DE102018127067A1 - Elektronikkarte einschließlich Multi-Chip-Modul - Google Patents

Elektronikkarte einschließlich Multi-Chip-Modul Download PDF

Info

Publication number
DE102018127067A1
DE102018127067A1 DE102018127067.4A DE102018127067A DE102018127067A1 DE 102018127067 A1 DE102018127067 A1 DE 102018127067A1 DE 102018127067 A DE102018127067 A DE 102018127067A DE 102018127067 A1 DE102018127067 A1 DE 102018127067A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
package
wafer
components
pcb
package components
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102018127067.4A
Other languages
English (en)
Inventor
Chen-Hua Yu
Chien-Hsun Lee
Jiun Yi Wu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Original Assignee
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd filed Critical Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Publication of DE102018127067A1 publication Critical patent/DE102018127067A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/067Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
    • G06K19/07Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4857Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/561Batch processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3135Double encapsulation or coating and encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • H01L23/3677Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/40Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49822Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/525Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/03Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/07Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
    • H01L24/08Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/20Structure, shape, material or disposition of high density interconnect preforms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/46Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/94Batch processes at wafer-level, i.e. with connecting carried out on a wafer comprising a plurality of undiced individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0655Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0231Manufacturing methods of the redistribution layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0233Structure of the redistribution layers
    • H01L2224/02331Multilayer structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0237Disposition of the redistribution layers
    • H01L2224/02379Fan-out arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0237Disposition of the redistribution layers
    • H01L2224/02381Side view
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/07Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
    • H01L2224/08Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/081Disposition
    • H01L2224/0812Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
    • H01L2224/08151Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/08221Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/08225Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/12105Bump connectors formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bumps on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/32227Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the layer connector connecting to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H01L2224/48229Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item the bond pad protruding from the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73267Layer and HDI connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/832Applying energy for connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/852Applying energy for connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1023All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being an insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1035All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the device being entirely enclosed by the support, e.g. high-density interconnect [HDI]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/1058Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5389Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/141Analog devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1431Logic devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1434Memory
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18162Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a chip with build-up interconnect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

Ein Verfahren umfasst das Bonden eines ersten Packages an ein zweites Package, um ein drittes Package zu bilden. Das erste Package ist ein integriertes Fan-Out-(InFO) -Package, das mehrere Package-Komponenten und ein Einkapselungsmaterial, das die mehreren Package-Komponenten darin kapselt, umfasst. Die mehreren Package-Komponenten umfassen Vorrichtungs-Dies. Das Verfahren umfasst ferner das Anordnen mindestens eines Abschnitts des dritten Packages in eine Aussparung in einer Leiterplatte (PCB). Die Aussparung erstreckt sich von einer oberen Fläche der PCB zu einem Zwischenniveau zwischen der oberen Fläche und einer unteren Fläche der PCB. Es wird ein Drahtbonden ausgeführt, um das dritte Package mit der PCB elektrisch zu verbinden.

