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GEBIET DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung betrifft Duplexgeräte und insbesondere
ein Duplexgerät zur Verwendung in einem Mobiltelefonsystem.
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BESCHREIBUNG DES STANDES DER
TECHNIK
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Ein
Duplexgerät zur Trennung von Sende- und Empfangssignalen
in einem Mobilfunkwellenband ist in der ungeprüften
japanischen Patentanmeldung mit
der Veröffentlichungsnr. 2008-504756 offenbart.
Wie in einem Schaltbild gemäß
7 dargestellt
ist, umfaßt das offenbarte Duplexgerät einen Empfangsfilter
1,
der in einem Empfangsweg RX angeordnet ist und mit einer Oberflächenschallwelle (SAW)
betrieben wird, und einen Sendefilter
2, der in einem Sendeweg
TX angeordnet ist und mit einer akustischen Raumwelle (BAW) betrieben
wird.
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Da
in dem Sendefilter des Duplexgeräts ein piezoelektrischer
BAW-Resonator verwendet wird, der einem SAW-Resonator in den nichtlinearen
Sekundäreigenschaften unterlegen ist, liegt eine ausgeprägte
Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung (IMD) vor.
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OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, ein Duplexgerät zu schaffen,
mit dem die Erzeugung einer IMD gesteuert wird.
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Mit
der vorliegenden Erfindung werden die im folgenden erläuterten
Duplexgeräte geschaffen.
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Das
Duplexgerät gemäß einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung umfaßt einen Sendefilter mit
in Reihe geschalteten Resonatoren und parallelen, kettenartig geschalteten
Resonatoren sowie einen Empfangsfilter. Ein Resonator von den in Reihe
geschalteten Resonatoren und den parallel geschalteten Resonatoren
in dem Sendefilter, der einem gemeinsamen Anschluß für
den Sendefilter und dem Sendefilter am nächsten liegt,
umfaßt einen Oberflächenschallwellenresonator,
und mindestens ein Resonator außer dem Resonator, der dem
gemeinsamen Anschluß am nächsten liegt, umfaßt
einen akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonator.
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Mit
dieser Anordnung ist der Resonator von den in Reihe geschalteten
Resonatoren und den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter, der
dem gemeinsamen Anschluß für den Sendefilter und
dem Sendefilter am nächsten liegt, ein Schallwellenresonator
(beispielsweise ein Oberflächenschallwellenresonator oder
ein Grenzflächenschallwellenresonator), der einem akustischen
Dünnschicht-Raumwellenresonator in den nichtlinearen Sekundäreigenschaften überlegen
ist. Die Erzeugung der Zwischenmodulationsverzerrung wird besser
gesteuert als in dem Fall, in dem sämtliche Resonatoren
in dem Sendefilter akustische Dünnschicht-Raumwellenresonator
sind. Mindestens einer von den anderen Resonatoren in dem Sendefilter
ist ein akustischer Dünnschicht-Raumwellenresonator. Mit
dieser Anordnung zeichnet sich das Duplexgerät durch einen
niedrigen Einschaltverlust zwischen einer Antenne und einem Sender
sowie sehr gute Leistungsbeständigkeit wie ein Duplexgerät
aus, bei dem sämtliche Resonatoren in dem Sendefilter akustische Dünnschicht-Raumwellenresonatoren
sind.
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Vorzugsweise
ist der Resonator von den in Reihe geschalteten Resonatoren und
den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter, der einem
gemeinsamen Anschluß am nächsten liegt, ein parallel
geschalteter Resonator, und jeder von dem parallel geschalteten
Resonator und einem in Reihe geschalteten Resonator von den in Reihe
geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter, der einem gemeinsamen
Anschluß am nächsten liegt, ist ein Oberflächenschallwellenresonator.
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Der
parallel geschaltete Resonator, der dem gemeinsamen Anschluß am
nächsten liegt, und der in Reihe geschaltete Resonator,
der dem gemeinsamen Anschluß am nächsten liegt,
sind Oberflächenschallwellenresonatoren. Mit dieser Anordnung
wird die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung sicher gesteuert.
