestigung 46 ist an ihrem zentralen Abschnitt mit einem zylindrischen Durchgangsloch 46a im Wesentlichen mit gleichem Durchmesser wie das Durchgangsloch 70d des Substrats 70 ausgbildet und, wenn die Polierscheibe 48 an der Befestigung 46 befestigt ist, werden Durchgangsloch 46a und Durchgangsloch 70d mit einander gekoppelt. Dann bilden die Durchgangslächer 46a, 70d und 72c einen Teil des Zufuhrdurchgangs 52 für eine Polierflüssigkeit (siehe 1).
Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 wird zuerst ein Werkstück 1 an der Halteoberfläche 24a des Einspanntischs 24 durch das Schutzband 3 angebracht. Dann wird ein negativer Druck der Saugquelle (nicht dargestellt) dazu gebracht, an der Halteoberfläche 24a durch den Saugdurchgang 24b, der in dem Einspanntisch 24 ausgebildet ist, zu wirken. Als ein Ergebnis wird das Werkstück 1 unter einem Saugen durch den Einspanntisch 24 gehalten. Danach wird der Einspanntisch 24 zu einer Position unterhalb der Poliereinheit 40 bewegt und der Einspanntisch 24 wird so positioniert, dass der gesamte Teil des Werkstücks 1 mit der Polierschicht 72 der Polierscheibe 48 überlappt. Beachte, dass 4 ein Beispiel darstellt, bei dem das Werkstück 1 einen kleineren Durchmesser als der Radius der Polierschicht 72 aufweist und das Werkstück 1 so positioniert ist, dass es nicht mit den Durchgangslöchern 72c überlappt. Dann, während die Befestigung 46 und der Einspanntisch 24 um Drehachsen im Wesentlichen parallel zu der Z-Achsenrichtung (vertikale Richtung) gedreht wird und während ein Zuführen der Polierflüssigkeit 74 von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit (siehe 1) zu dem Zufuhrdurchgang 52 für eine Polierflüssigkeit durchgeführt wird, wird die Poliereinheit 40 nach unten bewegt. In diesem Fall wird die Polierflüssigkeit 74, die von der Zufuhrquelle 54 für eine Polierflüssigkeit zugeführt wird, zu den Durchgangslöchern 72c durch das Durchgangsloch 46a und das Durchgangsloch 70d zugeführt. Dann, wenn die Polierschicht 72 der Polierscheibe 48 in Kontakt mit dem Werkstück 1 kommt, wird das Werkstück 1 poliert.
Wie in 4 dargestellt, ist ein Teil (zentraler Teil) des unteren Endes des Durchgangslochs 70b, das in dem Substrat 70 ausgebildet ist, mit der Polierschicht 72 bedeckt und eine Flussrate der Polierflüssigkeit 74, die von dem Durchgangsloch 70d zu der unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 zugeführt wird, ist beschränkt. Darum in dem Fall, in dem der Durchmesser des Werkstücks 1 klein ist und das Werkstück 1 nicht mit dem Durchgangsloch 70d überlappt, wird die Menge der Polierflüssigkeit 74, die zu der unteren Seite der Polierschicht 72 fließen würde, ohne zu dem Werkstück 1 zugeführt zu werden, unterdrückt. Zusätzlich sind die Nuten 72d, die mit den unteren Endabschnitten der Durchgangslöcher 72c verbunden sind, an der unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 ausgebildet, sodass die Polierflüssigkeit 74, welche die unteren Endabschnitte der Durchgangslöcher 72c erreicht, zu der äußeren Seite bezüglich der radialen Richtung der unteren Oberfläche 72b und der Polierschicht 72 durch das Innere der Nuten 72d durch Zentrifugalkräfte bewegt wird. Anders ausgedrückt dienen die Nuten 72d als Durchgänge für die Polierflüssigkeit 74 und die Polierflüssigkeit 74 wird einfach zu dem Bereich zwischen der Polierscheibe 48 und dem Werkstück 1 zugeführt. Folglich, wenn die Polierschicht 72, die mit den Durchgangslöchern 72c ausgebildet ist, und die Nuten 72d verwendet werden, wird Polierflüssigkeit 74 einfach zu dem Bereich zwischen dem Werkstück 1 und der Polierscheibe 48 zugeführt. Als ein Ergebnis wird ein Polieren geeignet durchgeführt und ein Polierstaub wird geeignet abgeführt. Zusätzlich sind die Nuten 72d so ausgebildet, dass sie nicht die äußere Umgebung der Polierschicht 72 erreichen. Darum kann die Polierflüssigkeit 74, die zu den Nuten 72d zugeführt wird, daran gehindert werden, aus der äußeren Umfangsseite der Polierscheibe 72 zu fließen, und die Polierflüssigkeit 74 kann zwischen der Polierscheibe 48 und dem Werkstück 1 verbleiben.