Description

  • PRIORITÄTSANSPRUCH UND QUERVERWEIS
  • Diese Anmeldung beansprucht die Priorität der folgenden vorläufig eingereichten US-Patentanmeldung: Anmeldungsseriennr. 62/649,772, eingereicht am 29. März 2018 mit dem Titel „INFO ON RECESSED PCB“, die hiermit durch Bezugnahme hierin aufgenommen wird.
  • ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
  • Heutige Hochleistungs-Computing- (HPC) -Systeme können mehrere mit einem Hauptsystem verbundene unabhängige Karten oder Platinen umfassen. Die unabhängigen Karten oder Platinen sind durch Kabeldrähte verbunden. Die Karten oder Platinen werden durch Sägen von Wafern, um Vorrichtungs-Dies zu bilden, und Packen der Vorrichtungs-Dies, um Packages zu bilden, gebildet. Die Packages werden auf einer Fläche einer Leiterplatte angebracht, die dann bestückt wird, um eine Karte oder eine Platine zu bilden. Mehrere Karten oder Platinen werden zu einem Rack eines Systems zusammengefügt, sodass die mehreren Karten oder Platinen elektrisch miteinander verbunden sind. Dieses System weist eine begrenzte Bandbreite und Leistung auf und daher ist seine Verwendung in Hochfrequenzanwendungen begrenzt.
  • Figurenliste
  • Aspekte der vorliegenden Offenbarung werden aus der folgenden ausführlichen Beschreibung am besten verstanden, wenn sie mit den begleitenden Figuren gelesen werden. Es ist zu beachten, dass gemäß der branchenüblichen Praxis verschiedene Merkmale nicht maßstäblich gezeichnet sind. Tatsächlich können die Dimensionen der verschiedenen Merkmale zur Übersichtlichkeit der Erörterung willkürlich vergrößert oder verkleinert sein.
    • Die 1 bis 4, 5A, 5B, 6, 7A, 7B, 8 und 9 veranschaulichen die Draufsichten und Querschnittansichten von Zwischenstadien bei der Bildung einer Elektronikkarte gemäß einigen Ausführungsformen.
    • Die 10 bis 13 veranschaulichen die Draufsichten und Querschnittansichten von Zwischenstadien bei der Bildung einer Elektronikkarte gemäß einigen Ausführungsformen.
    • Die 14 bis 18, 19A, 19B und 20 veranschaulichen die Draufsichten und Querschnittansichten von Zwischenstadien bei der Bildung einer Elektronikkarte gemäß einigen Ausführungsformen.
    • Die 21 bis 23 veranschaulichen die Draufsichten und Querschnittansichten von Zwischenstadien bei der Bildung einer Elektronikkarte gemäß einigen Ausführungsformen.
    • Die 24 und 25 veranschaulichen die Querschnittansichten von rekonstruierten Wafern gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 26 veranschaulicht einen Prozessablauf zum Bilden einer Elektronikkarte gemäß einigen Ausführungsformen.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Die folgende Offenbarung stellt viele unterschiedliche Ausführungsformen oder Beispiele zum Implementieren unterschiedlicher Merkmale der Erfindung bereit. Es werden nachfolgend spezielle Beispiele von Komponenten und Anordnungen beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind natürlich lediglich Beispiele und sollen nicht begrenzen. Beispielsweise kann die Bildung eines ersten Merkmals über oder auf einem zweiten Merkmal in der folgenden Beschreibung Ausführungsformen umfassen, bei denen die ersten und zweiten Merkmale in direktem Kontakt gebildet sind, und auch Ausführungsformen, bei denen zusätzliche Funktionen zwischen den ersten und zweiten Merkmalen gebildet sein können, sodass die ersten und zweiten Merkmale nicht in direktem Kontakt sein können. Außerdem kann die vorliegende Offenbarung Bezugsnummern und/oder -zeichen in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung dient zum Zweck der Einfachheit und Übersichtlichkeit und diktiert nicht an sich eine Beziehung zwischen den verschiedenen beschriebenen Ausführungsformen und/oder Konfigurationen.
  • Ferner können räumlich relative Begriffe, wie „darunterliegend“, „darunter“, „unter“, „untere“, „darüberliegend“, „über“, „obere“ und dergleichen zur Erleichterung der Erörterung hierin verwendet sein, um die Beziehung eines Elements oder Merkmals zu einem anderen Element oder Merkmal bzw. zu anderen Elementen oder Merkmalen wie veranschaulicht in den Figuren zu beschreiben. Die räumlich relativen Begriffe sollen zusätzlich zu der Ausrichtung, die in den Figuren gezeigt ist, verschiedene Ausrichtungen der Vorrichtung bei der Verwendung oder beim Betrieb der Vorrichtung umfassen. Die Vorrichtung kann anderweitig ausgerichtet sein (um 90 Grad gedreht oder in anderen Ausrichtungen) und die hier verwendeten räumlichen relativen Beschreiber können desgleichen dementsprechend interpretiert werden.
  • Es werden Packages oder Elektronikkarten und Verfahren zu deren Herstellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen bereitgestellt. Mehrere Package-Komponenten sind in rekonstruierte Wafer integriert, die an der Waferebene aneinander gebondet sind, um beispielsweise ein Package oder eine Elektronikkarte zu bilden. Die Integrationsstufe des resultierenden Packages wird daher verbessert und ein System kann in gebondete Wafer integriert werden. Die Zwischenstadien des Bildens von Packages oder einer Elektronikkarte werden gemäß einigen Ausführungsformen veranschaulicht. Es werden einige Variationen von einigen Ausführungsformen beschrieben. Überall in den verschiedenen Ansichten und veranschaulichenden Ausführungsformen werden gleiche Bezugsnummern verwendet, um gleiche Elemente zu bezeichnen.
  • Die 1 bis 9 veranschaulichen die Querschnittansichten und Draufsichten von Zwischenstadien bei der Bildung einer Elektronikkarte (oder eines Packages) gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Die Schritte, die in den 1 bis 9 gezeigt sind, sind auch schematisch in dem in 26 gezeigten Prozessablauf reflektiert.
  • 1 veranschaulicht die Package-Komponente 100 und de Package-Komponente 200, wobei eine Ausrichtung ausgeführt wird, um die Package-Komponente 100 mit der Package-Komponente 200 auszurichten. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung befinden sich die Package-Komponenten 100 und 200 auf Waferebene, was bedeutet, dass die Package-Komponenten 100 und 200 als Wafer gebildet und nicht in individuelle (die identisch sind) Packages gesägt sind, die Vorrichtungen umfassen. Die Größen der Package-Komponenten 100 und 200 sind die gleichen wie die Größen von Halbleiterwafern oder nahe daran. Beispielsweise können die Package-Komponenten 100 und 200 4-Zoll-Wafer, 6-Zoll-Wafer, 12-Zoll-Wafer oder größer sein. Die Package-Komponenten 100 und 200 werden gemäß einigen Ausführungsformen als Multi-Chip-Module oder rekonstruierte Wafer bezeichnet. Die Package-Komponenten 100 und 200 werden auch als System-auf-Wafer-Packages bezeichnet, da sie unterschiedliche Arten von Vorrichtungs-Dies und Packages zum Bilden eines Systems umfassen. Beispielsweise können die Package-Komponenten 100 und 200 individuell oder in Kombination ein künstliches Intelligenz-System bilden, das mehrere Kernchips zur parallelen Berechnung und mehrere unterschiedliche Arten von Speichern zur Speicherung umfassen kann.
  • Die Package-Komponente 100 umfasst die Package-Komponenten 102 darin, die durch Einkapselungsmaterial (Vergussmaterial) 104 gekapselt sind. Die Kopplungsstruktur 106 ist auf den Package-Komponenten 102 und dem Einkapselungsmaterial 104 gebildet und wird verwendet, um mit den integrierten Schaltungsvorrichtungen in den Package-Komponenten 102 elektrisch zu verbinden. Die Kopplungsstruktur 106 verbindet auch die Package-Komponenten 102. In 1 ist die Kopplungsstruktur 106 schematisch gezeigt und die Details in der Kopplungsstruktur 106 sind unter Bezugnahme auf 24 zu finden. Die Package-Komponente 100 umfasst ferner elektrische Anschlüsse 108 zum Bonden. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfassen die elektrischen Anschlüsse 108 Lotregionen, Metallsäulen, Metallkontaktstellen oder dergleichen.
  • Die Package-Komponente 200 umfasst die Package-Komponenten 202 darin, die durch Einkapselungsmaterial (Vergussmaterial) 204 gekapselt sind. Die Kopplungsstruktur 206 ist auf den Package-Komponenten 202 und dem Einkapselungsmaterial 204 gebildet und wird verwendet, um mit den integrierten Schaltungsvorrichtungen in den Package-Komponenten 202 elektrisch zu verbinden. Die Kopplungsstruktur 206 verbindet auch die Package-Komponenten 202. In 1 ist die Kopplungsstruktur 206 schematisch gezeigt und die Details in der Kopplungsstruktur 206 sind denjenigen ähnlich, die in 24 gezeigt sind. Daher findet die Beschreibung der Details der Kopplungsstruktur 106 in anschließenden Absätzen auch auf die Kopplungsstruktur 206 Anwendung. Die Package-Komponente 200 umfasst ferner elektrische Anschlüsse 208 zum Bonden. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfassen die elektrischen Anschlüsse 208 Lotregionen, Metallsäulen, Metallkontaktstellen oder dergleichen.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können die Package-Komponenten 102 und 202 irgendwelche der Vorrichtungs-Dies (wie Logik-Dies und Speicher-Dies), System-On-Chip-Dies, Packages, Speicher mit hoher Bandbreite- (HBM) -Packages, digitale Dies, analoge Dies, auf der Oberfläche anbringbare passive Vorrichtungen oder dergleichen sein. Einige der Package-Komponenten 102 können Strukturen aufweisen, die sich voneinander unterscheiden, während einige andere Package-Komponenten 102 einander gleich sein können. Einige der Package-Komponenten 202 können auch Strukturen und Funktionen aufweisen, die sich voneinander unterscheiden, während einige andere Package-Komponenten 202 einander gleich sein können. Die Package-Komponenten 102 und 202 können mehrere Arten von Dies wie vorstehend erwähnt umfassen, die durch Kopplungsstrukturen 106 und 206 miteinander verbunden werden (nachdem sie aneinander gebondet sind), um ein integriertes System zu bilden. Die Größen, Dicken und die Integrationsstufen der Package-Komponenten 102 können sich voneinander unterscheiden. Die Größen, Dicken und die Integrationsstufen von Package-Komponenten 202 können sich voneinander unterscheiden und können sich von denen der Package-Komponenten 102 un terscheiden.