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Vorzugsweise
umfassen der akustische Dünnschicht-Raumwellenresonator,
der mindestens einen von den in Reihe geschalteten Resonatoren und
den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter bildet,
ein Substrat und einen Vibrator, der auf einer der Hauptflächen
des Substrats eine piezoelektrische Dünnschicht aufweist,
die zwischen zwei Elektroden angeordnet und von dem Substrat elektrisch
isoliert ist. Die zwei Elektroden weisen annähernd die
gleiche Dicke zueinander auf.
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Da
der Vibrator eine Konstruktion besitzt, in der die Elektroden auf
beiden Seiten der piezoelektrischen Dünnschicht symmetrisch
in bezug auf die piezoelektrische Dünnschicht angeordnet
sind, breitet sich die Vibration symmetrisch in der Dickenrichtung aus.
Mithin wird die lineare Sekundärerscheinung gesteuert.
Die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung wird noch weiter
vermindert.
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Vorzugsweise
umfaßt der Vibrator des akustische Dünnschicht-Raumwellenresonators,
der mindestens einen von den in Reihe geschalteten Resonatoren und
den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter bildet,
außerdem zwei Isolationsschichten, die jeweils auf einer
anderen Seite mit der piezoelektrischen Dünnschicht der
zwei Elektroden angeordnet sind. Die zwei Isolationsschichten weisen
annähernd die gleiche Dicke auf.
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Mit
dieser Anordnung wird die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung
gesteuert, wobei sich gleichzeitig die Beständigkeit der
Elektrode verbessert.
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Vorzugsweise
umfaßt der akustische Dünnschicht-Raumwellenresonator,
der mindestens einen von den in Reihe geschalteten Resonatoren und
den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter bildet,
ein Substrat und einen Vibrator, der auf einer der Hauptflächen
des Substrats eine piezoelektrische Dünnschicht aufweist,
die zwischen zwei Elektroden angeordnet und von dem Substrat elektrisch isoliert
ist. Beliebige zwei benachbarte Seiten der Kontur des Vibrators
mit den zwei Elektroden und der dazwischen eingelegten piezoelektrischen
Dünnschicht sind bei Betrachtung in der Dickenrichtung des
Vibrators in einer sanft gebogenen Ecke miteinander verbunden.
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Da
die Ecke des Vibrators in dem akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonator
gebogen ist, wird ein Vibrationsreflexzustand innerhalb der Vibration
an der Ecke nicht unterbrochen. Die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung
wird noch weiter vermindert.
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Vorzugsweise
umfaßt der akustische Dünnschicht-Raumwellenresonator,
der mindestens einen von den in Reihe geschalteten Resonatoren und
den parallel geschalteten Resonatoren in dem Sendefilter bildet,
ein Substrat, einen Vibrator, der auf einer der Hauptflächen
des Substrats eine piezoelektrische Dünnschicht aufweist,
die zwischen zwei Elektroden angeordnet und von dem Substrat elektrisch
isoliert ist, und Leitdrähte, die zu den Elektroden geführt sind.
Der Leitdraht weist einen gebogenen Abschnitt auf, der bei Betrachtung
in der Dickenrichtung des Vibrators sanft mit der Kontur des Vibrators
verbunden und an die zwei Elektroden mit der dazwischen eingelegten
piezoelektrischen Dünnschicht angeschlossen ist.
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In
dem akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonator ist der
Abschnitt zur Verbindung des Leitdrahtes mit dem Vibrator gebogen.
Der Vibrationsreflexzustand des Vibrators wird an dem Verbindungsabschnitt
des Leitdrahtes nicht unterbrochen. Die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung
wird noch weiter gesteuert.