Wie oben beschrieben beinhaltet die Polierscheibe 48 entsprechend der vorliegenden Ausführungsform die mehreren Durchgangslöcher 72c, die so ausgebildet sind, dass sie die Polierschicht 72 vertikal durchdringen, und mehrere Nuten 72d, die an der unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 ausgebildet sind und mit Durchgangslöcher 72c gekoppelt sind. Mit der Verwendung dieser Polierscheibe 48 wird die Polierflüssigkeit 74 einfach zu dem gesamten Bereich einer unteren Oberflächenseite 72b der Polierschicht 72 zugeführt und die Polierflüssigkeit 74 kann geeignet zu dem Bereich zwischen der Polierschicht 72 an dem Werkstück 1 zugeführt werden. Zusätzlich kann die Polierscheibe 48 entsprechend der vorliegenden Ausführungsform durch ein relativ einfaches Verfahren des Ausbildens der Polierschicht 72 mit den Durchgangslöchern 72c und die Nuten 72d hergestellt werden. Darum wird der Bedarf zum Bearbeiten des Substrats 70, das mit einem metallischen Material oder einem Kunststoff (Polyphenylensulfid (PPS) oder dergleichen) ausgebildet ist, Vorbereiten von zusätzlichen Komponententeilen usw. ausgeschlossen und die Arbeit zum Herstellen und eine Erhöhung der Kosten können reduziert werden.
Beachte, dass während die Polierscheibe 48, in der die Polierschicht 72 mit den Durchgangslöchern 72c und den Nuten 72d ausgebildet ist, in 3 beschrieben wurde, die Ausführungsform der Polierscheibe nicht darauf beschränkt ist. Andere Ausführungsform der Polierscheibe werden unter Beachtung von 5 bis 8 beschrieben.
5 ist eine Aufsicht von unten, die eine Modifikation der Polierscheibe 48 darstellt, die in 3 dargestellt ist. Die Polierschicht 72, die in 5 dargestellt ist, ist an der unteren Oberflächenseite 72b mit einer Nut 72e ausgebildet, die mit den mehreren Durchgangslöchern 72c verbunden ist. Die Nut 72e ist linear entlang eines Umfangs (äußere Umgebung) eines Kreises ausgebildet, der einen vorbestimmten Radius aufweist, mit dem Zentrum O₁ der Polierschicht 72 als das Zentrum des Kreises und ist mit all den Durchgangslöchern 72c verbunden. Beachte, dass die Tiefe und Breite der Nut 72e nicht beschränkt ist und kann zum Beispiel gesetzt sein, sodass sie die gleiche wie die der Nuten 72d ist. Mit der Nut 72e so bereitgestellt kann die Polierflüssigkeit 74 (siehe 4), die zu einem der Durchgangslöcher 72c zugeführt wird, zu den anderen Durchgangslöchern 72c zugeführt werden. Als ein Ergebnis kann die Polierflüssigkeit 74 einfach zu dem gesamten Teil der unteren Oberfläche 72b der Polierschicht 72 zugeführt werden.
6 ist eine Aufsicht von unten, die eine Polierscheibe 80 darstellt. Die Polierscheibe 80 beinhaltet ein Substrat (nicht dargestellt), das den gleichen Aufbau wie den des Substrats 70 aufweist, das in 3 dargestellt ist, und eine Polierscheibe 82, die mit der unteren Oberflächenseite des Substrats befestigt ist. Beachte, dass die Konfigurationen der Polierscheibe 80, die nicht im Folgenden beschrieben sind, die gleichen wie die der Polierscheibe 48 sind, die in 3 beschrieben ist.