  • 24 veranschaulicht eine Querschnittansicht eines Abschnitts der Package-Komponente 100. Es ist selbstverständlich, dass die Package-Komponente 200 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung auch ähnliche Strukturen wie die Package-Komponente 100 aufweisen kann. Dementsprechend kann die Beschreibung der Package-Komponente 100 auch auf die Package-Komponente 200 Anwendung finden. Die Details der Package-Komponente 200 sind daher nicht dargestellt und werden separat beschrieben. Sie sind unter Bezugnahme auf die der Package-Komponente 100 zu finden. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfassen in dem veranschaulichten Beispiel die Package-Komponenten 102 eine einzelne Vorrichtungs-Die, die aus einem Wafer gesägt ist. Die Package-Komponente 102 kann ferner einen Speicher mit hoher Bandbreite- (HBM) - Stapel umfassen. Das Einkapselungsmaterial 104 kann einen Formstoff, eine Formunterfüllung, eine Unterfüllung oder dergleichen umfassen, der bzw. die in ein Basismaterial gemischte Partikel umfassen kann. Die Füllerpartikel können die Partikel eines Dielektrikums bzw. von Dielektrika, wie SiO2 Al2O3, Siliziumdioxid oder dergleichen sein, und können Kugelformen aufweisen. Außerdem können die kugelförmigen Füllerpartikel den gleichen oder unterschiedliche Durchmesser aufweisen. Das Basismaterial kann ein Polymer, ein Harz, ein Epoxid oder dergleichen umfassen.
  • Die Kopplungsstruktur 106 umfasst mehrere Dielektrikumschichten 109, was die Dielektrikumschichten 109A und 109B umfasst. Die Dielektrikumschichten 109B können aus Polymeren wie Polyimid, Polybenzoxazol (PBO), Ajinomoto-Aufbaufilm (ABF), Prepreg (mit Füller und/oder Faser darin), Lötstopplack oder dergleichen gebildet sein. Die Dielektrikumschichten 109A können aus organischen Materialien wie PBO, Polyimid oder dergleichen und/oder anorganischen Dielektrika gebildet sein. Die Kopplungsstruktur 106 umfasst ferner die Umverteilungsleitungen (RDLs) 110 (einschließlich 110A und 11B), die in den Dielektrikumschichten 109 gebildet sind, um mit den Vorrichtungen in den Package-Komponenten 102 elektrisch zu verbinden. Die RDLs 110 können aus Kupfer, Aluminium, Nickel, Titan, Tantal, Titannitrid, Tantalnitrid oder Mehrfachschichten davon gebildet sein. Die RDLs 110 können Klebeschichten (die auch als Sperrschichten bezeichnet werden) umfassen, die aus Titan, Tantal, Titannitrid, Tantalnitrid oder dergleichen gebildet sein können. Die Klebeschichten können dünner als die darüber liegenden Abschnitte der RDLs sein. Die Dicke der Klebeschichten kann beispielsweise ungefähr 5 Prozent bis zu ungefähr 10 Prozent der Dicke der entsprechenden RDLs sein.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung sind die RDLs 110B, die in den Dielektrikumschichten 109B gebildet sind, dicker und breiter als die RDLs 110A, die in den Dielektrikumschichten 109A gebildet sind. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung werden die RDLs 110A für lokale Verbindungen verwendet und können zur Signalführung zwischen angrenzenden Package-Komponenten 102 verwendet werden. Die RDLs 110B können als globale Leitungen wie Stromleitungen, Masseleitungen oder dergleichen oder als Signalleitungen verwendet werden, welche die Package-Komponenten 102 verbinden, die sich nicht nahe beieinander befinden. Die elektrischen Anschlüsse 108 sind auf der Fläche der Package-Komponente 100 gebildet. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfassen die elektrischen Anschlüsse 108 Lotregionen. Gemäß anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfassen die elektrischen Anschlüsse 108 Metallkontakthügel, Metallkontaktstellen oder Metallkontakthügel und Lotregionen oben auf den Metallkontakthügeln.
  • Das Bilden der Package-Komponente 100 wird kurz wie folgt beschrieben. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 402 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Die Package-Komponente 200 kann unter Verwendung eines Prozesses gebildet werden, der dem Bilden der Package-Komponente 100 ähnlich ist, und der entsprechende Prozess ist als Prozess 403 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst das Bilden der Package-Komponente 100 das Beschichten eines Trennfilms (wie eine Licht-zu-Wärme-Umwandlungs- (LTHC) -Beschichtung) auf einem Träger, das Anordnen der Package-Komponenten 102 auf dem Träger durch Die-Befestigungsfilme (Klebefilme), das Kapseln der Package-Komponenten 102 in dem Einkapselungsmaterial 104 und das Ausführen eines Planarisierungsprozesses wie einem chemisch-mechanischen Polieren- (CMP) -Prozess oder einem mechanischen Schleifprozess, um überschüssige Abschnitte des Einkapselungsmaterials zu entfernen, sodass die elektrischen Anschlüsse (wie Metallsäulen) der Package-Komponenten 102 freigelegt werden.
  • Die Kopplungsstruktur 106 wird dann auf den Package-Komponenten 102 und dem Einkapselungsmaterial 104 gebildet. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst das Bilden der Kopplungsstruktur 106 das Bilden von Dielektrikumschichten und den entsprechenden RDLs Schicht für Schicht. Beispielsweise umfasst das Bilden einer Dielektrikumschicht und einer entsprechenden Schicht von RDLs das Abscheiden der Dielektrikumschicht, das Strukturieren der Dielektrikumschicht, um Öffnungen zu bilden, durch die darunterliegende leitende Merkmale freigelegt werden, das Abscheiden einer Metallbekeimungsschicht, das Bilden einer strukturierten Maske, das Plattieren von RDLs in der strukturierten Maske, das Entfernen der strukturierten Maske und das Ätzen der Abschnitte der durch die strukturierte Maske zuvor abgedeckten Metallbekeimungsschicht. Die elektrischen Anschlüsse 108 werden entweder durch Plattieren und/oder durch Lötkugelanordnung gebildet. Nach dem Bilden der Kopplungsstruktur 106 kann der Träger beispielsweise durch Projizieren eines Laserstrahls auf den Trennfilm abgebaut werden, um den Trennfilm zu zersetzen. Die Package-Komponente 100 wird somit gebildet.
  • 2 veranschaulicht eine Draufsicht der Package-Komponenten 102 und des Einkapselungsmaterials 104 in der Package-Komponente 100. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können sich die Größen von einigen der Package-Komponenten 102 voneinander unterscheiden, während einige der Package-Komponenten 102 die gleichen Größen aufweisen können. Außerdem können sich die Formen von einigen der Package-Komponenten 102 voneinander unterscheiden, während einige der Package-Komponenten 102 identische Formen aufweisen können.
  • 3 veranschaulicht das Zuschneiden der Package-Komponente 100 gemäß einigen Ausführungsformen. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 404 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. In dem Zuschneideschritt werden die Randabschnitte der Package-Komponente 100, die keine aktiven Vorrichtungen und RDLs darin umfassen, entfernt, um die Größe der Package-Komponente 100 zu reduzieren. Das Zuschneiden kann abhängig von der Form und der Dicke der Package-Komponente 100 durch eine Schneideklinge, einen Laserstrahl, eine Oberfräse oder dergleichen ausgeführt werden. Nach dem Zuschneideschritt verbleiben alle Package-Komponenten 102 und RDLs in dem gleichen Wafer, ohne in unterschiedliche Packages getrennt zu sein. Gemäß einigen Ausführungsformen, bei denen die Package-Komponente 100 kleiner ist als die Package-Komponente 200, kann das Zuschneiden ausgeführt werden oder nicht.
  • 4 veranschaulicht eine Draufsicht der Package-Komponenten 202 und des Einkapselungsmaterials 204 in der Package-Komponente 200. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können sich die Größen der Package-Komponenten 202 voneinander unterscheiden, während einige der Package-Komponenten 202 die gleichen Größen aufweisen können. Außerdem können sich die Formen Sonstige einigen der Package-Komponenten 202 voneinander unterscheiden, während einige andere Package-Komponenten 202 identische Formen aufweisen können. Die Bondinseln 214 sind in der Umfangsregion und auf der Fläche der Package-Komponente 200 gebildet. Einige der Bondinseln 214 sind mit den Package-Komponenten 202 elektrisch verbunden. Einige andere Bondinseln 214 sind mit den Package-Komponenten 202 nicht elektrisch verbunden und werden mit den Package-Komponenten 102 (9) elektrisch verbunden, sobald die Package-Komponente 100 an die Package-Komponente 200 gebondet ist. Einige Bondinseln 214 (wie die Strom- und Massekontaktstellen) können auch mit den Package-Komponenten 202 verbunden sein und werden auch mit den Package-Komponenten 102 elektrisch verbunden, sobald die Package-Komponente 100 an die Komponente 200 gebondet ist.