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Gemäß den
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden der
Oberflächenschallwellenresonator und der akustische Dünnschicht-Raumwellenresonator
als Resonatoren für den Sendefilter des Duplexgeräts
verwendet, und der Oberflächenschallwellenresonator wird
als der Resonator verwendet, der dem gemeinsamen Anschluß am
nächsten liegt. Mithin wird die Erzeugung des Vibrationsreflexionszustands
gesteuert.
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Weitere
Einzelheiten, Elemente, Eigenschaften und Vorteile der vorliegenden
Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden rein beispielhaften
und nicht beschränkenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen
in Verbindung mit der Zeichnung.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
ein elektrisches Schaltbild eines Duplexgeräts gemäß einer
ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
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2 ist
ein Blockschaltbild des Duplexgeräts gemäß einer
ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
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3 ist
eine Schnittansicht des Hauptabschnitts des Duplexgeräts
gemäß der ersten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung.
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4A–4C stellen
eine Konfiguration des Duplexgeräts gemäß der
ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
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5A–5F sind
Schnittansichten eines akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonators
gemäß der ersten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung.
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6 ist
ein elektrisches Schaltbild eines Duplexgeräts gemäß einer
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
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7 ist
ein elektrisches Schaltbild eines bekannten Duplexgeräts.
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BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Im
folgenden werden Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung
anhand von 1–6 beschrieben.
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Erste Ausführungsform
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Im
folgenden wird anhand von 1 bis 5A–5F ein
Duplexgerät 100 gemäß einer ersten
Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben.
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In 1 umfaßt
das Duplexgerät 100 einen Sendefilter 100a zwischen
einem Antennenanschluß und einem Tx-Anschluß sowie
einen Empfangsfilter 100b zwischen dem Antennenanschluß und
einem Rx-Anschluß. Genauer gesagt, umfaßt das
Duplexgerät 100 Resonatoren 101–112 und
in Längsrichtung verbundene Filter 120. In dem
Duplexgerät 100 können Induktoren L1–L7
enthalten sein oder sich außerhalb des Duplexgeräts 100 befinden.
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Der
zwischen dem Antennenanschluß und dem Tx-Anschluß angeordnete
Sendefilter 100a umfaßt vier in Reihe geschaltete
Resonatoren 101, 103, 105 und 107 sowie
drei parallel geschaltete, kettenartig verbundene Resonatoren 102, 104 und 106.
Der zwischen dem Antennenanschluß und dem Rx-Anschluß angeordnete
Empfangsfilter 100b umfaßt Resonatoren 109a, 109b, 110, 111a, 111b und 112 sowie
die in Längsrichtung verbundenen Filter 120. Die Resonatoren 109a und 109b in
dem Empfangsfilter 100b können durch einen einzigen
Resonator ersetzt sein. Die Resonatoren 111a und 111b in
dem Empfangsfilter 100b können durch einen einzigen
Resonator ersetzt sein.
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In
den Tx-Anschluß kann ein unsymmetrisches Signal eingegeben
oder aus diesem ausgegeben werden. Der Empfangsfilter 100b hat
die Aufgabe, ein unsymmetrisches Signal in ein symmetrisches Signal
zu wandeln, und gibt an den Rx-Anschluß ein symmetrisches
Signal aus.
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Der
Resonator 101 von den Resonatoren 101–107 in
dem Sendefilter 100a, der am nächsten an dem Antennenanschluß und
insbesondere am nächsten an einem gemeinsamen Anschluß 100x für den
Sendefilter 100a und den Empfangsfilter 100b liegt,
ist einer von einem Oberflächenschallwellenresonator (SAW-Resonator)
und einem Grenzflächenwellenresonator. Die anderen Resonatoren 102–107 sind
akustische Dünnschicht-Raumwellenresonatoren (BAW-Resonatoren).