Die Polierschicht 82 ist in einer scheibenähnlichen Form im Wesentlichen gleich dem Durchmesser des Substrats ausgebildet und eine untere Oberfläche 82b der Polierschicht 82 bildet eine Polieroberfläche zum Polieren des Werkstücks 1. Beachte, dass das Material der Polierschicht 82 das gleiche wie das der Polierschicht 72 ist, das in 3 dargestellt ist. Zusätzlich ist die Polierschicht 82 mit mehreren Durchgangslöchern 82c und mehreren ersten Nuten 82d ausgebildet. Die Strukturen der Durchgangslöcher 82c und der ersten Nuten 82d sind die gleichen wie die der Durchgangslöcher 72c und Nuten 72d, die in 3 dargestellt sind.
Ferner sind an der unteren Oberflächenseite 82b der Polierschicht 82 mehrere zweite Nuten 82e in einem Bereich ausgebildet, der an einer äußeren umfänglichen Seite der Polierschicht 82 relativ zu den mehreren Durchgangslöchern 82c liegt. Die mehreren zweiten Nuten 82e sind linear entlang Umfängen (äußere Umgebung) von Kreisen ausgebildet, die vorbestimmte Radien aufweisen, mit dem Zentrum O₂ der Polierschicht 82 als Zentren der Kreise. Anders ausgedrückt sind die zweiten Nuten 82e konzentrisch ausgebildet. Es sei angemerkt, dass jedoch die zweite Nut 82e, die an einer Position am nächsten zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 82 ausgebildet ist, an der inneren Seite im Vergleich zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 82 ausgebildet ist und nicht in Kontakt mit der äußeren Umgebung der Polierschicht 82 ist. Beachte, dass die Anzahl der zweiten Nuten 82e nicht beschränkt ist.
Die zweiten Nuten 82e sind so ausgebildet, dass sie die mehreren ersten Nuten 82d kreuzen und die ersten Nuten 82d und zweiten Nuten 82e sind an den Kreuzungen verbunden. Anders ausgedrückt sind die ersten Nuten 82d durch die zweiten Nuten 82e verbunden. Beachte, dass die Tiefen und Breiten der ersten Nuten 82d und der zweiten Nuten 82e nicht beschränkt sind und zum Beispiel gleich denen der Nuten 72d, die in 3 dargestellt sind, gesetzt sein können.
Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 unter Verwendung der Polierscheibe 80 wird die Polierflüssigkeit 74 (siehe 4), die in die Durchgangslöcher 82c fließt, auch zu dem Inneren der zweiten Nuten 82e durch die ersten Nuten 82d zugeführt. Als ein Ergebnis wird die Polierflüssigkeit 74 einfach auch zu den Bereichen zwischen den benachbarten ersten Nuten 82d zugeführt und die Polierflüssigkeit 74 wird einfacher zu dem Bereich zwischen dem Werkstück 1 und der Polierscheibe 80 zugeführt. Beachte, dass der Abstand zwischen den Durchgangslöchern 82c und den zweiten Nuten 82e, die an einer Position am nächsten zu dem Zentrum O₂ der Polierschicht 82 ausgebildet sind, vorzugsweise enger als die Abstände zwischen den zweiten Nuten 82e ist. Als ein Ergebnis wird die Polierflüssigkeit 74 (siehe 4), die zu einem der Durchgangslöcher 82c zugeführt wird, einfacher zu dem gesamten Bereich der unteren Oberfläche 82b der Polierschicht 82 gebracht.
7 ist eine Aufsicht von unten, die eine Modifikation der Polierscheibe 80 darstellt. Die Polierschicht 82, die in 7 dargestellt ist, ist ferner an ihrer unteren Oberflächenseite 82b mit mehreren dritten Nuten 82f ausgebildet, die mit den Durchgangslöchern 82c und den zweiten Nuten 82e, die an Positionen am nächsten zu dem Zentrum O₂ der Polierschicht 82 ausgebildet sind, verbunden sind. Die dritte Nut 82f, die mit einem Durchgangsloch 82c verbunden ist, ist mit der Kreuzung zwischen der ersten Nut 82d, die mit dem anderen Durchgangsloch 82c verbunden ist, benachbart zu dem einen Durchgangsloch 82c und der zweiten Nut 82e, die an einer Position am nächsten zu dem Zentrum O₂ der Polierschicht 82 ausgebildet ist, verbunden. Beachte, dass die mehreren dritten Nuten 82f so ausgebildet sind, dass sie sich von dem Durchgangsloch 82c zu der Drehrichtung (in 7 die Richtung im Uhrzeigersinn) der Polierscheibe 80 erstrecken. Anders ausgedrückt, ist die dritte Nut 82f, die mit einem Durchgangsloch 82c verbunden ist, so ausgebildet, dass sie sich zu der ersten Nut 82d erstreckt, die mit dem anderen Durchgangsloch 82c benachbart zu dem einen Durchgangsloch 82c an der Drehrichtungsseite der Polierscheibe 80 verbunden ist. Als ein Ergebnis wird die Polierflüssigkeit 74, die zu dem Durchgangsloch 82c zugeführt wird, einfach zu der zweiten Nut 82e durch eine Zentrifugalkraft zugeführt. Beachte, dass die Polierschicht 82 ferner an ihrer unteren Oberflächenseite 82b mit einer Nut ausgebildet sein kann, die mit den mehreren Durchgangslöchern 82c wie in 5 (siehe Nut 72e in 5) verbunden ist.