  • Die 5A und 5B veranschaulichen entsprechend eine Querschnittansicht und eine Draufsicht beim Bonden der Package-Komponente 100 an die Package-Komponente 200. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 406 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Das Bonden kann durch Lot-Bonden, Metall-zu-Metall-Direktbonden, Hybrid-Bonden oder dergleichen erreicht werden. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird das Bonden unter Verwendung von Laserablation ausgeführt. Es wird beispielsweise ein Laserstrahl erzeugt, sodass er eine Größe aufweist, die viel größer ist als die Größe eines typischen Laserstrahls. Ein Laserstrahlerzeuger (nicht gezeigt) kann konfiguriert sein, einen Laserstrahl auf eine wünschenswerte größere Größe zu vergrößern. Die Package-Komponente 100 ist in mehrere Unterregionen aufgeteilt und die Laserablation umfasst mehrere Laserschüsse, von denen jeder auf eine der mehreren Unterregionen projiziert wird. Wenn der Laser auf eine der Unterregionen der Package-Komponente 100 projiziert wird, werden die Lotregionen, die direkt unter der entsprechenden Unterregion liegen, wieder zum Fließen gebracht. Dementsprechend wird durch Bonden der Package-Komponenten 100 und 200 Unterregion für Unterregion die gesamte Package-Komponente 100 an die Package-Komponente 200 gebondet, was das Package 20 bildet. Die elektrischen Anschlüsse 108 und 208 werden verbunden, um die elektrischen Anschlüsse 22 zu bilden, die wieder zum Fließen gebrachte Lotregionen, aneinander gebondete Lotregionen und Metallsäulen oder aneinander gebondete Metallkontakthügel sein können. Nach dem Bonden kann die Unterfüllung 24 in die Spalte zwischen den Package-Komponenten 100 und 200 verteilt und dann ausgehärtet werden.
  • 5B veranschaulicht eine Draufsicht des Packages 20 wie gezeigt in 5A. Wie gezeigt in den 5A und 5B sind die Bondinseln 214, die auf den Randregionen der Package-Komponente 200 gebildet sein können, durch die Package-Komponente 100 nicht abgedeckt. Das Zuschneiden der Package-Komponente 100 entfernt die Abschnitte der Package-Komponenten 100, welche die Bondinseln 214 abdecken, wenn die ursprünglich gebildeten rekonstruierten Wafer 100 und 200 die gleiche Größe aufweisen. Es ist selbstverständlich, dass, obwohl die Package-Komponenten 102 als die entsprechenden Package-Komponenten 202 in der Package-Komponente 200 überlappend gezeigt sind, das Layout und die Größen der Package-Komponenten 102 sich gänzlich von den Package-Komponenten 202 unterscheiden können und nicht damit in Beziehung stehen. Einige der Package-Komponenten 102 können mehrere Package-Komponenten 202 überlappen und daran gebondet sein und umgekehrt.
  • 6 veranschaulicht eine Querschnittansicht der Package-Komponente 300. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung ist die Package-Komponente 300 eine Leiterplatte (PCB) und wird daher im Folgenden als PCB 300 bezeichnet, während die Package-Komponente 300 anderer Art sein kann. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst die PCB 300 die Wafergrößenaussparung 302, die sich von der oberen Fläche der PCB 300 zu einem Zwischenniveau der PCB 300 erstreckt. Gemäß anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird die Aussparung 302 nicht gebildet. Die Bondinseln 314 werden auf der oberen Fläche der PCB 300 gebildet und können derart angeordnet werden, dass sie sich zu einer umgebenden Ringaussparung 302 ausrichten. Die elektrischen Anschlüsse 316 sind ausgerichtet zu einer Seite (wie beispielsweise die rechte Seite wie in 7B) der PCB 300 gebildet. Die elektrischen Anschlüsse 316 sind mit Bondinseln 314 elektrisch verbunden und können sich zum Rand der PCB 300 erstrecken.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung ist die Metallplatte 306 an der oberen Fläche der PCB 300 angehaftet. Die Metallplatte 306 kann in der Aussparung 302 (falls gebildet) angeordnet werden. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 408 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Die Metallplatte 306 kann aus Kupfer, Aluminium, Edelstahl oder dergleichen gebildet sein und wird zum Umverteilen und Leiten der Wärme verwendet. Die Metallplatte 306 kann an der PCB 300 durch Wärmeleitmaterial (TIM) 304 angehaftet werden. Das TIM 308 kann über der Metallplatte 306 gebildet werden. Die TIMs 304 und 308 können Wärmeleitfähigkeitswerte aufweisen, die höher sind als ungefähr 1 W/k*m, höher als ungefähr 5 W/k*m, höher als ungefähr 20 W/k*m, höher als ungefähr 50 W/k*m oder höher. Der Klebstoff 310 wird in der Aussparung 302 verteilt und kann als ein Ring entlang den Seitenwänden der Aussparung 302 verteilt werden.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst die PCB 300 leitende Bahnen 320 (einschließlich 320A und 320B), die schematisch gezeigt sind und leitende Leitungen und Durchkontaktierungen umfassen können. Die leitenden Bahnen 320 können aus Kupfer, Aluminium, Titan, Wolfram oder dergleichen gebildet werden. Die leitenden Bahnen 320 können mehrere Schichten umfassen, die in Kombination die PCB 300 durchdringen. Die leitenden Bahnen 320 können aktive Bahnen 320A zum Routen von Signalen, Strom, Masse usw. umfassen, die mit den Bondinseln 314 elektrisch verbunden sein können. Die leitenden Bahnen 320 können auch die Bahnen 320B umfassen, die keine elektrische Funktion aufweisen und von allen Vorrichtungen und Schaltungen in den Package-Komponenten 100 und 200 in dem endgültigen Package elektrisch getrennt sind. Die Bahnen 320B können gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung elektrisch potenzialfrei sein und werden als Dummy-Bahnen bezeichnet. Die leitenden Bahnen 320B werden zum Leiten von in den Package-Komponenten 100 und 200 erzeugter Wärme zur Unterseite der PCB 300 verwendet. Die PCB 300 kann einseitig sein, wobei leitende Bahnen an der Oberseite, aber nicht an der Unterseite, gebildet sind. Die PCB 300 kann auch beidseitig gebildet werden, wie es in 6 veranschaulicht ist, wobei leitende Bahnen sowohl an der Oberseite als auch an der Unterseite gebildet werden.
  • Die 7A und 7B veranschaulichen entsprechend eine Querschnittansicht und eine Draufsicht beim Anhaften des Packages 20 an die PCB 300. Das Anhaften wird beispielsweise durch das TIM 308 und den Klebstoff 310 erreicht. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 410 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung ist das Package 20 in der Aussparung 302 (6) angeordnet. Die obere Fläche der Package-Komponente 200 kann auf gleichem Niveau mit der oberen Fläche der PCB 300 sein und sie kann höher oder niedriger als diese sein. Wie in 7B gezeigt, passen die Größe und die Form des Packages 20 zur entsprechenden Größe und Form der Aussparung 302, sodass das Package 20 auf der PCB 300 befestigt ist.
  • 8 veranschaulicht die elektrische Verbindung des Packages 20 mit der PCB 300. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 412 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird Drahtbonden ausgeführt, um Drahtbonds 26 auf den Bondinseln 214 und 314 zu bilden, sodass die Bondinseln 214 mit den Bondinseln 314 elektrisch verbunden sind. Dementsprechend ist das Package 20 mit den elektrischen Anschlüssen 316 elektrisch verbunden.
  • Unter Bezugnahme auf 9 wird das TIM 28 oben auf das Package 20 beschichtet oder darauf angeordnet und werden die mechanische Auflage 30 und das Kühlsystem 32 auf der PCB 300 angebracht. Die entsprechenden Prozesse sind entsprechend als die Prozesse 414 und 416 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht. Die mechanische Auflage 30 kann beispielsweise ein Metallrahmen sein. Das Kühlsystem 32 kann eine Metallplatte mit Finnen, eine Metallplatte mit einem Rohr darin zum Leiten eines Kühlmittels (wie Wasser, Öl oder kalte Luft) oder dergleichen umfassen. Das Package 34 ist daher gebildet. Das Package 34 kann auch eine Elektronikkarte sein. Das Package 34 kann durch Einsetzen des Endes mit elektrischen Anschlüssen 316 in einen Slot eines Racks verwendet werden, wobei die Anschlüsse 316 die elektrischen Anschlüsse des Racks kontaktieren. Alternativ können die Stifte (nicht gezeigt) als die Anschlüsse des Packages 34 angebracht sein. Der entsprechende Prozess ist als Prozess 418 in dem in 26 gezeigten Prozessablauf veranschaulicht.
  • Die 10 bis 13 veranschaulichen die Querschnittansichten von Zwischenstadien bei der Bildung eines Packages gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Sofern nicht anders angegeben, sind die Materialien und die Bildungsverfahren der Komponenten bei diesen Ausführungsformen im Wesentlichen die Gleichen wie die ähnlichen Komponenten, die durch ähnliche Bezugsnummern in den Ausführungsformen, die in den 1 bis 9 gezeigt sind, bezeichnet sind. Die Details bezüglich des Bildungsprozesses und der Materialien der Komponenten, die in den 10 bis 13 (und in den 14 bis 23) gezeigt sind, sind daher in der Beschreibung der Ausführungsformen, die in den 1 bis 9 gezeigt sind, zu finden.
  • 10 veranschaulicht die PCB 300 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Die PCB 300 ist wie gezeigt in 10 der PCB 300 in 6 ähnlich, außer dass die Aussparung 330 als sich von der unteren Fläche der PCB 300 zu dem Zwischenniveau erstreckend gebildet ist, zu dem sich die Aussparung 302 erstreckt. Die Aussparung 330 verbindet mit der Aussparung 302, um eine durchgehende Aussparung zu bilden, die durch die PCB 300 dringt. Die Aussparung 330 ist von der Oberseite oder Unterseite her gesehen kleiner als die Aussparung 302. Die Unteransichtsform der Aussparung 330 kann kreisförmig oder rechteckig sein oder andere Formen aufweisen. Der Klebstoff 310 ist in der Aussparung 302 verteilt. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst die PCB 300 in 10 aktiv leitende Bahnen 320 und kann leitende Dummy-Bahnen umfassen oder nicht.