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Die
Resonatoren 109a, 109b, 110, 111a, 111b und 112 und
die in Längsrichtung verbundenen Filter 120 in
dem Empfangsfilter 100b können in dem gleichen
Chip wie demjenigen des in Reihe geschalteten Resonators 101 als
einem von dem SAW-Resonator und dem Oberflächenschallwellenresonator
in dem Sendefilter 100a ausgebildet sein. Beispielweise
sind der in Reihe geschaltete Resonator 101 in dem Sendefilter 100a und
die Resonatoren 109a, 109b, 110, 111a, 111b und 112 sowie
die in Längsrichtung verbundenen Filter 120 in
dem Empfangsfilter 100b in der in 1 gezeigten
Weise alle in dem gleichen Chip auf einem Substrat aus Lithiumtantalat ausgebildet
und verdrahtet.
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Die
Resonatoren 110 und 112 in dem Empfangsfilter 100b können
BAW-Resonatoren sein. Mithin können die Resonatoren 110 und 112 auf
dem gleichen Chip wie demjenigen für die Resonatoren 102–107 ausgebildet
sein, die aus den BAW-Resonatoren in dem Sendefilter 100a gebildet
sind.
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Wenn
der Sendefilter 100a und der Empfangsfilter 100b in
dem Duplexgerät den akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonator
und einen von dem Oberflächenschallwellenresonator und
dem Grenzflächenschallwellenresonator umfaßt,
werden die folgenden Vorteile geschaffen:
Erstens wird die
Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung gesteuert, und ein
sich in ein Empfangssignal mischendes Rauschgeräusch wird
beseitigt. Wenn das Duplexgerät 100 in einem Mobiltelefonsystem
eingebaut ist, erhöht sich die Qualität des Mobilsystems.
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Die
Zwischenmodulationsverzerrung des Duplexgeräts ist in 2 dargestellt.
Das Duplexgerät mit nichtlinearen Eigenschaften kann ein
Sendesignal (Tx-Signal) 50, das über den Tx-Anschluß eingegeben
wird, und ein unvoraussagbares Störsignal 52 kombinieren,
das über den Antennenanschluß eingegeben wird,
wodurch ein Empfangssignal 54 an dem Rx-Anschluß als
Rauschgeräusch erzeugt wird.
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Die
Zwischenmodulationsverzerrung ist im wesentlichen eine Erscheinung,
die in positiver Weise in einem Mischkreis genutzt wird, der in
einer Halbleitervorrichtung mit nichtlinearem Charakter gebildet
ist. Da sich jedoch durch die Zwischenmodulationsverzerrung die
Qualität des Empfangssignals in dem Duplexgerät
verschlechtert, muß die Zwischenmodulationsverzerrung gesteuert
werden.
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Ein
Element in dem Duplexgerät, das infolge der Kombination
des Tx-Signals und des Störsignals zu der Zwischenmodulationsverzerrung
führt, ist der Resonator 101 nahe dem Antennenanschluß in
dem Sendefilter 100a gemäß 1.
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Durch
die Verwendung von einem von dem SAW-Resonator und dem Grenzflächenschallwellenresonator,
deren nichtlinearer Verzerrungseffekt jeweils kleiner als bei dem
BAW-Resonator ist, als Resonator 101 in dem Sendefilter 100a wird
die Erzeugung der Zwischenmodulationsverzerrung in dem Duplexgerät 100 gesteuert.
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Zweitens
bewirkt die Verwendung des BAW-Resonators mit einem größeren
Q-Wert als bei jedem von dem SAW-Resonator und dem Grenzflächenschallwellenresonator
bei den meisten der Elemente in dem Sendefilter 100a, daß das
Duplexgerät 100 mit dem Sendefilter 100a einen
niedrigen Einschaltverlust aufweist.
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Mit
dieser Anordnung wird in dem Mobiltelefonsystem eine Konstruktion
mit niedriger Leistungsaufnahme ausgeführt. Ebenso entsteht
ein Duplexgerät mit einem Filter, der sich durch Schärfe
auszeichnet. Ein solches Duplexgerät findet Anwendung in
einem Mobiltelefonsystem, in dem der Abstand zwischen einem Sendeband
und einem Empfangsband eng ist. Solche Mobiltelefonsysteme umfassen einen
persönlichen Kommunikationsdienst (PCS) mit Codemultiplex-Vielfachzugriff
(CDMA) und ein universelles mobiles Telekommunikationssystem (UMTS)
mit Bandsystem 2, 3, 8.