8 ist eine Aufsicht von unten, die eine Polierscheibe 90 darstellt. Die Polierscheibe 90 beinhaltet ein Substrat (nicht dargestellt), das denselben Aufbau wie das des Substrats 70 aufweist, das in 3 dargestellt ist, und eine Polierschicht 92, die an der unteren Oberflächenseite des Substrats fixiert ist. Beachte, dass die Konfigurationen der Polierscheibe 90, die im Folgenden nicht beschrieben sind, die gleichen wie die der Polierscheibe 48 sind, die in 3 dargestellt ist.
Die Polierschicht 92 ist in einer scheibenähnlichen Form im Wesentlichen mit gleichen Durchmesser an dem Substrat ausgebildet und eine untere Oberfläche 92b der Polierschicht 92 bildet eine Polieroberfläche zum Polieren des Werkstücks 1. Beachte, dass das Material der Polierschicht 92 das gleiche wie das der Polierschicht 72, die in 3 dargestellt ist, ist. Zusätzlich ist die Polierschicht 92 mit mehreren Durchgangslöchern 92c und mehreren ersten Nuten 92d ausgebildet. Der Aufbau der Durchgangslöcher 92c und der ersten Nuten 92d ist der gleiche wie der der Durchgangslöcher 72c und Nuten 72d, die in 3 dargestellt sind. Es sei angemerkt, dass die ersten Nuten 92d so ausgebildet sind, dass sie kürzer als die Nuten 72d sind, die in 3 dargestellt sind.
Zusätzlich sind an der unteren Oberflächenseite 92b der Polierschicht 92 mehrere zweite Nuten 92e in einem Bereich ausgebildet, der an der äußeren umfänglichen Seite der Polierschicht 92 relativ zu den mehreren Durchgangslöchern 92c liegt. Die mehreren zweiten Nuten 92e sind linear entlang Umfängen (äußerer Umgebung) von Kreisen, die vorbestimmte Radien aufweisen, mit dem Zentrum O₃ der Polierschicht 92 als Zentrum der Kreise ausgebildet. Anders ausgedrückt sind die mehreren zweiten Nuten 92e konzentrisch ausgebildet.
Die zweite Nut 92e, die an einer Position am nächsten zum Zentrum O₃ der Polierschicht 92 ausgebildet ist, ist mit den mehreren ersten Nuten 92d verbunden. Zusätzlich ist die zweite Nut 92e, die an einer Position am nächsten zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 92 ausgebildet ist, an einer inneren Seite relativ zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 92 ausgebildet und ist nicht in Kontakt mit der äußeren Umgebung der Polierschicht 92. Beachte, dass die Anzahl der zweiten Nuten 92e nicht beschränkt ist. Ferner sind an der unteren Oberflächenseite 92b der Polierschicht 92 mehrere dritten Nuten 92f jeweils in Bereichen zwischen benachbarten zweiten Nuten 92e ausgebildet. Die dritten Nuten 92f sind linear entlang der radialen Richtung der unteren Oberfläche 92b der Polierschicht 92 ausgebildet und sind mit benachbarten zweiten Nuten 92e verbunden. Es sei angemerkt, dass jedoch die dritten Nuten 92f nicht direkt miteinander verbunden sind und miteinander durch die zweiten Nuten 92e verbunden sind. Beachte, dass die Tiefen und Breiten der ersten Nuten 92d und zweiten Nuten 92e und der dritten Nuten 92f nicht beschränkt sind und zum Beispiel gleich denen der Nuten 72d, die in 3 dargestellt sind, gesetzt sein können.