  • Unter Bezugnahme auf 11 wird das Package 20 an der PCB 300 beispielsweise durch Klebstoff 310 angehaftet. Das Bilden des Packages 20 wurde unter Bezugnahme auf die 1 bis 5A/5B und 24 beschrieben und die Details werden hierin nicht wiederholt. Wenn die Aussparung 302 (10) gebildet ist, erstreckt sich mindestens ein unterer Teil des Packages 20 in die Aussparung 302. Beispielsweise kann sich die Package-Komponente 200 vollständig oder teilweise in der Aussparung 302 befinden. Dann wird ein Drahtbonden an den Bondinseln 214 und 314 ausgeführt, sodass die Bondinseln 214 und 314 durch die Bonddrähte 26 elektrisch verbunden sind. Die Unterseite des Packages 20 ist zur Aussparung 330 offengelegt. Das TIM 28 ist oben auf dem Package 20 verteilt.
  • 12 veranschaulicht das Befestigen der mechanischen Auflage 30 und des Kühlsystems 32. Das Kühlsystem 32 ist in Kontakt mit dem TIM 28, das oben auf dem Package 20 verteilt oder angeordnet ist. Dann wird wie gezeigt in 13 das Kühlsystem 36 an dem Package 20 beispielsweise durch das TIM 28 angebracht. Es kann zusätzlicher Klebstoff verteilt werden, um die Seitenwände des Kühlsystems 38 mit den Seitenwänden der PCB 300 zu verbinden, die der Aussparung 330 zugewandt sind. Das Kühlsystem 36 kann auch Finnen oder Rohre darin zum Leiten eines Kühlmittels umfassen. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird das Stützsystem 40 an der Unterseite des Kühlsystems 36 angebracht. Das Stützsystem 40 wird verwendet, wenn das resultierende Package 34 während seiner Verwendung horizontal angeordnet wird, da das Package 34 eine große Größe aufweist und daher Unterstützung benötigt, um die Probleme aufgrund seines Gewichts zu vermeiden. Das Stützsystem 40 wird nicht angebracht, wenn das Package 34 verwendet wird, wenn es sich in einer vertikalen Richtung befindet.
  • Die 14 bis 20 veranschaulichen das Bilden des Packages 34 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Diese Ausführungsformen sind den Ausführungsformen ähnlich, die in den 1 bis 9 gezeigt sind, außer dass die Package-Komponente 200 keine Vorrichtungs-Dies (und Package-Komponenten, die Vorrichtungs-Dies umfassen) umfasst. 14 veranschaulicht die Ausrichtung der Package-Komponente 100 zur Package-Komponente 200. 15 veranschaulicht eine Draufsicht der Package-Komponente 100, die beispielsweise unter Verwendung von im Wesentlichen dem gleichen Verfahren und Material wie gezeigt in 3 gebildet ist. 24 veranschaulicht einige Details der Package-Komponente 100 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung, wobei die RDLs 110 und die entsprechenden Dielektrikumschichten 109 veranschaulicht sind.
  • 16 veranschaulicht eine Draufsicht der Package-Komponente 200 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung, die Bondinseln 214 zeigt, die in der Umfangsregion der Package-Komponente 200 gebildet sind. Die von der Umfangsregion umgegebene innere Region umfasst RDLs darin. 25 veranschaulicht einige Details von einigen Teilen der Package-Komponente 200. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst die Package-Komponente 200 die RDLs 110 (einschließlich 110A und 110B) und die entsprechenden Dielektrikumschichten 109 (einschließlich 109A und 109B), die über dem leeren Substrat 220 gebildet sind. Die Dielektrikumschicht 222 kann über dem leeren Substrat 220 gebildet sein, wobei die RDLs 110 über der Dielektrikumschicht 222 gebildet sind. Die Details der RDLs 110 und der Dielektrikumschichten 109 können die Gleichen sein, wie sie unter Bezugnahme auf 24 beschrieben sind, und werden daher hierin nicht wiederholt.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen werden keine aktiven Vorrichtungen wie Transistoren und Dioden auf dem leeren Substrat 220 gebildet. Des Weiteren kann die Package-Komponente 200 gemäß einigen Ausführungsformen frei von passiven Vorrichtungen wie Widerständen, Kondensatoren, Induktoren oder dergleichen in den Dielektrikumschichten 109 sein oder kann diese umfassen. Das leere Substrat 220 kann aus einem homogenen Material gebildet sein, das beispielsweise Silizium sein kann. Alternativ kann das leere Substrat 220 ein Dielektrikumsubstrat sein, das beispielsweise aus Siliziumoxid gebildet sein kann. Die Package-Komponente 200 wird für elektrisches Routing verwendet.
  • Dann wird die Package-Komponente 100 an die Package-Komponente 200 gebondet, was in dem Package 20 wie gezeigt in 17 resultiert. Die Unterfüllung 24 wird in die Spalte zwischen den Package-Komponenten 100 und 200 verteilt. Die Draufsicht des Packages 20 ist auch in 18 gezeigt.
  • Unter Bezugnahme auf 18 wird das Package 20 an der PCB 300 angehaftet, die im Wesentlichen die Gleiche wie in 6 gezeigt sein kann. 19A veranschaulicht eine Querschnittansicht der in 18 gezeigten Struktur. Das TIM 304 und 308 und die Metallplatte 306 können in die Aussparung 302 (6) in der PCB 300 ähnlich dem, was in 6 gezeigt ist, angeordnet werden. Das Package 20 wird an der PCB 300 durch den Klebstoff 310 (6) und das TIM 308 angehaftet.
  • Als Nächstes werden die Drahtbonds 26 gebildet, um das Package 20 mit der PCB 300 wie auch in einer Draufsicht in 19A gezeigt elektrisch zu verbinden. 20 veranschaulicht das Befestigen der mechanischen Auflage 30 und des Kühlsystems 32. Die Strukturen, Materialien und das Befestigungsverfahren können im Wesentlichen gleich wie unter Bezugnahme auf 9 beschrieben sein. Das Package (die Elektronikkarte) 34 ist daher gebildet. In anschließenden Schritten können Stifte (nicht gezeigt) angebracht werden, um gegebenenfalls mit den elektrischen Anschlüssen 316 zu verbinden, oder das Package 34 kann in einen Slot eines Racks eingesetzt werden, wobei die elektrischen Anschlüsse 316 als die elektrische Verbindung verwendet werden.
  • Die 21 bis 23 veranschaulichen das Bilden des Packages 34 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Diese Ausführungsformen sind den Ausführungsformen ähnlich, die in den 1 bis 9 gezeigt sind, außer dass die Package-Komponente 200 die in 25 gezeigte Struktur aufweist und frei von Vorrichtungs-Dies und aktiven Transistoren darin ist, und die Öffnung 330 ( 23) ist in der PCB 300 gebildet. Unter Bezugnahme auf 21 wird die Package-Komponente 100 beispielsweise unter Verwendung von im Wesentlichen dem gleichen Verfahren und Material wie gezeigt in 3 gebildet. Die Package-Komponente 100 wird mit der Package-Komponente 200 ausgerichtet, die unter Bezugnahme auf die 16 und 25 beschrieben und veranschaulicht ist. Die Package-Komponente 100 wird an die Package-Komponente 200 gebondet, was das Package 20 wie gezeigt in 22 bildet.
  • Unter weiterer Bezugnahme auf 22 wird die Package-Komponente 300 bereitgestellt. Die Struktur der Package-Komponente 300 ist dem ähnlich, was in 10 gezeigt ist und beschrieben wurde. Die Details werden daher hierin nicht wiederholt. Das Package 20 wird an der PCB 300 beispielsweise durch den Klebstoff 310 angehaftet. Dann wird ein Drahtbondenprozess an den Bondinseln 214 und 314 ausgeführt, sodass die Bondinseln 214 und 314 durch die Bonddrähte 26 elektrisch verbunden sind. Die Unterseite des Packages 20 wird durch die Aussparung 330 in der PCB 300 offengelegt. Die mechanische Auflage 30 und das Kühlsystem 32 werden dann auf der PCB 300 beispielsweise durch das TIM 28 angebracht. Das Kühlsystem 32 ist in Kontakt mit dem TIM 28, das oben auf dem Package 20 verteilt ist. Dann wird das Kühlsystem 36 an dem Package 20 beispielsweise durch das TIM 28 angebracht. Es kann zusätzlicher Klebstoff (nicht gezeigt) verteilt werden, um die Seitenwände des Kühlsystems 38 mit den Seitenwänden der PCB 300 zu verbinden, die der Aussparung 330 zugewandt sind. Das Kühlsystem 36 kann Finnen oder Rohre darin zum Leiten eines Kühlmittels umfassen. Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird das Stützsystem 40 an der Unterseite des Kühlsystems 36 angebracht. Gemäß anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird das Stützsystem 40 nicht angebracht, wenn das resultierende Package 34 vertikal anzubringen ist. 23 veranschaulicht das Package 34, nachdem die Komponenten wie gezeigt in 22 integriert wurden.
  • In den vorstehend veranschaulichten Ausführungsformen sind einige Prozesse und Merkmale gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung beschrieben. Andere Merkmale und Prozesse können auch umfasst sein. Es können beispielsweise Prüfstrukturen umfasst sein, um bei der Verifizierungsprüfung des 3D-Packagings oder der 3DIC-Vorrichtungen zu unterstützen. Die Prüfstrukturen können beispielsweise Prüfkontaktstellen umfassen, die in einer Umverdrahtungsschicht oder auf einem Substrat gebildet sind, was das Prüfen des 3D-Packagings oder der 3DIC, den Gebrauch von Sonden und/oder Sondenkarten und dergleichen ermöglicht. Die Verifizierungsprüfung kann an Zwischenstrukturen sowie an der endgültigen Struktur ausgeführt werden. Des Weiteren können die hierin offenbarten Strukturen und Verfahren in Verbindung mit Prüfmethodiken verwendet werden, die eine Zwischenverifizierung von bekannten guten Dies beinhalten, um den Ertrag zu erhöhen und die Kosten zu verringern.
  • Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung weisen einige vorteilhafte Merkmale auf. Indem mehrere Package-Komponenten in rekonstruierte Wafer integriert werden, können die Integrationsstufen verbessert werden und ein System kann durch Bonden von rekonstruierten Wafern integriert werden. Die Verbindungsleitungen der mehreren Package-Komponenten sind kurz und daher weist das entsprechende System eine verbesserte Leistung auf. Dies ermöglicht, dass das System in einigen leistungsfordernden Anwendungen wie künstliche Intelligenz-Anwendungen verwendet werden kann, die mehrere unterschiedliche Arten von Chips für paralleles Computing erfordern. Der Gebrauch einer ausgesparten PCB verbessert die Stabilität des Packages und reduziert die Dicke des resultierenden Packages. Außerdem ermöglicht die Rückseitenöffnung in der PCB eine Wärmeabführung von beiden Seiten.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst ein Verfahren das Bonden eines ersten Packages an ein zweites Package, um ein drittes Package zu bilden, wobei das erste Package ein InFO-Package ist, das erste mehrere Package-Komponenten umfasst, wobei die ersten mehreren Package-Komponenten Vorrichtungs-Dies umfassen; und ein erstes Einkapselungsmaterial, das die ersten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; das Anordnen von mindestens einem Abschnitt des dritten Packages in eine erste Aussparung in einer PCB, wobei sich die erste Aussparung von einer oberen Fläche der PCB zu einem Zwischenniveau zwischen der oberen Fläche und einer unteren Fläche der PCB erstreckt; und das Ausführen von Drahtbonden, um das dritte Package mit der PCB elektrisch zu verbinden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Bilden des zweiten Packages, umfassend: das Bilden mehrerer Umverteilungsleitungen über einem leeren Substrat, wobei sich die mehreren Umverteilungsleitungen zwischen dem leeren Siliziumsubstrat und dem ersten Package befinden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Bilden des zweiten Packages, umfassend: das Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und das Bilden mehrerer Umverteilungsleitungen über den zweiten mehreren Package-Komponenten und elektrisch damit verbindend, wobei die zweiten mehreren Package-Komponenten zusätzliche Vorrichtungs-Dies umfassen. Bei einer Ausführungsform ist das zweite Package ein ungesägter Wafer. Bei einer Ausführungsform umfasst das Bilden des ersten Packages: das Kapseln der ersten mehreren Package-Komponenten in dem ersten Einkapselungsmaterial; und Zuschneiden von Randabschnitten des ersten Einkapselungsmaterials. Bei einer Ausführungsform umfasst die PCB ferner eine zweite Aussparung, die sich von der unteren Fläche der PCB zum Zwischenniveau erstreckt, und wobei das Verfahren ferner umfasst: das Befestigen eines Kühlsystems an dem dritten Package, wobei sich das Kühlsystem in die zweite Aussparung erstreckt. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Anhaften einer Metallplatte an der PCB durch ein TIM, wobei die PCB ein Dummy-Metallmerkmal umfasst, das durch die PCB dringt, und das TIM das Dummy-Metallmerkmal überlappt.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst ein Verfahren das Rekonstruieren eines ersten Wafers umfassend: das Kapseln erster mehrerer Package-Komponenten in einem ersten Einkapselungsmaterial, wobei die ersten mehreren Package-Komponenten unterschiedliche Arten von Vorrichtungs-Dies umfassen; das Bilden erster mehrerer RDLs, die das erste Einkapselungsmaterial und die ersten mehreren Package-Komponenten überlappen; und das Bilden erster elektrischer Anschlüsse über den ersten mehreren RDLs und elektrisch damit verbindend; das Rekonstruieren eines zweiten Wafers; das Bonden des ersten Wafers an den zweiten Wafer, um ein Package zu bilden; das Anhaften des Packages an einer Leiterplatte; und das elektrische Verbinden erster leitender Merkmale auf dem Package mit zweiten leitenden Merkmalen auf der Leiterplatte. Bei einer Ausführungsform umfasst das Rekonstruieren des zweiten Wafers: das Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und das Bilden zweiter mehrerer RDLs, die mit den zweiten mehreren Package-Komponenten verbinden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Zuschneiden von Randabschnitten des ersten Wafers vor dem Bonden des ersten Wafers an den zweiten Wafer. Bei einer Ausführungsform verbleiben nach dem Zuschneiden alle durch das erste Einkapselungsmaterial gekapselten Vorrichtungs-Dies in dem ersten Wafer und alle Vorrichtungs-Dies befinden sich in dem Package, wenn sie an der Leiterplatte angebracht sind. Bei einer Ausführungsform umfasst das Rekonstruieren des zweiten Wafers: das Bilden zweiter mehrerer RDLs über einem leeren Siliziumsubstrat, wobei sich die zweiten mehreren RDLs zwischen dem leeren Siliziumsubstrat und dem ersten Wafer befinden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Rekonstruieren des zweiten Wafers: das Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und das Bilden zweiter mehrerer RDLs über den zweiten mehreren Package-Komponenten und elektrisch damit verbindend. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Verteilen einer Unterfüllung zwischen dem ersten Wafer und dem zweiten Wafer. Bei einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner das Befestigen eines Kühlsystems von einer Unterseite des Packages, wobei sich ein Abschnitt des Kühlsystems in die Leiterplatte erstreckt.
  • Gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung umfasst ein Package einen ersten Wafer, der erste mehrere Package-Komponenten umfasst, die erste Vorrichtungs-Dies umfassen; ein erstes Vergussmaterial, das die ersten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und erste Umverteilungsleitungen, welche die ersten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; einen zweiten Wafer, der an den ersten Wafer gebondet ist, wobei der zweite Wafer umfasst: zweite mehrere Package-Komponenten, die zweite Vorrichtungs-Dies umfassen; ein zweites Vergussmaterial, das die zweiten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und zweite Umverteilungsleitungen, welche die zweiten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; eine Leiterplatte, wobei der zweite Wafer an der Leiterplatte angehaftet ist; und elektrische Verbindungen, welche erste Bondinseln auf dem zweiten Wafer mit Bondinseln auf der Leiterplatte verbinden. Bei einer Ausführungsform erstreckt sich der zweite Wafer in die Leiterplatte. Bei einer Ausführungsform befindet sich im Wesentlichen eine Gesamtheit des zweiten Wafers innerhalb der Leiterplatte. Bei einer Ausführungsform umfasst das Package ferner elektrische Anschlüsse auf einer Seite der Leiterplatte, wobei die elektrischen Anschlüsse konfiguriert sind, in eine Buchse eingeführt zu werden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Package ferner ein Kühlsystem, das sich in die Leiterplatte erstreckt, wobei das Kühlsystem an einer Rückseite des zweiten Wafers angebracht ist. Das Package umfasst einen ersten Wafer, der erste mehrere Package-Komponenten umfasst, die erste Vorrichtungs-Dies umfassen; ein erstes Vergussmaterial, das die ersten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und erste Umverteilungsleitungen, welche die ersten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; einen zweiten Wafer, der an den ersten Wafer gebondet ist, wobei der zweite Wafer umfasst: zweite mehrere Package-Komponenten, die zweite Vorrichtungs-Dies umfassen; ein zweites Vergussmaterial, das die zweiten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und zweite Umverteilungsleitungen, welche die zweiten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; eine Leiterplatte, wobei der zweite Wafer an der Leiterplatte angehaftet ist; und elektrische Verbindungen, welche erste Bondinseln auf dem zweiten Wafer mit Bondinseln auf der Leiterplatte verbinden. Bei einer Ausführungsform erstreckt sich der zweite Wafer in die Leiterplatte. Bei einer Ausführungsform befindet sich im Wesentlichen eine Gesamtheit des zweiten Wafers innerhalb der Leiterplatte. Bei einer Ausführungsform umfasst das Package ferner elektrische Anschlüsse auf einer Seite der Leiterplatte, wobei die elektrischen Anschlüsse konfiguriert sind, in einen Sockel eingesetzt zu werden. Bei einer Ausführungsform umfasst das Package ferner ein Kühlsystem, das sich in die Leiterplatte erstreckt, wobei das Kühlsystem an einer Rückseite des zweiten Wafers angebracht ist.
  • Das vorhergehende beschreibt Merkmale von mehreren Ausführungsformen, sodass der Fachmann die Aspekte der vorliegenden Offenbarung besser verstehen kann. Dem Fachmann sollte offensichtlich sein, dass er ohne Weiteres die vorliegende Offenbarung als eine Basis verwenden kann, um andere Prozesse und Strukturen zu konzipieren oder zu modifizieren, um die gleichen Zwecke auszuführen und/oder die gleichen Vorteile der hier eingeführten Ausführungsformen zu erreichen. Der Fachmann sollte auch realisieren, dass solche äquivalenten Aufbauten nicht vom Sinn und Umfang der vorliegenden Offenbarung abweichen, und dass er verschiedene Änderungen, Ersetzungen und Modifikationen hierin vornehmen kann, ohne vom Sinn und Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.