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Drittens
wird in den Tx-Anschluß des Sendefilters 100a ein
leistungsstarkes, von einem Leistungsverstärker verstärktes
Signal eingegeben, und typischerweise wird hier eine große
Wärmemenge erzeugt. Der dem SAW-Resonator in der Leistungsbeständigkeit überlegene
BAW-Resonator wird für die meisten der Resonatoren des
Sendefilters 100a verwendet, und zwar für die
Resonatoren 102–107. Mithin weist das
Duplexgerät 100 mit dem Sendefilter 100a eine
hohe Leistungsbeständigkeit auf.
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Viertens
beträgt die Anzahl der an dem Duplexgerät angebrachten
Chips zwei, wenn der SAW-Resonator in dem Empfangsfilter 100b und
der SAW-Resonator 101 in dem Sendefilter 100a in
dem gleichen Chip integriert sind. Das Duplexgerät wird mit
einer kostengünstigen Konstruktion miniaturisiert.
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Fünftens
sind die Resonatoren 110 und 112 in dem Empfangsfilter 100b BAW-Resonatoren,
und die BAW-Resonatoren 102–107 in dem
Sendefilter 100a sowie die Resonatoren 110 und 112 in
dem Empfangsfilter 100b sind in dem gleichen Chip integriert.
Da der BAW-Resonator, der eine höhere Stoßspannung
als der SAW-Resonator aufweist, mit dem Rx-Anschluß verbunden
ist, steigt die Stoßfestigkeitsspannung des Rx-Anschlusses
an.
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3 ist
eine Schnittansicht des Hauptabschnitts des in dem Sendefilter 100a und
dem Empfangsfilter 100b verwendeten BAW-Resonators. Der den
Sendefilter 100a und den Empfangsfilter 100b bildende
BAW-Resonator umfaßt Isolationsschichten 14 und 18 an
den Außenseiten zweier Elektroden 15 und 17,
zwischen denen eine piezoelektrische Dünnschicht 16 angeordnet
ist. Bei Betrachtung in einer (senkrecht zu der Ebene der Seite
mit 3 verlaufenden) Richtung senkrecht zu einer Dickenrichtung des
BAW-Resonators (vertikaler Richtung in der Ebene gemäß 3)
weist der BAW-Resonator eine im wesentlichen symmetrische Konstruktion
in bezug auf die piezoelektrische Dünnschicht 16 auf.
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Die
obere Elektrode 17 und die untere Elektrode 15 sind
typischerweise aus dem gleichen Material und in der gleichen Dicke
hergestellt. Die auf die obere Elektrode 17 aufzubringende
obere Isolationsschicht 18 und die auf die untere Elektrode 15 aufzubringende
untere Isolationsschicht 14 sind aus dem gleichen Material
und in der gleichen Dicke hergestellt.
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Wenn
die Konstruktion in der Dickenrichtung symmetrisch in bezug auf
die piezoelektrische Dünnschicht 16 ist, pflanzt
sich die Vibration symmetrisch in der Dickenrichtung der piezoelektrischen
Dünnschicht 16 fort, und die nichtlineare Sekundärerscheinung
wird gesteuert. Insbesondere wird die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung
in dem Duplexgerät mit dem BAW-Resonator darin gesteuert.
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Die
nichtlineare Sekundärerscheinung wird gesteuert, wenn die
Fortpflanzung der Vibration symmetrisch erfolgt. Es genügt,
wenn die Gesamtdicke der oberen Elektrode 17 und der oberen
Isolationsschicht 18 annähernd gleich der Gesamtdicke
der unteren Elektrode 15 und der unteren Isolationsschicht 14 ist.