Zum Zeitpunkt des Polierens des Werkstücks 1 unter Verwendung der Polierscheiben 90 wird die Polierflüssigkeit 74 (siehe 4), die in die Durchgangslöcher 92c fließt, zu dem Inneren der zweiten Nuten 92e zugeführt, die an einer Position am nächsten zu dem Zentrum O₃ der Polierschicht 92 ausgebildet ist, durch die ersten Nuten 92d durch Zentrifugalkräfte. Dann fließt die Polierflüssigkeit 74, die zu dieser zweiten Nuten 92b zugeführt wurde, abwechselnd entlang der dritten Nuten 92f von der zweiten Nuten 92e, um zu der zweiten Nuten 92e zugeführt zu werden, die an einer Position am nächsten zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 92 ausgebildet ist.
In dieser Weise wird die Polierflüssigkeit 74 zugeführt, während sie zu der äußeren Umgebung der Polierschicht 92 sich schlängelt. Darum im Vergleich zu den Fällen der Verwendung der Polierscheiben, die in 3 und 5 bis 7 dargestellt sind, erreicht die Polierflüssigkeit 74 die äußere Umgebung der Polierschicht 92 schwieriger, sodass die Polierflüssigkeit 74 einfacher in dem gesamten Bereich der unteren Oberfläche 92b der Polierschicht 92 bleibt. Als ein Ergebnis wird die Polierflüssigkeit 74 einfacher zu dem gesamten Teil der unteren Oberfläche 92b der Polierschicht 92 zugeführt. Beachte, dass die Polierschicht 92 ferner an ihrer unteren Oberflächenseite 92b mit einer Nut ausgebildet sein kann, die mit den mehreren Durchgangslöchern 92c verbunden ist, wie in 5 (siehe Nut 72e in 5). Zusätzlich kann die Polierschicht 92 ferner an ihrer unteren Oberflächenseite 92b mit mehreren Nuten ausgebildet sein, die mit den Durchgangslöchern 92c und der zweiten Nut 92e verbunden ist, die an einer Position nächsten zu dem Zentrum O₃ der Polierschicht 92 ausgebildet ist, wie in 7 (siehe dritten Nuten 82f in 7).
Anders als im vorgenannten können die Strukturen, Verfahren und dergleichen entsprechend der obigen Ausführungsform geeignet modifiziert werden, insoweit die Modifikationen nicht von dem Umfang und dem Ziel der vorliegenden Erfindung abweichen.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Details der oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsform beschränkt. Der Umfang der Erfindung wird durch die angehängten Ansprüche definiert und alle Änderungen und Modifikation, die in das Äquivalent und den Umfang der Ansprüche fallen, werden dadurch die Erfindung umfasst.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

JP 2000288881 [0002]
JP 8099265 [0003]

Claims

Polierscheibe, die ein scheibenförmiges Substrat und eine Polierschicht aufweist, von der eine obere Oberflächenseite an dem Substrat anhaftet, wobei die Polierschicht mehrere Durchgangslöcher beinhaltet, die so ausgebildet sind, dass sie die Polierschicht vertikal durchdringen und sie mit einer Polierflüssigkeit versorgt werden, und mehrere Nuten, die an einer unteren Oberflächenseite der Polierschicht ausgebildet sind, und die mit den Durchgangslöchern verbunden sind, die mehreren Durchgangslöcher so ausgebildet sind, dass sie ein Zentrum der Polierschicht umgeben, und mehreren Nuten radial von den mehreren Durchgangslöchern zu der äußeren Umgebung der Polierschicht ausgebildet sind.
Polierscheibe nach Anspruch 1, wobei mehrere konzentrische kreisförmige Nuten, die mit den Nuten verbunden sind, in einem Bereich an der unteren Oberflächenseite der Polierscheibe ausgebildet sind, wobei der Bereich an einer äußeren Umfangsseite relativ zu den mehreren Durchgangslöchern liegt.
Polierscheibe nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Nuten, die mit den Durchgangslöchern verbunden sind, so ausgebildet sind, dass sie die äußere Umgebung der Polierschicht nicht erreichen.