Claims (20)

  1. Verfahren, umfassend: Bonden eines ersten Packages an ein zweites Package, um ein drittes Package zu bilden, wobei das erste Package ein integriertes Fan-Out (InFO) -Package ist, das umfasst: erste mehrere Package-Komponenten, wobei die ersten mehreren Package-Komponenten Vorrichtungs-Dies umfassen; und ein erstes Einkapselungsmaterial, das die ersten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; Anordnen von mindestens einem Abschnitt des dritten Packages in eine erste Aussparung in einer Leiterplatte (PCB), wobei sich die erste Aussparung von einer oberen Fläche der PCB zu einem Zwischenniveau zwischen der oberen Fläche und einer unteren Fläche der PCB erstreckt; und Ausführen von Drahtbonden, um das dritte Package mit der PCB elektrisch zu verbinden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, ferner umfassend das Bilden des zweiten Packages, umfassend: Bilden mehrerer Umverteilungsleitungen über einem Substrat, wobei sich die mehreren Umverteilungsleitungen zwischen dem Substrat und dem ersten Package befinden.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, ferner umfassend das Bilden des zweiten Packages, umfassend: Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und Bilden mehrerer Umverteilungsleitungen über den zweiten mehreren Package-Komponenten und elektrisch damit verbindend, wobei die zweiten mehreren Package-Komponenten zusätzliche Vorrichtungs-Dies umfassen.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei das zweite Package ein ungesägter Wafer ist.
  5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 1, ferner umfassend das Bilden des ersten Packages, umfassend: Kapseln der ersten mehreren Package-Komponenten in dem ersten Einkapselungsmaterial; und Zuschneiden von Randabschnitten des ersten Einkapselungsmaterials.
  6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die PCB ferner eine zweite Aussparung umfasst, die sich von der unteren Fläche der PCB zum Zwischenniveau erstreckt, und das Verfahren ferner umfasst: Anbringen eines Kühlsystems an dem dritten Package, wobei sich das Kühlsystem in die zweite Aussparung erstreckt.
  7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, ferner umfassend das Anhaften einer Metallplatte an der PCB durch ein Wärmeleitmaterial (TIM), wobei die PCB ein Dummy-Metallmerkmal umfasst, das durch die PCB dringt, wobei das TIM das Dummy-Metallmerkmal überlappt.
  8. Verfahren, umfassend: Rekonstruieren eines ersten Wafers, umfassend: Kapseln erster mehrerer Package-Komponenten in einem ersten Einkapselungsmaterial, wobei die ersten mehreren Package-Komponenten unterschiedliche Arten von Vorrichtungs-Dies umfassen; Bilden von ersten mehreren Umverteilungsleitungen (RDLs), die das erste Einkapselungsmaterial und die ersten mehreren Package-Komponenten überlappen; und Bilden erster elektrischer Anschlüsse über den ersten mehreren RDLs und elektrisch damit verbindend; Rekonstruieren eines zweiten Wafers; Bonden des ersten Wafers an den zweiten Wafer, um ein Package zu bilden; Anhaften des Packages an einer Leiterplatte; und elektrisches Verbinden erster leitender Merkmale auf dem Package mit zweiten leitenden Merkmalen auf der Leiterplatte.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Rekonstruieren des zweiten Wafers umfasst: Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und Bilden zweiter mehrerer RDLs, die mit den zweiten mehreren Package-Komponenten verbinden.
  10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, ferner umfassend das Zuschneiden von Randabschnitten des ersten Wafers vor dem Bonden des ersten Wafers an den zweiten Wafer.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei nach dem Zuschneiden alle durch das erste Einkapselungsmaterial gekapselten Vorrichtungs-Dies in dem ersten Wafer verbleiben und alle Vorrichtungs-Dies sich in dem Package befinden, wenn sie an der Leiterplatte angebracht sind.
  12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 8 bis 11, wobei das Rekonstruieren des zweiten Wafers umfasst: Bilden zweiter mehrerer RDLs über einem Siliziumsubstrat, wobei sich die zweiten mehreren RDLs zwischen dem Siliziumsubstrat und dem ersten Wafer befinden.
  13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 8 bis 12, wobei das Rekonstruieren des zweiten Wafers umfasst: Kapseln von zweiten mehreren Package-Komponenten in einem zweiten Einkapselungsmaterial; und Bilden zweiter mehrerer RDLs über den zweiten mehreren Package-Komponenten und elektrisch damit verbindend.
  14. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 8 bis 13, ferner umfassend das Verteilen einer Unterfüllung zwischen dem ersten Wafer und dem zweiten Wafer.
  15. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 8 bis 14, ferner umfassend das Anbringen eines Kühlsystems von einer Unterseite des Packages, wobei sich ein Abschnitt des Kühlsystems in die Leiterplatte erstreckt.
  16. Package umfassend: einen erster Wafer, umfassend: erste mehrere Package-Komponenten, welche die ersten Vorrichtungs-Dies umfassen; ein erstes Vergussmaterial, das die ersten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und erste Umverteilungsleitungen, welche die ersten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; einen zweiten Wafer, der an den ersten Wafer gebondet ist, wobei der zweite Wafer umfasst: zweite mehrere Package-Komponenten, die zweite Vorrichtungs-Dies umfassen; ein zweites Vergussmaterial, das die zweiten mehreren Package-Komponenten darin kapselt; und zweite Umverteilungsleitungen, welche die zweiten mehreren Package-Komponenten miteinander verbinden; eine Leiterplatte, wobei der zweite Wafer an der Leiterplatte angehaftet ist; und elektrische Verbindungen, welche die ersten Bondinseln auf dem zweiten Wafer mit Bondinseln auf der Leiterplatte verbinden.
  17. Package nach Anspruch 16, wobei sich der zweite Wafer in die Leiterplatte erstreckt.
  18. Package nach Anspruch 16 oder 17, wobei sich im Wesentlichen eine Gesamtheit des zweiten Wafers in der Leiterplatte befindet.
  19. Package nach einem der vorstehenden Ansprüche 16 bis 18, ferner umfassend elektrische Anschlüsse auf einer Seite der Leiterplatte, wobei die elektrischen Anschlüsse konfiguriert sind, in einen Sockel eingesetzt zu werden.
  20. Package nach einem der vorstehenden Ansprüche 16 bis 19, ferner umfassend ein Kühlsystem, das sich in die Leiterplatte erstreckt, wobei das Kühlsystem an einer Rückseite des zweiten Wafers angebracht ist.
DE102018127067.4A 2018-03-29 2018-10-30 Elektronikkarte einschließlich Multi-Chip-Modul Pending DE102018127067A1 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862649772P 2018-03-29 2018-03-29
US62/649,772 2018-03-29
US16/160,516 2018-10-15
US16/160,516 US10916529B2 (en) 2018-03-29 2018-10-15 Electronics card including multi-chip module