Selbst wenn die obere Elektrode 17 eine etwas andere Dicke
als die untere Elektrode 15 aufweist, oder selbst wenn
die obere Isolationsschicht 18 eine etwas andere Dicke
als die untere Isolationsschicht 14 aufweist, wird die
Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung immer noch gesteuert.
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Insbesondere
sind die zwei Elektroden 15 und 17, die jeweils
auf den zwei Seiten der piezoelektrischen Dünnschicht 16 angeordnet
sind, in der Dicke vorzugsweise einander annähernd gleich.
Weiterhin sind die Isolationsschichten 14 und 18,
die jeweils an den Elektroden 15 und 17 auf der
piezoelektrischen Dünnschicht 16 angeordnet sind,
in ihrer Dicke vorzugsweise einander annähernd gleich.
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4A ist
ein elektrisches Schaltbild der Resonatoren 102–107 des
Sendefilters 100a, die aus den im gestrichelt gezeichneten
Feld gemäß 1 eingeschlossenen
neu geschrieben wurden. Anschluß 1 in 4A ist
an den in 1 dargestellten, in Reihe geschalteten
Resonator 101 angeschlossen. Anschluß 3 und
Anschluß 4 in 4A sind
an den in 1 dargestellten Induktor 13 angeschlossen.
Anschluß 5 in 4A ist
an den in 1 dargestellten Induktor L4
angeschlossen. Anschluß 2 in 4A ist
an den in 1 dargestellten Induktor L5 angeschlossen.
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4B ist
eine durchsichtige Ansicht einer Anordnung der in Reihe geschalteten
Resonatoren S1–S3 und der in 4 dargestellten,
parallel geschalteten Resonatoren P1–P3 bei Betrachtung
in der Dickenrichtung. Die Vibratoren 6 der Resonatoren
S1–S3 und P1–P3 sind über Leitdrähte 64 verbunden.
Jeder Vibrator 60 ist ein Bereich zweier Elektroden, die
einander mit einer dazwischen angeordneten, piezoelektrischen Dünnschicht überlappen.
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Wie
in 4B dargestellt ist, besitzt der Leitdraht 64 keine
gleichbleibende Breite, sondern verjüngt sich in rückwärtiger
Richtung scharf in Richtung zu dem Vibrator 60. Ein Abschnitt
des Leitdrahtes 64 nahe dem Vibrator 60 weist
eine sanfte Biegung auf und ist mit der Kontur des Vibrators 60 verbunden. Der
gebogene, mit dem Vibrator 60 verbundene Abschnitt des
Leitdrahtes 64 verhindert, daß der Vibrationsreflex
des Vibrators 60 an einem Verbindungsabschnitt des Vibrators 60 mit
dem Leitdraht 64 unterbrochen wird. Mithin wird die Erzeugung
einer Zwischenmodulationsverzerrung gesteuert.
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Wie
in der durchsichtigen Ansicht gemäß 4C dargestellt,
ist die Kontur einer Ecke, in der die benachbarten Seiten des Vibrators 60 miteinander
verbunden sind, gerundet. Der Vibrator 60 besitzt eine
Kontur, in der sich zwei benachbarte Seiten miteinander in einer
sanften Kurve fortsetzen.
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Da
der Vibrator 60 eine Kontur besitzt, deren Ecken abgerundet
sind, wird der Vibrationsreflex in dem Vibrator 60 nicht
an der Ecke unterbrochen. Mithin wird die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung
gesteuert.
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Wie
in den Schnittansichten gemäß 5A–5F dargestellt
ist, weisen die den Sendefilter 100a und den Empfangsfilter 100b bildenden BAW-Resonatoren
verschiedenartige Konstruktionen auf.
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5A stellt
einen Vibrator 10 dar, der die piezoelektrische Dünnschicht 16 umfaßt,
die zwischen den zwei Elektroden 15 und 17 angeordnet
ist, die wiederum zwischen den Isolationsschichten 14 und 18 angeordnet
sind. Der Vibrator 10 schwebt über einem Substrat 12,
wobei ein Spalt dazwischen eingelassen ist. Der Spalt 13 ist
durch das Aufbringen einer Opferschicht auf das Substrat 12,
das anschließende Ausbilden der Schichten 14–18 und
das abschließende Beseitigen der Opferschicht gebildet. Wahlweise
kann die untere Isolationsschicht 14 aus einem anderen
Material als dem Material der oberen Isolationsschicht 18 hergestellt
sein.
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5B stellt
einen Vibrator 10 dar, der die piezoelektrische Dünnschicht 16 umfaßt,
die zwischen den zwei Elektroden 15 und 17 angeordnet
ist, die wiederum zwischen den Isolationsschichten 14 und 18 angeordnet
sind. Der Vibrator 10 ist auf einem Hohlraum 12s angeordnet,
der vollkommen durch das Substrat 12 hindurchgeht. Der
Hohlraum 12s kann durch das Wegätzen des Substrats 12 ausgebildet
werden und trägt das Substrat 12 von unten her. Dabei
ist die untere Isolationsschicht 14 aus einem ätzungsfreien
Material hergestellt.
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5C stellt
einen Vibrator 10 dar, der die piezoelektrische Dünnschicht 16 umfaßt,
die zwischen den zwei Elektroden 15 und 17 angeordnet
ist, die wiederum zwischen den Isolationsschichten 14 und 18 angeordnet
sind. Der Vibrator 10 ist auf einem Hohlraum 12s angeordnet,
der zum Teil durch das Substrat 12 hindurch verläuft,
jedoch dieses nicht durchdringt. Der Hohlraum 12s wird
im voraus in dem Substrat 12 ausgebildet und dann mit einer
Opferschicht gefüllt. Nach der Herstellung des Vibrators 10 mit
dem mit der Opferschicht gefüllten Hohlraum 12t wird
die Opferschicht beseitigt.
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5D–5F stellen
Beispiele dar, in denen zwischen einem Vibrator 10a und
dem Substrat 12 eine Schallreflexionsschicht angeordnet
ist. Die Schallreflexionsschicht wird hergestellt, indem wechselweise
eine Schicht 30 mit niedriger Schallimpedanz mit einer
verhältnismäßig niedrigen Schallimpedanz
und eine Schicht 32 mit einer verhältnismäßig hohen
Schallimpedanz laminiert wird. Insbesondere wird die Schallreflexionsschicht
hergestellt, indem wechselweise Materialien mit voneinander verschiedener
Schallimpedanz laminiert werden.
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5D stellt
ein Beispiel dar, in dem der Vibrator 10a auf einer Schallreflexionsschicht
ausgebildet ist, die das Substrat 12 oben darauf gänzlich
bedeckt.
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5E stellt
ein Beispiel dar, in dem der Vibrator 10a auf Schallreflexionsschichten 30 und 32 ausgebildet
ist, die in einer Ausnehmung 12k des Substrats 12 ausgebildet
sind.
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5F stellt
ein Beispiel dar, in dem der Vibrator 10a auf einem Teil
des Substrats 12 ausgebildet ist.
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Wahlweise
kann die mit der unteren Elektrode 15 in Kontakt stehende
Schallreflexionsschicht 30 als untere Isolationsschicht
fungieren.
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Zweite Ausführungsform
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Im
folgenden wird anhand von 6 ein Duplexgerät 200 gemäß einer
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben.
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Das
Duplexgerät 200 gemäß der zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist in der Konstruktion im wesentlichen
identisch mit dem Duplexgerät gemäß der
ersten Ausführungsform. Der Unterschied zwischen den zwei
Duplexgeräten ist im folgenden beschrieben.
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Wie
in dem Schaltbild gemäß 6 dargestellt
ist, umfaßt das Duplexgerät 200 einen
Sendefilter 200a zwischen einem Antennenanschluß und
einem Tx-Anschluß sowie einen Empfangsfilter 200b zwischen
dem Antennenanschluß und einem Rx-Anschluß. Ausführlicher
gesagt, umfaßt das Duplexgerät 200 Resonatoren 201 –212 und
in Längsrichtung verbundene Filter 220. In dem
Duplexgerät 200 können Induktoren L1–L7
enthalten sein oder sich außerhalb des Duplexgeräts 200 befinden.
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Der
Sendefilter 200a in dem Duplexgerät 200 gemäß der
zweiten Ausführungsform weist eine andere Konstruktion
als der Sendefilter 100a bei der ersten Ausführungsform
auf. Insbesondere umfaßt der zwischen dem Antennenanschluß und
dem Tx-Anschluß angeordnete Sendefilter 200a drei
in Reihe geschaltete Resonatoren 202, 204 und 206 und
vier parallel geschaltete Resonatoren 201, 203, 205 und 207,
die kettenartig angeordnet sind.
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Der
Resonator 201 von den Resonatoren 201–207 in
dem Sendefilter 200a, der sich am nächsten an
dem Antennenanschluß und insbesondere am nächsten
an einem gemeinsamen Anschluß 200x des Sendefilters 200a und
des Empfangsfilters 200b befindet, ist einer von einem
Oberflächenschallwellenresonator (SAW-Resonator) und einem
Grenzflächenschallwellenresonator. Der am zweitnächsten an
dem gemeinsamen Anschluß 200x liegende Resonator 202 ist
ebenfalls einer von einem Oberflächenschallwellenresonator
(SAW-Resonator) und einem Grenzflächenschallwellenresonator.
Die anderen Resonatoren 203–207 sind
akustische Dünnschicht-Raumwellenresonatoren (BAW-Resonatoren).
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Der
zwischen dem Antennenanschluß und dem Rx-Anschluß angeordnete
Empfangsfilter 200b ist in der Konstruktion identisch mit
dem Empfangsfilter 100b des Duplexgeräts gemäß der
ersten Ausführungsform. Mithin umfaßt der Empfangsfilter 200b Resonatoren 209a, 209b, 210, 211a, 211b und 212 sowie
einen in Längsrichtung verbundenen Filter 220.
Wahlweise können die Resonatoren 209a und 209b in
dem Empfangsfilter 200b durch einen einzigen Resonator
ersetzt sein. Wahlweise können die Resonatoren 211a und 211b in
dem Empfangsfilter 200b durch einen einzigen Resonator
ersetzt sein.
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Wenn
jeder von den zwei Resonatoren 201 und 202 als
einer von einem Oberflächenschallwellenresonator und einem
Grenzflächenschallwellenresonator konstruiert ist, werden
die gleichen Vorteile wie diejenigen gemäß der
ersten Ausführungsform bereitgestellt.
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Wie
oben beschrieben, ist zumindest der Resonator von den Resonatoren
in dem Sendefilter, der am nächsten an dem Antennenanschluß liegt,
ein Oberflächenschallwellenresonator, und die anderen Resonatoren
in dem Sendefilter sind die akustischen Dünnschicht-Raumwellenresonatoren.
Die Erzeugung einer Zwischenmodulationsverzerrung wird besser gesteuert
als dann, wenn sämtliche Resonatoren in dem Sendefilter
akustische Dünnschicht-Raumwellenresonatoren sind. Der
Einschaltverlust zwischen der Antenne und dem Sender wird auf annähernd
den gleichen Grad wie den Grad verkleinert, der eingebracht wird,
wenn sämtliche Resonatoren in dem Sendefilter als akustische Dünnschicht-Raumwellenresonatoren
konstruiert sind. Mit dem Duplexgerät wird auch für
hohe Leistungsdauerhaftigkeit gesorgt.
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Zwar
wurden vorstehend bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung
beschrieben, es versteht sich jedoch, daß für
den Fachmann Variationen und Modifizierungen ohne Abweichung von
Umfang und Wesen der Erfindung erkennbar werden. Deshalb wird der
Umfang der Erfindung allein durch die folgenden Ansprüche
bestimmt.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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