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102018127067A1 true DE102018127067A1 (de) 2019-10-02

Family

ID=67909714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102018127067.4A Pending DE102018127067A1 (de) 2018-03-29 2018-10-30 Elektronikkarte einschließlich Multi-Chip-Modul

Country Status (5)

Country Link
US (3) US10916529B2 (de)
KR (1) KR102192014B1 (de)
CN (1) CN110323143B (de)
DE (1) DE102018127067A1 (de)
TW (1) TWI736866B (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11217563B2 (en) 2019-10-24 2022-01-04 Apple Inc. Fully interconnected heterogeneous multi-layer reconstructed silicon device
US11201127B2 (en) * 2020-03-09 2021-12-14 Qualcomm Incorporated Device comprising contact to contact coupling of packages
US11594498B2 (en) 2020-04-27 2023-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor package and method
EP4305667A1 (de) * 2021-03-08 2024-01-17 Tesla, Inc. Gekühltes system auf wafer mit mitteln zur verringerung der effekte von elektrostatischer entladung und/oder elektromagnetischer interferenz
US12051650B2 (en) 2021-08-26 2024-07-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor package and method
US11935761B2 (en) 2021-08-27 2024-03-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor package and method of forming thereof
CN114759012B (zh) * 2022-06-14 2022-08-26 之江实验室 基于tsv工艺晶上系统与pcb板互连结构及制造方法
US11705437B1 (en) * 2023-01-19 2023-07-18 Zhejiang Lab Interconnection structure of system on wafer and PCB base on TSV process and method for manufacturing the same

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3292798B2 (ja) 1995-10-04 2002-06-17 三菱電機株式会社 半導体装置
US6887769B2 (en) * 2002-02-06 2005-05-03 Intel Corporation Dielectric recess for wafer-to-wafer and die-to-die metal bonding and method of fabricating the same
JP2004296613A (ja) 2003-03-26 2004-10-21 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7763963B2 (en) * 2005-05-04 2010-07-27 Stats Chippac Ltd. Stacked package semiconductor module having packages stacked in a cavity in the module substrate
US7834464B2 (en) * 2007-10-09 2010-11-16 Infineon Technologies Ag Semiconductor chip package, semiconductor chip assembly, and method for fabricating a device
CN102169875B (zh) 2010-02-26 2013-04-17 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体装置及其制造方法
US8519537B2 (en) * 2010-02-26 2013-08-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. 3D semiconductor package interposer with die cavity
US8535989B2 (en) * 2010-04-02 2013-09-17 Intel Corporation Embedded semiconductive chips in reconstituted wafers, and systems containing same
EP2535926A3 (de) * 2011-06-17 2015-08-05 BIOTRONIK SE & Co. KG Halbleiterpaket
KR101849223B1 (ko) 2012-01-17 2018-04-17 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US9721920B2 (en) 2012-10-19 2017-08-01 Infineon Technologies Ag Embedded chip packages and methods for manufacturing an embedded chip package
KR102134133B1 (ko) * 2013-09-23 2020-07-16 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
US9935090B2 (en) 2014-02-14 2018-04-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Substrate design for semiconductor packages and method of forming same
US9527723B2 (en) * 2014-03-13 2016-12-27 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Semiconductor device and method of forming microelectromechanical systems (MEMS) package
US9881908B2 (en) 2016-01-15 2018-01-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Integrated fan-out package on package structure and methods of forming same
US9773757B2 (en) * 2016-01-19 2017-09-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Devices, packaged semiconductor devices, and semiconductor device packaging methods
US10062648B2 (en) * 2016-02-26 2018-08-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor package and method of forming the same

Also Published As

Publication number Publication date
US11658164B2 (en) 2023-05-23
KR102192014B1 (ko) 2020-12-17
US20210167051A1 (en) 2021-06-03
TWI736866B (zh) 2021-08-21
CN110323143A (zh) 2019-10-11
KR20190114723A (ko) 2019-10-10
US10916529B2 (en) 2021-02-09
US20230253378A1 (en) 2023-08-10
US20190304959A1 (en) 2019-10-03
TW201942986A (zh) 2019-11-01
CN110323143B (zh) 2021-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102019103993B4 (de) Package mit Dummy-Dies zum reduzieren von Wölbungen im Package und Herstellungsverfahren dafür
DE102018108051B4 (de) Integrierte Fan-Out-Packages und Verfahren zu deren Herstellung
DE102018127067A1 (de) Elektronikkarte einschließlich Multi-Chip-Modul
DE102018116743B4 (de) Halbleiter-Bauelement und Verfahren
DE102020101431B4 (de) Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren
DE102019115952B4 (de) Halbleiter-packages
DE102015105952B4 (de) Halbleitereinrichtung und Verfahren
DE102016101685B4 (de) Verfahren zur herstellung eines integrierten fan-out-packages
DE102019118492B4 (de) Eingebettete Spannungsreglerstruktur und Verfahren zum Bilden derselben und Verfahren zum Betrieb derselben
DE102019103952A1 (de) Kreuzwafer-RDLs in konstruierten Wafern
DE102016119033A1 (de) Integriertes Passivvorrichtungs-Package und Verfahren zum Ausbilden von diesem
DE102020100002B4 (de) Fan-out-packages und verfahren zu deren herstellung
DE102019109592B4 (de) Die-stapel und deren ausbildungsverfahren
DE102019130466B4 (de) Dreidimensionale integration grosser systeme und verfahren zu deren herstellung
DE102018130035A1 (de) Integrierter schaltkreis-package und verfahren
DE102019120381A1 (de) Integriertes schaltungs-package und verfahren
DE102018127314B4 (de) Integriertes Schaltkreis-Package und Verfahren
DE102019117199A1 (de) Fan-out-packages und verfahren zu deren herstellung
DE102021107792A1 (de) Halbleiter-packages und verfahren
DE102021102227A1 (de) Wärmeableitung bei Halbleiter-Packages und Verfahren zum Ausbilden derselben
DE102017122831B4 (de) Gehäusestrukturen und Ausbildungsverfahren
DE102020124229A1 (de) Halbleitervorrichtung und verfahren
DE102018102086A1 (de) Halbleiter-packages und verfahren zu deren herstellung
DE102019126582A1 (de) Ipd-module mit flexiblem verbindungsschema bei der kapselung
DE102019114984A1 (de) Package für integrierte schaltungen und verfahren

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication